JPH0679911A - Ion flow type electrostatic recording head - Google Patents

Ion flow type electrostatic recording head

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JPH0679911A
JPH0679911A JP4235895A JP23589592A JPH0679911A JP H0679911 A JPH0679911 A JP H0679911A JP 4235895 A JP4235895 A JP 4235895A JP 23589592 A JP23589592 A JP 23589592A JP H0679911 A JPH0679911 A JP H0679911A
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JP
Japan
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electrodes
electrode
dielectric layer
recording head
conductive paste
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JP4235895A
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Japanese (ja)
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Naohito Shiga
直仁 志賀
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Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To tightly fix a portion between two kinds of electrodes and a dielectric layer by forming the electrodes with hardened members made of electrically conductive paste hardened under heating, and make it possible to hardly cause deviation of the positions among the electrodes due to thermal and mechanical loads at the time of after-machining and even in the case of thermal change with time during the use of a recording head. CONSTITUTION:A dielectric layer 4 is provided on the surface side of an insulating base plate 2, where first electrodes 3... are provided in parallel with one another, in such a state that these first electrodes 3... are embedded in said dielectric layer. A plurality of second electrodes 5... which are discharge electrodes, are fixed on the surface of the dielectric layer 4. These first and second electrodes 3..., 5... are respectively formed of thermally hardened members made by hardening electrically conductive paste under heating. Further, a plurality of second electrodes 5... disposed on the dielectric layer 4 are arranged on its surface opposite to the face on which it is in contact with the insulating base plate 2, and are provided in parallel with one another in a direction in which they intersect with the first electrodes 3..., thus a matrix is constituted of the first electrodes 3... and the second electrodes 5....

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は例えば静電式の印刷や複
写に利用される静電記録装置のイオンフロー静電記録ヘ
ッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion flow electrostatic recording head of an electrostatic recording device used for electrostatic printing or copying.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、例えば静電印刷等において、高
電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的に
被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像状に帯電
させる静電記録装置が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, for example, in electrostatic printing, ions of high current density are generated, and the ions are extracted and selectively applied to a member to be charged, and the member to be charged is imagewise charged. Electronic recording devices are known.

【0003】この静電記録装置に用いられるイオンフロ
ー静電記録ヘッドは誘電体層とその誘電体層の一方の面
に固着され、第1の方向に伸びる複数の第1電極と、誘
電体層の他方の面に固着され、第1電極の伸び方向と交
差する方向に伸びる複数の第2電極とを有し、複数の第
1電極と複数の第2電極とでマトリックスを構成する。
そして、この第2電極のマトリックスと対応する部位に
はイオン発生用の開口部が形成されている。
An ion flow electrostatic recording head used in this electrostatic recording apparatus is fixed to a dielectric layer and one surface of the dielectric layer, a plurality of first electrodes extending in a first direction, and the dielectric layer. A plurality of second electrodes fixed to the other surface of the first electrode and extending in a direction intersecting with the extension direction of the first electrode, and the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes form a matrix.
Then, an opening for ion generation is formed in a portion of the second electrode corresponding to the matrix.

【0004】また、第2電極の第1電極と反対側には第
3電極が配設されている。この第3電極と第2電極との
間には絶縁体層が配設されている。これらの絶縁体層お
よび第3電極には第2電極の開口部と対応する開口部が
形成されており、これらの開口部によってイオン流通過
口が形成されている。
A third electrode is provided on the opposite side of the second electrode from the first electrode. An insulator layer is arranged between the third electrode and the second electrode. Openings corresponding to the openings of the second electrode are formed in these insulator layers and the third electrode, and the ion flow passage openings are formed by these openings.

【0005】そして、第1電極と第2電極との間のマト
リックスの選択された部分に対応する第1電極と第2電
極との間に交互に高電圧を印加することにより、その部
分に対向する第2電極の開口部近傍に正・負のイオンが
発生する。
Then, a high voltage is alternately applied between the first electrode and the second electrode corresponding to the selected portion of the matrix between the first electrode and the second electrode so as to face that portion. Positive and negative ions are generated near the opening of the second electrode.

【0006】また、第2電極と第3電極との間にはバイ
アス電圧が印加され、その極性によって決まるイオンの
みが発生したイオンから選択的に抽出され、イオン流通
過口を通過し、第3電極と対向配置される被帯電部材を
部分的に帯電させることができる。したがって、マトリ
ックス構造の電極を選択的に駆動することにより、ドッ
トによる静電記録を行なうことができる。
Further, a bias voltage is applied between the second electrode and the third electrode, and only ions determined by the polarity thereof are selectively extracted from the generated ions, pass through the ion flow passage opening, and pass through the third electrode. The member to be charged, which is arranged so as to face the electrode, can be partially charged. Therefore, electrostatic recording by dots can be performed by selectively driving the electrodes having the matrix structure.

【0007】ここで使用される誘電体層を形成する誘電
物質はイオン発生のために印加される高電圧でも絶縁破
壊しないことが要求される。また、誘電体層はイオンを
効率良く発生させ、絶縁破壊にも耐えられる程度の厚さ
を必要とするため、高い誘電率を有するものが適してい
る。
The dielectric material forming the dielectric layer used here is required not to cause dielectric breakdown even at a high voltage applied for ion generation. Further, since the dielectric layer needs to have a thickness that efficiently generates ions and can withstand dielectric breakdown, a layer having a high dielectric constant is suitable.

【0008】そこで、イオンフロー静電記録ヘッドの誘
電体層の材料として例えば特開平2-153760号公報にはシ
リコーン変性ポリエステルアルキド樹脂中に酸化チタン
粉を混在させたものが示されている。
Therefore, as a material of the dielectric layer of the ion flow electrostatic recording head, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-153760 discloses a material in which titanium oxide powder is mixed in a silicone-modified polyester alkyd resin.

【0009】また、第2電極の材料としてはステンレス
鋼の箔が用いられている。そして、この第2電極を誘電
体層に固着する場合にはシリコーン系の感圧接着剤が用
いられている。
A foil of stainless steel is used as the material of the second electrode. When the second electrode is fixed to the dielectric layer, a silicone pressure sensitive adhesive is used.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】一般に、イオンフロー
静電記録ヘッドの製造工程では第2電極を誘電体層に固
着させる固着工程の後加工として加熱工程や、機械的な
折り曲げ工程が存在するとともに、記録ヘッドの使用時
には記録ヘッド全体が発熱する。これら熱的、機械的な
各材料への応力発生は、最も凝集力の弱い部分、例えば
記録ヘッドの第2電極と誘電体層との固着部に集中して
作用する。
Generally, in the manufacturing process of an ion flow electrostatic recording head, there are a heating process and a mechanical bending process as post-processings of the fixing process for fixing the second electrode to the dielectric layer. The entire print head generates heat when the print head is used. The generation of stress in these thermal and mechanical materials concentrates on the portion having the weakest cohesive force, for example, the fixed portion between the second electrode of the recording head and the dielectric layer.

【0011】ここで、第2電極を誘電体層に固着する際
に使用されるシリコーン系の感圧接着剤(特開平2-1537
60号公報)は剥離力には強いが剪断力には弱い特性があ
る。そのため、第2電極を誘電体層に固着させる際に、
特開平2-153760号公報に開示されているシリコーン系の
感圧接着剤を用いた場合には電極を誘電体層に固着させ
る固着工程の後加工の加熱工程や、機械的な折り曲げ工
程、或いは記録ヘッドの使用上の熱、または機械的応力
による剪断力に対して十分には耐えられない問題があ
る。したがって、電極固着後に、第1電極と第2電極と
の間にズレが発生し、画質が低下するおそれがある。
Here, a silicone-based pressure-sensitive adhesive used for fixing the second electrode to the dielectric layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2-1537).
No. 60) is strong in peeling force but weak in shearing force. Therefore, when fixing the second electrode to the dielectric layer,
When the silicone pressure-sensitive adhesive disclosed in JP-A-2-153760 is used, a heating step after the fixing step of fixing the electrode to the dielectric layer, a mechanical bending step, or There is a problem that the recording head cannot sufficiently withstand heat during use or shear force due to mechanical stress. Therefore, after the electrodes are fixed, a gap may occur between the first electrode and the second electrode, and the image quality may deteriorate.

【0012】さらに、第2電極1本毎の誘電体層の表面
との接着面積は数平方ミリ程度の微小な面積である。そ
のため、この程度の微小面積を接着剤の粘着力で、第2
電極と誘電体層の表面との間に位置ずれが起こらぬよう
に固定し、かつ後加工工程中の熱的及び機械的な負荷
や、記録ヘッドの使用中の熱的経時変化に耐える構造に
するには接着力の強い接着剤を使用する必要があるの
で、コスト高になる問題がある。
Further, the adhesion area of each second electrode to the surface of the dielectric layer is a minute area of about several square millimeters. Therefore, this small area can be
A structure that is fixed so that there is no misalignment between the electrode and the surface of the dielectric layer, and that withstands thermal and mechanical loads during post-processing and thermal aging during use of the recording head. In order to do so, it is necessary to use an adhesive having a strong adhesive force, so there is a problem that the cost becomes high.

【0013】また、第2の電極には孔径が100μm台
程度のイオン発生用の小孔が数千個程度形成されている
ので、小孔以外の場所に選択的に接着剤を塗布して接着
することは極めて困難である。そのため、第2の電極と
誘電体層とを貼り合わせた後、第2の電極と誘電体層と
の貼り合わせ部分を洗浄して小孔に該当する開口部内の
余分な接着剤を除去する面倒な洗浄作業が必要になる問
題がある。
Since the second electrode is formed with several thousands of small holes for ion generation having a hole diameter of the order of 100 μm, an adhesive is selectively applied to a portion other than the small holes to bond them. It is extremely difficult to do. Therefore, after the second electrode and the dielectric layer are bonded together, the part where the second electrode and the dielectric layer are bonded is washed to remove excess adhesive in the opening corresponding to the small hole. There is a problem that various cleaning work is required.

【0014】さらに、この洗浄作業時には第2の電極に
形成されている数千個程度の多数の小孔の各開口部内に
付着している接着剤を全て除去することは困難であるの
で、第2電極の開口部内に局部的に接着剤が残留するお
それがあるうえ、第2電極における誘電体層との貼り合
わせ面側の開口部周辺部位には必要な接着剤が剥離され
て金属面がむき出しになってしまう場所が発生するおそ
れもある。この場合、金属面のむきだし部分と接着剤に
覆われた部分とでは放電に寄与する電流密度が異なるた
めに、各開口部のイオン発生量がバラツキ、均質な画質
・耐久性を得ることが困難となる。
Furthermore, during this cleaning operation, it is difficult to remove all the adhesive agent that has adhered to the openings of the thousands of small holes formed in the second electrode. The adhesive may remain locally in the openings of the two electrodes, and the necessary adhesive may be peeled off at the periphery of the openings of the second electrode on the side of the bonding surface with the dielectric layer, so that the metal surface may be removed. There is also the possibility that some places will be exposed. In this case, since the current density contributing to the discharge is different between the exposed part of the metal surface and the part covered with the adhesive, the amount of ions generated in each opening varies, and it is difficult to obtain uniform image quality and durability. Becomes

【0015】また、ステンレス箔に数千個程度の多数の
100μm台の小孔を、バラツキ無く、高精度に設ける
には高度なエッチング技術が必要となるので、コスト高
になる問題がある。
Further, a high etching technique is required to provide a large number of small holes in the order of several thousand in the stainless steel foil, which are in the order of several thousand, with a high degree of accuracy, and therefore there is a problem of high cost.

【0016】本発明は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的は、第2の電極と誘電体層との間を強固に
固着することができ、後加工時の熱的及び機械的な負荷
や、使用中の熱的経時変化にも電極間の位置ずれが起こ
り難くすることができるとともに、第2の電極の各開口
部のイオン発生量を均一化し、高画質化および耐久性の
向上を図り、且つ安価なイオンフロー静電記録ヘッドを
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to firmly fix the second electrode and the dielectric layer to each other, and to obtain thermal and mechanical properties during post-processing. Displacement can be made less likely to occur between the electrodes even under various loads and thermal aging during use, and the amount of ions generated in each opening of the second electrode can be made uniform to improve image quality and durability. An object of the present invention is to provide an ion flow electrostatic recording head that is improved and is inexpensive.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は誘電体
層の一面側に略平行に並設された複数の第1電極と、前
記誘電体層の他面側に前記第1電極と異なる方向に向け
て略平行に並設された複数の第2電極とによってマトリ
クス状のイオン発生部が形成されるイオンフロー静電記
録ヘッドにおいて、前記電極を導電性のペーストを加熱
硬化させた加熱硬化体によって形成したものである。
According to a first aspect of the present invention, a plurality of first electrodes are provided in parallel on one side of a dielectric layer, and the first electrodes are provided on the other side of the dielectric layer. In an ion flow electrostatic recording head in which a matrix-shaped ion generating section is formed by a plurality of second electrodes arranged in parallel in different directions, the electrodes are heated by heating and curing a conductive paste. It is formed by a cured body.

【0018】請求項2の発明は誘電体層の一面側に略平
行に並設された複数の第1電極と、前記誘電体層の他面
側に前記第1電極と異なる方向に向けて略平行に並設さ
れた複数の第2電極とによってマトリクス状のイオン発
生部が形成されるイオンフロー静電記録ヘッドにおい
て、前記第2の電極を導電性のペーストを加熱硬化させ
た加熱硬化体によって形成したものである。
According to a second aspect of the present invention, a plurality of first electrodes are arranged in parallel on one surface side of the dielectric layer, and a plurality of first electrodes are arranged on the other surface side of the dielectric layer in a direction different from the first electrode. In an ion flow electrostatic recording head in which a matrix-shaped ion generating portion is formed by a plurality of second electrodes arranged in parallel, the second electrode is formed by a heat-cured body obtained by heat-curing a conductive paste. It was formed.

【0019】[0019]

【作用】本発明では導電性のペーストを加熱硬化させた
加熱硬化体によって電極を形成することにより、誘電体
層と電極との固着作業時に格別に接着剤を用いることな
く、誘電体層の表面に導電性のペーストを直接塗布し、
硬化させて電極を形成する際に同時に誘電体層と電極と
の間を固着させるようにしたものである。
According to the present invention, the electrodes are formed by a heat-cured material obtained by heat-curing a conductive paste, so that the surface of the dielectric layer can be treated without using an adhesive during the work of fixing the dielectric layer and the electrodes. Directly apply conductive paste to
This is to fix the dielectric layer and the electrode at the same time when the electrode is formed by curing.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の第1の実施例について図面を
参照して説明する。図1(A),(B)は静電記録装置
のイオンフロー静電記録ヘッド1の概略構成を示すもの
で、2はイオンフロー静電記録ヘッド1の絶縁基板であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1A and 1B show a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head 1 of an electrostatic recording apparatus, and 2 is an insulating substrate of the ion flow electrostatic recording head 1.

【0021】この絶縁基板2上にはイオン発生用の誘導
電極である複数の第1電極3…が設けられている。これ
らの複数の第1電極3…は一方向に向けて略平行に並設
されている。
On the insulating substrate 2 are provided a plurality of first electrodes 3 ... Which are induction electrodes for ion generation. The plurality of first electrodes 3 ... Are arranged in parallel in one direction.

【0022】また、絶縁基板2上には第1電極3…の並
設面側にこれらの第1電極3…を埋設する状態で誘電体
層4が設けられている。この誘電体層4の表面には放電
電極である複数の第2電極5…が固着されている。これ
らの第1、第2電極3…、5…はそれぞれ導電性のペー
ストを加熱硬化させた加熱硬化体によって形成されてい
る。
Further, a dielectric layer 4 is provided on the insulating substrate 2 on the side where the first electrodes 3 are juxtaposed so that the first electrodes 3 are embedded. On the surface of this dielectric layer 4, a plurality of second electrodes 5 ... Are fixed as discharge electrodes. The first and second electrodes 3, ..., 5 ... Are each formed of a heat-cured body obtained by heat-curing a conductive paste.

【0023】さらに、複数の第2電極5…は誘電体層4
における絶縁基板2とは反対側の面に配置され、第1電
極3…と交差する方向に並設されており、第1電極3…
と第2電極5…とによってマトリックスが構成されてい
る。そして、第2電極5…にはこのマトリックスと対応
する部位にそれぞれイオン発生用の開口部5a…が形成
されている。
Further, the plurality of second electrodes 5 ... Are the dielectric layers 4
Are arranged on a surface opposite to the insulating substrate 2 and are arranged in parallel in a direction intersecting with the first electrodes 3 ...
And the second electrode 5 ... Form a matrix. Further, the second electrodes 5 ... Are respectively formed with the openings 5a for ion generation at the portions corresponding to this matrix.

【0024】また、誘電体層4の第2電極5…の並設面
側には第2電極5…を埋設する状態で絶縁体層6が設け
られている。この絶縁体層6には第2電極5…の各開口
部5a…と対応する部位に開口部6a…が形成されてい
る。
Further, an insulator layer 6 is provided on the side of the dielectric layer 4 on which the second electrodes 5 are juxtaposed so that the second electrodes 5 are embedded therein. Openings 6a are formed in the insulating layer 6 at positions corresponding to the openings 5a of the second electrodes 5.

【0025】さらに、絶縁体層6の表面には帯状の第3
電極7が設けられている。この第3電極7には第1電極
3…と第2電極5…とのマトリックスと対応する部位に
開口部7a…が形成されている。この第3電極7の開口
部7a…は絶縁体層6の開口部6a…および第2電極5
…の開口部5a…と連通されてイオンフロー静電記録ヘ
ッド1のイオン流通過口8…が形成されている。
Further, the surface of the insulator layer 6 has a third strip-like shape.
An electrode 7 is provided. The third electrode 7 is provided with openings 7a ... In a portion corresponding to the matrix of the first electrode 3 ... And the second electrode 5. The openings 7a of the third electrode 7 are the openings 6a of the insulator layer 6 and the second electrode 5.
The ion flow passage ports 8 of the ion flow electrostatic recording head 1 are formed in communication with the openings 5a of.

【0026】そして、イオンフロー静電記録ヘッド1の
動作時には印字信号にもとづいて第1電極3…と第2電
極5…との間のマトリックスが適宜選択され、選択され
たマトリックス部分に対応する第1電極3…と第2電極
5…との間に交流電圧が印加される。
During operation of the ion flow electrostatic recording head 1, the matrix between the first electrodes 3 ... And the second electrodes 5 ... Is appropriately selected based on the print signal, and the matrix corresponding to the selected matrix portion is selected. An alternating voltage is applied between the first electrode 3 and the second electrode 5.

【0027】これにより、選択されたマトリックス部分
に対応する第2電極5…の開口部5a…内の近傍部位に
正・負イオンが発生する。このとき、第2電極5…と第
3電極7との間にはバイアス電圧が印加され、その極性
によって決まるイオンのみが第2電極5…の開口部5a
…内の近傍部位に発生したイオンから抽出される。
As a result, positive / negative ions are generated in the vicinity of the openings 5a ... Of the second electrodes 5 ... Corresponding to the selected matrix portion. At this time, a bias voltage is applied between the second electrode 5 ... And the third electrode 7, and only the ions determined by the polarity thereof are in the openings 5a of the second electrode 5.
It is extracted from the ions generated in the vicinity of the inside.

【0028】そして、抽出されたイオンは絶縁体層6の
開口部6aおよび第3電極7の開口部7a…を通過し、
図示しない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。したが
って、第1電極3…および第2電極5…の選択的駆動に
より、誘電体ドラム上にドット潜像を形成することがで
きる。
Then, the extracted ions pass through the opening 6a of the insulator layer 6 and the opening 7a of the third electrode 7,
A dielectric drum (not shown) is locally charged. Therefore, a dot latent image can be formed on the dielectric drum by selectively driving the first electrodes 3 and the second electrodes 5.

【0029】次に、図1(A),(B)のイオンフロー
静電記録ヘッド1の製造方法について詳細に説明する。
まず、絶縁基板2上に第1電極3…が形成される。この
場合、絶縁基板2は例えば厚さ100μmで表面に非晶
質ガラスをコーティングしたシート状のハイブリッドI
C用96%アルミナグレーズ基板である。
Next, a method of manufacturing the ion flow electrostatic recording head 1 shown in FIGS. 1A and 1B will be described in detail.
First, the first electrodes 3 ... Are formed on the insulating substrate 2. In this case, the insulating substrate 2 is, for example, a sheet-like hybrid I having a thickness of 100 μm and a surface coated with amorphous glass.
It is a 96% alumina glaze substrate for C.

【0030】また、第1電極3…は導電性のペースト、
例えば田中貴金属インターナショナル製の「高導電率の
銀−白金系導電性ペーストTR−3913」(商品名)
を加熱硬化させた加熱硬化体によって形成されている。
The first electrodes 3 ... Are conductive pastes,
For example, "High conductivity silver-platinum conductive paste TR-3913" made by Tanaka Kikinzoku International (trade name)
Is formed by a heat-cured body obtained by heat-curing.

【0031】この第1電極3…の成形時にはエマルジョ
ンを12μmに形成させた200メッシュのスクリーン
版を用いて導電性ペーストが絶縁基板2の一面側のシー
ト面上に所定のパターンで印刷される。さらに、印刷
後、10分間の室温下でのレベリング後、120℃で、
10分間乾燥させたのち、続いて5分間で850℃まで
昇温して10分間保持し、徐冷することにより、厚さ9
μmの第1電極3…が形成される。
At the time of molding the first electrodes 3, ..., A conductive paste is printed in a predetermined pattern on the sheet surface on one side of the insulating substrate 2 by using a 200-mesh screen plate in which an emulsion is formed in a thickness of 12 μm. Furthermore, after printing, after leveling at room temperature for 10 minutes, at 120 ° C,
After drying for 10 minutes, the temperature was raised to 850 ° C. in 5 minutes, held for 10 minutes, and gradually cooled to obtain a thickness of 9
.mu.m first electrodes 3 ... Are formed.

【0032】また、絶縁基板2上に第1電極3…を形成
した後、図2に示すように絶縁基板2上の第1電極3の
パターン間および第1電極3…上に誘電体層4が形成さ
れる。この誘電体層4の形成作業時にはまず、非晶質セ
ラミック系バインダーからなる誘電体ペースト、例えば
日本電気硝子製の「PLS−3123」(商品名)が絶
縁基板2上に塗布される。
After forming the first electrodes 3 on the insulating substrate 2, the dielectric layer 4 is formed between the patterns of the first electrodes 3 on the insulating substrate 2 and on the first electrodes 3 as shown in FIG. Is formed. At the time of forming the dielectric layer 4, first, a dielectric paste made of an amorphous ceramic binder, for example, "PLS-3123" (trade name) manufactured by Nippon Electric Glass Co., is applied onto the insulating substrate 2.

【0033】さらに、絶縁基板2上に塗布された誘電体
ペーストが150℃で10分間乾燥された後、30℃/
min の昇温速度で520℃まで昇温される。この状態で
5分間保持された後、続いて、50℃/min で降温され
て硬化・焼成され、第1電極3…上に厚さ33μmの誘
電体層4が形成される。
Further, after the dielectric paste applied on the insulating substrate 2 is dried at 150 ° C. for 10 minutes, 30 ° C. /
The temperature is raised to 520 ° C. at a temperature raising rate of min. After being kept in this state for 5 minutes, the temperature is then lowered at 50 ° C./min to be cured and fired to form a dielectric layer 4 having a thickness of 33 μm on the first electrodes 3.

【0034】次に、この誘電体層4の表面上に第2電極
5…が固着される。この第2電極5…は上記第1電極3
と同様に導電性のペースト、例えば田中貴金属インター
ナショナル製の「高導電率の銀−白金系導電性ペースト
TR−3913」(商品名)を加熱硬化させた加熱硬化
体によって形成されている。
Then, the second electrodes 5 are fixed on the surface of the dielectric layer 4. The second electrodes 5 ... Are the first electrodes 3
Similarly, a conductive paste, for example, a high-conductivity silver-platinum-based conductive paste TR-3913 (trade name) manufactured by Tanaka Kikinzoku International Co., Ltd. (trade name) is heat-cured to form a heat-cured body.

【0035】この第2電極5…の成形時には所定の電極
パターン(第2電極5…および各第2電極5の開口部5
a…の電極パターン)を感光性乳剤で形成させることで
製作した400メッシュのスクリーン版を用いて導電性
ペーストが誘電体層4の表面上にスクリーン印刷され
る。なお、ここで誘電体層4の表面上にスクリーン印刷
された電極パターンの開口部5a…は複数の第1電極3
…に位置合わせされている。続いて、スクリーン印刷さ
れた導電性ペーストが第1電極3…の形成時と同様の硬
化条件で硬化され、厚さ9μmの第2電極5…が形成さ
れる。
At the time of molding the second electrodes 5, ... A predetermined electrode pattern (second electrodes 5 ... And the openings 5 of each second electrode 5).
The conductive paste is screen-printed on the surface of the dielectric layer 4 using a 400-mesh screen plate manufactured by forming the electrode pattern a) with a photosensitive emulsion. Here, the openings 5a ... Of the electrode pattern screen-printed on the surface of the dielectric layer 4 are the plurality of first electrodes 3.
Aligned to ... Subsequently, the screen-printed conductive paste is cured under the same curing conditions as when forming the first electrodes 3 ..., Thus, the second electrodes 5 ... With a thickness of 9 μm are formed.

【0036】次に、上記絶縁基板2上の第1電極3…、
誘電体層4および第2電極5…の積層体上に感光性絶縁
フィルム(ソルダーレジスト)が真空ラミネートされ、
絶縁体層6が形成される。その後、この絶縁フィルムに
通常の感光性フィルムと同様に、露光・現像等のフォト
エッチング処理が施されて複数の第2電極5…の開口部
5a…に対応したイオン流通過用の開口部6a…が形成
される。
Next, the first electrodes 3 on the insulating substrate 2 ...
A photosensitive insulating film (solder resist) is vacuum-laminated on the laminated body of the dielectric layer 4 and the second electrode 5 ...
The insulator layer 6 is formed. After that, this insulating film is subjected to photoetching treatment such as exposure and development in the same manner as a normal photosensitive film, and an opening 6a for passing an ion flow corresponding to the openings 5a of the plurality of second electrodes 5 is formed. ... is formed.

【0037】次に、このように形成された絶縁体層6の
上に例えば厚さ30μm程度のステンレス箔に第2電極
5…の開口部5a…と対応した開口部7a…が形成され
た第3電極8が例えば接着等の手段で接合される。この
場合、第3電極7がその開口部7a…を第2電極5…の
開口部5a…と対応させた状態で位置決めして重ね合わ
されることにより、イオンフロ−静電記録ヘッド1が製
造される。なお、絶縁体層6と第3電極7とは粘着剤や
両面テープで貼り合わせる他、第3電極7を片面テープ
で絶縁体層6に貼り付けてもよい。
Next, on the insulating layer 6 thus formed, a stainless foil having a thickness of, for example, about 30 μm is formed with openings 7a corresponding to the openings 5a of the second electrodes 5. The three electrodes 8 are joined by means such as adhesion. In this case, the ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured by positioning and overlapping the third electrode 7 with the openings 7a ... Corresponding to the openings 5a. . The insulator layer 6 and the third electrode 7 may be attached to the insulator layer 6 with a single-sided tape, instead of being attached with an adhesive or a double-sided tape.

【0038】そこで、上記構成のものにあっては導電性
のペーストを加熱硬化させた加熱硬化体によって第1電
極3…および第2電極5…を形成したので、第1電極3
…の形成作業時には絶縁基板2上に第1電極3…を直接
塗布し、硬化させて電極を形成する際に同時に絶縁基板
2と第1電極3…との間を固着させることができるとと
もに、同様に第2電極5…の形成作業時には誘電体層4
上に第2電極5…を直接塗布し、硬化させて電極を形成
する際に同時に誘電体層4と第2電極5…との間を固着
させることができる。
Therefore, in the above-mentioned structure, since the first electrode 3 and the second electrode 5 are formed by the heat-cured body obtained by heat-curing the conductive paste, the first electrode 3 is formed.
The first electrode 3 is directly applied onto the insulating substrate 2 during the forming operation, and the insulating substrate 2 and the first electrode 3 can be fixed at the same time when the electrode is formed by curing the electrode. Similarly, at the time of forming the second electrodes 5 ...
It is possible to fix the dielectric layer 4 and the second electrodes 5 at the same time when the electrodes are formed by directly applying the second electrodes 5 ...

【0039】そのため、格別に接着剤を用いることなく
絶縁基板2と第1電極3…との間、および誘電体層4と
第2電極5…との間を固着することができるので、従来
のように第2電極5…の開口部5a…内に接着剤が残留
したり、開口部5a…内の接着剤の洗浄・除去時に開口
部5a…の周辺の第1電極3…側の第2電極5…の表面
に、金属面がむき出しになってしまう場所が発生するお
それがなく、第2電極5…の開口部5a毎に放電に寄与
する電流密度が異なるおそれがない。
Therefore, it is possible to fix the insulating substrate 2 and the first electrode 3 ... and the dielectric layer 4 and the second electrode 5 ... As described above, the adhesive remains in the openings 5a of the second electrodes 5, or the second electrode on the side of the first electrodes 3 around the openings 5a when the adhesive in the openings 5a is washed and removed. There is no possibility that the metal surface will be exposed on the surface of the electrodes 5 ..., and the current density that contributes to discharge will not differ for each opening 5a of the second electrodes 5.

【0040】また、従来のようにシリコーン系の感圧接
着剤よりも強固に各電極を固着することができるので、
記録ヘッド1の製造工程中、各電極の固着後の後加工で
各電極の固着部に作用する熱的及び機械的な負荷や、記
録ヘッド1の使用中の熱的経時変化にも第1電極3…と
第2電極5…との間の位置ずれを防止することができ
る。その結果、第2電極5…の各開口部5aからの放電
イオン量を均一化することができるので、高画質化およ
び耐久性の向上を図ることができる。
Since each electrode can be fixed more firmly than the conventional pressure sensitive adhesive of silicone type,
During the manufacturing process of the recording head 1, the first electrode is used for the thermal and mechanical load acting on the fixing portion of each electrode in the post-processing after the fixing of each electrode, and the thermal aging change during use of the recording head 1. It is possible to prevent the positional deviation between 3 ... and the second electrodes 5 ... As a result, the amount of discharge ions from each opening 5a of the second electrode 5 can be made uniform, so that the image quality can be improved and the durability can be improved.

【0041】さらに、誘電体層4の表面上にスクリーン
印刷によって第2電極5…およびその開口部5a…を形
成したので、ステンレス箔にエッチング技術によって高
精度に第2電極5…およびその開口部5a…を形成する
場合に比べてコスト低下を図ることができる。
Further, since the second electrodes 5 and their openings 5a are formed on the surface of the dielectric layer 4 by screen printing, the second electrodes 5 and their openings are highly accurately formed on the stainless steel foil by an etching technique. Cost can be reduced as compared with the case of forming 5a ....

【0042】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、本発明の第2の実施例のようにイ
オンフロー静電記録ヘッド1の誘電体層4の表面上に第
2電極5…を形成する際に、導電性のペーストとしてノ
リタケカンパニー製の「金系レジネートペーストD−2
0(商品名)を用いてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, when the second electrode 5 is formed on the surface of the dielectric layer 4 of the ion flow electrostatic recording head 1 as in the second embodiment of the present invention, a conductive paste “Noritake Co.” is used as a conductive paste. Gold-based resinate paste D-2
You may use 0 (brand name).

【0043】この第2電極5…の成形時には導電性ペー
ストが誘電体層4の表面上に第1の実施例と同様にスク
リーン印刷される。そして、本実施例の導電性ペースト
の硬化・焼成工程では5分で600℃まで昇温し、ここ
で5分間保持した後に、10分間で室温まで冷却するこ
とが行なわれる。上記導電性ペーストの硬化・焼成工程
を経て得られた第2電極5…の厚さは0.3μmであ
る。
At the time of molding the second electrodes 5, ..., A conductive paste is screen-printed on the surface of the dielectric layer 4 as in the first embodiment. Then, in the step of hardening and firing the conductive paste of the present embodiment, the temperature is raised to 600 ° C. in 5 minutes, held there for 5 minutes, and then cooled to room temperature in 10 minutes. The thickness of the second electrodes 5 obtained through the curing and firing process of the conductive paste is 0.3 μm.

【0044】そして、上記構成のものにあっても第1の
実施例と同様の効果を得ることができるとともに、本実
施例のようにレジネートタイプの導電性ペーストを用い
ることにより、第2電極5…のファインパターン化を図
ることができる。
Even with the above structure, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and by using the resinate type conductive paste as in the present embodiment, the second electrode 5 can be obtained. It is possible to make a fine pattern.

【0045】また、本発明の第3の実施例のようにイオ
ンフロー静電記録ヘッド1の誘電体層4の表面上に第2
電極5…を形成する際に、導電性のペーストとしてシン
トーケミトロン製の銀−エポキシ系導電性ペーストであ
る「Shintron K−3424」(商品名)を用
いてもよい。
Further, as in the third embodiment of the present invention, a second layer is formed on the surface of the dielectric layer 4 of the ion flow electrostatic recording head 1.
When forming the electrodes 5 ..., “Shintron K-3424” (trade name), which is a silver-epoxy conductive paste made by Shinto Chemitron, may be used as the conductive paste.

【0046】この第2電極5…の成形時には導電性ペー
ストが誘電体層4の表面上に第1の実施例と同様にスク
リーン印刷される。そして、本実施例の導電性ペースト
は150℃、60分の低温短時間で硬化が行なわれる。
上記導電性ペーストの硬化を経て得られた第2電極5…
の厚さは15μmである。そして、上記構成のものにあ
っても第1の実施例と同様の効果を得ることができる。
At the time of molding the second electrodes 5, ..., A conductive paste is screen-printed on the surface of the dielectric layer 4 as in the first embodiment. The conductive paste of this embodiment is cured at 150 ° C. for 60 minutes at a low temperature for a short time.
Second electrode 5 obtained by curing the conductive paste ...
Has a thickness of 15 μm. Even with the above structure, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0047】また、イオンフロー静電記録ヘッド1の誘
電体層4は誘電体粉末、例えば誘電率の大きい無機物粉
末を溶剤を含む有機高分子材料中、或いはセラミック系
バインダー中に分散させたペースト状のものを、絶縁基
板2上に塗布後、乾燥、硬化させたものを用いてもよ
い。
The dielectric layer 4 of the ion flow electrostatic recording head 1 is a paste in which dielectric powder, for example, inorganic powder having a large dielectric constant is dispersed in an organic polymer material containing a solvent or a ceramic binder. It is also possible to use a product obtained by coating the insulating substrate 2 on the insulating substrate 2 and then drying and curing the same.

【0048】ここで、誘電体層4の誘電体粉末としては
例えば酸化チタン、チタン酸バリウム、ジルコン酸鉛等
を用いることができる。また、有機高分子材料として
は、熱硬化性アルキド樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂成分
を有機溶剤に溶解させたものを用いることができ、セラ
ミック系バインダーとしては低融点ガラス等を用いるこ
とができる。
Here, as the dielectric powder of the dielectric layer 4, for example, titanium oxide, barium titanate, lead zirconate or the like can be used. Further, as the organic polymer material, a material obtained by dissolving a resin component such as a thermosetting alkyd resin or an epoxy resin in an organic solvent can be used, and as the ceramic-based binder, low melting point glass or the like can be used.

【0049】さらに、誘電体層4上に第2電極5…を形
成する手段としては誘電体層4上に導電性のペーストを
所定のパターンにスクリーン印刷する他、転写等の方法
で塗布してもよい。この場合も導電性ペーストの塗布
後、溶剤を乾燥除去して加熱硬化させるようになってい
る。
Further, as means for forming the second electrodes 5 ... On the dielectric layer 4, a conductive paste is screen-printed on the dielectric layer 4 in a predetermined pattern, or is applied by a method such as transfer. Good. In this case as well, after the conductive paste is applied, the solvent is dried and removed to be cured by heating.

【0050】また、使用する導電性ペーストとしてはカ
ーボンブラック、銀、銅、ニッケル等の単品または複合
化した粉末を、導電性フィラーとしてエポキシ系樹脂や
アクリル系樹脂等の各種樹脂中に分散させたものの他、
レジネートペーストやメタルオーガニックデポジション
ペーストといった有機金属系化合物含有のペーストも用
いることができる。
As the conductive paste to be used, carbon black, silver, copper, nickel or the like, which is a single product or a composite powder, is dispersed as a conductive filler in various resins such as epoxy resin and acrylic resin. Other than
A paste containing an organic metal compound such as a resinate paste or a metal organic deposition paste can also be used.

【0051】但し、レジネートペーストやメタルオーガ
ニックデポジションペースト等の導電性ペーストを用い
た場合は硬化焼成温度が500℃以上と、通常の導電性
ペーストに比べて高い為、第1電極3…を積層する絶縁
基板2の材料としてはガラス基板やアルミナ等のセラミ
ック基板を用い、誘電体層4の材料としても耐熱性の高
いセラミック系を用いる必要がある。さらに、その他、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施できるこ
とは勿論である。
However, when a conductive paste such as a resinate paste or a metal organic deposition paste is used, the curing and firing temperature is 500 ° C. or higher, which is higher than that of a normal conductive paste, so that the first electrodes 3 are laminated. It is necessary to use a glass substrate or a ceramic substrate such as alumina as a material for the insulating substrate 2 and a ceramic system having high heat resistance as a material for the dielectric layer 4. In addition,
Needless to say, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば電極を導電性のペースト
を加熱硬化させた加熱硬化体によって形成したので、第
2の電極と誘電体層との間を強固に固着することがで
き、後加工時の熱的及び機械的な負荷や、使用中の熱的
経時変化にも電極間の位置ずれが起こり難くすることが
できるとともに、第2の電極の各開口部のイオン発生量
を均一化し、高画質化および耐久性の向上を図り、且つ
コスト低下を図ることができる。
According to the present invention, since the electrode is formed by the heat-cured body obtained by heat-curing the conductive paste, the second electrode and the dielectric layer can be firmly fixed to each other. Positional displacement between electrodes can be made less likely to occur due to thermal and mechanical loads during processing and thermal aging during use, and the amount of ions generated in each opening of the second electrode can be made uniform. It is possible to improve the image quality, improve the durability, and reduce the cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例を示すもので、(A)
はイオンフロ−静電記録ヘッドの概略構成を示す要部の
縦断面図、(B)はイオンフロ−静電記録ヘッドの断面
斜視図。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention (A)
Is a longitudinal sectional view of a main part showing a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head, and FIG.

【図2】 第1電極および絶縁基板上に誘電体層を積層
させた状態を示す要部の縦断面図。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a state in which a dielectric layer is laminated on a first electrode and an insulating substrate.

【図3】 誘電体層上に第2電極を固着させた状態を示
す要部の縦断面図。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a state in which a second electrode is fixed on a dielectric layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…絶縁基板,3…第1電極,4…誘電体層,5…第2
電極。
2 ... Insulating substrate, 3 ... First electrode, 4 ... Dielectric layer, 5 ... Second
electrode.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体層の一面側に略平行に並設された
複数の第1電極と、前記誘電体層の他面側に前記第1電
極と異なる方向に向けて略平行に並設された複数の第2
電極とによってマトリクス状のイオン発生部が形成され
るイオンフロー静電記録ヘッドにおいて、前記電極を導
電性のペーストを加熱硬化させた加熱硬化体によって形
成したことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッド。
1. A plurality of first electrodes arranged substantially parallel to one surface side of a dielectric layer, and a plurality of first electrodes arranged substantially parallel to the other surface side of the dielectric layer in a direction different from the first electrode. Multiple second
An ion flow electrostatic recording head in which a matrix-shaped ion generating portion is formed by electrodes, wherein the electrodes are formed by a heat-cured body obtained by heat-curing a conductive paste. .
【請求項2】 誘電体層の一面側に略平行に並設された
複数の第1電極と、前記誘電体層の他面側に前記第1電
極と異なる方向に向けて略平行に並設された複数の第2
電極とによってマトリクス状のイオン発生部が形成され
るイオンフロー静電記録ヘッドにおいて、前記第2の電
極を導電性のペーストを加熱硬化させた加熱硬化体によ
って形成したことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘ
ッド。
2. A plurality of first electrodes arranged substantially parallel to one surface side of the dielectric layer, and a plurality of first electrodes arranged substantially parallel to the other surface side of the dielectric layer in a direction different from the first electrode. Multiple second
In an ion flow electrostatic recording head in which a matrix-shaped ion generating portion is formed by electrodes, the second electrode is formed by a heat-cured body obtained by heat-curing a conductive paste. Electric recording head.
JP4235895A 1992-09-03 1992-09-03 Ion flow type electrostatic recording head Withdrawn JPH0679911A (en)

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