JPH0679980A - 光熱変換型ヒートモード受像材料及び記録材料 - Google Patents

光熱変換型ヒートモード受像材料及び記録材料

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JPH0679980A
JPH0679980A JP4234901A JP23490192A JPH0679980A JP H0679980 A JPH0679980 A JP H0679980A JP 4234901 A JP4234901 A JP 4234901A JP 23490192 A JP23490192 A JP 23490192A JP H0679980 A JPH0679980 A JP H0679980A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 小スペース、低価格な装置で受像材料と記録
材料を短時間で均一に密着でき、搬送時のトラブルもな
い光熱変換型ヒートモード受像材料及び記録材料を提供
する。 【構成】 記録材料のインク層を有する面と受像材料の
受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報に応じ
た光を照射することにより記録する光熱変換型ヒートモ
ード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモード受像
材料において、受像面の表面粗さがＲa値0.4〜0.01であ
るか又はうねりが２μm以下である光熱変換型ヒートモ
ード受像材料。同光熱変換型ヒートモード記録方法に用
いられる光熱変換型ヒートモード記録材料において、イ
ンク層の表面粗さがＲa値0.4〜0.01であるか又はうねり
が２μm以下である光熱変換型ヒートモード記録材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光熱変換型ヒートモード
記録方法に用いる受像材料及び記録材料に関し、特にレ
ーザー走査方式に適した光熱変換型ヒートモード受像材
料及び記録材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱転写記録においては、記録材料と受像
材料の密着が転写プロセスに必須であり、通常のサーマ
ルヘッドを使用した熱転写記録では、プラテンローラに
サーマルヘッドを押圧することにより記録材料と受像材
料の密着が達成されている。
【０００３】レーザー等の光を使用するヒートモード熱
転写記録では、エネルギーロスを出来る限り少なくする
ために光学系をシンプルにして光学系ロスを少なくした
いという要求がある。
【０００４】更に、走査速度を上げるために円筒走査の
利用も考えられるが、円筒走査では記録材料と受像材料
を巻き付けたドラムを高速回転するために、接触式の密
着方法を採ることが難しい。
【０００５】又、透明なカバーシートを使用して記録材
料と受像材料の密着を行うことが考えられるが、この方
法では材料シートのサイズが大きくなるに従って密着ム
ラが発生し易くなり、又、カバーシートの使用により記
録材料、受像材料の自動搬送機構が複雑になり、装置の
大型化、コストアップ等の問題もあった。
【０００６】従って、非接触式で光学系のロスが少ない
ヒートモード熱転写記録における記録材料と受像材料の
効果的な密着方法の開発が要請されている。
【０００７】
【発明の目的】本発明の目的は、光熱変換型ヒートモー
ド記録に関し、小スペース、低価格な装置で受像材料と
記録材料を短時間で均一に密着でき、搬送する際のトラ
ブルもない光熱変換型ヒートモード受像材料及び記録材
料を提供することにある。
【０００８】
【発明の構成】本発明者らは、記録材料と受像材料の密
着性が両者の表面物性に大きく影響されることに着目
し、鋭意検討の結果、前記の諸問題を改良できることを
見い出し本発明を為すに至った。
【０００９】即ち本発明の上記目的は、以下の構成によ
り達成される。
【００１０】(１)記録材料のインク層を有する面と受像
材料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報
に応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒ
ートモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモー
ド受像材料において、受像面の表面粗さがＲa値0.4〜0.
01であるか又はうねりが２μm以下である光熱変換型ヒ
ートモード受像材料。
【００１１】(２)記録材料のインク層を有する面と受像
材料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報
に応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒ
ートモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモー
ド受像材料において、受像面のスムースター値が23℃・
55％RHで５〜20mmHgである光熱変換型ヒートモード受像
材料。
【００１２】(３)受像面の表面抵抗が23℃・55％RHで10
9Ω以下である(１)又は(２)記載のヒートモード受像材
料。
【００１３】(４)記録材料のインク層を有する面と受像
材料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報
に応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒ
ートモード記録方法に用いられるヒートモード記録材料
において、インク層の表面粗さがＲa値0.4〜0.01である
か又はうねりが２μm以下である光熱変換型ヒートモー
ド記録材料。
【００１４】(５)記録材料のインク層を有する面と受像
材料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報
に応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒ
ートモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモー
ド記録材料において、インク層のスムースター値が23℃
・55％RHで５〜20mmHgである光熱変換型ヒートモード記
録材料。
【００１５】(６)インク層の表面抵抗が23℃・55％RHで
109Ω以下である(４)又は(５)記載の光熱変換型ヒート
モード熱転写記録材料。
【００１６】(７)光熱変換型ヒートモード受像材料の受
像面と光熱変換型ヒートモード記録材料のインク面の静
止摩擦係数が0.2以下である(１)〜(６)のいずれかに記
載の光熱変換型ヒートモード受像材料及び光熱変換型ヒ
ートモード記録材料。
【００１７】又、下記構成の記録方法は本発明の効果を
発揮するのに好ましい態様である。
【００１８】(８)微小孔を有する減圧器に光熱変換型ヒ
ートモード受像材料の受像面と該受像材料より縦横共寸
法が大きい光熱変換型ヒートモード記録材料のインク面
を重ね合わせ、該受像材料の周囲よりはみ出した記録材
料部分から微小孔を通して減圧することにより、記録材
料と受像材料を密着させ、引き続き記録材料側から光照
射を行う光熱変換型ヒートモード記録方法。
【００１９】(９)微小孔を有する減圧器に光熱変換型ヒ
ートモード記録材料のインク面と該記録材料より縦横共
寸法が大きい光熱変換型ヒートモード受像材料の受像面
を重ね合わせ、該記録材料の周囲よりはみ出した受像材
料部分から微小孔を通して減圧することにより、記録材
料と受像材料を密着させ、引き続き受像材料側から光照
射を行う光熱変換型ヒートモード記録方法。
【００２０】(10)減圧器が平板である(８)又は(９)記載
の光熱変換型ヒートモード記録方法。
【００２１】(11)減圧器がドラム状である(８)又は(９)
記載の光熱変換型ヒートモード記録方法。
【００２２】以下、図面によって光熱変換型ヒートモー
ド記録方法を説明するが、光熱変換型ヒートモード受像
材料を「ヒートモード受像材料」或は単に「受像材料」
と、又、光熱変換型ヒートモード記録材料を「ヒートモ
ード記録材料」或は単に「記録材料」とも称する。
【００２３】密着方法としては、図１に示すように、微
小孔を有する減圧器に受像材料の受像層面と受像材料よ
り縦横共寸法が大きい記録材料のインク面を重ね合わ
せ、該受像材料の周囲よりはみ出した記録材料部分から
微小孔を通して減圧することにより、受像材料と記録材
料を密着させる、又、逆に記録材料のインク面と記録材
料より縦横共寸法が大きい受像材料の受像面を重ね合わ
せ、該記録材料の周囲よりはみ出した受像材料部分から
微小孔を通して減圧することにより、受像材料と記録材
料を密着させることも可能である。
【００２４】この密着方法によれば、記録材料と受像材
料の搬送、巻付け共自動化が容易であり、密着完了後に
光照射を行うことによりヒートモード記録が可能とな
る。減圧器は図２に示すようにドラム状であってもよい
し、図３に示すように平板であってもよいが、高速記録
が要求される場合、平板の減圧器とポリゴンミラー又は
ガルバノミラーによる平面走査より、ドラム状の減圧器
を使用する円筒走査の方が光学系のロスが少なくて良
い。
【００２５】このような減圧器を使用して、記録材料の
インク面と受像材料の受像面を完全に密着又は極く近傍
に配した状態（以下、この状態を密着状態と呼ぶ）で記
録情報に応じた光を照射することにより熱転写記録を行
う。
【００２６】以下、本発明をより詳細に説明する。
【００２７】本発明における減圧器及び減圧器の周辺を
図４に示す。此処では減圧器がドラム状の場合を例示す
るが、平板の場合も基本的構成は同様である。例えば図
５に示す構成の記録材料と受像材料を減圧器に巻き付け
て密着させる場合は、まず受像材料を減圧孔弁を閉じた
状態で減圧し巻き付けて固定する。次に、記録材料を巻
き付けていくが、この時、減圧孔を順次開きながら行
う。これにより減圧時間の短縮と密着状態が得られ易
い。スクィーズローラにより押圧しながら減圧弁を開い
ていくと更に効果的である。
【００２８】記録材料のインク層及び／又は受像材料の
表面粗さはＲa値として0.4〜0.01であるが、0.3〜0.05
がより好ましい。Ｒaが0.4を超えると密着性が悪化し、
転写感度の低下、転写画像のドット再現性の劣化、色濁
り等が発生する。0.01以下にすることは生産的に難し
く、又、圧力転写によるカブリが発生し易くなる。
【００２９】一方、表面のうねり（0.1〜数mmの間隔で
観察される表面の凹凸）は２μm以下であり、表面粗さ
に比べると大きくてもよいが、２μm以上になると受像
材料及び記録材料の剛性にもよるが、矢張り密着性を悪
くする。
【００３０】減圧密着を行う場合、減圧している時間に
より密着の程度は変化するが、減圧時間は短い程好まし
い。スムースター値は、密着に要する減圧時間を測る指
標として銀塩感材等で屡々用いられ、スムースター値が
大きい程密着時間は短くなる。本発明における受像材料
及び／又は記録材料のスムースター値は、23℃・55％RH
で５〜20mmHgであるが、５mmHg以下では密着に要する時
間が長くなり、20mmHg以上では密着時間は短くて済む
が、密着性が悪化し転写感度の低下等を招く。
【００３１】減圧密着による密着時間を短くするため、
更にスクィーズロールにより押圧しながら減圧を行う
が、この際、受像材料と記録材料の滑り性が良い方が好
ましい。即ち、受像材料と記録材料の静止摩擦係数が0.
2以下であることが好ましく、0.2を超えると密着時間が
長くなると同時に材料表面に皺を生じ、均一な密着を妨
げる。
【００３２】受像材料、記録材料の表面抵抗を低くする
ことにより、それぞれを減圧器へ搬送する際の搬送トラ
ブル、搬送工程でのゴミ付着を少なくすることができ
る。表面抵抗は温度・湿度により大きく変化するが、ヒ
ートモード熱転写記録装置内は一般に低湿になり易く、
従って23℃・55％RHでの表面抵抗を109Ω以下にするこ
とが望ましい。
【００３３】次に本発明に使用する記録材料及び受像材
料について説明する。
【００３４】記録材料は、基本的に支持体上に熱溶融性
のインク層を積層した構造を有すると共に、像様に照射
される光を熱に変換する機能を兼ね備える。必要に応じ
て支持体とインク層の間に中間層（剥離層、バリヤー
層、クッション層等）を設けてもよい。
【００３５】熱溶融性のインク層とは、加熱時に溶融又
は軟化して色材とバインダー等を含有する層毎転写可能
であるインク層を意味し、完全な溶融状態で転写しなく
てもよい。
【００３６】上記色材としては、例えば無機顔料及び有
機顔料などの顔料ならびに染料を挙げることができる。
【００３７】無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等が挙げられる。
【００３８】有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料（例えば銅フタロシアニン）及びその誘導体、
キナクリドン顔料などが挙げられる。又、有機染料とし
ては、酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含
金属油溶性染料又は昇華性色素等が挙げられる。
【００３９】形成した画像をカラープルーフとして用い
る場合には、印刷インクに使用されているものと同等の
色材として例えばリオノールブルーFG-7330、リオノー
ルイエローNo.1206,No.1406G、リオノールレッド6BFG-4
219X（いずれも東洋インキ社製）等の顔料を使用するこ
とができる。
【００４０】インク層における色材の含有率は特に限定
されないが、通常５〜70重量％の範囲内にあり、好まし
くは10〜60重量％である。
【００４１】インク層のバインダーとしては、熱溶融性
物質、熱軟化性物質、熱可塑性樹脂を挙げることができ
る。熱溶融性物質は、通常、柳本MJP−２型を用いて測
定した融点が40〜150℃の範囲内にある固体又は半固体
の物質である。具体的には、カルナバ蝋、木蝋等の植物
蝋；蜜蝋、セラック蝋等の動物蝋；パラフィンワック
ス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレンワック
ス、エステルワックス、酸ワックス等の石油蝋；並びに
モンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物蝋等のワ
ックス類を挙げることができ、更にこれらのワックス類
などの他に、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸等
の高級脂肪酸；パルミチルアルコール、ステアリルアル
コール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコール等
の高級アルコール；パルミチン酸セチル、パルミチン酸
ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリシル
等の高級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオン酸
アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ア
ミドワックス等のアミド類；並びにステアリルアミン、
ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミン類な
どが挙げられる。
【００４２】又、熱可塑性樹脂としては、エチレン系共
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セルロー
ス系樹脂、ロジン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹
脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アイオノマー樹脂、
石油系樹脂等の樹脂類；天然ゴム、スチレンブタジエン
ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、ジエン系コ
ポリマー等のエラストマー類；エステルガム、ロジンマ
レイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂、水添ロジン等の
ロジン誘導体；並びにフェノール樹脂、テルペン樹脂、
シクロペンタジエン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高
分子化合物などを挙げることができる。
【００４３】上記熱溶融性物質及び熱可塑性物質を適宜
に選択することにより、所望の熱軟化点あるいは熱溶融
点を有する熱転写層を形成することができる。
【００４４】像様に照射される光を熱に変換する機能
は、例えば光熱変換材をインク層に含有させることによ
り、又はインク層に隣接して光熱変換材を含有する光熱
変換層を設けることにより実現できる。
【００４５】光熱変換材をインク層に含有させる場合、
光熱変換材としては従来公知のものをいずれも使用でき
る。本発明の好ましい態様では半導体レーザー光照射に
より発熱させるため、カラー画像を形成する場合は700
〜3000nmの波長帯に吸収極大を示し、可視域での吸収が
無いか小さい近赤外光吸収剤が好ましい。モノクロ画像
を形成する場合は、可視〜近赤外域まで吸収を持つカー
ボンブラック等が好ましい。
【００４６】近赤外光吸収剤としては、シアニン系、ポ
リメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピ
リリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素等
の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド
系の有機金属錯体などが好適に用いられ、具体的には特
開昭63-139191号、同64-33547号、特開平1-160683号、
同1-280750号、同1-293342号、同2-2074号、同3-26593
号、同3-30991号、同3-34891号、同3-36093号、同3-360
94号、同3-36095号、同3-42281号、同3-97589号、同3-1
03476号等に記載の化合物が挙げられる。
【００４７】光熱変換材を含有する光熱変換層をインク
層と別層として設ける場合、光熱変換材は上記のものを
そのまま用いることができる。
【００４８】光熱変換層におけるバインダーとしては、
ガラス転移点が高く熱伝導率の高い樹脂、例えばポリメ
タクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチレン、
エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアル
コール、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリパラバ
ン酸、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
エーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使用することが
できる。
【００４９】この光熱変換層の膜厚は0.1〜３μmが好ま
しく、光熱変換層における光熱転換材の含有量は、通
常、画像記録に用いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0
になるように決めることができる。
【００５０】光熱変換層としては、この他にもカーボン
ブラック、アルミニウムなどの蒸着膜として形成するこ
とも可能である。なお、光熱変換材はインク層の色材そ
のものでもよく、又、上記のものに限定されず、様々な
物質が使用できる。
【００５１】記録材料のクッション層は記録材料と受像
材料との密着を増す目的で設けられるが、前記支持体自
体にクッション性が付与されていてもよい。
【００５２】クッション性を付与するには、低弾性率を
有する材料あるいはゴム弾性を有する材料を使用すれば
よい。具体的には、天然ゴム、アクリレートゴム、ブチ
ルゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴ
ム、スチレン-ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウ
レタンゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴ
ム、ネオプレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、
エピクロルヒドリン、ＥＰＤＭ（エチレン・プロピレン
・ジエンゴム）、ウレタンエラストマー等のエラストマ
ー、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、
ポリブテン、ポリウレタン、アセテート、セルロースア
セテート、アミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン-ブタ
ジエン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル-ブタジエン共重合体、塩化ビニル-酢酸ビ
ニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン等の内、弾性率の小さな樹脂が挙げられる。
【００５３】クッション層として使用可能な形状記憶樹
脂としては、ポリノルボルネンやポリブタジエンユニッ
トとポリスチレンユニットとが複合化されたスチレン系
ハイブリッドポリマー等を挙げることができる。
【００５４】クッション層の厚みは使用する樹脂又はエ
ラストマーの種類、記録材料-受像シート密着の際の吸
引力、マット材の粒径、マット材の使用量など様々の因
子により異なるので一概には決められないが、通常10〜
100μmの範囲である。
【００５５】クッション層の形成方法としては、前記素
材を溶媒に溶解又はラテックス状に分散したものを、ブ
レードコーター、ロールコーター、バーコーター、カー
テンコーター、グラビアコーター等の塗布法、ホットメ
ルトによる押出しラミネーション法、クッション層フィ
ルムの貼合せ法などを適用できる。
【００５６】支持体としては、寸法安定性が良く、画像
形成の際の熱に耐えるものならば何でもよく、具体的に
は特開昭63-193886号２頁左下欄12〜18行に記載のフィ
ルム又はシートを使用することができる。又、レーザー
光を記録材料側から照射して画像を形成するのであれ
ば、記録材料の支持体は透明であることが望ましい。レ
ーザー光を受像材料側から照射して画像を形成するので
あれば、記録材料の支持体は透明である必要はない。支
持体の厚さは特に制約はないが、通常２〜300μm、好ま
しくは５〜200μmである。
【００５７】帯電防止層は記録材料、受像材料共に同様
な構成を採ることが可能であり、バックコート層下引
層、インク層下引層、受像層下引層等の中間層として設
けることもできるし、受像層、インク層、バックコート
層等の表面にある層に帯電防止剤を添加して構成するこ
ともできる。これらの層は、支持体の一方の面に設ける
ことにより帯電防止が可能であり、又、支持体の両面に
設けることも好ましい。
【００５８】帯電防止層の膜厚は単独で形成する場合0.
5〜３μmで設けることができ、受像層、光熱変換層、イ
ンク層等に帯電防止剤を添加する場合には、それぞれの
層に必要な膜厚で形成すればよい。
【００５９】帯電防止剤としては、ポリオキシエチレン
アルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル等の非イオ
ン系界面活性剤、第４級アンモニウム塩等のカチオン系
界面活性剤、アルキルホスフェート等のアニオン系界面
活性剤、両性界面活性剤、導電性樹脂等の「11290の化
学商品」化学工業日報社刊875〜876頁に記載の化合物が
使用できる。
【００６０】又、導電性微粒子も用いることができ、例
えばZnO,TiO2,SnO2,Al2O3,In2O3,MgO,BaO,CoO,CuO,Cu
2O,CaO,SrO,BaO2,PbO,PbO2,MnO3,SiO2,ZrO2,Ag2O,Y2O3,
Bi2O3,Ti2O3,Sb2O3,Sb2O5,K2Ti6O13,NaCaP2O18,MgB2O5
等の酸化物；CuS,ZnS等の硫化物、SiC,TiC,ZrC,VC,NbC,
MoC,WC等の炭化物、Si3N4,TiN,ZrN,VN,NbN,TaN,Cr2N等
の窒化物、TiB2,ZrB2,NbB2,TaB2,CrB,MoB,WB,LaB5等の
硼化物、TiSi2,ZrSi2,NbSi2,TaSi2,CrSi2,MoＳi2,WSi2
等の珪化物、BaCO3,CaCO3,SrCO3,BaSO4,CaSO4等の金属
塩、SiN4-SiC,9Ai2O3-2B2O3等の複合体が挙げられ、こ
れら１種を単独で又は２種以上を併用してもよい。
【００６１】帯電防止剤の帯電防止層への添加量は、帯
電防止層として単層である場合と他の層に帯電防止剤を
添加する場合では異なるが、全量に対して５〜80重量％
が好ましく、10〜60重量％がより好ましい。
【００６２】次に、受像材料について述べる。
【００６３】受像材料は、前記記録材料から像様に剥離
したインク層を受容して画像を形成する。通常、受像材
料は支持体と受像層とを有し、又、支持体のみから形成
されることもある。
【００６４】受像材料は熱により溶融したインク層が転
写されるのであるから、適度の耐熱強度を有すると共
に、画像が適正に形成されるよう寸法安定性に優れるこ
とが望ましい。
【００６５】支持体の表面に形成する受像層は、バイン
ダーと必要に応じて添加される各種添加剤やマット材か
らなる。又、場合によってはバインダーのみで形成され
る。転写性の良い受像層バインダーとしては、ポリ酢酸
ビニルエマルジョン系接着剤、クロロプレン系接着剤、
エポキシ樹脂系接着剤等の接着剤、天然ゴム、クロロプ
レンゴム系、ブチルゴム系、ポリアクリル酸エステル
系、ニトリルゴム系、シリコンゴム系、ロジン系、石油
系樹脂などの粘着材、再生ゴム、アイオノマー樹脂、Ｓ
ＢＲ、ポリサルファイド系、ポリブタジエン系、エチレ
ン-酢酸ビニル系樹脂、ポリイソプレン、塩化ビニル系
樹脂、ポリビニルエーテル等を挙げることができる。
【００６６】又、受像層上に形成された画像を、更に加
熱及び／又は加圧により他の被記録媒体に再転写する場
合は、受像層として極性の比較的小さい（SP値の小さ
い）樹脂が特に好ましい。例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、エチレン-塩化ビニル共重合体、エチレン-ア
クリル共重合体、塩化ビニル系樹脂、各種変性オレフィ
ンなどである。
【００６７】受像層の膜厚は通常、10〜100μmである
が、クッション層を受像層として用いる場合はこの限り
ではない。クッション層としては記録材料に記載したク
ッション層が利用できる。又、他の被記録媒体に再転写
する場合の膜厚は30〜50μmが好ましい。
【００６８】受像材料の支持体としては、記録材料で説
明したものと同様のものが使用できるが、厚みは25〜30
0μmが好ましく、更に好ましくは50〜200μmである。
【００６９】その他、必要に応じて受像層下引層、バッ
クコート層、帯電防止層などを設けることができる。
【００７０】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００７１】（記録材料の作成）厚さ75μmの透明ＰＥ
Ｔ（ポリエチレンテレフタレート：ダイヤホイルヘキス
ト社製Ｔ-100）支持体上にクッション層、光熱変換層、
インク層等を順次塗工して記録材料を作成した。各層の
作成方法及び塗工液を次に記す。
【００７２】＜クッション層＞以下の三通りの形成方法
を用いた。
【００７３】形成方法Ａ（うねり＝0.5μm） 下記組成の塗工液をブレードコータを用いて塗布・乾燥
した。膜厚30μm。
【００７４】クッション層形成用塗工液 ＥＶＡ 15部 （ＶＡ含量28％，三井デュポンケミカル社製：EV250） トルエン 85部 形成方法Ｂ（うねり＝1.2μm） ＥＶＡ（ＶＡ含量14％）をエクストルージョンラミネー
トして形成後、カレンダーロールで平滑化処理した。
【００７５】形成方法Ｃ（うねり＝2.5μm） ＥＶＡ（ＶＡ含量14％）をエクストルージョンラミネー
トして形成した。
【００７６】＜光熱変換層＞クッション層の上に下記組
成の塗工液を、それぞれワイヤーバーにて塗布・乾燥
し、乾燥膜厚0.4μmの層を得た。
【００７７】光熱変換層形成用塗工液Ａ ポリビニルアルコール（日本合成化学社製：GL-05） 7部 ＩＲ吸収色素（IR-１） 3部 蒸留水 90部光熱変換層形成用塗工液Ｂ ポリビニルアルコール（日本合成化学社製：GL-05） 5部 ＩＲ吸収色素（IR-１） 3部 アニオン性高分子 2部 （主成分ポリスチレンスルホン酸ナトリウム，三洋化成 工業社製：ケミスタッドSA-９） 蒸留水 90部
【００７８】
【化１】
【００７９】＜インク層＞光熱変換層の上に下記組成の
塗工液を、それぞれワイヤーバーにて塗布・乾燥した。
乾燥膜厚0.5μm。
【００８０】インク層形成用塗工液Ａ スチレンアクリル（三洋化成社製：ハイマーSBM-100） 6.4部 エチレン-酢酸ビニル共重合体 0.5部 （三井・デュポンポリケミカル社製：EV-40Ｙ） シアン顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 0.8μmシリコン樹脂微粒子 0.3部 （東芝シリコーン社製：トスパール108） ＤＯＰ（ジオクチルフタレート） 0.3部 ＭＥＫ（メチルエチルケトン） 90部インク層形成用塗工液Ｂ スチレンアクリル（前出：ハイマーSBM-100） 6.4部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：EV-40Ｙ） 0.5部 マゼンタ顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 0.8μmシリコン樹脂微粒子（前出：トスパール108） 0.3部 ＤＯＰ 0.3部 ＭＥＫ 90部インク層形成用塗工液Ｃ スチレンアクリル（前出：ハイマーSBM-100） 6.4部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：EV-40Ｙ） 0.5部 マゼンタ顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 2.0μmシリコン樹脂微粒子 0.3部 （東芝シリコーン社製：トスパール120） ＤＯＰ 0.3部 ＭＥＫ 90部インク層形成用塗工液Ｄ ロジン系樹脂（播磨化成社製：DS-90） 6.7部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：EV-40Ｙ） 0.5部 マゼンタ顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 ＤＯＰ 0.3部 ＭＥＫ 90部インク層形成用塗工液Ｅ スチレンアクリル（前出：ハイマーSBM-100） 6.69部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：EV-40Ｙ） 0.5部 マゼンタ顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 弗素系界面活性剤（旭硝子社製：サーフロンＳ-382) 0.01部 ＤＯＰ 0.3部 ＭＥＫ 90部インク層形成用塗工液Ｆ スチレンアクリル（前出：ハイマーSBM-100） 6.4部 エチレン-酢酸ビニル共重合体（前出：EV-40Ｙ） 0.5部 マゼンタ顔料分散物（御国色素社製） 2.5部 0.8μmシリコン樹脂微粒子（前出：トスパール108） 0.3部 酸化錫［酸化アンチモンドープ］ 1.0部 （平均粒径0.02μm、三菱マテリアル社製：導電粉Ｔ-１） ＤＯＰ 0.3部 ＭＥＫ 90部 （受像材料の作成）記録材料と同じＰＥＴ支持体上に記
録材料と同様のクッション層、受像層下引層、受像層等
を塗工して作成した。
【００８１】〈受像層〉下記組成の塗工液を、それぞれ
ワイヤーバーにて塗布・乾燥した。膜厚1.0μm。
【００８２】受像層形成用塗工液Ａ EVA／VCLグラフトポリマー 5.0部 （日本ゼオン社製：グラフトマーＲ３） ＭＥＫ 70部 シクロヘキサノン 25部受像層形成用塗工液Ｂ EVA／VCLグラフトポリマー（前出：クラフトマーＲ３） 4.5部 3.5μmシリカ微粒子 0.5部 （富士デビソン社製：サイロイド244） ＭＥＫ 70部 シクロヘキサノン 25部受像層形成用塗工液Ｃ 1,2-ポリブタジエン 5部 （日本合成ゴム社製：RB-830） トルエン 95部受像層形成用塗工液Ｄ EVA／VCLグラフトポリマー（前出：グラフトマーＲ３） 4.9部 3.5μmシリカ微粒子（前出：サイロイド244） 0.1部 ＭＥＫ 70部 シクロヘキサノン 25部受像層形成用塗工液Ｅ EVA／VCLグラフトポリマー（前出：グラフトマーＲ３） 4.7部 5.0μmシリカ微粒子 0.3部 （富士デビソン社製：サイロイド79） ＭＥＫ 70部 シクロヘキサノン 25部受像層形成用塗工液Ｆ エチレン-塩化ビニル共重合体 9.9部 （東洋モートン社製：AD37Ｐ295Ｊ） 弗素系界面活性剤（旭硝子社製：サーフロンＳ-381） 0.1部 水 90部受像層形成用塗工液Ｇ EVA／VCLグラフトポリマー（前出：グラフトマーＲ３） 8.0部 酸化錫［酸化アンチモンドープ］（前出：導電粉Ｔ-１） 2.0部 ＭＥＫ 65部 シクロヘキサノン 25部 〈下引層〉受像材料に、試料によっては下記組成の塗工
液をワイヤーバーにて塗布・乾燥して下引層を設けた。
乾燥膜厚1.0μm。
【００８３】受像層下引層形成用塗工液Ａ ポリビニルブチラール 8.0部 （積水化学工業社製：Bx-１） 酸化錫［酸化アンチモンドープ］（前出：導電粉Ｔ-１） 2.0部 ＭＥＫ 90部 〈バッキング層〉記録材料及び受像材料に、試料によっ
ては下記組成の塗工液を塗布・乾燥してバッキング層を
設けた。
【００８４】ＢＣ層形成用塗工液Ａ ポリビニルアルコール（前出：GL-05） 7部 アニオン性高分子（前出：ケミスタッドSA-９） 3部 蒸留水 90部 実施例１ ＰＥＴベース上に表１に示すクッション層、光熱変換
層、インク層を設け記録材料を作成した。受像材料はＰ
ＥＴベース上に表１に示すクッション層と受像層を順次
設けて作成した。作成した記録材料と受像材料を、表１
に示す組合せで下記条件でヒートモード転写を行い、表
面粗さ、うねりと転写性との関係を調べた。
【００８５】表面粗さとうねりの測定は、小坂研究所
（株）製の表面粗さ測定器サーフコーダSEF−30Ｄを使
用し、表面粗さは、縦倍率20000倍、粗さカットオフ値
0.08mm、基準長さ2.50mm、送り速さ0.1mm／秒として中
心線平均粗さ（Ｒa）を測定し求めた。うねりは、縦倍
率20000倍、粗さカットオフ値８mm、基準長さ5.00mm、
送り速さ0.1mm／秒として最大高さ（Ｒmax）を測定し求
めた。
【００８６】（転写条件）図２に示すドラム上に、受像
材料と記録材料をこの順に巻き付け、ドラム内部を減圧
し、受像材料と記録材料の密着状態が一定となったとこ
ろでレーザービームを照射し転写した。記録エネルギー
は0.3J／cm2とした。
【００８７】
【表１】
【００８８】結果の評価 ○：全面均一に転写可能 △：転写ムラが発生し易く、転写に必要なエネルギーが
大きい ×：エネルギーを大きくしても転写ムラが消えない 実施例２ 表２に示すような表面平滑度の異なる記録材料及び受像
材料の組合せにより実施例１と同条件でヒートモード転
写を行い、スムースター値と密着時間及び転写性との関
係を調べた。
【００８９】
【表２】
【００９０】結果の評価 ＊目視で判定した受像材料と記録材料の密着状態が定常
状態になるまでの時間（秒） ○：空気溜まりも発生せず、転写に必要なエネルギーも
小さい △：抜けはないが、転写に必要なエネルギーは大きい ×：空気溜まりによる抜けあり。
【００９１】実施例３ 表３に示すような表面抵抗の異なる記録材料及び受像材
料の組合せにより実施例１と同条件でヒートモード転写
を行い、導電性とゴミ付着による密着不良との関係を調
べた。
【００９２】
【表３】
【００９３】＊：×109Ωで示す 結果の評価 ◎：ゴミの付着による密着不良なし ○：ゴミの付着による密着不良は殆どなし ×：ゴミの付着による密着不良がある ××：ゴミの付着による密着不良が非常に多い。
【００９４】実施例４ 表４に示すような記録材料と受像材料の摩擦係数を異に
する組合せにより実施例１と同条件でヒートモード転写
を行い、摩擦係数と密着時間及び搬送性との関係を調べ
た。
【００９５】
【表４】
【００９６】結果の評価 ＊目視で判定した受像材料と記録材料の密着状態が定常
状態になるまでの時間（秒） ○：記録材料、受像材料共に良好 ×：記録材料、受像材料のいずれか一方は搬送不良発生
【００９７】
【発明の効果】本発明によれば、コンパクトで低価格な
装置により光熱変換型ヒートモード受像材料と同記録材
料を短時間で均一に密着でき、搬送時のトラブルもない
光熱変換型ヒートモード転写記録が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光熱変換型ヒートモード受像材料及び
記録材料をドラム状減圧器に巻き付けることを示す斜視
図
【図２】ドラム状減圧器の基本的構成を示す断面図
【図３】受像材料と記録材料が平板状減圧器上で密着さ
れることを示す断面図
【図４】ドラム状減圧器及び減圧器の周辺を示す全体構
成図
【図５】本発明の光熱変換型ヒートモード記録材料及び
受像材料の層構成の一例を示す断面図
【符号の説明】
１ 圧力ロール ２ 減圧孔（2−1は開いた状態、2−2は閉じた状態を示
す） ３ ヒートモード記録材料（3−1はイエロー、3−2はマ
ゼンタ、3−3はシアン 、3−4はブラック記録材料を示す） ４ ヒートモード受像材料 ５ ヒートモード記録材料補給手段 ６ ヒートモード受像材料補給手段 ７ 減圧器保持部分 ８ 光学的書込み手段 ９ 筐体 10 減圧孔弁 11,21 支持体 12,22 クッション層 13 光熱変換層 14 インク層 15,24 バックコート層 23 受像層
フロントページの続き (72)発明者 川上 壮太 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 記録材料のインク層を有する面と受像材
    料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報に
    応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒー
    トモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモード
    受像材料において、受像面の表面粗さがＲa値0.4〜0.01
    であるか又はうねりが２μm以下であることを特徴とす
    る光熱変換型ヒートモード受像材料。
  2. 【請求項２】 記録材料のインク層を有する面と受像材
    料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報に
    応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒー
    トモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモード
    受像材料において、受像面のスムースター値が23℃・55
    ％RHで５〜20mmHgであることを特徴とする光熱変換型ヒ
    ートモード受像材料。
  3. 【請求項３】 受像面の表面抵抗が23℃・55％RHで109
    Ω以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の光
    熱変換型ヒートモード受像材料。
  4. 【請求項４】 記録材料のインク層を有する面と受像材
    料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報に
    応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒー
    トモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモード
    記録材料において、インク層の表面粗さがＲa値0.4〜0.
    01であるか又はうねりが２μm以下であることを特徴と
    するヒートモード記録材料。
  5. 【請求項５】 記録材料のインク層を有する面と受像材
    料の受像面を密着又は近傍に配した状態で、画像情報に
    応じた光を照射することにより記録する光熱変換型ヒー
    トモード記録方法に用いられる光熱変換型ヒートモード
    記録材料において、インク層のスムースター値が23℃・
    55％RHで５〜20mmHgであることを特徴とする光熱変換型
    ヒートモード記録材料。
  6. 【請求項６】 インク層の表面抵抗が23℃・55％RHで10
    9Ω以下であることを特徴とする請求項４又は５記載の
    光熱変換型ヒートモード記録材料。
  7. 【請求項７】 光熱変換型ヒートモード受像材料の受像
    面と光熱変換型ヒートモード記録材料のインク面の静止
    摩擦係数が0.2以下であることを特徴とする請求項１〜
    ６のいずれかに記載の光熱変換型ヒートモード受像材料
    及び光熱変換型ヒートモード記録材料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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