JPH0680425B2 - 空燃比検出器 - Google Patents
空燃比検出器Info
- Publication number
- JPH0680425B2 JPH0680425B2 JP60040198A JP4019885A JPH0680425B2 JP H0680425 B2 JPH0680425 B2 JP H0680425B2 JP 60040198 A JP60040198 A JP 60040198A JP 4019885 A JP4019885 A JP 4019885A JP H0680425 B2 JPH0680425 B2 JP H0680425B2
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- Japan
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- fuel ratio
- air
- temperature
- solid electrolyte
- electrode
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は内燃機関の空燃比を閉ループ制御する空燃比検
出器に係り、特に周囲温度の影響を受けない出力を得る
のに好適な空燃比検出器に関する。
出器に係り、特に周囲温度の影響を受けない出力を得る
のに好適な空燃比検出器に関する。
従来の装置は、特開昭57−192852に記載のように、固体
電解質の温度を検出する手段として、固体電解質に交流
を用いるか、温度測定の期間を設けるか、温度測定用素
子を設けるようになつていた。また、排気温度やエンジ
ンの運転状態より電解質の温度を推測することも知られ
ている(実開昭59−103265,特開昭59−188054)。しか
し、構造が複雑となつたり、間接的な温度検出のため精
度が不十分などの問題があつた。
電解質の温度を検出する手段として、固体電解質に交流
を用いるか、温度測定の期間を設けるか、温度測定用素
子を設けるようになつていた。また、排気温度やエンジ
ンの運転状態より電解質の温度を推測することも知られ
ている(実開昭59−103265,特開昭59−188054)。しか
し、構造が複雑となつたり、間接的な温度検出のため精
度が不十分などの問題があつた。
本発明の目的は、周囲温度の影響を受けない空燃比信号
を得る空燃比検出器を提供することにある。
を得る空燃比検出器を提供することにある。
本発明は、空燃比検出器の出力信号中に、固体電解質の
温度に関連する情報が内存されていることを見い出し、
この情報を基にして空燃比検出器の出力が周囲温度の影
響を受けないように温度補償することを特徴とする。
温度に関連する情報が内存されていることを見い出し、
この情報を基にして空燃比検出器の出力が周囲温度の影
響を受けないように温度補償することを特徴とする。
本発明の説明に先行して、本発明の基礎となる原理につ
き第1図乃至第6図により説明する。固体電解質1の排
気側に多孔質の拡散抵抗体2が設けられている。固体電
解質1は袋管状となつており、内側には大気が導かれて
いる。さらに内側には、ヒーター3が内蔵されている。
固体電解質1には、排気側と大気側にそれぞれ電極4a,4
bが設けられており、定電流回路により、両電極間に正
・逆の一定電流を時分割的に印加する。この時の端子電
圧Vの変化より出力を得る。第2図は、第1図の丸印内
を拡大した図である。本センサは、濃空燃比をも測定す
る目的で、固体電解質1に印加する電流の方向を時分割
的に反転する。その動作は第2図に示すように、初めIb
を図中の矢印の向きに流して、大気中の酸素を排気中に
ある拡散抵抗体2内に流し込む。次にISをIbとは逆向き
に流し、拡散抵抗体2内より酸素を引き抜く。前者をバ
イアス動作、後者をセンシング動作と呼ぶ。このバイア
ス動作により、濃空燃比の測定が可能になる。
き第1図乃至第6図により説明する。固体電解質1の排
気側に多孔質の拡散抵抗体2が設けられている。固体電
解質1は袋管状となつており、内側には大気が導かれて
いる。さらに内側には、ヒーター3が内蔵されている。
固体電解質1には、排気側と大気側にそれぞれ電極4a,4
bが設けられており、定電流回路により、両電極間に正
・逆の一定電流を時分割的に印加する。この時の端子電
圧Vの変化より出力を得る。第2図は、第1図の丸印内
を拡大した図である。本センサは、濃空燃比をも測定す
る目的で、固体電解質1に印加する電流の方向を時分割
的に反転する。その動作は第2図に示すように、初めIb
を図中の矢印の向きに流して、大気中の酸素を排気中に
ある拡散抵抗体2内に流し込む。次にISをIbとは逆向き
に流し、拡散抵抗体2内より酸素を引き抜く。前者をバ
イアス動作、後者をセンシング動作と呼ぶ。このバイア
ス動作により、濃空燃比の測定が可能になる。
第3図に拡散抵抗体2内の酸素濃度の分布(図中の実曲
線)の変化と、固体電解質1の端子電圧Vの変化を示し
た。第3図(a)は、バイアス動作時の図である。Ibを
流し拡散抵抗体2内に酸素を送り込むと、拡散抵抗体2
内の酸素濃度分布は、固体電解質1側が排気側の排気中
の酸素濃度Peよりも高くなり、やがてはある分布曲線
に収束する。このため、端子電圧Vも電極4aの酸素濃度
が増加するにつれて増加し、やがては一定値に収束す
る。このときのVは、 ここでr:固体電解質1の内部抵抗 T:固体電解質1の温度 R:ガス定数 F:フアラデー定数 P(4a):電極4a側の酸素濃度 P(4b):電極4b側の酸素濃度 となり、右辺第2項は起電力であり、この値が減小する
に従つてVは増加する。このバイアス動作で、P(4a)
がPeより高い状態が生じるので濃空燃の測定が可能と
なるのである。
線)の変化と、固体電解質1の端子電圧Vの変化を示し
た。第3図(a)は、バイアス動作時の図である。Ibを
流し拡散抵抗体2内に酸素を送り込むと、拡散抵抗体2
内の酸素濃度分布は、固体電解質1側が排気側の排気中
の酸素濃度Peよりも高くなり、やがてはある分布曲線
に収束する。このため、端子電圧Vも電極4aの酸素濃度
が増加するにつれて増加し、やがては一定値に収束す
る。このときのVは、 ここでr:固体電解質1の内部抵抗 T:固体電解質1の温度 R:ガス定数 F:フアラデー定数 P(4a):電極4a側の酸素濃度 P(4b):電極4b側の酸素濃度 となり、右辺第2項は起電力であり、この値が減小する
に従つてVは増加する。このバイアス動作で、P(4a)
がPeより高い状態が生じるので濃空燃の測定が可能と
なるのである。
第3図(b),(c)は、センシング動作時であり、
(b)はリーン空燃比、(c)はリツチ空燃比のときで
ある。このときの端子電圧Vは、 で表わされる。第3図(b)において、ISを流し拡散抵
抗体1内の酸素を引き抜くと、電極4a側の酸素濃度が序
々に減少していき(図中の実直線)やがては零となる。
この時期において、端子電圧V上に(2)式右辺第2項
の起電力が重畳されてくる。この起電力による増加分が
一定値ESLになつた時に、センシング動作を終了すれ
ば、このときの時間tLが空燃比に比例した値となる。第
3図(c)は、リツチ空燃比の場合で、バイアス動作後
の酸素濃度分布は、排気側から拡散してくる可燃性ガス
(CO,HC,H2)との酸素が反応するため、P=0の領域が
生じる。このため、センシング時に検出される酸素量は
少なくなるために、Vの変化分がESLとなるまでの時間t
Rは、tLよりも小さくなる。以上により、リツチ空燃比
が測定できる。
(b)はリーン空燃比、(c)はリツチ空燃比のときで
ある。このときの端子電圧Vは、 で表わされる。第3図(b)において、ISを流し拡散抵
抗体1内の酸素を引き抜くと、電極4a側の酸素濃度が序
々に減少していき(図中の実直線)やがては零となる。
この時期において、端子電圧V上に(2)式右辺第2項
の起電力が重畳されてくる。この起電力による増加分が
一定値ESLになつた時に、センシング動作を終了すれ
ば、このときの時間tLが空燃比に比例した値となる。第
3図(c)は、リツチ空燃比の場合で、バイアス動作後
の酸素濃度分布は、排気側から拡散してくる可燃性ガス
(CO,HC,H2)との酸素が反応するため、P=0の領域が
生じる。このため、センシング時に検出される酸素量は
少なくなるために、Vの変化分がESLとなるまでの時間t
Rは、tLよりも小さくなる。以上により、リツチ空燃比
が測定できる。
第4図(a)には、IS,Ib,Vのタイミングチヤートを示
した。第4(a)図に示したように、Ib,ISを方向を反
転しながら時分割的に流す。Ib,ISは一定電流とし、バ
イアス動作時間tbを一定にして、センシング動作時に
は、Vの増加分がESL(一定値)になつた時点で測定を
終了し、この時の時間tSを測定すれば空燃比が求められ
る。第4(b)図は、本方式による出力特性であり、tS
はリツチからリーンまでの広い範囲で空燃比に比例す
る。
した。第4(a)図に示したように、Ib,ISを方向を反
転しながら時分割的に流す。Ib,ISは一定電流とし、バ
イアス動作時間tbを一定にして、センシング動作時に
は、Vの増加分がESL(一定値)になつた時点で測定を
終了し、この時の時間tSを測定すれば空燃比が求められ
る。第4(b)図は、本方式による出力特性であり、tS
はリツチからリーンまでの広い範囲で空燃比に比例す
る。
第5図は、本センサの動作を実行するための回路の一実
施例である。5は定電流源であり、スイツチ6a,bをON
し、スイツチ7a,bをOFFするとISが固体電解質1に流れ
センシング動作を行う。またスイツチ6a,bをOFFし、ス
イツチ7a,bをONするとIbが流れバイアス動作を行う。こ
こではIS=Ibである。以下、第6(a)図の波形を用い
ながら本回路の動作を説明する。初めにスイツチ6a,6b
にON信号が入力されて、センシング動作(第6(a)図
の(イ))が開始した時点から説明する。このON信号が
遅延回路8に入力されると、第6(a)−(イ)図に示
したように、td後にON信号がサンプルホールド回路9に
出力される。サンプルホールド回路9は、センシング動
作開始からtd後の端子電圧VHをホールドする。このV
Hに、加算回路10によりESLが加算されコンパレータ11に
入力される。コンパレータ11では、VH+ESLよりも端子
電圧が大きくなつた時点でトリガ信号を出す。このトリ
ガ信号は、単安定マルチバイブレータ12に入力され、ト
リガ信号入力後tb間は、をOFF、QをON状態にする。
すなわち、このtb間はスイツチ7a,bにはON信号、スイツ
チ6a,bにはOFF信号が入力され、バイアス動作を行う
(第6(a)−(ロ)図)。時間tb経過すると、マルチ
バイブレータ12のは再びON、QはOFF状態となるので
センシング動作を開始する。出力はがONしている時
間、つまりtSをアナログ出力に変換する出力回路13によ
り作られる。
施例である。5は定電流源であり、スイツチ6a,bをON
し、スイツチ7a,bをOFFするとISが固体電解質1に流れ
センシング動作を行う。またスイツチ6a,bをOFFし、ス
イツチ7a,bをONするとIbが流れバイアス動作を行う。こ
こではIS=Ibである。以下、第6(a)図の波形を用い
ながら本回路の動作を説明する。初めにスイツチ6a,6b
にON信号が入力されて、センシング動作(第6(a)図
の(イ))が開始した時点から説明する。このON信号が
遅延回路8に入力されると、第6(a)−(イ)図に示
したように、td後にON信号がサンプルホールド回路9に
出力される。サンプルホールド回路9は、センシング動
作開始からtd後の端子電圧VHをホールドする。このV
Hに、加算回路10によりESLが加算されコンパレータ11に
入力される。コンパレータ11では、VH+ESLよりも端子
電圧が大きくなつた時点でトリガ信号を出す。このトリ
ガ信号は、単安定マルチバイブレータ12に入力され、ト
リガ信号入力後tb間は、をOFF、QをON状態にする。
すなわち、このtb間はスイツチ7a,bにはON信号、スイツ
チ6a,bにはOFF信号が入力され、バイアス動作を行う
(第6(a)−(ロ)図)。時間tb経過すると、マルチ
バイブレータ12のは再びON、QはOFF状態となるので
センシング動作を開始する。出力はがONしている時
間、つまりtSをアナログ出力に変換する出力回路13によ
り作られる。
ここで、ホールドされたVHは、(1),(2)式で示す
rIとほぼ等しく、固体電解質1の内部抵抗rを示してお
り(∵Ib=IS=一定)、しいては固体電解質1の温度を
も示している。
rIとほぼ等しく、固体電解質1の内部抵抗rを示してお
り(∵Ib=IS=一定)、しいては固体電解質1の温度を
も示している。
次に、周囲の温度TaがTa′(Ta>Ta′)と変化した場合
の波形の変化について、第6図により説明する。第6図
(a)−(イ)はセンシング時の波形、(a)−(ロ)
はバイアス時の波形である。温度がTaからTa′と低くな
ると、VHはVH′と高くなる((1),(2)式)。ここ
で、ESLをどちらの場合も同じとすると、Ta′の時の方
がセンシング時間tS′が短くなる。なお、図6(a)−
(ロ)のバイアス波形は、tbは一定にしているので変化
せず、絶対値は、やはりTa′の時の方が高くなり、温度
によりtSに誤差が生じる。このようにtSに誤差が生じる
理由を、第6図(b)により説明する。第6図(b)中
で拡散抵抗体2内の酸素濃度分布を示した。分布DS(di
stribution in sensing action)は、センシング動作終
了時の分布で、分布Db(distribution in bias actio
n)は、バイアス動作終了時の分布を示している。
DS′,Db′は、温度がTa′のときのそれぞれの分布を示
している。Ib,IS,tb,ESLをそれぞれ固定した値にす
ると、DSとDS′,DbとDb′間に差が生じる。これは、温
度の差により、拡散抵抗体2内の酸素の拡散速度が異な
るためである。ここで、DS,DS′はESLを一定としてい
るので、電極4aでのP(4a)がほぼ零となるまで酸素を
引き抜かれるため、ほぼ同じ分布となる。一方、Db,
Db′は、tbを一定としているため、酸素の拡散速度の差
より、差が生じ、Db′よりもDbの方が全体的に高い分布
となる。以上に示したように、周囲の温度が変化した場
合、酸素の拡散速度に起因する酸素濃度分布の変化の様
子が異なるためにtSに変化が生じる。tS′がtSより小さ
くなるために、第6図(c)に示したように、Ta′の時
の出力がTaの時のものより低くなつてしまい、温度によ
り誤差が生じることになる。
の波形の変化について、第6図により説明する。第6図
(a)−(イ)はセンシング時の波形、(a)−(ロ)
はバイアス時の波形である。温度がTaからTa′と低くな
ると、VHはVH′と高くなる((1),(2)式)。ここ
で、ESLをどちらの場合も同じとすると、Ta′の時の方
がセンシング時間tS′が短くなる。なお、図6(a)−
(ロ)のバイアス波形は、tbは一定にしているので変化
せず、絶対値は、やはりTa′の時の方が高くなり、温度
によりtSに誤差が生じる。このようにtSに誤差が生じる
理由を、第6図(b)により説明する。第6図(b)中
で拡散抵抗体2内の酸素濃度分布を示した。分布DS(di
stribution in sensing action)は、センシング動作終
了時の分布で、分布Db(distribution in bias actio
n)は、バイアス動作終了時の分布を示している。
DS′,Db′は、温度がTa′のときのそれぞれの分布を示
している。Ib,IS,tb,ESLをそれぞれ固定した値にす
ると、DSとDS′,DbとDb′間に差が生じる。これは、温
度の差により、拡散抵抗体2内の酸素の拡散速度が異な
るためである。ここで、DS,DS′はESLを一定としてい
るので、電極4aでのP(4a)がほぼ零となるまで酸素を
引き抜かれるため、ほぼ同じ分布となる。一方、Db,
Db′は、tbを一定としているため、酸素の拡散速度の差
より、差が生じ、Db′よりもDbの方が全体的に高い分布
となる。以上に示したように、周囲の温度が変化した場
合、酸素の拡散速度に起因する酸素濃度分布の変化の様
子が異なるためにtSに変化が生じる。tS′がtSより小さ
くなるために、第6図(c)に示したように、Ta′の時
の出力がTaの時のものより低くなつてしまい、温度によ
り誤差が生じることになる。
第7図は、上記の温度変化による誤差を生じさせないた
めの回路の一実施例である。サンプルホールド回路9に
よりホールドされたVH(内部抵抗を示す値)をコンパレ
ータ14である一定の値VHrefと比較し、VH<VHrefの時に
ON信号をトランジスタ15のベースに入力し、トランジス
タ15を非導通状態にし、ヒーター3への通電を停止す
る。このVH<VHrefは、固体電解質1の内部抵抗rが小
さい状態、つまり温度が設定温度よりも高くなつている
状態であり、この場合は前述したように、ヒーター3へ
の通電を停止する。次にVH>Vrefになると、コンパレー
タ14はOFF信号をトランジスタ15のベースに出力するた
め、ヒーター3は通電される。つまり、固体電解質1の
温度が設定温度よりも低くなつた時に、ヒーター3に通
電する。以上により、VHがある値VHrefに制御できるた
め、固体電解質1の温度は常に一定値に制御される。こ
れにより周囲温度の影響に無関係に空燃比の検出が可能
となる。
めの回路の一実施例である。サンプルホールド回路9に
よりホールドされたVH(内部抵抗を示す値)をコンパレ
ータ14である一定の値VHrefと比較し、VH<VHrefの時に
ON信号をトランジスタ15のベースに入力し、トランジス
タ15を非導通状態にし、ヒーター3への通電を停止す
る。このVH<VHrefは、固体電解質1の内部抵抗rが小
さい状態、つまり温度が設定温度よりも高くなつている
状態であり、この場合は前述したように、ヒーター3へ
の通電を停止する。次にVH>Vrefになると、コンパレー
タ14はOFF信号をトランジスタ15のベースに出力するた
め、ヒーター3は通電される。つまり、固体電解質1の
温度が設定温度よりも低くなつた時に、ヒーター3に通
電する。以上により、VHがある値VHrefに制御できるた
め、固体電解質1の温度は常に一定値に制御される。こ
れにより周囲温度の影響に無関係に空燃比の検出が可能
となる。
第8図には、第7図の回路の動作原理と実験結果を示
す。固体電解質1の温度を一定に保つているため、第8
図(a)−(イ)のセンシング時の波形も、(a)−
(ロ)のバイアス時の波形もTaとTa′では同じとなる。
また第8図(b)に示したようにDSとDS′,DbとDb′の
それぞれの分布も同一となる。以上の原理により測定し
た出力値を第8図(c)に示す。周囲の温度がTa,Ta′
と異なつても、ヒーター3の制御により固体電解質1の
温度は一定に保たれるため、Ta,Ta′の時の出力は一致
する。
す。固体電解質1の温度を一定に保つているため、第8
図(a)−(イ)のセンシング時の波形も、(a)−
(ロ)のバイアス時の波形もTaとTa′では同じとなる。
また第8図(b)に示したようにDSとDS′,DbとDb′の
それぞれの分布も同一となる。以上の原理により測定し
た出力値を第8図(c)に示す。周囲の温度がTa,Ta′
と異なつても、ヒーター3の制御により固体電解質1の
温度は一定に保たれるため、Ta,Ta′の時の出力は一致
する。
次に、他の温度補償原理を第9図に示す。ここで、IS=
Ib=一定、ESL一定である。第9図(a)−(イ)に示
したように、センシング時にホールドした値VH,VH′を
バイアス時(第9図(a)−(ロ))まで保持してお
き、バイアス時の端子電圧VBがVHと等しくなつたらバイ
アス動作を終了するようにする。このため、Ta′と周囲
温度が低い時には、tb′とバイアス時間が長くなるた
め、センシング時間tSとtS′には差がなくなる。この原
理を第9図(b)で示す。バイアス終了時の端子電圧VB
をVH(センシング開始時の端子電圧)と等しくすること
は、(1)式と(2)式のVを等しくすることであり、
これは、 P(4a)=P(4b) …(3) となつた時に生じる。つまり、P(4a)は大気中の酸素
濃度であるために、P(4a)は、ほぼ大気中の酸素濃度
になるまで上昇する。つまり、周囲温度(Ta,Ta′)に
よらず、P(4a)は常に一定の値となるため、Db′とDb
はほぼ同じ分布となる。このため、第6図(b)に示し
たようなDbとDb′の差がなくなり、温度に影響されない
tSが得られる。第9図(c)は実測結果であり、周囲温
度がTaからTa′に変化するとバイアス時間tbがtb′と長
くなるために、周囲温度の影響を受けない出力が得られ
る。
Ib=一定、ESL一定である。第9図(a)−(イ)に示
したように、センシング時にホールドした値VH,VH′を
バイアス時(第9図(a)−(ロ))まで保持してお
き、バイアス時の端子電圧VBがVHと等しくなつたらバイ
アス動作を終了するようにする。このため、Ta′と周囲
温度が低い時には、tb′とバイアス時間が長くなるた
め、センシング時間tSとtS′には差がなくなる。この原
理を第9図(b)で示す。バイアス終了時の端子電圧VB
をVH(センシング開始時の端子電圧)と等しくすること
は、(1)式と(2)式のVを等しくすることであり、
これは、 P(4a)=P(4b) …(3) となつた時に生じる。つまり、P(4a)は大気中の酸素
濃度であるために、P(4a)は、ほぼ大気中の酸素濃度
になるまで上昇する。つまり、周囲温度(Ta,Ta′)に
よらず、P(4a)は常に一定の値となるため、Db′とDb
はほぼ同じ分布となる。このため、第6図(b)に示し
たようなDbとDb′の差がなくなり、温度に影響されない
tSが得られる。第9図(c)は実測結果であり、周囲温
度がTaからTa′に変化するとバイアス時間tbがtb′と長
くなるために、周囲温度の影響を受けない出力が得られ
る。
第10図は、第9図の動作原理を実行するための回路の一
実施例である。サンプルホールド回路9によりホールド
されたVHを、コンパレータ16に入力し、バイアス時、Ib
が流れている時の端子電圧VBと比較する。VBとVHが等し
くなつたら、コンパレータ16はOFF信号を出力し、これ
が単安定マルチバイブレータ12のリセツト端子に入力さ
れ、がON、QがOFFとなり、スイツチ6a,bがON、スイ
ツチ7a,bがOFFする。すると、VBがアースされ、コンパ
レータ16はONし、マルチバイブレータ12は、ON,QOFF
の状態をつづける。次にセンシング時に端子電圧VSの変
化分がESLより大きくなると、コンパレータ17はOFFす
る。このOFF信号がマルチバイブレータ12のプリセツト
端子に入力され、がOFF、QがONとなりバイアス動作
が始まる。この時VSはアースされるためコンパレータ17
はすぐにONし、マルチバイブレータ12は、OFF,QONの
状態をつづける。以上のように、第10図の回路により、
第9図に示した補償動作が実行され、自動的に温度補償
された出力が得られる。
実施例である。サンプルホールド回路9によりホールド
されたVHを、コンパレータ16に入力し、バイアス時、Ib
が流れている時の端子電圧VBと比較する。VBとVHが等し
くなつたら、コンパレータ16はOFF信号を出力し、これ
が単安定マルチバイブレータ12のリセツト端子に入力さ
れ、がON、QがOFFとなり、スイツチ6a,bがON、スイ
ツチ7a,bがOFFする。すると、VBがアースされ、コンパ
レータ16はONし、マルチバイブレータ12は、ON,QOFF
の状態をつづける。次にセンシング時に端子電圧VSの変
化分がESLより大きくなると、コンパレータ17はOFFす
る。このOFF信号がマルチバイブレータ12のプリセツト
端子に入力され、がOFF、QがONとなりバイアス動作
が始まる。この時VSはアースされるためコンパレータ17
はすぐにONし、マルチバイブレータ12は、OFF,QONの
状態をつづける。以上のように、第10図の回路により、
第9図に示した補償動作が実行され、自動的に温度補償
された出力が得られる。
以上のように、固体電解質1の温度が低い場合には、バ
イアス時間を長くすれば良いことがわかる。第9,10図に
示した方式では、tbが自動的に変わるが、次の第11,12
図に示す方式は、tbを強制的に変える方式である。つま
り第11図に示したように、TaからTa′と温度が変化した
場合に、VH,VH′の変化を検出して、この変化に伴い、
tbをtb′と長くすることによりバイアス時間を長くし、
出力を一定に保つ構成である。この動作を実現する回路
の一実施例を、第12図に示す。第12図においてサンプル
ホールド回路9によりホールドされたVHをA/D変換器18
を介してマイクロコンピユータ19に取り込む。センシン
グ動作が終了したことを示すコンパレータ11の+トリガ
信号により、マイクロコンピユータ19内でVHを基に決め
られたバイアス時間tb間だけONする信号を出力する。こ
のON信号により、スイツチ7a,7bはONし、インバーター2
0の作用でスイツチ6a,6bはOFFしてtb間だけバイアス動
作が接続される。バイアス時間tbが経過すると、コンピ
ユータ19からの出力はOFFし、スイツチ7a,bはOFFする。
一方、インバーター20の作用で、スイツチ6a,bはONして
センシング動作が開始する。出力電圧VHがVH′と高くな
ると、バイアス時間tbはtb′と長くなるように出力され
る。尚、マイクロコンピユータ19内において、回転数信
号21、負荷信号22、吸入空気量23、冷却水温24、吸気温
25、排気温26によりバイアス時間tbに補正を加える場合
もある。
イアス時間を長くすれば良いことがわかる。第9,10図に
示した方式では、tbが自動的に変わるが、次の第11,12
図に示す方式は、tbを強制的に変える方式である。つま
り第11図に示したように、TaからTa′と温度が変化した
場合に、VH,VH′の変化を検出して、この変化に伴い、
tbをtb′と長くすることによりバイアス時間を長くし、
出力を一定に保つ構成である。この動作を実現する回路
の一実施例を、第12図に示す。第12図においてサンプル
ホールド回路9によりホールドされたVHをA/D変換器18
を介してマイクロコンピユータ19に取り込む。センシン
グ動作が終了したことを示すコンパレータ11の+トリガ
信号により、マイクロコンピユータ19内でVHを基に決め
られたバイアス時間tb間だけONする信号を出力する。こ
のON信号により、スイツチ7a,7bはONし、インバーター2
0の作用でスイツチ6a,6bはOFFしてtb間だけバイアス動
作が接続される。バイアス時間tbが経過すると、コンピ
ユータ19からの出力はOFFし、スイツチ7a,bはOFFする。
一方、インバーター20の作用で、スイツチ6a,bはONして
センシング動作が開始する。出力電圧VHがVH′と高くな
ると、バイアス時間tbはtb′と長くなるように出力され
る。尚、マイクロコンピユータ19内において、回転数信
号21、負荷信号22、吸入空気量23、冷却水温24、吸気温
25、排気温26によりバイアス時間tbに補正を加える場合
もある。
第13図,第14図には、他の温度補償回路構成を示す。こ
の構成は、周囲温度がTaからTa′と変化した場合に、バ
イアス時間tbは変化せずに、バイアス動作時に流れる電
流値Ibを変化させるものである。すなわち、Taの変化量
を、VHの変化量により検出し、バイアス電流Ibを変化さ
せる。周囲温度TaがTa′と低い場合には、バイアス電流
IbをIb′と大きくし(第13図(b)−(ロ))、同じバ
イアス時間でも、バイアス酸素量が同一になるようにす
る。これにより、あたかもバイアス時間を長くしたよう
になり、出力の温度依存性はなくなる。なお、第13図
(b)−(イ)に示したようにセンシング時の電流は同
じにする。
の構成は、周囲温度がTaからTa′と変化した場合に、バ
イアス時間tbは変化せずに、バイアス動作時に流れる電
流値Ibを変化させるものである。すなわち、Taの変化量
を、VHの変化量により検出し、バイアス電流Ibを変化さ
せる。周囲温度TaがTa′と低い場合には、バイアス電流
IbをIb′と大きくし(第13図(b)−(ロ))、同じバ
イアス時間でも、バイアス酸素量が同一になるようにす
る。これにより、あたかもバイアス時間を長くしたよう
になり、出力の温度依存性はなくなる。なお、第13図
(b)−(イ)に示したようにセンシング時の電流は同
じにする。
第14図は基本的には第5図の回路構成と同じであるが、
センシング時の電流ISの電源5と、バイアス時の電流Ib
の電源を別にしている点で異なる。第14図においてバイ
アス電流Ibは次のようにして作られる。すなわち、OPア
ンプ27とトランジスタ28の作用により抵抗R1の両端の電
圧がVRになるようにコントロールされる。このためバイ
アス電流Ibは、 で決定される。VRは、電圧レギユレータ29、抵抗R2,
R3,R4……Ri、スイツチS3,S4……Siにより決定され
る。つまり、マイクロコンピユータ19に入力されたVHに
基づいてIbが決定され、このIbをスイツチS3,S4……Si
の何個かをONすることにより作り出す。以上のように、
VHが大きくなつた時は大きなIbを、VHが小さくなつた時
は、小さなIbをセンサに供給できる。
センシング時の電流ISの電源5と、バイアス時の電流Ib
の電源を別にしている点で異なる。第14図においてバイ
アス電流Ibは次のようにして作られる。すなわち、OPア
ンプ27とトランジスタ28の作用により抵抗R1の両端の電
圧がVRになるようにコントロールされる。このためバイ
アス電流Ibは、 で決定される。VRは、電圧レギユレータ29、抵抗R2,
R3,R4……Ri、スイツチS3,S4……Siにより決定され
る。つまり、マイクロコンピユータ19に入力されたVHに
基づいてIbが決定され、このIbをスイツチS3,S4……Si
の何個かをONすることにより作り出す。以上のように、
VHが大きくなつた時は大きなIbを、VHが小さくなつた時
は、小さなIbをセンサに供給できる。
第15図には他の実施例を示す。回路構成は、第5図、第
7図と同じで良い。本実施例におけるセンサの出力は、
固体電解質1の温度が、T1>T2>T3……>Tiと低くなる
に従い、第15図(a)に示すように空燃比λと出力Vout
の関係が変化する。この関係を、空燃比λをx軸、出力
Voutをy軸として、例えば一次式で近似すると 温度T1のとき x=m1y+n1 温度T2のとき x=m2y+n2 温度T3のとき x=m3y+n3 : : 温度Tiのとき x=miy+ni となる。以上の係数m1……mi,n1……niをマイクロコン
ピユータ内に予め記憶しておき、ホールドしたVHをコン
ピユーターに取り込んで、第15図(b)に示したよう
に、空燃比λを決定するにあたりVHがある値V1より大き
いときは、係数m1,n1を用い、V1>VH≧V2の時は、m2,
n2を用いるというように、VHによりλを決定する係数を
変化させれば、温度Tがいかなる値となろうとも、正し
い空燃比λが検出できる。なお、この近似式は、多次元
の近似式の方が精度は良くなるので、これを用いても良
い。
7図と同じで良い。本実施例におけるセンサの出力は、
固体電解質1の温度が、T1>T2>T3……>Tiと低くなる
に従い、第15図(a)に示すように空燃比λと出力Vout
の関係が変化する。この関係を、空燃比λをx軸、出力
Voutをy軸として、例えば一次式で近似すると 温度T1のとき x=m1y+n1 温度T2のとき x=m2y+n2 温度T3のとき x=m3y+n3 : : 温度Tiのとき x=miy+ni となる。以上の係数m1……mi,n1……niをマイクロコン
ピユータ内に予め記憶しておき、ホールドしたVHをコン
ピユーターに取り込んで、第15図(b)に示したよう
に、空燃比λを決定するにあたりVHがある値V1より大き
いときは、係数m1,n1を用い、V1>VH≧V2の時は、m2,
n2を用いるというように、VHによりλを決定する係数を
変化させれば、温度Tがいかなる値となろうとも、正し
い空燃比λが検出できる。なお、この近似式は、多次元
の近似式の方が精度は良くなるので、これを用いても良
い。
第16図,第17図は他の温度補償回路構成を示す。本実施
例ではIb,IS,tbを固定し、ESLを変化させて温度補償
するものである。すなわち、温度が低い場合は、ESL<E
SL′とESLを大きくしてセンシング時間が長くなるよう
にして温度補償するものである。第16図(a)はセンシ
ング時の波形で、第6図(b)はバイアス時の波形であ
る。第16図(a)に示したように、周囲温度がTa′の場
合、ESLをESL′とすれば、センシングの時間は長くな
る。
例ではIb,IS,tbを固定し、ESLを変化させて温度補償
するものである。すなわち、温度が低い場合は、ESL<E
SL′とESLを大きくしてセンシング時間が長くなるよう
にして温度補償するものである。第16図(a)はセンシ
ング時の波形で、第6図(b)はバイアス時の波形であ
る。第16図(a)に示したように、周囲温度がTa′の場
合、ESLをESL′とすれば、センシングの時間は長くな
る。
第17図において、OPアンプ30によりVHに加算するESLの
値をマイクロコンピユータ19の出力により変化させる。
ホールドされたVHがマイクロコンピユータ19内に取り込
まれる。このVHにより決定されたESLを、マイクロコン
ピユータ19の出力により動作するスイツチS1,S2……Si
により作り出される。このようにVHによりESLを変える
ことにより、温度の影響を受けない出力が得られる。
値をマイクロコンピユータ19の出力により変化させる。
ホールドされたVHがマイクロコンピユータ19内に取り込
まれる。このVHにより決定されたESLを、マイクロコン
ピユータ19の出力により動作するスイツチS1,S2……Si
により作り出される。このようにVHによりESLを変える
ことにより、温度の影響を受けない出力が得られる。
第18図,第19図は、温度関数信号としてセンシング時
(第18図(a))のVHの変わりに、バイアス時(第18図
(b))の最終時の端子電圧VBHを用いる他の一実施例
である。このVBHも、(1)式からわかるように、ほぼr
Iに比例する。なぜならP(4a)≒P(4b)だからであ
る。
(第18図(a))のVHの変わりに、バイアス時(第18図
(b))の最終時の端子電圧VBHを用いる他の一実施例
である。このVBHも、(1)式からわかるように、ほぼr
Iに比例する。なぜならP(4a)≒P(4b)だからであ
る。
第19図は、VBHをホールドする回路の一実施例である。
バイアス動作時は、マルチバイブレータ12のQはONして
いる。このためスイツチ31もON状態となり、コンデンサ
32にバイアス時の端子電圧VBが常に充電される。バイア
ス動作が終了した時にスイツチ31はOFFするので、端子
電圧の最終値がコンデンサ32には充電されたままになつ
ている。この値をバツフアアンプ33を介してVBHとして
出力する。このVBHを前述した温度補償回路構成の温度
関数信号として用いることができる。
バイアス動作時は、マルチバイブレータ12のQはONして
いる。このためスイツチ31もON状態となり、コンデンサ
32にバイアス時の端子電圧VBが常に充電される。バイア
ス動作が終了した時にスイツチ31はOFFするので、端子
電圧の最終値がコンデンサ32には充電されたままになつ
ている。この値をバツフアアンプ33を介してVBHとして
出力する。このVBHを前述した温度補償回路構成の温度
関数信号として用いることができる。
第20図は、温度関数信号を得るための構成を示した一実
施例である。固体電解質1の上に、空燃比を測定するた
めの電極4a,bの他に、内部抵抗測定用の電極35a,bが設
けられる。定電流源36によりI2を電極35a,b間に流す。
この場合、電極35aを正確にして、酸素を大気から排気
側に流し、この時の定電流値I2と電圧値より固体電解質
1の内部抵抗を求める。酸素を大気側から排気側に流す
ため、排気中の酸素濃度が小さくても、内部抵抗が測定
できる。また、この時のI2は、大気通路の拡散抵抗成分
による限界電流値より小さな値とする必要がある。この
温度関数信号を、マイクロコンピユータ37に入力して、
ヒーター制御や、前述したような補正を行なう。第20図
は、バイアス時間に補正を加えた場合の一実施例であ
る。
施例である。固体電解質1の上に、空燃比を測定するた
めの電極4a,bの他に、内部抵抗測定用の電極35a,bが設
けられる。定電流源36によりI2を電極35a,b間に流す。
この場合、電極35aを正確にして、酸素を大気から排気
側に流し、この時の定電流値I2と電圧値より固体電解質
1の内部抵抗を求める。酸素を大気側から排気側に流す
ため、排気中の酸素濃度が小さくても、内部抵抗が測定
できる。また、この時のI2は、大気通路の拡散抵抗成分
による限界電流値より小さな値とする必要がある。この
温度関数信号を、マイクロコンピユータ37に入力して、
ヒーター制御や、前述したような補正を行なう。第20図
は、バイアス時間に補正を加えた場合の一実施例であ
る。
第21図は、温度関数信号を得る他の構成を示した一実施
例である。すなわち、測定時の端子電圧の平均値VaVを
温度関数信号とするものである。第21図(a)に示した
実線の波形が、端子電圧であり、点線で示した値が温度
関数信号として用いる平均化した値VaVである。この平
均値VaVは、マイクロコンピユータ37で、デジタル的に
時間積分することにより得られる。第21図(b)に示し
た一実施例は、より簡単な構成のもので、測定時の端子
電圧のみをスイツチ38で抵抗39、コンデンサ40で作つた
積分回路に入れて、波形を積分する。その後、この値を
ホールドしておき、バツフアアンプ41を介して、マイク
ロコンピユータ37に入力する。この入力値は、第21図
(a)のVaVとほぼ同じ値となるために、温度関数信号
として使える。このVaVを基に、ヒータ制御や前述した
ような補正に用いる。第21図(b)の一実施例は、バイ
アス時間を変えるものである。第22図(a)に示したよ
うに、温度を測定するためだけの第3の期間tCを設ける
ものであり、この時間tC間に固体電解質1に定電流を流
し、内部抵抗を測定する。第22図(b)において、tC間
はスイツチ6a,bをOFF、スイツチ7a,bをONさせて、大気
から排気中に酸素を流す。また、このtC間スイツチ42を
ONさせて、tC間の端子電圧を、コンデンサ43によりホー
ルドし、バツフアアンプ44を介してマイクロコンピユー
タ37に入力する。マイクロコンピユータ37では、この信
号を基に、ヒーター制御や前能した補正に用いる。
例である。すなわち、測定時の端子電圧の平均値VaVを
温度関数信号とするものである。第21図(a)に示した
実線の波形が、端子電圧であり、点線で示した値が温度
関数信号として用いる平均化した値VaVである。この平
均値VaVは、マイクロコンピユータ37で、デジタル的に
時間積分することにより得られる。第21図(b)に示し
た一実施例は、より簡単な構成のもので、測定時の端子
電圧のみをスイツチ38で抵抗39、コンデンサ40で作つた
積分回路に入れて、波形を積分する。その後、この値を
ホールドしておき、バツフアアンプ41を介して、マイク
ロコンピユータ37に入力する。この入力値は、第21図
(a)のVaVとほぼ同じ値となるために、温度関数信号
として使える。このVaVを基に、ヒータ制御や前述した
ような補正に用いる。第21図(b)の一実施例は、バイ
アス時間を変えるものである。第22図(a)に示したよ
うに、温度を測定するためだけの第3の期間tCを設ける
ものであり、この時間tC間に固体電解質1に定電流を流
し、内部抵抗を測定する。第22図(b)において、tC間
はスイツチ6a,bをOFF、スイツチ7a,bをONさせて、大気
から排気中に酸素を流す。また、このtC間スイツチ42を
ONさせて、tC間の端子電圧を、コンデンサ43によりホー
ルドし、バツフアアンプ44を介してマイクロコンピユー
タ37に入力する。マイクロコンピユータ37では、この信
号を基に、ヒーター制御や前能した補正に用いる。
第23図は、温度関数信号を得る他の構成を示し、エンジ
ン45下流の排気管46に、排気温センサ47を設けて、この
センサ47の信号を温度関数信号として使用するものであ
る。この信号をマイクロコンピユータ37に入力し、空燃
比センサ49の駆動回路48に補正信号を出力する。
ン45下流の排気管46に、排気温センサ47を設けて、この
センサ47の信号を温度関数信号として使用するものであ
る。この信号をマイクロコンピユータ37に入力し、空燃
比センサ49の駆動回路48に補正信号を出力する。
第24図は他の一実施例を示し、吸入空気量センサ50や、
吸気管負圧センサ51と、回転数センサ52により、エンジ
ン45の運転状態(回転数と負荷)を検出し、この運転状
態を温度関数信号として、マイクロコンピユータによ
り、空燃比センサ49の駆動回路48に補正信号を送り、温
度補償する。
吸気管負圧センサ51と、回転数センサ52により、エンジ
ン45の運転状態(回転数と負荷)を検出し、この運転状
態を温度関数信号として、マイクロコンピユータによ
り、空燃比センサ49の駆動回路48に補正信号を送り、温
度補償する。
本発明によれば、周囲温度に影響を受けない、空燃比に
対する出力が得られるので、検出精度が向上する利点が
得られる。
対する出力が得られるので、検出精度が向上する利点が
得られる。
第1図乃至第6図は本発明の基礎となる原理を説明する
図、第7図乃至第24図は、本発明の各種実施例を示す図
である。 1…固体電解質、2…拡散抵抗体、3…ヒーター、4…
電極、9…ホールド回路、19…マイクロコンピユータ。
図、第7図乃至第24図は、本発明の各種実施例を示す図
である。 1…固体電解質、2…拡散抵抗体、3…ヒーター、4…
電極、9…ホールド回路、19…マイクロコンピユータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 9218−2J G01N 27/46 325 N 9218−2J 27/58 B
Claims (14)
- 【請求項1】酸素イオン伝導性の固体電解質と、前記固
体電解質の一方の面に設けられた第1電極と、前記固体
電解質の他方の面に設けられ、大気と接している第2電
極と、前記第1電極上に設けられるとともに測定ガスに
さらされる拡散抵抗体とを具備した空燃比検出器におい
て、前記第2電極側より前記固体電解質を介して前記第
1電極側に前記第1電極と前記第2電極との間に定電流
を流すことにより酸素を送り込んだ後、前記第1電極側
から前記固体電解質を介して前記第2電極側へ前記第1
電極と前記第2電極との間に定電流を流すことにより酸
素を引き抜き、この酸素引き抜き時に前記第1電極と前
記第2電極との間に生ずる電圧変化から測定ガス中の酸
素濃度を測定する手段と、前記固体電解質の温度の関数
となる信号を出力する出力手段と、前記出力手段からの
温度関数信号に応答して前記固体電解質の周囲温度によ
る影響を補償する補償手段とを備えたことを特徴とする
空燃比検出器。 - 【請求項2】特許請求の範囲第1項において、前記温度
関数信号は酸素引き抜き時の出力信号として得られるこ
とを特徴とする空燃比検出器。 - 【請求項3】特許請求の範囲第1項において、前記2電
極側にヒータが設けられ、前記補償手段はこのヒータに
供給される電流を制御することを特徴とする空燃比検出
器。 - 【請求項4】特許請求の範囲第1項において、前記補償
手段は、前記第1電極側に酸素を送り込んだ時の電圧値
が、前記温度関数信号より得られた電圧値に達した時
に、酸素の送り込みを終了することにより温度補償する
ことを特徴とする空燃比検出器。 - 【請求項5】特許請求の範囲第1項において、前記補償
手段は、前記第1電極側に酸素を送り込む期間を、前記
温度関数信号により変化させて温度補償することを特徴
とする空燃比検出器。 - 【請求項6】特許請求の範囲第1項において、前記補償
手段は、前記第1電極側に酸素を送り込むために上記固
体電解質に印加する電流値を、前記温度関数信号に基づ
いて変化させ温度補償することを特徴とする空燃比検出
器。 - 【請求項7】特許請求の範囲第1項において、前記補償
手段は、固体電解質の各温度における、空燃比と検出器
出力の関係をあらかじめ記憶しておき、前記温度関数信
号に基づいて、記憶された関係により空燃比を求め温度
影響のない出力を得ることを特徴とする空燃比検出器。 - 【請求項8】特許請求の範囲第1項において、前記補償
手段は、酸素引き抜き時間幅を決定する端子電圧の変化
幅を、前記温度関数信号により可変とし温度補償するこ
とを特徴とする空燃比検出器。 - 【請求項9】特許請求の範囲第1項において、前記温度
関数信号を、前記第1電極側に酸素を送り込むときの固
体電解質の出力信号より得ることを特徴とする空燃比検
出器。 - 【請求項10】特許請求の範囲第1項において、前記温
度関数信号は前記固体電解質上に設けられた内部抵抗を
測定することにより得られることを特徴とする空燃比検
出器。 - 【請求項11】特許請求の範囲第1項において、端子電
圧の時間的平均値を温度関数信号とすることを特徴とす
る空燃比検出器。 - 【請求項12】特許請求の範囲第1項において、前記固
体電解質の内部抵抗を測定するための第3の期間を設
け、この期間に測定した内部抵抗値を温度関数信号とす
ることを特徴とする空燃比検出器。 - 【請求項13】特許請求の範囲第1項において、エンジ
ンの排気温度を測定して温度関数信号を得ることを特徴
とする空燃比検出器。 - 【請求項14】特許請求の範囲第1項において、エンジ
ンの回転数と負荷より温度関数信号を得ることを特徴と
する空燃比検出器。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60040198A JPH0680425B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 空燃比検出器 |
| DE8686102252T DE3676834D1 (de) | 1985-02-28 | 1986-02-21 | System zur bestimmung des luft-kraftstoff-verhaeltnisses. |
| EP86102252A EP0193123B1 (en) | 1985-02-28 | 1986-02-21 | Air-fuel ratio detection system |
| CA000502762A CA1241374A (en) | 1985-02-28 | 1986-02-26 | Air-fuel ratio detection system |
| US06/833,032 US4716760A (en) | 1985-02-28 | 1986-02-26 | Air-fuel ratio detection system |
| KR1019860001370A KR860006701A (ko) | 1985-02-28 | 1986-02-27 | 공연비 검출기 |
| CN86101890.7A CN1005640B (zh) | 1985-02-28 | 1986-02-27 | 空燃比检测系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60040198A JPH0680425B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 空燃比検出器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61200457A JPS61200457A (ja) | 1986-09-05 |
| JPH0680425B2 true JPH0680425B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=12574082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60040198A Expired - Lifetime JPH0680425B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 空燃比検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680425B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2512442B2 (ja) * | 1986-08-27 | 1996-07-03 | 積水化学工業株式会社 | トナ−用樹脂の製造方法 |
| JPH0413961A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-17 | Toyota Motor Corp | 空燃比検出装置 |
| JP6442920B2 (ja) * | 2014-08-21 | 2018-12-26 | 株式会社デンソー | ガスセンサ制御装置及び空燃比検出システム |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP60040198A patent/JPH0680425B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61200457A (ja) | 1986-09-05 |
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