JPH0680452B2 - 液晶封入用セル - Google Patents

液晶封入用セル

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JPH0680452B2
JPH0680452B2 JP61243764A JP24376486A JPH0680452B2 JP H0680452 B2 JPH0680452 B2 JP H0680452B2 JP 61243764 A JP61243764 A JP 61243764A JP 24376486 A JP24376486 A JP 24376486A JP H0680452 B2 JPH0680452 B2 JP H0680452B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は液晶表示装置に係わり、更に詳細には、強誘電
性液晶を封入すると好適な液晶封入用セルに関する。
(従来技術) 第3図にツイストネマチック液晶(以下TN型液晶と略
す)をもちいた透過型液晶表示装置の一例をしめす。光
源(1)は三波長型螢光灯・自然光等であり、光源
(1)を出た光は偏光子(2)、透明基板(3)、画素
電極(4)、配向膜(5)、液晶(6)、配向膜
(7)、対向電極(8)、透明基板(9)、検光子(1
0)を通過する。液晶(6)はスペーサー(11)で一定
間隔に保たれ、又封止材(12)で外気から保護される。
画素電極(4)と対向電極(8)間に電圧を印加すると
表示装置として動作する。液晶(6)の厚みは、従来の
TN型液晶・ゲストホスト型液晶(以下GH型液晶と略
す。)では5μないし10μであって、液晶(6)の厚
み、即ち電極間隔はスペーサー(11)で規制していた。
スペーサー(11)は従来ガラスファイバー、ガラスビー
ズ、樹脂ビーズ等を適宜、散布するだけで第一パネル
(A)と第二パネル(B)とを接合していなかった。第
一パネル(A)と第二パネル(B)の接合はもっぱら封
止材(12)が担い、該封止材(12)は予め第一パネル
(A)または第二パネル(B)にシルクスクリーン等で
接着剤を印刷した後、二つのパネルを密着して、加熱硬
化させていた。
(発明が解決しよとする問題点) 最近、強誘電性液晶(以下単にフェロ液晶と称する)の
特性が明らかになり、応答性・コントラスト比・メモリ
ー効果・広視野角等の卓越性が注目され、表示装置への
展開が多方面で検討されている。フェロ液晶の特徴を発
現させるためには、液晶封入用セルの電極間隔である液
晶の厚みをセル全域にわたり十分狭く、即ち2μ以下、
望ましくは1μ以下に保持するのが好ましい。しかし、
従来スペーサーとして使われていた前記ガラスファイバ
ー、ガラスビーズ、樹脂ビーズ等の外径を2μ以下の高
精度に加工するのが困難であるばかりか、散布作業時の
工程で塵埃等による汚染があって、電極間隔を2μ以下
に保つことが困難であった。更にまた封止材(12)を2
μ以下に均一に印刷することも極めて困難であった。従
って均一な電極間隔とすることが出来ず、実用的な強誘
電性液晶封入用セルの製作ができなかった。
また第一パネル(A′)と第二パネル(B′)の隙間が
極端に狭いため、シールおよびスペーサー部分の電気的
絶縁性が不足する。そのために十分な印可電圧を液晶に
加えることができず、液晶を駆動するための障害となっ
ていた。
(問題点を解決するための具体的手段) すなわち、本発明は、透明基板上に少なくとも透明な画
素電極および該画素電極上に配向膜を設けた第一パネル
と、透明基板上に少なくとも透明な対向電極を設けた第
二パネルの間に、強誘電性液晶を封入すべく設けられた
液晶封入用セルにおいて、液晶セル表示面に略均等かつ
微細パターン状をなし、前記第一パネルと第二パネルの
それぞれの面にて接着している接着層として、かつ非画
素部を遮光すべく黒色顔料を含有してなる遮光層とし
て、かつセルギャップを維持するスペーサーとしての構
成を兼ねる部材を、第一パネルと第二パネルの間に設け
ることにより、第一パネルと第二パネルの間を2μm以
下にしたことを特徴とする液晶封入用セルである。
本発明の具体的な実施例を示す図面に基いて詳細に説明
する。
第1図(イ)及び第1図(ロ)で本発明になる液晶封入
用セルの構成を示す。透明基板(3)上にセグメント表
示もしくはマトリクス表示のための透明な画素電極
(4)を設け、更に該画素電極(4)上に配向膜(5)
を設けた第1パネル(A′)と、透明基板(9)上にセ
グメント表示あるいはマトリクス表示に対応して透明な
対向電極(8)を設ける。該対向電極(8)上に、必要
に応じ、絶縁膜(13)を形成した第2パネル(B′)と
を対峙させた状態で、液晶セル表示面の全面に略平均し
て微細パターン状に設けられ、スペーサーと遮光層とを
兼ねる該接着層(以下、単に接着層と称する。)(1
4′)で第一パネル(A′)と第二パネル(B′)とを
接合する。封止材(12)は接着層(14)と同様にして形
成することができる。また、必要に応じ第1図(ハ)に
示すように接着層(14)の近傍に該接着層(14)と同一
膜厚である剛性の補助スペーサー(14′)を設けてもよ
い。透明基板(3)及び透明基板(9)は、厚み0.5mm
ないし1.5mmのガラス基板が適応でき、光学研磨をした
無アルカリ金属ガラスが好ましいが、酸化硅素をコート
した青板ガラスでもよい。画素電極(4)及び対向電極
(8)は酸化スズ、酸化インジューム又はその混合物
(ITO)をスパッタ蒸着法等で成膜し、常法に従って任
意形状にパターン加工する。配向膜(5)はポリビニル
アルコール、ポリイミド等をオフセット印刷、スピンコ
ータ等で塗布・乾燥後必要に応じ適宜パターン化したラ
ビングする。また、配向膜(5)としてSiO2の斜方蒸着
等も適応できる。絶縁膜(13)は必要に応じSiO2又はAl
2O3等をスパッター等により膜厚0.2μmないし0.5μm
に形成する。絶縁膜(13)は耐圧性を向上させる。接着
層(14)はカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼ
ラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコー
ル、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリル
アミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステ
ル、ポリウレタン、またはポリアミドから選択される少
なくとも一種の樹脂からなるか、あるいは、これら上記
の樹脂から選択される少なくとも一種の樹脂を感光性樹
脂化したものからなる。付言すれば、ここで言うゴムと
は、イソプレン系環化ゴム、ブタジエン系環化ゴムが好
ましい。第1図(ロ)に示す様に表示面の全面にわたり
均等に分布形成する。該接着層(14)の膜厚は2μm以
下好ましくは1μm以下である。また該接着層(14)の
形状としてはドット又はライン状のいずれでもよく、大
きさは表示効果を損わない範囲で十分広いことが望まし
い。該接着層(14)を遮光性を持つ部材にするために
は、黒色顔料等を含有させることにより行なう。そし
て、この該接着層(14)の材料を表示装置中の遮光すべ
き非画素領域に対して適宜にパターニングすることによ
り形成される。
さらに付言すると、近時の液晶表示装置はカラー表示を
するものが賞用されているが、この場合は、カラーフィ
ルター層を第一パネルまたは第二パネルのいずれか一方
に設けることになる。カラーフィルターは透明基板と透
明電極(画素電極または対向電極)の間に介在させる構
造と、透明電極の上方に設ける構造があり、いずれも本
発明の実施を妨げない。必要に応じて液晶と接する最上
面に配向膜を設ける。
また、接着層が対向する透明電極の間にあって電荷のリ
ークを生じる惧れがある場合には、電極を有するパネル
と接着層の間に絶縁層を介在させる手段がある。他の手
段として、透明電極がパターン状(例えば万線パター
ン、セグメントパターン)に形状されている時は、接着
層を設ける位置を、透明電極が存在しない部分に選択設
定して、すなわち、画素電極および対向電極の両方と電
気的に接しないか、あるいは一方のみと電気的に接する
位置に接着層を設ければ良い。
接着層(14)の形成方法について具体的に述べると、第
一パネルの配向膜(5)又は、第二パネルの対向電極
(8)上あるいは、必要に応じ形成された絶縁膜(13)
上の一方又は、両方にカゼイン、グリュー、ゼラチン、
ノボラック、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリ
マー、アクリレート、アクリルアミド、ビスフェノー
ル、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、ナイロ
ン系の樹脂または上記樹脂を感光性樹脂化したもの等の
選択される少なくとも一種類をスピンナーで塗布後乾燥
し、感光性を有する場合はそのままで、また感光性が無
い場合はその上にフォトレジストをスピンナーで塗布後
乾燥してから任意形状のパターン露光後、常法であるフ
ォトエッチング法に従って現像する。また必要に応じて
ウエットまたはドライエッチングをしてパターン化す
る。また不要なレジストを除去、洗浄する。次に第一パ
ネル(A′)と第二パネル(B′)を対峙させ、パネル
全面に均一に加圧または、第一パネル(A′)と第二パ
ネル(B′)に挾まれた空間を減圧にしながらカゼイ
ン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼラチン、ノボラッ
ク樹脂、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリマ
ー、アクリレート樹脂、ポリアクリルアミド、ビスフェ
ノール樹脂、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリアミド系の樹脂または上記樹脂を感光性樹脂化
したものの軟化温度に加熱して、一定時間保持した後冷
却してから加圧状態を解除する。以上の工程で第一パネ
ル(A′)と第二パネル(B′)の同位置に接着層(1
4)を形成し、位置合わせ後接合することにより接着強
度はより強化される。第1図(ハ)に示すように接着層
(14)の近傍に膜厚が等しい補助スペーサー(14′)を
形成することにより、第一パネル(A′)と第二パネル
(B′)加熱加圧時に接着層(14)が広がることを防ぐ
ことができる。とくに透明基板(3)及び透明基板
(9)の平面性が劣る状態にあると均一に加圧した場合
でもパネル全面内で局部的に圧力差が生じ、圧力の集中
した部分で接着層(14)が広がり易く、かかる場合に極
めて有効である。
また第1図(ニ)示すように接着層を2層以上の多層構
造にすることによりガラスとの接着性、パターニング
性、パネル間接着時の接着性の良い物を種々組み合わせ
て作る事が出来る。これによりパネル作製時の制約が緩
和される。例えば、ノボラック系ホトレジストのAZ1350
(米国シップレイファーイースト社製製品)はパネル間
接着時の接着性は良いが接着時の加熱で極度に柔らかく
なり、セルギャップの精度磯持が難しくなる。そこで、
ポリイミドまたはアクリル酸樹脂を塗布パターニングし
てその上にAZ1350の接着層を作る事によりセルギャップ
の精度がよく、再現性の高い構造となる。このようにパ
ネル作製時の制約緩和に極めて有効であり、またこのよ
うな処理により実用的なパネル作製が初めて可能となっ
た。
本発明の従来技術との際立った相違点は接着層(14)に
ある。従来技術ではスペーサー(11)は、第一パネル
(A)と第二パネル(B)とを接着する役割は無かった
のに対して、本発明になる接着層(14)はスペーサー
(11)の役割と同時に第一パネル(A′)と第二パネル
(B′)とを強固に接着している点にある。更に接着層
(14)は任意の場所に任意の大きさで意図的に設けるこ
とができるので表示効果を損なうことがない。接着層
(14)にカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼラ
チン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコール、
ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリルアミ
ド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステル、
ポリウレタン、ポリアミド系の樹脂またはこれらのホト
レジスト等を使用することにより、加熱溶融して接着さ
せることにより強固な接着層(14)を得る。また絶縁膜
を介在すれば上下電極間の電気絶縁性の向上により実用
的駆動が可能となったところにある。
(本発明の効果) 本発明による液晶封入用セルにより従来困難であった強
誘電性液晶を用いた液晶表示装置を構成することが可能
となった。また、接着層(14)がスペーサーの役割のみ
でなくパネルどうしの接合に用いることが可能となっ
た。またスペーサーの間隔を自由にかつ細かく調整で
き、その形状についても自由度が高い。さらに絶縁膜を
設ければ、上下電極間の絶縁性の向上によって実用的駆
動が可能となった。さらに、この封止方法について多く
の設備を必要とせず、その原料の樹脂またはそれらを感
光性樹脂化したものも安価であり、液晶層の間隙として
0.3〜2.0μ程度の封止が容易に行なうことが可能となっ
た。そして、スペーサーの役割と遮光性とを有する接着
層が、表示装置中の遮光すべき非画素部領域に存在する
ことにより、画像表示を損なうことなく液晶の厚さを薄
く且つ均一に出来、厚さ2μm以下に維持出来るように
なった。尚、特に非画素部領域に則して連続したパター
ンを有する場合には、液晶の厚さの維持能力が一層堅固
に出来た。この画像表示を損なわないことと堅固さとが
相まって、強誘電性液晶が本来持つ高速応答性、高コン
トラスト性、メモリー性そして広視野角性等を引き立た
せることにもなった。
<実施例1> 3インチ角厚み1.6mmのガラス基板を光学研磨し平面の
平坦性を2μm以内に加工して透明基板(3)を得た。
該透明基板(3)上に400Åの酸化インジウム〜酸化ス
ズの透明導電膜(以下ITO膜という)をスパッタリング
法で製膜し、常法のフォトエッチング法に従って線巾28
0μm、ピッチ300μm、長さ60mmの万線パターンの画素
電極(4)を形成した。次に該画素電極(4)上にポリ
イミド樹脂PIX−1400(日立化成工業株式会社製)を300
0rpmで2分間スピンナーコート後80℃15分、200℃30
分、300℃30分加熱した。次にラビング装置をもちいて
配向処理を行って配向膜(5)を設計第一パネル
(A′)を製造した。他方光学研磨した厚み0.5mm、3
インチ角のガラス基板の表面にITO膜をスパッタリング
法で製膜し前記同様に線巾280μm、ピッチ300μm、長
さ60mmの万線からなる対向電極(8)を形成し、更に絶
縁膜(13)を設けて第二パネル(B′)を得た。更に該
第二パネル(B′)上に、ゴム系レジストOMR−83(東
京応化工業株式会社製)に黒色顔料を添加したものの粘
度30cp、溶液3000rpmで15秒間回転塗布し、常法のフォ
トエッチング法に従って、サイズ50μm角、ピッチ150
μmのパターン露光し現像し、接着層(14)を設けた。
このときの現像後膜厚は0.6μmであった。次に第一パ
ネル(A′)と第二パネル(B′)をITO膜に万線パタ
ーンが直交するように封密着させ、1kg/cm2の圧力で加
圧し常温より5℃/1分間の昇温速度で180℃まで昇温し
1時間保持し引き続いて冷却し圧力をはずして液晶封入
用セルを製造した。これにより接着層(14)で両パネル
が接着した。このときのセル間隔は表示面の全域にわた
であった。
なお、このときのITO膜パターン加工法は以下の通りで
ある。
(1)ITO膜上にポジ型ホトレジストを塗布し90℃30分
の乾燥後マスク露光し専用現像剤で現像後130℃30分間
ポストベークした。
(2)次に塩化第2鉄液及び塩酸の混合液を60℃に加熱
して前記ITO膜を浸漬してエッチングした。
(3)専用リムーバーでOFPRIIを製膜し純水で洗浄し
た。
また、液晶を封入するときは、液晶封入用セルを加熱オ
ーブン中でフェロ液晶(15)としてcs−1011(チッソ株
式会社製)を120℃に加熱し、封入口(16)より該フェ
ロ液晶(15)を封入して、良好な液晶表示パネルを製造
した。
<実施例2> 実施例1と同様に第一パネル(A′)に画素電極(4)
ならびに配向膜(5)を形成し、ゴム系レジストJSR−C
BR−M901(日本合成ゴム株式会社製)に黒色顔料を添加
したものの粘度25cpを2000rpmで回転塗布し、常法のフ
ォトエッチング法に従って線巾20μm、ピッチ300μm
のパターンを該画素電極(4)の余白部に接着層(14)
を形成した。次に3インチ角、厚み2.6mmのガラス基板
を研磨して透明基板(9)を得た。該透明基板(9)上
に実施例1と同様にして対向電極(8)を形成後、酸化
硅素をスパッタリングで膜厚500Åに製膜して絶縁層(1
3)を形成した。次にポリイミド樹脂であるセミコファ
インsp−910(東レ株式会社製)1gに対しエチルセロソ
ルブ0.5gの割合で稀釈撹拌し3000rpmで2分間回転塗布
後135℃で30分間乾燥した。その後全面にフォトレジス
トOFPRII(東京応化工業株式会社製)を回転塗布し、第
一パネル(A′)の接着層(14)に近接して10μm径の
丸パターンをマスク露光して、ノンメタル専用現像剤で
OFPRIIを現像すると同時に、レジストで保護されない下
層の前記セミコファインsp−910を溶解エッチングし、
引きつづいて酢酸ノルマルブチルとイソプロピルアルコ
ールの1対1容積比の混合溶剤でOFPRIIのみを溶解し
た。その後第一パネル(A′)を200℃30分、300℃30分
加熱焼成してポリイミド樹脂の補助スペーサー(14′)
を形成した。以降実施例1と同様にに第一パネルと第二
パネルを密着して加圧しながら150℃30分、200℃30分に
加熱して、補助スペーサー(14′)を有する液晶封入用
セルを製造した。なお、このときのITO膜パターン加工
法と液晶封入方法も実施例1と同様である。
<実施例3> 実施例1同様な透明基板(3)上にポリイミド樹脂のセ
ミコファインsp−910、青色有機顔料及び分散助剤から
成る青色ワニスをスピンナー塗布し、125℃で30分間の
乾燥後、OFPRIIをスピンナー塗布し80℃30分間乾燥し
た。線巾150μm、ピッチ450μmの万線パターンで上記
OFPRIIを露光し、アルカリ現像液により150μm幅の未
露光部を残して上記青色ワニスをエッチングした。その
後実施例2と同様にしてOFPRIIを溶解し200℃30分、250
℃30分、300℃30分と順次昇温し青色フィルター(B)
を形成した。
以下、第2図に示す様に順次緑フィルター(G)、赤フ
ィルター(R)を形成した。尚、各色ワニスの組成は以
下の通りであった。
赤色ワニス 緑色ワニス 青色ワニス 次に該色フィルター上にITOを全面スパッタ製膜し色フ
ィルターと位置を合せながら常法のフォトエッチング法
に従ってパターン加工し線巾130μm、ピッチ150μmの
画素電極(4)及び配向膜(5)(第2図参照)を形成
した。以下実施例1と同様にして接着層を形成し第二パ
ネル(B′)を形成し、第一パネル(A′)と第二パネ
ル(B′)を接合して液晶封入用セルを製造した。
さらにまた、この場合のITO膜パターン加工法と液晶封
入方法について、実施例1、実施例2で示されたものと
同一である。
<実施例4> 実施例1と同様に第一パネル(A′)に画素電極(4)
ならびに配向膜(5)を形成し、ポリビニルアルコール
系感光性樹脂“アゾベースN感光液”(岡本化学工業
(株)製)に黒色顔料を添加したものを4000rpmで回転
塗布し、常法に従って幅巾20μ、ピッチ300μの万線パ
ターンを画素電極(4)の余白に接着層(14)を形成し
た。つぎに3インチ角厚み2.6mmのガラス基板を光学研
磨し平面の平坦性を2μ以内に加工して透明基板(9)
を得た。該透明基板(9)上に400ÅのITO膜をスパッタ
リング法で成膜し、常法に従って線巾280μ、ピッチ300
μ長さ60mmの万線パターンの対向電極(8)を形成した
後、SiO2をスパッタリングで膜厚500Åに成膜して絶縁
膜(13)を形成した。つぎに“セミコファインsp−910"
((株)東レ製)1gにたいしてエチルセロソルブ0.5gの
割合で稀釈撹拌し3000rpmで2分間回転塗布後135℃で30
分間乾燥した。その後全面に“OFPRII"(東京応化工業
(株)製)を回転塗布し、第一パネル(A′)の接着層
(14)に近傍して10μ幅のパターンをマスク露光して、
ノンメタル専用現像剤でOFPRIIを現像すると同時に前記
セミコファインsp−910をエッチングする。引続き酢酸
ノルマルブチルとイソプロピルアルコールの1対1容積
比の混合溶剤でOFPRIIを溶解した。その後第一パネル
(A′)を80℃30分、200℃30分、300℃30分加熱焼成し
て補助スペーサー(14′)を形成した。他方光学研磨し
た厚み1.6mm、3インチ角のガラス基板の表面に400Åの
ITO膜をスパッタリング法で成膜し、常法であるフォト
エッチング法に従って線巾280μ、ピッチ300μ長さ60mm
の万線パターンからなる対向画素電極(8)を形成し第
二パネル(B′)を得た。以後実施例1と同様に第一パ
ネルと第二パネルを密着させ、1kg/cm2の圧力で加圧し
常温より5℃/minの昇温速度で180℃まで昇温し、1時
間保持し引き続いて冷却し圧力を外して液晶封入用セル
を製造した。この時のセル間隔は0.5μで表示面の全面
にわたり均一であった。
<実施例5> 実施例1と同様に第一パネルおよび第二パネルを作成
し、第二パネル側にカゼイン系フォトレジスト「フジレ
ジストNo.15」(富士薬品(株)製)溶液で黒色顔料を
添加したものを5000rpmで15秒間回転塗布し、常法であ
るマスク露光法に従ってサイズ50μ角、ピッチ300μ間
隔のパターン露光し現像した。このときの現像後膜厚は
0.6μであった。次に第一パネルと第二パネルを密着さ
せ、1kg/cm2の圧力で加圧し常温より5℃/minの昇温速
度で180℃まで昇温し、1時間保持し引き続いて冷却し
圧力を外して液晶封入用セルを製造した。この時のセル
間隔は0.5μで表示面の全面にわたり均一であった。
<実施例6> 実施例1と同様に第一パネル(A′)に画素電極(4)
ならびに配向膜(5)を形成した。つぎに3インチ角厚
み1.6mmのガラス基板を光学研磨し平面の平坦性を2μ
以内に加工して透明基板(9)を得た。該透明基板
(9)上に400ÅのITO膜のスパッタリング法で成膜し、
常法に従って線巾280μ、ピッチ300μ長さ60mmの万線パ
ターンの対向電極(8)を形成した後、SiO2をスパッタ
リングで膜厚500Åに成膜して絶縁膜(13)を形成し
た。つぎにポリイミド樹脂の“セミコファインsp−910"
((株)東レ製)に黒色顔料を添加したものの1gにたい
してエチルセロソルブ0.5gの割合で稀釈撹拌し3000rpm
で2分間回転塗布後135℃で30分間乾燥した。その後全
面に“OFPRII"(東京応化工業(株)製)を4000rpmで回
転塗布し、接着層(14)をマスク露光して、ノンメタル
専用現像剤でOFPRIIを現像すると同時に前記セミコファ
インsp−910をエッチングする。このようにしてポリイ
ミドとOFPRIIの2層構造の接着層(14)を形成し第二パ
ネル(B′)を得た。ここで、黒色顔料を添加するの
は、前記ポリイミド樹脂とフォトレジストとのいずれか
片方でもあるいは両方でもいずれでもよい。以後実施例
1と同様に第一パネルと第二パネルを密着させ、1kg/cm
2の圧力で加圧し常温より5℃/minの昇温速度で180℃ま
で昇温し、1時間保持し引き続いて冷却し圧力を外して
液晶封入用セルを製造した。この時のセル間隔は0.5μ
で表示面の全面にわたり均一であった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の液晶封入用セルの一実施例を示すもの
であって、第1図(イ)は断面図、第1図(ロ)は平面
図、第1図(ハ)は要部拡大平面図、第1図(ニ)は他
の実施例を示す要部断面図であり、第2図は、カラーフ
ィルター付きの液晶封入セル用パネルの一実施例を示す
断面図であり、第3図は、従来のツイストネマチック型
液晶封入用セルの一例を示す断面図である。 (1)……光源、(10)……検光子、(16)……液晶封
入口 (2)……偏光子、(11)……スペーサー (3)(9)……透明基板、(12)……封止材 (4)……画素電極、(13)……絶縁膜 (5)(7)……配向膜、(14)……接着層 (6)……液晶、(14′)……補助スペーサー (8)……対向電極、(15)……フェロ液晶
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−651(JP,A) 特開 昭48−71596(JP,A)

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板上に少なくとも透明な画素電極お
    よび該画素電極上に配向膜を設けた第一パネルと、透明
    基板上に少なくとも透明な対向電極を設けた第二パネル
    の間に、強誘電性液晶を封入すべく設けられた液晶封入
    用セルにおいて、液晶セル表示面に略均等かつ微細パタ
    ーン状をなし、前記第一パネルと第二パネルのそれぞれ
    の面にて接着している接着層として、かつ非画素部を遮
    光すべく黒色顔料を含有してなる遮光層として、かつセ
    ルギャップを維持するスペーサーとしての構成を兼ねる
    部材を、第一パネルと第二パネルの間に設けることによ
    り、第一パネルと第二パネルの間を2μm以下にしたこ
    とを特徴とする液晶封入用セル。
  2. 【請求項2】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材の近傍に、該部材と同一膜厚である剛性の補助ス
    ペーサーを設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の液晶封入用セル。
  3. 【請求項3】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼ
    ラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコー
    ル、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリル
    アミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステ
    ル、ポリウレタン、またはポリアミドから選択される少
    なくとも一種の樹脂からなることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の液晶封入用セル。
  4. 【請求項4】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼ
    ラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコー
    ル、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリル
    アミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステ
    ル、ポリウレタン、またはポリアミドから選択される少
    なくとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからなるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用
    セル。
  5. 【請求項5】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材と、電極を有するパネルとの間に、絶縁層を介在
    した特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。
  6. 【請求項6】第一パネルまたは第二パネルの透明基板上
    にカラーフィルタを介して画素電極または対向電極を設
    け、必要に応じてその上に配向膜を配したことを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。
  7. 【請求項7】第一パネルまたは第二パネルの画素電極上
    または対向電極にカラーフィルタを設け、必要に応じて
    その上に配向膜を配したことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の液晶封入用セル。
  8. 【請求項8】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材が、樹脂と感光性樹脂の二重構造である特許請求
    の範囲第1項記載の液晶封入用セル。
  9. 【請求項9】前記接着層と遮光層とスペーサーとを兼ね
    る部材が、画素電極および対向電極の両方と電気的に接
    しないか、または一方のみと電気的に接する位置に設け
    られている特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セ
    ル。
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