JPH0682448B2 - 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド - Google Patents
酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0682448B2 JPH0682448B2 JP23364085A JP23364085A JPH0682448B2 JP H0682448 B2 JPH0682448 B2 JP H0682448B2 JP 23364085 A JP23364085 A JP 23364085A JP 23364085 A JP23364085 A JP 23364085A JP H0682448 B2 JPH0682448 B2 JP H0682448B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mol
- mgo
- nio
- substrate
- tio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 39
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 15
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229910020641 Co Zr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020520 Co—Zr Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気ヘッド等に用いられる酸化物基板および
これを用いて構成した磁気ヘッドに関するものである。
これを用いて構成した磁気ヘッドに関するものである。
従来の技術 従来、磁気ヘッドの構成として、磁気コア材料軟磁性の
パーマロイ・センダスト・アモルファス合金・Mn−Zn−
フェライト等を使用し、これを基板に接合又は接着する
が、基板上に蒸着・スパッタ・CVD・メッキ等の方法で
薄膜として形成したものが知られている。
パーマロイ・センダスト・アモルファス合金・Mn−Zn−
フェライト等を使用し、これを基板に接合又は接着する
が、基板上に蒸着・スパッタ・CVD・メッキ等の方法で
薄膜として形成したものが知られている。
このような構成の磁気ヘッドでは、軟磁性材料と基板材
料の熱膨脹係数が等しいか又はその差が極めて小さくな
ければ、温度変化によって両材料の界面に応力が生じ、
亀裂発生の原因となったり、あるいは磁歪効果によって
軟磁性体の磁気特性が悪化する。このため使用する軟磁
性材料の種類・組成による熱膨脹係数に対応して、自由
に熱膨脹係数を変える事の出来る基板材料が必要とな
り、結晶化ガラス、CaO−SrO−TiO2系セラミック基板
（特開昭52−57218号公報）、NiMnO2系セラミック基板
（特開昭53−16399号公報）、MgO−TiO2系セラミック基
板（特開昭58−139322号公報）などが提案されている。
これらの基板材料は、その組成を調整する事により、広
い範囲で熱膨脹係数を選択できるものである。
料の熱膨脹係数が等しいか又はその差が極めて小さくな
ければ、温度変化によって両材料の界面に応力が生じ、
亀裂発生の原因となったり、あるいは磁歪効果によって
軟磁性体の磁気特性が悪化する。このため使用する軟磁
性材料の種類・組成による熱膨脹係数に対応して、自由
に熱膨脹係数を変える事の出来る基板材料が必要とな
り、結晶化ガラス、CaO−SrO−TiO2系セラミック基板
（特開昭52−57218号公報）、NiMnO2系セラミック基板
（特開昭53−16399号公報）、MgO−TiO2系セラミック基
板（特開昭58−139322号公報）などが提案されている。
これらの基板材料は、その組成を調整する事により、広
い範囲で熱膨脹係数を選択できるものである。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、結晶化ガラスやCaO−SrO−TiO2系セラミ
ック基板では、成分としてアルカリ金属あるいはCaを含
むために化学的に不安定であり、これらの基板を用いて
磁気ヘッドを構成した場合、磁気テープ等を実際に走行
させると、基板表面に磁性粉が付着する現象を生じ、磁
気ヘッド特性が低下する。NiMnO2系セラミック基板で
は、このような磁気テープからの付着現象は生じない
が、MnOが空気中で加熱されると酸化されてMn2O3になり
やすいために、焼成時の雰囲気を非酸化性としなければ
ならず、製造コストが高くなり、又、使用形状に加工す
る時の研削加工性が悪く、加工能率が低いなどの欠点が
あった。
ック基板では、成分としてアルカリ金属あるいはCaを含
むために化学的に不安定であり、これらの基板を用いて
磁気ヘッドを構成した場合、磁気テープ等を実際に走行
させると、基板表面に磁性粉が付着する現象を生じ、磁
気ヘッド特性が低下する。NiMnO2系セラミック基板で
は、このような磁気テープからの付着現象は生じない
が、MnOが空気中で加熱されると酸化されてMn2O3になり
やすいために、焼成時の雰囲気を非酸化性としなければ
ならず、製造コストが高くなり、又、使用形状に加工す
る時の研削加工性が悪く、加工能率が低いなどの欠点が
あった。
一方、MgO−TiO2系セラミック基板では、上記のような
問題点は生じないが、熱膨脹係数が95×10-7/℃（25〜4
00℃）を越えるような組成のものでは、MgOとTiO2のモ
ル比が2:1を越えるために、焼結体中に遊離のMgOを含
み、これが高湿度条件下で潮解現象を起こすという欠点
があった。
問題点は生じないが、熱膨脹係数が95×10-7/℃（25〜4
00℃）を越えるような組成のものでは、MgOとTiO2のモ
ル比が2:1を越えるために、焼結体中に遊離のMgOを含
み、これが高湿度条件下で潮解現象を起こすという欠点
があった。
問題点を解決するための手段 MgOを２〜96モル％、NiOを２〜96モル％、残分TiO2より
なり、MgOとNiOの合量が50〜98モル％であり、酸化物複
合焼結体を主成分として基板を構成する。
なり、MgOとNiOの合量が50〜98モル％であり、酸化物複
合焼結体を主成分として基板を構成する。
作用 発明者等は、MgO−NiO−TiO2系セラミックスが、組成比
により、熱膨脹係数を85〜130×10-7/℃（25℃〜400
℃）の範囲内で調整可能な事、又、基板表面に磁気テー
プを走行させても磁性粉が付着しない事、研削加工が容
易である事、潮解性を生じない事等を見い出した。
により、熱膨脹係数を85〜130×10-7/℃（25℃〜400
℃）の範囲内で調整可能な事、又、基板表面に磁気テー
プを走行させても磁性粉が付着しない事、研削加工が容
易である事、潮解性を生じない事等を見い出した。
MgOとNiOの合量を50〜98モル％にするすなわち、TiO2量
を２モル％以上にすれば、良好な研削加工性を得ること
ができ、又、基板表面上に蒸着・スパッター・CVD・メ
ッキ等の方法で形成される金属磁性薄膜の熱膨脹係数95
〜125×10-7/℃（25〜400℃）と同等の熱膨脹係数が得
られる。MgO量を２〜96モル％に限定する理由はMgO量が
少量でありすぎると研削加工性が低下し、MgO量が96モ
ル％を越えると潮解性を生じるめである。また逆に、Ni
O量を２〜96モル％に限定した理由は、NiO量が少量であ
りすぎると潮解性を生じ、NiO量が96モル％を越えると
研削加工性が低下するためである。
を２モル％以上にすれば、良好な研削加工性を得ること
ができ、又、基板表面上に蒸着・スパッター・CVD・メ
ッキ等の方法で形成される金属磁性薄膜の熱膨脹係数95
〜125×10-7/℃（25〜400℃）と同等の熱膨脹係数が得
られる。MgO量を２〜96モル％に限定する理由はMgO量が
少量でありすぎると研削加工性が低下し、MgO量が96モ
ル％を越えると潮解性を生じるめである。また逆に、Ni
O量を２〜96モル％に限定した理由は、NiO量が少量であ
りすぎると潮解性を生じ、NiO量が96モル％を越えると
研削加工性が低下するためである。
このMgO−NiO−TiO2系セラミック基板は熱膨脹係数が調
節可能で、製造が容易で、かつ優れた耐候性・研削加工
性を持つ。
節可能で、製造が容易で、かつ優れた耐候性・研削加工
性を持つ。
実施例 以下実施例をしめす。
試薬特級のMgO,NiO,TiO2をそれぞれ秤量し、アルコール
を分散媒としたボールミルにて16時間混合した後、150
℃で乾燥して各種組成の混合粉末を得た。これらの混合
粉末を900℃で空気中仮焼した後、再度ボールミルにて1
6時間粉砕し、150℃で乾燥した。この仮焼粉末に5wt％
のポリビニールアルコール水溶液を10wt％加えて造粒
し、1000kg/cm2の圧力で加圧成形した。成形体は、その
組成に応じて、1200〜1350℃の間の温度で加圧（300kg/
cm2）焼結した。得られた焼結体に対して、アルキメデ
ス法による密度速度を行った結果、いずれの組成におい
ても焼結体密度は真密度の99.5％以上であった。そこで
この焼結体より試料を切り出し、熱膨脹率計による25℃
〜400℃間の熱膨脹係数測定を行った。また、通常の研
削切断加工機と人造ダイア150番・直径100mm・厚さ0.5m
mの研削砥石を用い、砥石回転速度3000rpm・送り速度10
mm/min・研削深さ3mmの条件で湿式研削切断加工を行
い、主軸モーターの消費電力の変化と比削材の重量減少
より、比研削エネルギーを求めた。さらに、試料を鏡面
研摩し、表面粗さRmax＜100Åとしたのち水中に投入
し、24時間後に再度表面粗さを測定することによりその
耐水性を評価した。比較のため、結晶化ガラス、および
NiMnO2系セラミック基板に対しても同様の測定を行っ
た。その結果を第１表に示す。
を分散媒としたボールミルにて16時間混合した後、150
℃で乾燥して各種組成の混合粉末を得た。これらの混合
粉末を900℃で空気中仮焼した後、再度ボールミルにて1
6時間粉砕し、150℃で乾燥した。この仮焼粉末に5wt％
のポリビニールアルコール水溶液を10wt％加えて造粒
し、1000kg/cm2の圧力で加圧成形した。成形体は、その
組成に応じて、1200〜1350℃の間の温度で加圧（300kg/
cm2）焼結した。得られた焼結体に対して、アルキメデ
ス法による密度速度を行った結果、いずれの組成におい
ても焼結体密度は真密度の99.5％以上であった。そこで
この焼結体より試料を切り出し、熱膨脹率計による25℃
〜400℃間の熱膨脹係数測定を行った。また、通常の研
削切断加工機と人造ダイア150番・直径100mm・厚さ0.5m
mの研削砥石を用い、砥石回転速度3000rpm・送り速度10
mm/min・研削深さ3mmの条件で湿式研削切断加工を行
い、主軸モーターの消費電力の変化と比削材の重量減少
より、比研削エネルギーを求めた。さらに、試料を鏡面
研摩し、表面粗さRmax＜100Åとしたのち水中に投入
し、24時間後に再度表面粗さを測定することによりその
耐水性を評価した。比較のため、結晶化ガラス、および
NiMnO2系セラミック基板に対しても同様の測定を行っ
た。その結果を第１表に示す。
表１より、熱膨張係数はMgOとNiOとの合量が増えるに従
って増加することがわかる。熱膨張係数を95×10-7/℃
以上とするためには、MgOとNiOとの合量を50モル％以上
とする必要がある。一方、比研削エネルギーも同様の傾
向を示すが、NiO量が96モル％以下で、MgOが２モル％以
上の組成範囲内では結晶化ガラスやNiMnO2系セラミック
基板よりも充分に小さく、最大でもその1/2程度であっ
た。次に、耐水性については、NiO量が２モル％未満の
物ではRmax≒2000Å程度の面荒れが生じたが、NiO量２
モル％以上の物ではRmax＜300Åであった。このよう
に、耐水性についてはNiO量が２モル％以上であれば充
分である。従って、高い熱膨張係数・低い比研削エネル
ギー・高い耐水性を同時に満たす組成範囲として、MgO
を２〜96モル％、NiOを２〜96モル％、MgOとNiOの合量
が50〜98モル％で、TiO2が２〜50モル％とする必要があ
る。
って増加することがわかる。熱膨張係数を95×10-7/℃
以上とするためには、MgOとNiOとの合量を50モル％以上
とする必要がある。一方、比研削エネルギーも同様の傾
向を示すが、NiO量が96モル％以下で、MgOが２モル％以
上の組成範囲内では結晶化ガラスやNiMnO2系セラミック
基板よりも充分に小さく、最大でもその1/2程度であっ
た。次に、耐水性については、NiO量が２モル％未満の
物ではRmax≒2000Å程度の面荒れが生じたが、NiO量２
モル％以上の物ではRmax＜300Åであった。このよう
に、耐水性についてはNiO量が２モル％以上であれば充
分である。従って、高い熱膨張係数・低い比研削エネル
ギー・高い耐水性を同時に満たす組成範囲として、MgO
を２〜96モル％、NiOを２〜96モル％、MgOとNiOの合量
が50〜98モル％で、TiO2が２〜50モル％とする必要があ
る。
そこで次に、熱膨脹係数が114×10-7/℃であるMgO＝75
モル％,NiO＝13モル％,TiO212モル％の基板を選び、そ
の表面にCo−Zr系アモルファス磁性金属薄膜をスパッタ
リングにより形成し、磁気ヘッドを作成した。比較のた
め、結晶化ガラス、NiMnO2系セラミック、MgO−TiO2系
セラミックを用いてそれぞれ同様の方法で磁気ヘッドを
作成した。これらの磁気ヘッドに対して各種環境下で金
属磁気テープを実走行させて、ヘッドの出力変化・耐磨
耗性・耐環境性をテストした。その結果、測定開始後数
時間の場合、環境条件が温度20℃・湿度50％では基板の
種類による特性差は特に見られなかったが、温度20℃・
湿度10％では結晶化ガラスを基板とした磁気ヘッドで
は、基板表面上に磁気テープの金属粉が付着し、ヘッド
出力が数dB低下した。また、温度40℃・湿度80％ではMg
O−TiO2系セラミック基板を用いて磁気ヘッドでは、遊
離のMgOの溶解により、基板に粒径に対応した段差が生
じ、ヘッド出力が２〜3dB低下した。測定開始後約100時
間の場合、MgO−TiO2系セラミック基板を用いた磁気ヘ
ッドでは、温度20℃・湿度80％おいても前述した遊離の
MgOの溶解が生じ、ヘッド出力が数dB低下した。また、N
iMnO2系セラミック基板を用いた磁気ヘッドにおいて
も、100時間後には基板とアモルファス軟磁性体との磨
耗性に差があるため、ヘッド表面に段差を生じ、ヘッド
出力が低下した。しかるに本発明のMgO−NiO−TiO2基板
を用いた磁気ヘッドでは、あらゆる環境条件下において
も付着・溶解等を起こすことがなく、またアモルファス
軟磁性体との磨耗性のマッチングも良く、長時間使用し
てもヘッド出力の変化は1dB以内であった。
モル％,NiO＝13モル％,TiO212モル％の基板を選び、そ
の表面にCo−Zr系アモルファス磁性金属薄膜をスパッタ
リングにより形成し、磁気ヘッドを作成した。比較のた
め、結晶化ガラス、NiMnO2系セラミック、MgO−TiO2系
セラミックを用いてそれぞれ同様の方法で磁気ヘッドを
作成した。これらの磁気ヘッドに対して各種環境下で金
属磁気テープを実走行させて、ヘッドの出力変化・耐磨
耗性・耐環境性をテストした。その結果、測定開始後数
時間の場合、環境条件が温度20℃・湿度50％では基板の
種類による特性差は特に見られなかったが、温度20℃・
湿度10％では結晶化ガラスを基板とした磁気ヘッドで
は、基板表面上に磁気テープの金属粉が付着し、ヘッド
出力が数dB低下した。また、温度40℃・湿度80％ではMg
O−TiO2系セラミック基板を用いて磁気ヘッドでは、遊
離のMgOの溶解により、基板に粒径に対応した段差が生
じ、ヘッド出力が２〜3dB低下した。測定開始後約100時
間の場合、MgO−TiO2系セラミック基板を用いた磁気ヘ
ッドでは、温度20℃・湿度80％おいても前述した遊離の
MgOの溶解が生じ、ヘッド出力が数dB低下した。また、N
iMnO2系セラミック基板を用いた磁気ヘッドにおいて
も、100時間後には基板とアモルファス軟磁性体との磨
耗性に差があるため、ヘッド表面に段差を生じ、ヘッド
出力が低下した。しかるに本発明のMgO−NiO−TiO2基板
を用いた磁気ヘッドでは、あらゆる環境条件下において
も付着・溶解等を起こすことがなく、またアモルファス
軟磁性体との磨耗性のマッチングも良く、長時間使用し
てもヘッド出力の変化は1dB以内であった。
以上の実施例においては、熱膨脹係数が114×10-7/℃の
Co−Zr系アモルファス軟磁性薄膜を用いる場合を示した
が、軟磁性材料としてはこれに限らず、他の組成のアモ
ルファス材料、パーマロイ・センダスト等の合金材料、
あるいはMn−Znフェライトなど、どのような磁気コア材
料にたいしても、その熱膨脹係数に応じて、MgO,NiO,Ti
O2の含有量を変えることにより、最適の基板を提供出来
るものである。
Co−Zr系アモルファス軟磁性薄膜を用いる場合を示した
が、軟磁性材料としてはこれに限らず、他の組成のアモ
ルファス材料、パーマロイ・センダスト等の合金材料、
あるいはMn−Znフェライトなど、どのような磁気コア材
料にたいしても、その熱膨脹係数に応じて、MgO,NiO,Ti
O2の含有量を変えることにより、最適の基板を提供出来
るものである。
また、本発明で用いる基板材料はMgO,NiO,TiO2を主成分
とし、機械加工性を改善するためや焼結性を改善するた
め、少量のZrO2,SiO2等を添加したり、原料中に含まれ
少量の不純物が含まれたりしても、なんら問題を生じる
ものではない。
とし、機械加工性を改善するためや焼結性を改善するた
め、少量のZrO2,SiO2等を添加したり、原料中に含まれ
少量の不純物が含まれたりしても、なんら問題を生じる
ものではない。
発明の効果 本発明の酸化物基板は、MgOを２〜96モル％、NiOを２〜
96モル％、残分TiO2の３成分よりなり、MgOとNiOの合量
が50〜98モル％である、酸化物複合焼結体を主成分とす
る基板であり、磁気ヘッド用の基板として用いた場合磁
気記録媒体による接触走行に対して、カルシウムやアル
カリ金属を含まないため安定で、また、軟磁性材料との
耐磨耗性のマッチングも良い。さらに、製造および加工
が容易である。
96モル％、残分TiO2の３成分よりなり、MgOとNiOの合量
が50〜98モル％である、酸化物複合焼結体を主成分とす
る基板であり、磁気ヘッド用の基板として用いた場合磁
気記録媒体による接触走行に対して、カルシウムやアル
カリ金属を含まないため安定で、また、軟磁性材料との
耐磨耗性のマッチングも良い。さらに、製造および加工
が容易である。
Claims (2)
- 【請求項１】MgOを２〜96モル％、NiOを２〜96モル％、
残分TiO2よりなり、MgOとNiOの合量が50〜98モル％であ
る酸化物複合焼結体を主成分とする酸化物基板。 - 【請求項２】MgOを２〜96モル％、NiOを２〜96モル％、
残分TiO2よりなり、MgOとNiOの合量が50〜98モル％であ
る酸化物複合焼結体を主成分とする酸化物基板を用い、
この基板に磁気コアとして軟磁性材料を形成したことを
特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23364085A JPH0682448B2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド |
| DE8686103255T DE3681806D1 (de) | 1985-03-13 | 1986-03-11 | Magnetkopf. |
| EP86103255A EP0194650B1 (en) | 1985-03-13 | 1986-03-11 | Magnetic head |
| US07/235,717 US5034285A (en) | 1985-03-13 | 1988-08-22 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23364085A JPH0682448B2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292206A JPS6292206A (ja) | 1987-04-27 |
| JPH0682448B2 true JPH0682448B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=16958207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23364085A Expired - Lifetime JPH0682448B2 (ja) | 1985-03-13 | 1985-10-18 | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682448B2 (ja) |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP23364085A patent/JPH0682448B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6292206A (ja) | 1987-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4100847B2 (ja) | 圧電セラミック組成物 | |
| EP0153141B1 (en) | Thin film magnetic heads | |
| JPH05290347A (ja) | 非磁性基板材及び磁気ヘッド | |
| JPH0682448B2 (ja) | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド | |
| EP0194650B1 (en) | Magnetic head | |
| JPS6222411A (ja) | 非磁性基板材料及び磁気ヘツド | |
| JPH08259316A (ja) | マンガン−亜鉛系フェライトの製造方法 | |
| JP2880044B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板材料 | |
| JPH0120523B2 (ja) | ||
| JPS6295810A (ja) | 酸化物基板およびそれを用いた磁気ヘツド | |
| JPH0580045B2 (ja) | ||
| JPH02180754A (ja) | 磁気ヘッドのスライダ | |
| JPH0335258B2 (ja) | ||
| JPH0345024B2 (ja) | ||
| JPH05254938A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JPH0580044B2 (ja) | ||
| JPH06316459A (ja) | 構造用非磁性セラミック材料 | |
| JPH06290409A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板材料 | |
| JPH068203B2 (ja) | 酸化物基板材料 | |
| JPS63170262A (ja) | ＺｒＯ↓２−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法 | |
| JPS63134559A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス | |
| JPH02243562A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料 | |
| JPH0449604A (ja) | 非磁性酸化物基板とそれを用いた磁気ヘッド | |
| JPS6359984B2 (ja) | ||
| JPS6296356A (ja) | 酸化物基板材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |