JPH0682784A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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- JPH0682784A JPH0682784A JP23368992A JP23368992A JPH0682784A JP H0682784 A JPH0682784 A JP H0682784A JP 23368992 A JP23368992 A JP 23368992A JP 23368992 A JP23368992 A JP 23368992A JP H0682784 A JPH0682784 A JP H0682784A
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- liquid crystal
- alignment film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶パネルの製造方法に関し、フォトリソグ
ラフィによらなくても微小な領域毎に液晶の配向状態が
異なる液晶パネルを得ることのできることを目的とす
る。 【構成】 第１及び第２の対向する基板の間に挿入され
た液晶と、該第１の基板に設けられた配向膜３６と、該
第２の基板に設けられた配向膜とからなり、該第１の基
板の配向膜３６及び該第２の基板の配向膜が微小な領域
毎に液晶の配向状態が異なるように配向処理されている
液晶パネルの製造方法であって、該第１の基板２２及び
該第２の基板を準備し、該第１の基板及び該第２の基板
の各々に配向膜３６を所定のパターンで印刷し、該配向
膜３６をラビングする構成とする。
ラフィによらなくても微小な領域毎に液晶の配向状態が
異なる液晶パネルを得ることのできることを目的とす
る。 【構成】 第１及び第２の対向する基板の間に挿入され
た液晶と、該第１の基板に設けられた配向膜３６と、該
第２の基板に設けられた配向膜とからなり、該第１の基
板の配向膜３６及び該第２の基板の配向膜が微小な領域
毎に液晶の配向状態が異なるように配向処理されている
液晶パネルの製造方法であって、該第１の基板２２及び
該第２の基板を準備し、該第１の基板及び該第２の基板
の各々に配向膜３６を所定のパターンで印刷し、該配向
膜３６をラビングする構成とする。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶の配向状態が微小な
領域毎に異なるようにした液晶パネルの製造方法に関す
る。
領域毎に異なるようにした液晶パネルの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルは、一対の対向する透明なガ
ラス基板の間に液晶を挿入したものである。一方のガラ
ス基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられ、他方
の基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられる。最
近では、画素電極をアクティブマトリクス駆動すること
が多くなっている。さらに、これらの基板の外側にはそ
れぞれ偏光板が設けられる。
ラス基板の間に液晶を挿入したものである。一方のガラ
ス基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられ、他方
の基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられる。最
近では、画素電極をアクティブマトリクス駆動すること
が多くなっている。さらに、これらの基板の外側にはそ
れぞれ偏光板が設けられる。
【０００３】液晶パネルでは、液晶分子は両基板の配向
膜のラビング方向に従って配向し、プレチルトする。偏
光板を直交配置したツイストネマチック型の液晶表示装
置では、両基板の配向膜のラビング方向は相互にほぼ垂
直になっており、液晶の分子は一方の基板から他方の基
板に向かうにつれて螺旋状にツイストしていく。そし
て、液晶に電圧を印加しないときに、液晶の分子は初期
のツイスト及びプレチルトを維持した状態にあり、入射
光は液晶のツイストに沿って旋回しながら進み、液晶パ
ネルから出射する。電圧を印加すると、液晶が立ち上が
り、液晶の複屈折作用が弱くなり、上記した光の旋回作
用が弱くなって、入射光が液晶パネルを透過しにくくな
り、黒表示が得られるようになる。このようにして、液
晶への印加電圧を制御しながら、全体で明暗のコントラ
ストのある画像を形成する。
膜のラビング方向に従って配向し、プレチルトする。偏
光板を直交配置したツイストネマチック型の液晶表示装
置では、両基板の配向膜のラビング方向は相互にほぼ垂
直になっており、液晶の分子は一方の基板から他方の基
板に向かうにつれて螺旋状にツイストしていく。そし
て、液晶に電圧を印加しないときに、液晶の分子は初期
のツイスト及びプレチルトを維持した状態にあり、入射
光は液晶のツイストに沿って旋回しながら進み、液晶パ
ネルから出射する。電圧を印加すると、液晶が立ち上が
り、液晶の複屈折作用が弱くなり、上記した光の旋回作
用が弱くなって、入射光が液晶パネルを透過しにくくな
り、黒表示が得られるようになる。このようにして、液
晶への印加電圧を制御しながら、全体で明暗のコントラ
ストのある画像を形成する。
【０００４】このような液晶パネルでは、観視者が、画
面を見る方向により、画像の明暗のコントラストが変化
する。これは、液晶パネルの視角特性として一般に認識
されている。例えば、ある配向処理をした液晶パネルを
斜め上方から見る場合には電圧をわずかにかけると透過
率が大幅に低下し、電圧の上昇とともに再び透過率が増
加するようになり、これに対して液晶パネルを斜め下方
から見る場合には電圧を高くしても透過率がなかなか低
下せず、黒い表示を得ようとしても、比較的に明るい表
示になってしまう。
面を見る方向により、画像の明暗のコントラストが変化
する。これは、液晶パネルの視角特性として一般に認識
されている。例えば、ある配向処理をした液晶パネルを
斜め上方から見る場合には電圧をわずかにかけると透過
率が大幅に低下し、電圧の上昇とともに再び透過率が増
加するようになり、これに対して液晶パネルを斜め下方
から見る場合には電圧を高くしても透過率がなかなか低
下せず、黒い表示を得ようとしても、比較的に明るい表
示になってしまう。
【０００５】このような視角特性の影響を解決するため
に、特開昭６３−１０６６２４号公報は、１画素内で液
晶の分子の配向方向の異なる２つの領域を形成すること
を提案している。これらの提案によれば、上記斜め上方
向の視角特性と斜め下方向の視角特性を混合することに
より、全体としての視角特性の向上を図ることができ
る。
に、特開昭６３−１０６６２４号公報は、１画素内で液
晶の分子の配向方向の異なる２つの領域を形成すること
を提案している。これらの提案によれば、上記斜め上方
向の視角特性と斜め下方向の視角特性を混合することに
より、全体としての視角特性の向上を図ることができ
る。
【０００６】図５はそのような従来の液晶パネルの配向
処理を示す図である。図５は例えば１画素分の面積を示
し、１画素が液晶の分子の配向状態が異なる２つの領域
Ａ，Ｂに分割されている。光が一方の基板に入射し（こ
こでは光入射側の基板を下基板という）、液晶を透過し
て他方の基板（上基板）から出射するとし、観視者が上
基板の上方から液晶パネルを見るとして、下基板の配向
膜のラビング方向が矢印ＲL で示され、上基板の配向膜
のラビング方向が矢印ＲU で示されている。
処理を示す図である。図５は例えば１画素分の面積を示
し、１画素が液晶の分子の配向状態が異なる２つの領域
Ａ，Ｂに分割されている。光が一方の基板に入射し（こ
こでは光入射側の基板を下基板という）、液晶を透過し
て他方の基板（上基板）から出射するとし、観視者が上
基板の上方から液晶パネルを見るとして、下基板の配向
膜のラビング方向が矢印ＲL で示され、上基板の配向膜
のラビング方向が矢印ＲU で示されている。
【０００７】図５の領域Ａでは、下基板の配向膜のラビ
ング方向ＲL は左上がり４５度であり、上基板の配向膜
のラビング方向ＲU は左下がり４５度である。このよう
な配向処理の場合の視角特性は、上記したように液晶パ
ネルを斜め上方から見る場合、電圧をわずかにかけると
透過率が大幅に低下し、電圧の上昇とともに再び透過率
が増加するようになる。この視角特性が二重矢印で示さ
れている。一方、領域Ｂでは、下基板の配向膜のラビン
グ方向ＲL は右下がり４５度であり、上基板の配向膜の
ラビング方向ＲU は右上がり４５度である。このような
配向処理の場合の視角特性は領域Ａとは上下逆になる。
ング方向ＲL は左上がり４５度であり、上基板の配向膜
のラビング方向ＲU は左下がり４５度である。このよう
な配向処理の場合の視角特性は、上記したように液晶パ
ネルを斜め上方から見る場合、電圧をわずかにかけると
透過率が大幅に低下し、電圧の上昇とともに再び透過率
が増加するようになる。この視角特性が二重矢印で示さ
れている。一方、領域Ｂでは、下基板の配向膜のラビン
グ方向ＲL は右下がり４５度であり、上基板の配向膜の
ラビング方向ＲU は右上がり４５度である。このような
配向処理の場合の視角特性は領域Ａとは上下逆になる。
【０００８】このような配向処理の異なる微小な領域Ａ
と微小な領域Ｂを隣り合わせて配置すると、透過率の高
い視角特性と透過率の低い視角特性を加えて２で割った
ような視角特性になり、上下どの方向から見た場合に
も、正面から見た視角特性に近づき、全体としての視角
特性が改善される。
と微小な領域Ｂを隣り合わせて配置すると、透過率の高
い視角特性と透過率の低い視角特性を加えて２で割った
ような視角特性になり、上下どの方向から見た場合に
も、正面から見た視角特性に近づき、全体としての視角
特性が改善される。
【０００９】このような配向処理のために、図５におい
ては、例えば破線で示された下基板の配向膜について
は、微小な領域Ａでは左上がり方向にラビングを行い、
微小な領域Ｂでは右下がり方向にラビングを行うことが
必要である。つまり、同一の基板に微小な領域Ａ，Ｂ毎
に逆方向のラビングをすることが必要である。
ては、例えば破線で示された下基板の配向膜について
は、微小な領域Ａでは左上がり方向にラビングを行い、
微小な領域Ｂでは右下がり方向にラビングを行うことが
必要である。つまり、同一の基板に微小な領域Ａ，Ｂ毎
に逆方向のラビングをすることが必要である。
【００１０】しかし、１画素に相当するような微小な領
域Ａ，Ｂ毎にこのようなラビングを行うのは簡単ではな
い。図７はレジストをマスクとしてラビングする従来方
法の一例を示す。図７では、配向膜は２層構造になって
いる。（Ａ）に示されるように、画素電極２を形成した
基板１を準備し、基板１の上に第１の配向材層（下層側
の配向材層と言う）３を塗布し、下層側の配向材層３の
上に第２の配向材層（上層側の配向材層と言う）４を塗
布するようになっている。上層側の配向材層４に矢印Ｘ
で示される方向にラビングを行う。
域Ａ，Ｂ毎にこのようなラビングを行うのは簡単ではな
い。図７はレジストをマスクとしてラビングする従来方
法の一例を示す。図７では、配向膜は２層構造になって
いる。（Ａ）に示されるように、画素電極２を形成した
基板１を準備し、基板１の上に第１の配向材層（下層側
の配向材層と言う）３を塗布し、下層側の配向材層３の
上に第２の配向材層（上層側の配向材層と言う）４を塗
布するようになっている。上層側の配向材層４に矢印Ｘ
で示される方向にラビングを行う。
【００１１】次に、（Ｂ）に示されるように、上層側の
配向材層４の上にレジスト５を塗布し、上層側の配向材
層４をエッチングする。（Ｂ）では、レジスト５はすで
に露光、現像され、所定の形状（微小な領域Ａ，Ｂに相
当する大きさ）になっており、上層側の配向材層４はレ
ジスト５をマスクとしてエッチングされている。従っ
て、レジスト５及び上層側の配向材層４の開口部から下
層側の配向材層３が露出している。そこで、（Ｃ）に示
されるように、レジスト５の上から矢印Ｙの方向にラビ
ングを行うと、下層側の配向材層３の露出部分のみがラ
ビングされることになる。そして、（Ｄ）に示されるよ
うに、レジスト５を剥離すると、レジスト５で覆われて
いた上層側の配向材層４には最初のラビングＸが残って
おり、よって逆方向のラビングが達成される。
配向材層４の上にレジスト５を塗布し、上層側の配向材
層４をエッチングする。（Ｂ）では、レジスト５はすで
に露光、現像され、所定の形状（微小な領域Ａ，Ｂに相
当する大きさ）になっており、上層側の配向材層４はレ
ジスト５をマスクとしてエッチングされている。従っ
て、レジスト５及び上層側の配向材層４の開口部から下
層側の配向材層３が露出している。そこで、（Ｃ）に示
されるように、レジスト５の上から矢印Ｙの方向にラビ
ングを行うと、下層側の配向材層３の露出部分のみがラ
ビングされることになる。そして、（Ｄ）に示されるよ
うに、レジスト５を剥離すると、レジスト５で覆われて
いた上層側の配向材層４には最初のラビングＸが残って
おり、よって逆方向のラビングが達成される。
【００１２】図８はレジストをマスクとしてラビングす
る従来方法の他の例を示す。図８でも、配向膜は２層構
造になっている。（Ａ）に示されるように、画素電極２
を形成した基板１の上に下層側の配向材層３及び上層側
の配向材層４を塗布する。この方法ではここでラビング
を行わない。次に、（Ｂ）に示されるように、上層側の
配向材層４の上にレジスト５を塗布し、上層側の配向材
層４をエッチングする。レジスト５はすでに露光、現像
され、所定の形状（微小な領域Ａ，Ｂに相当する大き
さ）になっており、上層側の配向材層４は所定の形状に
パターニングされている。そこで、（Ｃ）に示されるよ
うに、レジスト５を剥離し、露出した上層側の配向材層
４及び下層側の配向材層３の上から矢印Ｙの方向にラビ
ングを行う。従って、露出した上層側の配向材層４及び
下層側の配向材層３には同一方向にラビングが行われ
る。このような基板１を液晶パネルとして組み立てる
と、上層側の配向材層４及び下層側の配向材層３の部分
がレジスト５を剥離すると、液晶の配向状態の異なる微
小な領域Ａ，Ｂとなる。なお、この詳細は、本願の発明
の説明とともに、後述する。
る従来方法の他の例を示す。図８でも、配向膜は２層構
造になっている。（Ａ）に示されるように、画素電極２
を形成した基板１の上に下層側の配向材層３及び上層側
の配向材層４を塗布する。この方法ではここでラビング
を行わない。次に、（Ｂ）に示されるように、上層側の
配向材層４の上にレジスト５を塗布し、上層側の配向材
層４をエッチングする。レジスト５はすでに露光、現像
され、所定の形状（微小な領域Ａ，Ｂに相当する大き
さ）になっており、上層側の配向材層４は所定の形状に
パターニングされている。そこで、（Ｃ）に示されるよ
うに、レジスト５を剥離し、露出した上層側の配向材層
４及び下層側の配向材層３の上から矢印Ｙの方向にラビ
ングを行う。従って、露出した上層側の配向材層４及び
下層側の配向材層３には同一方向にラビングが行われ
る。このような基板１を液晶パネルとして組み立てる
と、上層側の配向材層４及び下層側の配向材層３の部分
がレジスト５を剥離すると、液晶の配向状態の異なる微
小な領域Ａ，Ｂとなる。なお、この詳細は、本願の発明
の説明とともに、後述する。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】液晶の配向状態の異な
る微小な領域Ａ，Ｂを形成するために、従来は配向膜を
フォトリソグラフィによりパターニングしてラビングす
ることが必要であった。しかし、フォトリソグラフィに
よりパターニングするためには、レジスト塗布、プリキ
ュア、露光、現像、ポストキュア、エッチング、レジス
ト剥離、というように多くの工程を必要とする問題点が
あった。また、配向膜の種類として、フォトリソで使用
する薬品に十分な耐性をもつ配向膜しか使用できず、大
きな制限を生んでいた。
る微小な領域Ａ，Ｂを形成するために、従来は配向膜を
フォトリソグラフィによりパターニングしてラビングす
ることが必要であった。しかし、フォトリソグラフィに
よりパターニングするためには、レジスト塗布、プリキ
ュア、露光、現像、ポストキュア、エッチング、レジス
ト剥離、というように多くの工程を必要とする問題点が
あった。また、配向膜の種類として、フォトリソで使用
する薬品に十分な耐性をもつ配向膜しか使用できず、大
きな制限を生んでいた。
【００１４】本発明の目的は、フォトリソグラフィによ
らなくても微小な領域毎に液晶の配向状態が異なる液晶
パネルを得ることのできる液晶パネルの製造方法を提供
することである。
らなくても微小な領域毎に液晶の配向状態が異なる液晶
パネルを得ることのできる液晶パネルの製造方法を提供
することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶パネル
の製造方法は、第１及び第２の対向する基板２２，２４
の間に挿入された液晶２６と、該第１の基板に設けられ
た配向膜３６と、該第２の基板に設けられた配向膜３２
とからなり、該第１の基板の配向膜３６及び該第２の基
板の配向膜３２が微小な領域毎に液晶の配向状態が異な
るように配向処理されている液晶パネルの製造方法であ
って、該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備
し、該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３
６，３２を所定のパターンで印刷し、該配向膜３６，３
２をラビングすることを特徴とするものである。また、
該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備し、該第
１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３６，３２と
なる感光性の配向材材料を塗布し、該配向材材料を所定
のパターンのマスクを介して露光し、該配向材材料の感
光部分あるいは未感光部分を除去し、該配向膜をラビン
グすることを特徴とする液晶パネルの製造方法、あるい
は、該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備し、
該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３６，３
２となる配向材材料を所定のパターンに従って細い線状
に塗布し、該配向膜をラビングすることを特徴とする液
晶パネルの製造方法、を採用することもできる。
の製造方法は、第１及び第２の対向する基板２２，２４
の間に挿入された液晶２６と、該第１の基板に設けられ
た配向膜３６と、該第２の基板に設けられた配向膜３２
とからなり、該第１の基板の配向膜３６及び該第２の基
板の配向膜３２が微小な領域毎に液晶の配向状態が異な
るように配向処理されている液晶パネルの製造方法であ
って、該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備
し、該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３
６，３２を所定のパターンで印刷し、該配向膜３６，３
２をラビングすることを特徴とするものである。また、
該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備し、該第
１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３６，３２と
なる感光性の配向材材料を塗布し、該配向材材料を所定
のパターンのマスクを介して露光し、該配向材材料の感
光部分あるいは未感光部分を除去し、該配向膜をラビン
グすることを特徴とする液晶パネルの製造方法、あるい
は、該第１の基板２２及び該第２の基板２４を準備し、
該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜３６，３
２となる配向材材料を所定のパターンに従って細い線状
に塗布し、該配向膜をラビングすることを特徴とする液
晶パネルの製造方法、を採用することもできる。
【００１６】
【作用】上記した構成においては、微小な領域毎に液晶
の配向状態が異なるようになっている。そして、上記製
造方法によれば、配向膜の微小な領域に相当するパター
ンをフォトリソを使用することなく形成することがで
き、工程が容易になり、コスト低減を達成できる。
の配向状態が異なるようになっている。そして、上記製
造方法によれば、配向膜の微小な領域に相当するパター
ンをフォトリソを使用することなく形成することがで
き、工程が容易になり、コスト低減を達成できる。
【００１７】
【実施例】図２は、本発明の第１実施例の液晶パネル２
０を示し、この液晶パネル２０の両側には偏光板（図示
せず）がノーマリホワイトモードのときに垂直な関係
で、あるいはノーマリブラックモードのときに平行な関
係で配置される。液晶パネル２０は、一対の透明なガラ
ス基板２２，２４の間に液晶２６を封入したものであ
る。液晶２６はツイストネマチック型液晶を使用してい
る。図示しない光源からの光は例えば矢印Ｌの方から液
晶パネル２０に入射し、観視者は入射方向とは逆の方向
から液晶パネル２０を見るものとし、以後の説明におい
ては、光の入射側の基板２２を下基板と呼び、観視者側
の基板２４を上基板と呼ぶことにする。
０を示し、この液晶パネル２０の両側には偏光板（図示
せず）がノーマリホワイトモードのときに垂直な関係
で、あるいはノーマリブラックモードのときに平行な関
係で配置される。液晶パネル２０は、一対の透明なガラ
ス基板２２，２４の間に液晶２６を封入したものであ
る。液晶２６はツイストネマチック型液晶を使用してい
る。図示しない光源からの光は例えば矢印Ｌの方から液
晶パネル２０に入射し、観視者は入射方向とは逆の方向
から液晶パネル２０を見るものとし、以後の説明におい
ては、光の入射側の基板２２を下基板と呼び、観視者側
の基板２４を上基板と呼ぶことにする。
【００１８】上基板２４の内面にはカラーフィルタ層２
８，ＩＴＯの共通電極３０が設けられ、共通電極３０の
上に配向膜３２が設けられる。下基板２２の内面には画
素電極３４及び配向膜３６が設けられる。下基板２２に
設けられた画素電極３４はアクティブマトリクス回路に
接続される。図３に示されるように、アクティブマトリ
クス回路は縦、横にマトリクス状に延びるドレインバス
ライン３８及びゲートバスライン４０を含み、画素電極
３４は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）４２を介してドレイ
ンバスライン３８及びゲートバスライン４０に接続され
る。
８，ＩＴＯの共通電極３０が設けられ、共通電極３０の
上に配向膜３２が設けられる。下基板２２の内面には画
素電極３４及び配向膜３６が設けられる。下基板２２に
設けられた画素電極３４はアクティブマトリクス回路に
接続される。図３に示されるように、アクティブマトリ
クス回路は縦、横にマトリクス状に延びるドレインバス
ライン３８及びゲートバスライン４０を含み、画素電極
３４は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）４２を介してドレイ
ンバスライン３８及びゲートバスライン４０に接続され
る。
【００１９】図４に示されるように、薄膜トランジスタ
４２は、半導体層４４と、ゲート電極４０ａと、ドレイ
ン電極３８ａと、ソース電極４６とからなる。ソース電
極４６は画素電極３４に接続され、ドレイン電極３８ａ
はドレインバスライン３８に接続され、ゲート電極４０
ａはゲートバスライン４０に接続される。ゲート絶縁層
４８がゲート電極４０ａと半導体層４４との間に設けら
れる。
４２は、半導体層４４と、ゲート電極４０ａと、ドレイ
ン電極３８ａと、ソース電極４６とからなる。ソース電
極４６は画素電極３４に接続され、ドレイン電極３８ａ
はドレインバスライン３８に接続され、ゲート電極４０
ａはゲートバスライン４０に接続される。ゲート絶縁層
４８がゲート電極４０ａと半導体層４４との間に設けら
れる。
【００２０】図２及び図３に示されるように、上記した
ように視角特性を改善するために、配向膜３２及び配向
膜３６は、液晶２６の配向状態の異なる微小な領域Ａ，
Ｂを形成するように配向処理されている。下基板２２側
の配向膜３６は下層側の配向材層５０及び上層側の配向
材層５２からなる２層構造になっており、上基板２４側
の配向膜３２も下層側の配向材層５４及び上層側の配向
材層５６からなる２層構造になっている。
ように視角特性を改善するために、配向膜３２及び配向
膜３６は、液晶２６の配向状態の異なる微小な領域Ａ，
Ｂを形成するように配向処理されている。下基板２２側
の配向膜３６は下層側の配向材層５０及び上層側の配向
材層５２からなる２層構造になっており、上基板２４側
の配向膜３２も下層側の配向材層５４及び上層側の配向
材層５６からなる２層構造になっている。
【００２１】上層側の配向材層５２，５６は微小な領域
Ａ，Ｂに相当する微小な部分となるようにパターニング
され、各微小な部分に隣接する開口部分から下層側の配
向材層５０，５４が露出している。微小な部分からなる
上層側の配向材層５２，５４は上基板２２側及び下基板
２４側に交互に設けられる。すなわち、微小な領域Ａに
おいては、下基板２２側の上層側の配向材層５２が上基
板２４側の上層側の配向材層５４と対向し、且つ、微小
な領域Ｂにおいては、上基板２４側の上層側の配向材層
５６は下基板２２側の下層側の配向材層５０と対向する
ようになっている。
Ａ，Ｂに相当する微小な部分となるようにパターニング
され、各微小な部分に隣接する開口部分から下層側の配
向材層５０，５４が露出している。微小な部分からなる
上層側の配向材層５２，５４は上基板２２側及び下基板
２４側に交互に設けられる。すなわち、微小な領域Ａに
おいては、下基板２２側の上層側の配向材層５２が上基
板２４側の上層側の配向材層５４と対向し、且つ、微小
な領域Ｂにおいては、上基板２４側の上層側の配向材層
５６は下基板２２側の下層側の配向材層５０と対向する
ようになっている。
【００２２】配向膜３２，３６は図１に示される手順に
より製造されたものである。図１は配向膜３６について
のみ示しているが、配向膜３２についても同様に適用可
能である。図１においては、（Ａ）に示されるように、
まず下基板２２（上基板２４）を準備する。下基板２２
には画素電極３４及びアクティブマトリクスが設けられ
ている。配向膜３６が２層構造からなるこの実施例で
は、下層側の配向材層５０が下基板２２に塗布されてい
る。次に、下基板２２に配向膜３６の上層側の配向材層
５２を所定のパターンで印刷する。印刷工程は、（Ｂ）
に示されるように、微小な領域Ａ，Ｂに相当する所定の
パターンを有する版１００を使用し、版１００にインキ
盤１０２のインキ（上層側の配向材層５２の材料溶液）
１０４を付け、（Ｃ）に示されるように、版１００を下
基板２２に押しつけることによってインキ１０４を下基
板２２に印刷する。すなわち、（Ｄ）に示されるよう
に、下基板２２の下層側の配向材層５０に上層側の配向
材層５２を印刷する。それから、この配向膜３６をラビ
ングローラ１０６でラビングする。すると、所定のパタ
ーンの上層側の配向材層５２の部分、及びそれから露出
した下層側の配向材層５０の部分に一定の方向にラビン
グが行われる。
より製造されたものである。図１は配向膜３６について
のみ示しているが、配向膜３２についても同様に適用可
能である。図１においては、（Ａ）に示されるように、
まず下基板２２（上基板２４）を準備する。下基板２２
には画素電極３４及びアクティブマトリクスが設けられ
ている。配向膜３６が２層構造からなるこの実施例で
は、下層側の配向材層５０が下基板２２に塗布されてい
る。次に、下基板２２に配向膜３６の上層側の配向材層
５２を所定のパターンで印刷する。印刷工程は、（Ｂ）
に示されるように、微小な領域Ａ，Ｂに相当する所定の
パターンを有する版１００を使用し、版１００にインキ
盤１０２のインキ（上層側の配向材層５２の材料溶液）
１０４を付け、（Ｃ）に示されるように、版１００を下
基板２２に押しつけることによってインキ１０４を下基
板２２に印刷する。すなわち、（Ｄ）に示されるよう
に、下基板２２の下層側の配向材層５０に上層側の配向
材層５２を印刷する。それから、この配向膜３６をラビ
ングローラ１０６でラビングする。すると、所定のパタ
ーンの上層側の配向材層５２の部分、及びそれから露出
した下層側の配向材層５０の部分に一定の方向にラビン
グが行われる。
【００２３】下層側の配向材層５０，５４は例えばＳｉ
Ｏ2 やＴｉＯ2 等の無機系の配向材からなり、上層側の
配向材層５２，５６は例えばイミド化率１００パーセン
トのポリイミド等の有機系の配向材からなる。このよう
に配向材を変えることにより、同じようなラビングを行
った場合に液晶のプレチルトに差ができ、上層側の配向
材層５２，５６に接する液晶のプレチルトが下層側の配
向材層５０，５４に接する液晶のプレチルトよりも大き
くなる。
Ｏ2 やＴｉＯ2 等の無機系の配向材からなり、上層側の
配向材層５２，５６は例えばイミド化率１００パーセン
トのポリイミド等の有機系の配向材からなる。このよう
に配向材を変えることにより、同じようなラビングを行
った場合に液晶のプレチルトに差ができ、上層側の配向
材層５２，５６に接する液晶のプレチルトが下層側の配
向材層５０，５４に接する液晶のプレチルトよりも大き
くなる。
【００２４】図２に示されるように、上層側の配向材層
５２，５６をパターニングした上から全面に一定なラビ
ングを行うと、微小な領域Ａにおいては、上基板２４の
配向膜３２の上層側の配向材層５６の近傍の液晶分子が
プレチルトα1 となり、下基板２４の配向膜３６の下層
側の配向材層５０の近傍の液晶分子がプレチルトα2と
なる。逆に、この領域Ａに隣接する領域Ｂにおいては、
上基板２４の配向膜３２の下層側の配向材層５４の近傍
の液晶分子がプレチルトα2 となり、下基板２２の配向
膜３６の上層側の配向材層５２の近傍の液晶分子がプレ
チルトα1 となるようになっている。ここでα1 ＞α2
の関係がある。
５２，５６をパターニングした上から全面に一定なラビ
ングを行うと、微小な領域Ａにおいては、上基板２４の
配向膜３２の上層側の配向材層５６の近傍の液晶分子が
プレチルトα1 となり、下基板２４の配向膜３６の下層
側の配向材層５０の近傍の液晶分子がプレチルトα2と
なる。逆に、この領域Ａに隣接する領域Ｂにおいては、
上基板２４の配向膜３２の下層側の配向材層５４の近傍
の液晶分子がプレチルトα2 となり、下基板２２の配向
膜３６の上層側の配向材層５２の近傍の液晶分子がプレ
チルトα1 となるようになっている。ここでα1 ＞α2
の関係がある。
【００２５】図６はこの配向処理を簡単に示す図であ
る。微小な領域Ａにおいては、上基板２４の配向膜３２
のラビング方向が矢印ＲU で示され、下基板２２の配向
膜３６のラビング方向が矢印ＲL で示されている。微小
な領域Ａにおいては、上基板２４の配向膜３２の近傍の
液晶の分子が大きい角度α1 でプレチルトし、それに対
向する下基板２２の配向膜３２の近傍の液晶の分子が小
さい角度α2 でプレチルトする。また、微小な領域Ｂに
おいては、下基板２２の配向膜３６の近傍の液晶の分子
が大きい角度α1 でプレチルトし、それに対向する上基
板２４の配向膜３２の近傍の液晶の分子が小さい角度α
2 でプレチルトする。
る。微小な領域Ａにおいては、上基板２４の配向膜３２
のラビング方向が矢印ＲU で示され、下基板２２の配向
膜３６のラビング方向が矢印ＲL で示されている。微小
な領域Ａにおいては、上基板２４の配向膜３２の近傍の
液晶の分子が大きい角度α1 でプレチルトし、それに対
向する下基板２２の配向膜３２の近傍の液晶の分子が小
さい角度α2 でプレチルトする。また、微小な領域Ｂに
おいては、下基板２２の配向膜３６の近傍の液晶の分子
が大きい角度α1 でプレチルトし、それに対向する上基
板２４の配向膜３２の近傍の液晶の分子が小さい角度α
2 でプレチルトする。
【００２６】このように、微小な領域Ａ，Ｂにおいて、
液晶の分子が対向する基板のうちの一方の基板２２（２
４）側では大きい角度α1 でプレチルトし、他方の基板
２４（２２）側では小さい角度α2 でプレチルトしてい
る場合、電圧を印加したときには、液晶層の中間部の液
晶分子は図２の矢印で示されるようにプレチルトの大き
い方向に立ち上がる。
液晶の分子が対向する基板のうちの一方の基板２２（２
４）側では大きい角度α1 でプレチルトし、他方の基板
２４（２２）側では小さい角度α2 でプレチルトしてい
る場合、電圧を印加したときには、液晶層の中間部の液
晶分子は図２の矢印で示されるようにプレチルトの大き
い方向に立ち上がる。
【００２７】従って、微小な領域Ａにおいては、液晶の
立ち上がりは図６の矢印ＲU で示された上基板２４の配
向膜３２の配向処理に従うものとなる。また、微小な領
域Ｂにおいては、液晶の立ち上がりは矢印ＲL で示され
た下基板２２の配向膜３６の配向処理に従うものとな
る。従って、図６の微小な領域Ａの液晶の立ち上がり
は、図５の微小な領域Ａのものと同じである。なぜな
ら、図５の微小な領域Ａの液晶の立ち上がりも矢印ＲU
に従ったものだからである。同様に、図６の微小な領域
Ｂの液晶の立ち上がりは、図５の微小な領域Ｂのものと
同じである。従って、本発明では、図５を参照して説明
したのと同様に液晶の配向状態の異なる微小な領域Ａ，
Ｂを備えた液晶パネル２０を得ることができる。
立ち上がりは図６の矢印ＲU で示された上基板２４の配
向膜３２の配向処理に従うものとなる。また、微小な領
域Ｂにおいては、液晶の立ち上がりは矢印ＲL で示され
た下基板２２の配向膜３６の配向処理に従うものとな
る。従って、図６の微小な領域Ａの液晶の立ち上がり
は、図５の微小な領域Ａのものと同じである。なぜな
ら、図５の微小な領域Ａの液晶の立ち上がりも矢印ＲU
に従ったものだからである。同様に、図６の微小な領域
Ｂの液晶の立ち上がりは、図５の微小な領域Ｂのものと
同じである。従って、本発明では、図５を参照して説明
したのと同様に液晶の配向状態の異なる微小な領域Ａ，
Ｂを備えた液晶パネル２０を得ることができる。
【００２８】ただし、図６で、プレチルトα2 を示すラ
ビング方向は、図５のものとは逆になっている。しか
し、図６の配向処理によれば、１基板についてラビング
が１回でよいので、ラビングを２回行うものよりも配向
状態がより安定することが分かっている。さらに、配向
膜３６のパターニングを図１の手順に従って行うと、例
えば図７及び図８を参照して説明した従来技術のように
フォトリソグラフィを使用する必要がないので、製造が
容易であり、コストが低減される。
ビング方向は、図５のものとは逆になっている。しか
し、図６の配向処理によれば、１基板についてラビング
が１回でよいので、ラビングを２回行うものよりも配向
状態がより安定することが分かっている。さらに、配向
膜３６のパターニングを図１の手順に従って行うと、例
えば図７及び図８を参照して説明した従来技術のように
フォトリソグラフィを使用する必要がないので、製造が
容易であり、コストが低減される。
【００２９】以上は凸版印刷法を例として説明したが、
その他の印刷法、例えばオフセット印刷法、グラビア印
刷法、スクリーン印刷法、凹版印刷法、等を採用するこ
ともできる。図９は本発明の別の実施例を示す図であ
る。この実施例でも、下基板２２側の配向膜３６は２層
構造からなり、すなわち下層側の配向材層５０と上層側
の配向材層５２からなる。さらに、上層側の配向材層５
２は感光性のポリイミドからなる。上基板２４側の配向
膜３２は示されていないが、下基板２２側の配向膜３６
と同様の構成を有する。
その他の印刷法、例えばオフセット印刷法、グラビア印
刷法、スクリーン印刷法、凹版印刷法、等を採用するこ
ともできる。図９は本発明の別の実施例を示す図であ
る。この実施例でも、下基板２２側の配向膜３６は２層
構造からなり、すなわち下層側の配向材層５０と上層側
の配向材層５２からなる。さらに、上層側の配向材層５
２は感光性のポリイミドからなる。上基板２４側の配向
膜３２は示されていないが、下基板２２側の配向膜３６
と同様の構成を有する。
【００３０】（Ａ）に示されるように、下基板２２に配
向膜３６となる下層側の配向材層５０及び上層側の配向
材層５２の材料５２ａを塗布する。そこで、上層側の配
向材層５２の材料５２ａ所定のパターンのマスク１１０
を介して露光する。そして、上層側の配向材層５２の材
料５２ａの感光部分あるいは未感光部分を除去すると、
（Ｂ）に示されるように所定のパターンの上層側の配向
材層５２が形成される。そこで、矢印Ｘで示されるよう
にラビングする。この方法においても、従来技術のよう
にフォトリソグラフィを使用する必要がないので、製造
が容易であり、コストが低減される。
向膜３６となる下層側の配向材層５０及び上層側の配向
材層５２の材料５２ａを塗布する。そこで、上層側の配
向材層５２の材料５２ａ所定のパターンのマスク１１０
を介して露光する。そして、上層側の配向材層５２の材
料５２ａの感光部分あるいは未感光部分を除去すると、
（Ｂ）に示されるように所定のパターンの上層側の配向
材層５２が形成される。そこで、矢印Ｘで示されるよう
にラビングする。この方法においても、従来技術のよう
にフォトリソグラフィを使用する必要がないので、製造
が容易であり、コストが低減される。
【００３１】図１０から図１２は本発明の別の実施例を
示す図であり、下基板２２及び上基板２４の配向膜３
６，３２となる配向材材料を所定のパターンに従って細
い線状に塗布する実施例である。この場合にも、パター
ニングされた配向膜３６，３２にラビングする。図１０
では、配向膜３６の上層側の配向材層５２の材料がディ
スペンサ１２０に注入されており、ディスペンサ１２０
は針状のノズル１２２を有している。ディスペンサ１２
０に空気圧を加えると、上層側の配向材層５２の材料が
線状に押し出され、下基板２２の下層側の配向材層５０
の上に上層側の配向材層５２として付着する。なお、上
層側の配向材層５２の幅は１画素の半分位であり、例え
ば約３００μｍ位である。
示す図であり、下基板２２及び上基板２４の配向膜３
６，３２となる配向材材料を所定のパターンに従って細
い線状に塗布する実施例である。この場合にも、パター
ニングされた配向膜３６，３２にラビングする。図１０
では、配向膜３６の上層側の配向材層５２の材料がディ
スペンサ１２０に注入されており、ディスペンサ１２０
は針状のノズル１２２を有している。ディスペンサ１２
０に空気圧を加えると、上層側の配向材層５２の材料が
線状に押し出され、下基板２２の下層側の配向材層５０
の上に上層側の配向材層５２として付着する。なお、上
層側の配向材層５２の幅は１画素の半分位であり、例え
ば約３００μｍ位である。
【００３２】図１１では、配向膜３６の上層側の配向材
層５２の材料がディスペンサ１２４に注入されており、
ディスペンサ１２０は複数の吐出口を備えたノズル１２
６を有している。ディスペンサ１２０に空気圧を加える
と、上層側の配向材層５２の材料が平行な線状に押し出
され、下基板２２の下層側の配向材層５０の上に上層側
の配向材層５２として付着する。
層５２の材料がディスペンサ１２４に注入されており、
ディスペンサ１２０は複数の吐出口を備えたノズル１２
６を有している。ディスペンサ１２０に空気圧を加える
と、上層側の配向材層５２の材料が平行な線状に押し出
され、下基板２２の下層側の配向材層５０の上に上層側
の配向材層５２として付着する。
【００３３】図１２では、配向膜３６の上層側の配向材
層５２の材料を線状に吐出する手段としてインクジェッ
トを応用した吐出装置１２８が使用される例を示してい
る。
層５２の材料を線状に吐出する手段としてインクジェッ
トを応用した吐出装置１２８が使用される例を示してい
る。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微小な領域毎に液晶の配向状態が異なるようにするとと
もに、配向膜の微小な領域に相当するパターンをフォト
リソを使用することなく形成することができ、工程が容
易になり、コスト低減を達成できる。
微小な領域毎に液晶の配向状態が異なるようにするとと
もに、配向膜の微小な領域に相当するパターンをフォト
リソを使用することなく形成することができ、工程が容
易になり、コスト低減を達成できる。
【図１】本発明の製造方法の手順を示す図である。
【図２】本発明の実施例の液晶パネルを示す図である。
【図３】アクティブマトリクスを示す図である。
【図４】薄膜トランジスタの部分を示す図である。
【図５】液晶の配向状態の異なる微小な領域を示す図で
ある。
ある。
【図６】液晶の配向状態の異なる微小な領域の他の例を
示す図である。
示す図である。
【図７】従来の方法を示す図である。
【図８】従来の他の方法を示す図である。
【図９】本発明の第２実施例を示す図である。
【図１０】本発明の第３実施例を示す図である。
【図１１】本発明の第４実施例を示す図である。
【図１２】本発明の第５実施例を示す図である。
２２，２４…基板 ２６…液晶 ３０…共通電極 ３２，３６…配向膜 ３４…画素電極 ５０，５４…下層側の配向材層 ５２，５６…上層側の配向材層 １００…版 １０６…ラビングローラ １１０，１２０…ディスペンサ １０６…ラビングローラ １２４…吐出装置
フロントページの続き (72)発明者 古川 訓朗 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 第１及び第２の対向する基板（２２，２
４）の間に挿入された液晶（２６）と、該第１の基板に
設けられた配向膜（３６）と、該第２の基板に設けられ
た配向膜（３２）とからなり、該第１の基板の配向膜
（３６）及び該第２の基板の配向膜（３２）が微小な領
域毎に液晶の配向状態が異なるように配向処理されてい
る液晶パネルの製造方法であって、 該第１の基板（２２）及び該第２の基板（２４）を準備
し、該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜（３
６，３２）を所定のパターンで印刷し、該配向膜（３
６，３２）をラビングすることを特徴とする液晶パネル
の製造方法。 - 【請求項２】 該第１の基板の配向膜（３６）及び該第
２の基板の配向膜（３２）がそれぞれ下層側の配向材料
（５０，５４）と該下層側の配向材料を覆う上層側の配
向材料（５２，５６）とからなる液晶パネルの製造方法
であって、 該第１の基板及び該第２の基板の各々に下層側の配向材
層（５０，５４）となる配向材材料を塗布し、該下層側
の配向材層（５０，５４）の上に上層側の配向材層（５
２，５６）となる配向材材料を印刷することを特徴とす
る請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項３】 第１及び第２の対向する基板（２２，２
４）の間に挿入された液晶（２６）と、該第１の基板に
設けられた配向膜（３６）と、該第２の基板に設けられ
た配向膜（３２）とからなり、該第１の基板の配向膜
（３６）及び該第２の基板の配向膜（３２）が微小な領
域毎に液晶の配向状態が異なるように配向処理されてい
る液晶パネルの製造方法であって、 該第１の基板（２２）及び該第２の基板（２４）を準備
し、該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜（３
６，３２）となる感光性の配向材材料を塗布し、該配向
材材料を所定のパターンのマスクを介して露光し、該配
向材材料の感光部分あるいは未感光部分を除去し、該配
向膜をラビングすることを特徴とする液晶パネルの製造
方法。 - 【請求項４】 第１及び第２の対向する基板（２２，２
４）の間に挿入された液晶（２６）と、該第１の基板に
設けられた配向膜（３６）と、該第２の基板に設けられ
た配向膜（３２）とからなり、該第１の基板の配向膜
（３６）及び該第２の基板の配向膜（３２）が微小な領
域毎に液晶の配向状態が異なるように配向処理されてい
る液晶パネルの製造方法であって、 該第１の基板（２２）及び該第２の基板（２４）を準備
し、該第１の基板及び該第２の基板の各々に配向膜（３
６，３２）となる配向材材料を所定のパターンに従って
細い線状に塗布し、該配向膜をラビングすることを特徴
とする液晶パネルの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23368992A JPH0682784A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 液晶パネルの製造方法 |
| US08/593,380 US5796458A (en) | 1992-09-01 | 1996-01-29 | Element division liquid crystal display device and its manufacturing method |
| US08/667,365 US5629056A (en) | 1992-09-01 | 1996-06-21 | Liquid crystal display panel and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23368992A JPH0682784A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0682784A true JPH0682784A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=16959002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23368992A Pending JPH0682784A (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682784A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6141077A (en) * | 1993-07-27 | 2000-10-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including pixel electrode(s) designed to improve viewing characteristics |
| KR100279365B1 (ko) * | 1994-04-22 | 2001-01-15 | 구본준 | 티엔액정표시장치의제조방법 |
| KR100474131B1 (ko) * | 1995-10-19 | 2005-06-08 | 롤리크 아게 | 광학부재및이의제조방법 |
| JP2009524097A (ja) * | 2006-01-18 | 2009-06-25 | インダストリー−ユニバーシティ・コーペレーション・ファウンデーション・ハンヤン・ユニバーシティ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US8139374B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-03-20 | Kyocera Corporation | Electronic device having electrically connecting structure |
-
1992
- 1992-09-01 JP JP23368992A patent/JPH0682784A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6141077A (en) * | 1993-07-27 | 2000-10-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including pixel electrode(s) designed to improve viewing characteristics |
| US6342939B1 (en) | 1993-07-27 | 2002-01-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including pixel electrode (S) designed to improve viewing characteristics |
| KR100279365B1 (ko) * | 1994-04-22 | 2001-01-15 | 구본준 | 티엔액정표시장치의제조방법 |
| KR100474131B1 (ko) * | 1995-10-19 | 2005-06-08 | 롤리크 아게 | 광학부재및이의제조방법 |
| JP2009524097A (ja) * | 2006-01-18 | 2009-06-25 | インダストリー−ユニバーシティ・コーペレーション・ファウンデーション・ハンヤン・ユニバーシティ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US8139374B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-03-20 | Kyocera Corporation | Electronic device having electrically connecting structure |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000606 |