JPH0683066A - 感光製版用フォトレジストカバーフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 二軸延伸ポリオレフィンフイルム（Ａ層）の
少なくとも片面に、粗面層（Ｂ層）を積層してなる積層
フイルムからなる感光製版用フォトレジストカバーフイ
ルムであって、該粗面層（Ｂ層）は１μｍ以上の粗さ密
度ＰＣ１が１０個／ｍｍ以上であり、該積層フイルム
は、複屈折率が０．００２〜０．０１０の範囲で、トー
タルヘイズが１０％以上で、ゲルおよびフィッシュアイ
が５個／１００ｍｍ² 以下とする。 【効果】 粗面で柔軟で平面性が良く、ゲルやフィッシ
ュアイなどの異物突起が少なく、フォトレジストからの
剥離性に優れ、またフォトレジストの保護性にも優れた
フイルムが得られた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感光製版用フォトレジ
ストカバーフイルムに関する。更に詳しくは、柔軟で、
粗面で平面性に優れ、フォトレジストとの適度な粘着性
と剥離性を有した感光製版用フォトレジストカバーフイ
ルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、感光製版用フォトレジストカバー
フイルムとして、ポリエチレンやポリプロピレンフイル
ムが用いられている（特開平１−１７９１５４号）。

【０００３】カバーフイルムとしては、厚みむらが小さ
くて平面性が良く、かつ異物突起（ゲルやフィッシュア
イ）の少ないものが好ましい。しかも、柔軟で、フォト
レジストからの剥離性が良いことが必要である。さらに
ドライフイルムフォトレジスト（以下ＤＦＲと略称す
る）は、基材のポリエステルフイルムにフォトレジスト
を塗布し、カバーフイルムを貼ってロール状に長巻する
ため、巻芯部のフォトレジストが酸欠状態となり自己架
橋するという問題があり、また最近ＤＦＲの長尺化の要
求があることから、カバーフイルムとしては、粗面で薄
膜化の要求がある。

【０００４】また、離型性の改良を目的としてポリプロ
ピレンの表層にポリメチルペンテンおよび他のオレフィ
ンとの共重合体樹脂を積層したフイルムが知られている
（特公昭５７−４４４６５号、特公平０３−７１９７５
号等）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のポリエチレンフイルムは、厚みむらが大きくて平面
性が悪く、またゲル状の異物突起が多いという欠点を有
しており、さらにＤＦＲカバーフイルムとして必要な、
粗面で薄いフイルムを作ることは非常に困難である。他
方、ポリプロピレンフイルムは、粗面で薄いフイルムを
作ることは容易であるが、腰が強過ぎてフォトレジスト
からの剥離性が悪く、剥離する際にフォトレジストにさ
ざ波状の傷がつきやすいという欠点を有している。

【０００６】また、離型性の改良を目的としてポリプロ
ピレンの表層にポリメチルペンテンおよび他のオレフィ
ンとの共重合体樹脂を積層したフイルムは、腰が強過ぎ
てフォトレジストからの剥離性が悪く、フォトレジスト
から剥離する際にフォトレジストにさざ波状の傷がつ
き、また、該ポリプロピレンの表層にポリメチルペンテ
ンおよび他のオレフィンとの共重合体樹脂を積層したフ
イルムは、ポリプロピレンとポリメチルペンテンとの相
溶性が悪いために、回収工程においてフィッシュアイが
多発するという問題がある。

【０００７】本発明の目的は、粗面で厚みむらが小さく
て平面性が良く、異物突起（ゲルやフィッシュアイ）が
少なく、フォトレジストからの剥離性が良好な感光製版
用フォトレジストカバーフイルムを提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
感光製版用フォトレジストカバーフイルムは、二軸延伸
ポリオレフィンフイルム（Ａ層）の少なくとも片面に、
粗面層（Ｂ層）を積層してなる積層フイルムからなり、
該粗面層（Ｂ層）は１μｍ以上の粗さ密度ＰＣ１が１０
個／ｍｍ以上であり、該積層フイルムは、複屈折率が
０．００２〜０．０１０の範囲で、トータルヘイズが１
０％以上で、ゲルおよびフィッシュアイが５個／１００
ｍｍ² 以下であることを特徴とするものからなる。

【０００９】本発明の二軸延伸ポリオレフィンフイルム
（Ａ層）においては、エチレン−プロピレン共重合体、
エチレン−プロピレン−ブテン共重合体、プロピレン−
ブテン共重合体から選ばれた少なくとも１種以上の樹脂
である。これらの共重合体にフィルム特性を悪化させな
い程度にポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンな
どのポリオレフィン樹脂をさらに混合させてもよい。こ
の中でもエチレン−プロピレン−ブテン共重合体とポリ
エチレンとを混合したものがさらに好ましい。エチレン
−プロピレン−ブテン共重合体のエチレン含有量は０．
５〜１０重量％、ブテン含有量は０．２〜２０重量％が
ゲル状物の発生がなくて好ましく、また複屈折率を特定
の範囲にするのに好ましい。ポリエチレンは、中密度、
低密度、または直鎖状低密度のものを２〜５０重量％混
合したものが柔軟性がでて好ましい。なお、該二軸延伸
ポリオレフィンフイルムには、結晶核剤、酸化防止剤、
熱安定剤、滑り剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤などが、
剥離性および光学特性を悪化させない範囲で含有させて
いてもよい。

【００１０】該二軸延伸ポリオレフィンフイルム（Ａ
層）の複屈折率は、０．００２〜０．０１０の範囲であ
ることが好ましい。複屈折率が０．００２以下では平面
性が悪く、０．０１０を超えると腰が強くなり過ぎて、
フォトレジストからの剥離性が悪く、フォトレジストか
ら剥離する際にフォトレジストにさざ波状の傷がつきや
すくなるので好ましくない。

【００１１】また、該二軸延伸ポリオレフィンフイルム
（Ａ層）の平均表面粗さＲａは、０．０５μｍ以上であ
ることが好ましい。平均表面粗さＲａが０．０５未満で
は、ＤＦＲ用のカバーフイルムとして用いた場合、基材
のポリエステルフイルムとカバーフイルムが密着して、
ポリエステルフイルムとカバーフイルムとの間に空気層
がなく、巻芯部のフォトレジストが酸欠状態となり自己
架橋するのを防止することができない。

【００１２】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムは、該二軸延伸ポリオレフィンフイルム（Ａ
層）の少なくとも片面に、粗面層（Ｂ層）を積層してな
る積層フイルムである。好ましくは、両面に該粗面層
（Ｂ層）を積層した３層積層フイルムとすることによ
り、基材のポリエステルフイルムにフォトレジストを塗
布し、カバーフイルムを貼ってロール状に長巻するＤＦ
Ｒにおいて、フォトレジストとカバーフイルムおよび基
材のポリエステルフイルムとカバーフイルムとの間に形
成される微小空間に入り込んだ空気層により、巻芯部の
フォトレジストが酸欠状態となり、自己架橋するのを防
止することができる。

【００１３】該粗面層（Ｂ層）は、１μｍ以上、好まし
くは２〜５μｍの粗さ密度ＰＣ１が１０個／ｍｍ以上で
ある必要がある。１μｍ以上の粗さ密度ＰＣ１が１０個
／ｍｍ以上であることにより、フォトレジストから剥離
する際に剥離むらがなくスムーズに剥離でき、フォトレ
ジストを傷つけることがない。１μｍ以上の粗さ密度Ｐ
Ｃ１が１０個／ｍｍ未満の場合には、フォトレジストと
の接着力が強くなって剥離性が悪化し、フォトレジスト
にさざ波状の傷をつけるので好ましくない。

【００１４】また、ＤＦＲ用のカバーフイルムとして用
いた場合に、１μｍ以上の粗さ密度ＰＣ１が１０個／ｍ
ｍ未満では、巻芯部のフォトレジストが酸欠状態となり
好ましくない。

【００１５】本発明の該粗面層（Ｂ層）の樹脂組成は、
低密度ポリエチレンまたは直鎖状低密度ポリエチレン
と、エチレン−プロピレンブロック共重合体樹脂の混合
物である。混合量は、低密度ポリエチレンまたは直鎖状
低密度ポリエチレン５０〜９０重量％で、エチレン−プ
ロピレンブロック共重合体が１０〜５０重量％であるこ
とが、表層が１μｍの粗さ密度ＰＣ１が１０個／ｍｍ以
上となるために好ましい。１μｍの粗さ密度ＰＣ１が１
０個／ｍｍ以上とするには、該混合物を溶融混合して押
出する際に、球晶を成長させながら徐々に冷却固化し、
低密度ポリエチレンまたは直鎖状低密度ポリエチレンの
融点以上のの延伸温度で延伸して得る。

【００１６】該粗面層（Ｂ層）の濡れ張力は、３５ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ以下であることが好ましい。濡れ張力が３５
ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、フォトレジストとの接着力
が強くなって剥離性が悪化し、フォトレジストにさざ波
状の傷をつけるので好ましくない。

【００１７】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムの複屈折率は、０．００２〜０．０１０の範囲
であることが必要である。複屈折率が０．００２以下で
は平面性が悪く、０．０１０を超えると腰が強くなり過
ぎて、フォトレジストからの剥離性が悪く、フォトレジ
ストから剥離する際にフォトレジストにさざ波状の傷が
つきやすくなるので好ましくない。

【００１８】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムは、フイルム１枚のトータルヘイズが１０％以
上、好ましくは２０％〜６０％の範囲が好ましい。トー
タルヘイズが１０％未満では、ＤＦＲの表層部のフォト
レジストが紫外線により感光劣化するので好ましくな
い。

【００１９】また本発明の感光製版用フォトレジストカ
バーフイルムの、ゲルおよびフィッシュアイが５個／１
００ｍｍ² 以下であることが必要である。ゲルおよびフ
ィッシュアイが５個／１００ｍｍ² 以上では、フォトレ
ジストと貼り合わす際に大きな空気のかみ込みができ、
ＤＦＲとしたときに外観上の欠点となる。

【００２０】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムは、長手方向と幅方向のヤング率の和が１５０
ｋｇ／ｍｍ² 以下であることが好ましい。１５０ｋｇ／
ｍｍ² を超えると、腰が強くなり過ぎて、フォトレジス
トからの剥離性が悪化し、フォトレジストにさざ波状の
傷をつけるので好ましくない。ヤング率の下限は特に限
定されないが、カバーフイルムとして加工できる腰の強
さが必要で、５０〜１００ｋｇ／ｍｍ² の範囲が好まし
い。

【００２１】該Ａ層と粗面層（Ｂ層）の２層積層フイル
ムとした場合には、粗面層（Ｂ層）がフォトレジスト側
になるように貼ることによって、フォトレジストとカバ
ーフイルムとの間に形成される微小空間に入り込んだ空
気層により、巻芯部のフォトレジストが酸欠状態とな
り、自己架橋するのを防止することができる。またフォ
トレジストに貼る際に大きな空気のかみ込みによる外観
的な欠点が起こらない。

【００２２】また、該Ａ層の片面を該Ｂ層とし、該Ａ層
のもう一方の面に有機の球状粒子を添加したポリオレフ
ィン層（Ｃ層）を積層したＣ層／Ａ層／Ｂ層の３層積層
フイルムとしてもよい。

【００２３】該ポリオレフィン層（Ｃ層）は、エチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン
共重合体、プロピレン−ブテン共重合体から選ばれた少
なくとも１種以上の樹脂である。

【００２４】該ポリオレフィン層（Ｃ層）に添加される
有機の球状粒子は、架橋シリコン、架橋ポリスチレン、
架橋ポリメチルメタクリレートなどである。該有機の球
状粒子の粒径は、１μｍから６μｍの範囲が好ましい。
また、添加量はフイルムのトータルヘイズを悪化させな
いために、０．１〜２％の範囲が好ましい。

【００２５】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムの厚みは、特に限定されるものではないが、５
〜５０μｍが好ましく、１０〜２０μｍがＤＦＲの長尺
化の要望に対してより好ましい。粗面層（Ｂ層）および
粒子添加層（Ｃ層）の積層厚みは、特に限定されるもの
ではないが、０．２〜５μｍが好ましく、剥離性、光学
特性およびゲルやフィッシュを考慮すれば０．５〜３μ
ｍがより好ましい。

【００２６】本発明の感光製版用フォトレジストカバー
フイルムの片面または両面に、剥離性が悪化しない範囲
で、空気中または窒素、炭酸ガスの雰囲気中でのコロナ
放電処理を施してもよい。このコロナ放電処理は、フォ
トレジストとの接着性が小さすぎたり、ＤＦＲとすると
きに巻姿が悪化するなどの取扱い上問題になる場合等に
実施される。このコロナ放電処理によって、剥離性の程
度を適切な状態に調節することが可能である。

【００２７】次に本発明の感光製版用フォトレジストカ
バーフイルムの製造方法について述べるが、必ずしもこ
れに限定されるものではない。

【００２８】Ａ層の原料組成として、エチレン含有量が
３重量％、ブテン含有量が５重量％のエチレン−プロピ
レン−ブテン共重合体７５重量％と、直鎖状低密度ポリ
エチレン２５重量％の混合樹脂を第１押出機に供給す
る。一方、粗面層（Ｂ層）の原料組成として、直鎖状低
密度ポリエチレン７５重量％と、エチレン含有量が２０
重量％のエチレン−プロピレンブロック共重合体２５重
量％の混合樹脂を第２押出機に供給する。両押出機から
の溶融樹脂を１つの口金内で積層して共押出する。次い
で、冷却ドラム上で冷却固化させることにより積層フイ
ルムを得る。得られた積層フイルムを、１００〜１４０
℃の延伸温度で長手方向に３〜７倍延伸し、引き続き幅
方向に１２０〜１５０℃の延伸温度で幅方向に５〜１５
倍延伸し、次いで幅方向に数％の弛緩を与えつつ、１３
０〜１５０℃の温度で熱固定をし、縁部を切除した後巻
取る。

【００２９】Ｂ層の積層は、上記共押出に限定されるも
のではなく、一軸延伸前、または二軸延伸前などいずれ
でもよい。また二軸延伸の方法は任意の公知の方法、例
えば同時二軸延伸、逐次二軸延伸、チュ−ブラ延伸など
を用いることができるが、平面性からみると逐次二軸延
伸が好ましい。

【００３０】また、球状粒子を添加したＣ層の積層は、
３層口金を用いてＣ層／Ａ層／Ｂ層に積層して共押出す
るか、または上記Ｂ層の積層と同様にして積層する。

【００３１】以上のようにして得られた本発明のフイル
ムの表面に、必要に応じて空気、窒素ガス、炭酸ガスな
どの雰囲気中でコロナ放電処理あるいはプラズマ処理を
施す。

【００３２】次に、本発明のフイルムを、ＤＦＲの感光
製版用フォトレジストカバーフイルムとして用いる場合
には、まずロール状に巻かれた基材を引き出しながら、
その表面に塗布装置を用いてフォトレジストを塗布す
る。そして塗布し乾燥したフォトレジストを覆うように
本発明のフイルムをロール圧着して、ロール状に長巻す
る。その後、感光製版が使用される場合には、カバーフ
イルムをフォトレジストから剥離しながら基盤にフォト
レジストを接着させる。このとき、本発明の感光製版用
フォトレジストカバーフイルムは、フォトレジストから
の剥離性が良好で、フォトレジスト表面にさざ波状の傷
がつかない。また、ロール状に長巻したＤＦＲの空気流
通性がよく、表層部と巻芯部のフォトレジストの品質差
がない。

【００３３】

【特性の測定方法並びに効果の評価方法】本発明の特性
値の測定方法、並びに効果の評価方法は次のとおりであ
る。

【００３４】（１）複屈折率 Ａｂｂｅの屈折計に、マウント液としてサリチル酸メチ
ルを用い、フイルムの長手方向の屈折率ｎｘと幅方向の
屈折率ｎｙを測定し、ｎｘとｎｙの差により求めた。

【００３５】（２）粗さ密度ＰＣ１および表面粗さＲａ ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９７６に記載されているよう
に、触針式表面粗さ計を用いて測定した。なお、カット
オフは０．２５ｍｍ、測定長は５ｍｍとした。

【００３６】（３）トータルヘイズ ＪＩＳ Ｋ ６７１４に準じて測定した。

【００３７】（４）ゲルおよびフィッシュアイ フイルム１００ｍｍ² あたりの個数で表す。 ○：５個未満 △：５個以上１０個未満 ×：１０個以上

【００３８】（５）剥離性 試料を２５℃のイエローランプ下でフォトレジストにラ
ミネートし、２５ｍｍ幅に切断する。その後、テンシロ
ンにおいて９０°剥離し、接着力、剥離音および試料剥
離後のフォトレジスト表面状態から判定する。 ○：剥離がスムーズで剥離音がなく、試料剥離後のフォ
トレジスト表面状態にさざ波状の傷がないもの。 ×：接着力が強くて剥離音があり、試料剥離後のフォト
レジスト表面状態にさざ波状の傷がつくもの。

【００３９】（６）ヤング率 試料を、１０ｍｍ幅の短冊状に切断し、測定長を５０ｍ
ｍとする。テンシロンにより、引張り速度２０ｍｍ／ｍ
ｉｎ、チャート速度５００ｍｍ／ｍｉｎで立ち上がり曲
線をチャート紙に記録させる。基点から立ち上がり曲線
に接線を引いた後、基点より２５ｍｍの点で垂線を引
き、接線と垂線の交点を強力として読み取る。そして、
ヤング率（ｋｇ／ｍｍ² ）を、次式により算出する。 ヤング率（ｋｇ／ｍｍ² ）＝［強力（ｋｇ）×試長（ｍ
ｍ）×チャート速度（ｍｍ／ｍｉｎ）］÷［引張り速度
（ｍｍ／ｍｉｎ）×２５ｍｍ×フイルム厚み（ｍｍ）×
フイルム幅（ｍｍ）］

【００４０】（７）平面性 ダイヤルゲージを用い、厚みムラを測定する。 ○：平均厚みの±１０％未満 ×：平均厚みの±１０％以上

【００４１】（８）濡れ張力 ＡＳＴＭ Ｄ ２５７８ ６７Ｔに従い、２０℃、６５
％雰囲気下にて測定した。

【００４２】（９）ＤＦＲの外観 基材のポリエステルフイルムにフォトレジストを塗布
し、カバーフイルムを貼りあわせてＤＦＲとし、ロール
状に５００ｍ巻いたときの外観をみて評価した。

【００４３】 ○：大きな空気のかみ込みがなくて、外観が良い。 ×：大きな空気のかみ込みが点在して、外観状の欠点が
みられる。

【００４４】（１０）ＤＦＲのフォトレジストの自己架
橋状態 ＤＦＲとして５００ｍ巻取って２５℃イエローランプ下
に６ヶ月放置後、ＤＦＲの表層部と巻芯部のフォトレジ
スト自己架橋状態をみた。 ○：ＤＦＲの表層部と巻芯部のフォトレジストに自己架
橋がなかった。 ×：ＤＦＲの表層部または巻芯部のフォトレジストが一
部架橋していた。

【００４５】

【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明す
る。

【００４６】実施例１ Ａ層の原料組成として、エチレン含有量が２．５重量
％、ブテン含有量が４．５重量％のエチレン−プロピレ
ン−ブテン共重合体７５重量％と、直鎖状低密度ポリエ
チレン２５重量％の混合樹脂を第１押出機に供給した。
一方、粗面層（Ｂ層）の原料組成として、直鎖状低密度
ポリエチレン７５重量％と、エチレン含有量が２０重量
％のエチレン−プロピレンブロック共重合体２５重量％
の混合樹脂を第２押出機に供給した。両押出機からの溶
融樹脂を１つの口金内でＢ層／Ａ層／Ｂ層の３層に積層
して共押出した。次いで、４０℃の冷却ドラム上で冷却
固化させ積層フイルムを得た。得られた積層フイルム
を、１００℃で予熱して１２０℃の延伸温度で長手方向
に５倍延伸し、引き続き幅方向に１３５℃の延伸温度で
幅方向に１０倍延伸し、次いで幅方向に５％の弛緩を与
えつつ、１４５℃の温度で熱固定をし、縁部を切除した
後巻取った。得られたフイルムの厚み構成は、１μｍ／
１３μｍ／１μｍであった。

【００４７】かくして得られた本発明のフイルムを、Ｄ
ＦＲの感光製版用フォトレジストカバーフイルムとして
評価するため、基材のポリエステルフイルムに塗布して
乾燥したフォトレジスト層（エポキシ基を有するモノマ
ー、オリゴマーまたはポリマーとジアゾニウム塩との組
合わせからなるもの）に、２０℃のイエローランプ下で
常温にてロール圧着してロール状に長巻した。

【００４８】そして、フイルム品質特性と感光製版用フ
ォトレジストカバーフイルムとしての評価を行なった結
果を、第１表に示した。表から明らかなように本発明の
フイルムは、粗面で厚みむらが小さくて平面性が良く、
ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少なく、フォト
レジストからの剥離性に優れたものであった。また、Ｄ
ＦＲの空気流通性が良くて巻芯部のフォトレジストの酸
欠による自己架橋がなかった。

【００４９】実施例２ Ａ層の原料組成として、エチレン含有量が４．５重量
％、のエチレン−プロピレンランダム共重合体７５重量
％と、低密度ポリエチレン２５重量％の混合樹脂を第１
押出機に供給した。一方、粗面層（Ｂ層）の原料とし
て、低密度ポリエチレン７５重量％と、エチレン含有量
が２０重量％のエチレン−プロピレンブロック共重合体
２５重量％の混合樹脂を第２押出機に供給した。両押出
機からの溶融樹脂を１つの口金内でＢ層／Ａ層／Ｂ層の
２層に積層して共押出した。次で、４０℃の冷却ドラム
上で冷却固化させ積層フイルムを得た。得られた積層フ
イルムを、１００℃で予熱して１２０℃の延伸温度で長
手方向に５倍延伸し、引き続き幅方向に１３５℃の延伸
温度で幅方向に１０倍延伸し、次いで幅方向に５％の弛
緩を与えつつ、１４５℃の温度で熱固定をし、縁部を切
除した後巻取った。得られたフイルムの厚み構成は、１
μｍ／１４μｍであった。

【００５０】かくして得られた本発明のフイルムの粗面
層（Ｂ層）を、フォトレジスト側になるようにロール圧
着した以外は、実施例１と全く同様にして、フイルム品
質特性と感光製版用フォトレジストカバーフイルムとし
ての評価を行なった結果を第１表に示した。表から明ら
かなように本発明のフイルムは、粗面で厚みむらが小さ
くて平面性が良く、ゲルやフィッシュアイなどの異物突
起が少なく、フォトレジストからの剥離性に優れたもの
であった。また、ＤＦＲの空気流通性が良くて巻芯部の
フォトレジストの酸欠による自己架橋がなかった。

【００５１】実施例３ Ａ層の原料組成として、ブテン含有量が１９重量％、の
プロピレン−ブテン共重合体６０重量％と、直鎖状低密
度ポリエチレン４０重量％の混合樹脂を第１押出機に供
給した。一方、粗面層（Ｂ層）の原料として、直鎖状低
密度ポリエチレン８０重量％と、エチレン含有量が１５
重量％のエチレン−プロピレンブロック共重合体２０重
量％の混合樹脂を第２押出機に供給した。両押出機から
の溶融樹脂を１つの口金内でＢ層／Ａ層／Ｂ層の３層に
積層して共押出した以外は、実施例１と全く同様にし
て、フイルム品質特性と感光製版用フォトレジストカバ
ーフイルムとしての評価を行なった結果を第１表に示し
た。表から明らかなように本発明のフイルムは、粗面で
厚みむらが小さくて平面性が良く、ゲルやフィッシュア
イなどの異物突起が少なく、フォトレジストからの剥離
性に優れたものであった。また、ＤＦＲの空気流通性が
良くて巻芯部のフォトレジストの酸欠による自己架橋が
なかった。

【００５２】実施例４ Ｃ層の原料組成として、粒径２μｍの架橋ポリスチレン
球状粒子を０．３％添加したエチレン含有量が２．５重
量％、ブテン含有量が４．５重量％のエチレン−プロピ
レン−ブテン共重合体樹脂を第３押出機に供給して、実
施例２の長手方向に延伸した一軸延伸フイルムを冷却さ
れたニップロール間に通し、該延伸フイルムのＡ層面と
ロール間に該Ｃ層原料を溶融押出して圧着した後、引き
続き実施例２と同様にして幅方向に延伸して巻取った。
得られたフイルムの厚み構成は、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層が１
μｍ／１３μｍ／１μｍであった。

【００５３】かくして得られた本発明のフイルムを、実
施例１と全く同様にして、フイルム品質特性と感光製版
用フォトレジストカバーフイルムとしての評価を行なっ
た結果を第１表に示した。表から明らかなように本発明
のフイルムは、粗面で厚みむらが小さくて平面性が良
く、ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少なく、フ
ォトレジストからの剥離性に優れたものであった。ま
た、ＤＦＲの空気流通性が良くて巻芯部のフォトレジス
トの酸欠による自己架橋がなかった。

【００５４】比較例１ Ａ層の原料組成として、ブテン含有量が１９重量％のプ
ロピレン−ブテン共重合体の単独樹脂を、第１押出機に
供給して押出した。次で、４０℃の冷却ドラム上で冷却
固化させて単独フイルムを得た。得られた単独フイルム
を、９０℃で予熱して１１０℃の延伸温度で長手方向に
６倍延伸し、引き続き幅方向に１２０℃の延伸温度で幅
方向に１０倍延伸し、次いで幅方向に５％の弛緩を与え
つつ、１３５℃の温度で熱固定をし、縁部を切除した後
巻取った。得られたフイルムの厚み構成は、１５μｍで
あった。

【００５５】かくして得られたフイルムを、実施例１と
全く同様にして、フイルム品質特性と感光製版用フォト
レジストカバーフイルムとしての評価を行なった結果を
第１表に示した。表から明らかなように本発明の範囲を
はずれたフイルムは、フォトレジストに圧着する際に大
きな空気のかみ込みができて外観上の欠点があり、また
フォトレジストからの剥離性に劣ったものであった。ま
た、ＤＦＲの空気流通性が悪くて巻芯部のフォトレジス
トの酸欠による自己架橋があった。

【００５６】比較例２ Ａ層の原料組成として、エチレン含有量が２．５重量
％、ブテン含有量が４．５重量％のエチレン−プロピレ
ン−ブテン共重合体７５重量％と、直鎖状低密度ポリエ
チレン２５重量％の混合樹脂を第１押出機に供給した。
一方、Ｂ層の原料組成として、直鎖状低密度ポリエチレ
ン単独樹脂を第２押出機に供給した以外は、実施例１と
全く同様にして、感光製版用フォトレジストカバーフイ
ルムとしての評価を行なった結果を第１表に示した。表
から明らかなように本発明の範囲をはずれたフイルム
は、フォトレジストに圧着する際に大きな空気のかみ込
みができて外観上の欠点があり、またフォトレジストか
らの剥離性に劣ったものであった。また、ＤＦＲの空気
流通性が悪くて巻芯部のフォトレジストの酸欠による自
己架橋があった。

【００５７】比較例３ Ａ層の原料組成として、ポリプロピレン樹脂を第１押出
機に供給した。一方、Ｂ層の原料組成として、エチレン
含有量が１９重量％のエチレン−プロピレンブロック共
重合体樹脂を第２押出機に供給した。両押出機からの溶
融樹脂を１つの口金内でＢ層／Ａ層／Ｂ層の３層に積層
して共押出した。次いで、４０℃の冷却ドラム上で冷却
固化させ積層フイルムを得た。得られた積層フイルム
を、１２５℃で予熱して１３０℃の延伸温度で長手方向
に５倍延伸し、引き続き幅方向に１６５℃の延伸温度で
幅方向に１０倍延伸し、次いで幅方向に５％の弛緩を与
えつつ、１６５℃の温度で熱固定をし、縁部を切除した
後巻取った。得られたフイルムの厚み構成は、１μｍ／
１３μｍ／１μｍであった。

【００５８】実施例１と全く同様にして、フイルム品質
特性と感光製版用フォトレジストカバーフイルムとして
の評価を行なった結果を第１表に示した。表から明らか
なように本発明の範囲をはずれたフイルムは、フォトレ
ジストからの剥離性に劣ったものであった。

【００５９】比較例４、５ 二軸延伸ポリオレフィンフイルムとして、比較例４では
低密度ポリエチレンを、比較例５では直鎖状低密度ポリ
エチレンを用い、チューブラ法で製膜した。得られたフ
イルムの厚みはそれぞれ２５〜３０μｍであり、厚み変
動が大きくて平面性が悪く、またゲルが多いフイルムで
あった。

【００６０】得られたフイルムを実施例１と全く同様に
して、フイルム品質特性と感光製版用フォトレジストカ
バーフイルムとしての評価を行なった結果を第１表に示
した。表から明らかなように本発明の範囲をはずれたフ
イルムは、フォトレジストに圧着する際に大きな空気の
かみ込みができ、また巻姿が悪くて外観上の欠点があ
り、またフォトレジストからの剥離性に劣ったものであ
った。またＤＦＲの空気流通性が悪くて巻芯部のフォト
レジストの酸欠による自己架橋があった。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の感光製版用
フォトレジストカバーフイルムは、複屈折率を特定の範
囲とした二軸延伸ポリオレフィンフイルム（Ａ層）の少
なくとも片面に、特定の粗面層（Ｂ層）を積層してなる
積層フイルムでにおいて、該積層フイルムのトータルヘ
イズと、ゲルおよびフィッシュアイを適正化したフイル
ムであって、次のような優れた効果を生じるものであ
る。

【００６３】（１）厚みむらが小さくて平面性がよく、
ゲルやフィッシュアイなどの突起異物、が少なくて、Ｄ
ＦＲとしたときの外観がよい。

【００６４】（２）柔軟で、フォトレジストからの剥離
性に優れている。

【００６５】（３）フォトレジストに貼り合わす面を特
定の粗面層としたことにより、ロール圧着時の大きな空
気のかみ込みがなく、工程安定性に優れ、ＤＦＲとした
ときの外観がよい。

【００６６】（４）また特定の粗面層としたことによ
り、ＤＦＲとしたときの空気流通性がよく、巻芯部のフ
ォトレジストが酸欠で自己架橋することがない。

【００６７】（５）フイルムヘイズが高いことから、Ｄ
ＦＲとしたときの表層部が紫外線で架橋するのを防止す
る。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 二軸延伸ポリオレフィンフイルム（Ａ
   層）の少なくとも片面に、粗面層（Ｂ層）を積層してな
   る積層フイルムからなり、該粗面層（Ｂ層）は１μｍ以
   上の粗さ密度ＰＣ１が１０個／ｍｍ以上であり、該積層
   フイルムは、複屈折率が０．００２〜０．０１０の範囲
   で、トータルヘイズが１０％以上で、ゲルおよびフィッ
   シュアイが５個／１００ｍｍ² 以下であることを特徴と
   する感光製版用フォトレジストカバーフイルム。
2. 【請求項２】 前記二軸延伸ポリオレフィンフイルム
   （Ａ層）が、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン
   −プロピレン−ブテン共重合体、プロピレン−ブテン共
   重合体樹脂から選ばれた少なくとも１種以上の樹脂から
   なることを特徴とする請求項１に記載の感光製版用フォ
   トレジストカバーフイルム。
3. 【請求項３】 前記粗面層（Ｂ層）が、低密度ポリエチ
   レンまたは直鎖状低密度ポリエチレンと、エチレン−プ
   ロピレンブロック共重合体樹脂の混合物からなることを
   特徴とする請求項１または２に記載の感光製版用フォト
   レジストカバーフイルム。