JPH0684477B2 - オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
オルガノポリシロキサン組成物Info
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- JPH0684477B2 JPH0684477B2 JP63208889A JP20888988A JPH0684477B2 JP H0684477 B2 JPH0684477 B2 JP H0684477B2 JP 63208889 A JP63208889 A JP 63208889A JP 20888988 A JP20888988 A JP 20888988A JP H0684477 B2 JPH0684477 B2 JP H0684477B2
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- organopolysiloxane
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- sio
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
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- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はオルガノポリシロキサン組成物、特にはオルガ
ノポリシロキサンに配合される疎水性シリカの物性を改
良することによって、離型性の良好なシリコーンゴム成
形品を得るのに好適とされるオルガノポリシロキサン組
成物に関するものである。
ノポリシロキサンに配合される疎水性シリカの物性を改
良することによって、離型性の良好なシリコーンゴム成
形品を得るのに好適とされるオルガノポリシロキサン組
成物に関するものである。
(従来の技術) 離型性を有している型取り用シリコーンゴムは従来から
文化財、美術工芸品などの複製に汎用されてきている
が、このものは近年、電気、電子産業、自動車産業の発
展に伴ってこれら電気、電子部品、自動車部品などのよ
うな工業製品の製造にも用いられるようになってきてい
る。
文化財、美術工芸品などの複製に汎用されてきている
が、このものは近年、電気、電子産業、自動車産業の発
展に伴ってこれら電気、電子部品、自動車部品などのよ
うな工業製品の製造にも用いられるようになってきてい
る。
したがって、この型取り用シリコーンゴムについては複
雑な形状の複製物を大量にかつ精巧に得るようになるこ
とが要求されるほか、得られる複製品が高強度で寿命の
よいこと、また使用し易いものになるようにすることも
求められており、さらにはシリコーン母型を劣化させる
ような樹脂材料の使用にも耐えることが望まれている。
雑な形状の複製物を大量にかつ精巧に得るようになるこ
とが要求されるほか、得られる複製品が高強度で寿命の
よいこと、また使用し易いものになるようにすることも
求められており、さらにはシリコーン母型を劣化させる
ような樹脂材料の使用にも耐えることが望まれている。
しかして、このような要求に応えられるシリコーンゴム
組成物については、例えば式 R3SiO0.5で示されるオルガノシロキシ基(Rは1価炭化
水素基)で処理された疎水シリカを分子鎖末端がシラノ
ール基で封鎖されたオルガノポリシロキサンに配合する
方法(特公昭47-30422号公報参照)、補強性充填剤を分
子鎖末端にビニル基をもつオルガノポリシロキサンにSi
N化合物を用いて配合する方法(特公昭40-19178号公報
参照)が知られているが、このような方法で得られるシ
リコーンゴム組成物も上記したような離型耐久性向上の
要求には対応することが難しいという不利がある。
組成物については、例えば式 R3SiO0.5で示されるオルガノシロキシ基(Rは1価炭化
水素基)で処理された疎水シリカを分子鎖末端がシラノ
ール基で封鎖されたオルガノポリシロキサンに配合する
方法(特公昭47-30422号公報参照)、補強性充填剤を分
子鎖末端にビニル基をもつオルガノポリシロキサンにSi
N化合物を用いて配合する方法(特公昭40-19178号公報
参照)が知られているが、このような方法で得られるシ
リコーンゴム組成物も上記したような離型耐久性向上の
要求には対応することが難しいという不利がある。
他方、上記したような複雑精巧な部品の複製に使用され
るシリコーンゴムには機械的強度、伸び、引裂き強さな
どが要求されることから、この機械的強度向上のために
ビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイド
ロジェンポロシロキサンおよび白金系化合物からなる、
いわゆる付加反応型のオルガノシロキサン組成物に、式 R3SiO0.5単位(M単位)とSiO2単位(Q単位)あるいは
M単位とQ単位およびRSiO0.5単位(T単位)および/
またはR2SiO単位(D単位)とからなるMQレジン、MTQレ
ジン、MDQレジンまたはMDTQレジンを添加する方法も検
討されているが、このものは引き裂き強度が弱いために
逆テーパ型の離型には使用しづらいという欠点があり、
このシリコーンゴムについてはその強度向上のために補
強性充填剤が添付されるのであるが、この場合には強度
は向上するものの離型性が劣るようになるという欠点が
ある。
るシリコーンゴムには機械的強度、伸び、引裂き強さな
どが要求されることから、この機械的強度向上のために
ビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイド
ロジェンポロシロキサンおよび白金系化合物からなる、
いわゆる付加反応型のオルガノシロキサン組成物に、式 R3SiO0.5単位(M単位)とSiO2単位(Q単位)あるいは
M単位とQ単位およびRSiO0.5単位(T単位)および/
またはR2SiO単位(D単位)とからなるMQレジン、MTQレ
ジン、MDQレジンまたはMDTQレジンを添加する方法も検
討されているが、このものは引き裂き強度が弱いために
逆テーパ型の離型には使用しづらいという欠点があり、
このシリコーンゴムについてはその強度向上のために補
強性充填剤が添付されるのであるが、この場合には強度
は向上するものの離型性が劣るようになるという欠点が
ある。
(発明の構成) 本発明はこのような不利を解決した離型性オルガノポリ
シロキサン組成物に関するものであり、これは1)一般
式R1 aR2 bSiO(4-a-b)/2(ここにR1はビニル基、R2は同一
または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和基を含ま
ない1価炭化水素基、aは0.0016<a<0.05、bは1.8
<b<2.2でa+bは1.8<a+b<2.25)で示される、
1分子中にビニル基を2個以上含有するオルガノポリシ
ロキサン100重量部、2)疎水性シリカの表面が式 で示されるヘキサメチルジシラザンによって再度処理さ
れたシリカ1〜50重量部、3)第1成分としてのオルガ
ノシロキサンに含有されているビニル基1モルに対し
て,けい素原子に結合した水素原子を0.4〜4.0モル供給
する量の、一般式R3 cHdSiO(4-c-d)/2(ここにR3はR2と
同じ同一または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和
基を含まない1価炭化水素基、cは1.8<c<2.2、dは
0.01≦d≦1.0でc+dは1.81<c+d≦3.0)で示され
る、1分子中にけい素原子に結合した水素原子を3個以
上含有するオルガノハイドロジェノンポリシロキサン、
4)第1成分に対し白金成分として1〜200ppmの白金系
化合物とからなることを特徴とするものである。
シロキサン組成物に関するものであり、これは1)一般
式R1 aR2 bSiO(4-a-b)/2(ここにR1はビニル基、R2は同一
または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和基を含ま
ない1価炭化水素基、aは0.0016<a<0.05、bは1.8
<b<2.2でa+bは1.8<a+b<2.25)で示される、
1分子中にビニル基を2個以上含有するオルガノポリシ
ロキサン100重量部、2)疎水性シリカの表面が式 で示されるヘキサメチルジシラザンによって再度処理さ
れたシリカ1〜50重量部、3)第1成分としてのオルガ
ノシロキサンに含有されているビニル基1モルに対し
て,けい素原子に結合した水素原子を0.4〜4.0モル供給
する量の、一般式R3 cHdSiO(4-c-d)/2(ここにR3はR2と
同じ同一または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和
基を含まない1価炭化水素基、cは1.8<c<2.2、dは
0.01≦d≦1.0でc+dは1.81<c+d≦3.0)で示され
る、1分子中にけい素原子に結合した水素原子を3個以
上含有するオルガノハイドロジェノンポリシロキサン、
4)第1成分に対し白金成分として1〜200ppmの白金系
化合物とからなることを特徴とするものである。
すなわち、本発明者らは従来品にくらべて格段にすぐれ
た離型耐久性をもつシリコーンゴムを得る方法について
種々検討した結果、このオルガノシロキサン組成物を前
記した付加反応型のシロキサン組成物とすると共に、こ
れに添加される従来公知のジメチルジクロロシラン、メ
チルトリクロロシランなどで熱処理して得られる疎水性
シリカをさらにヘキサメチルジシラザンで処理したもの
とすると、このオルガノシロキサン組成物を硬化して得
られるシリコーンゴムがすぐれた離型耐久性を示すこと
を見出し、このオルガノシロキサンを構成する各成分の
種類、配合量などについての研究を進めて本発明を完成
させた。
た離型耐久性をもつシリコーンゴムを得る方法について
種々検討した結果、このオルガノシロキサン組成物を前
記した付加反応型のシロキサン組成物とすると共に、こ
れに添加される従来公知のジメチルジクロロシラン、メ
チルトリクロロシランなどで熱処理して得られる疎水性
シリカをさらにヘキサメチルジシラザンで処理したもの
とすると、このオルガノシロキサン組成物を硬化して得
られるシリコーンゴムがすぐれた離型耐久性を示すこと
を見出し、このオルガノシロキサンを構成する各成分の
種類、配合量などについての研究を進めて本発明を完成
させた。
以下にこれを詳述する。
本発明のオルガノポリシロキサン組成物を構成する第1
成分としてのオルガノポリシロキサンは、一般式R1 aR2 b
SiO(4-a-b)/2で示され、このR1がビニル基、R2がメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、トリル基などのアリール基、またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、3,3,
3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などから
選択される同一または異種の非置換または置換の脂肪族
不飽和基を含まない一価炭化水素基、aが0.0016<a<
0.05、bは1.8<b<2.2、a+bは1.8<a+b<2.25
である、1分子中にビニル基を2個以上含有するものと
されるので、これには式 (こゝにn=0〜1,200、m=0〜200でn+m=100〜
1,200、l=1〜20、Rは式CF3CH2CH2−、C4F9CH2CH
2−、C8F17CH2CH2−などで示されるフルオロアルキル
基、 (p=0〜5)などのフルオロポリエーテル基から選ば
れる基)で示されるものが例示されるが、これは本質的
には従来からシリコーンゴム組成物に使用されているビ
ニル基を含有するオルガノポリシロキサンであればよ
い。しかし、このものは重合度が極端に低いと望ましい
物理的性質が得られず、粘度が100,000cpより高いとこ
れから製造されるシリコーンゴムが流動し難いものとな
って使用時に支障をきたすことになるので、粘度が800
〜100,000cp、好ましくは1,000〜30,000cpのものとする
ことがよい。
成分としてのオルガノポリシロキサンは、一般式R1 aR2 b
SiO(4-a-b)/2で示され、このR1がビニル基、R2がメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、トリル基などのアリール基、またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、3,3,
3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基などから
選択される同一または異種の非置換または置換の脂肪族
不飽和基を含まない一価炭化水素基、aが0.0016<a<
0.05、bは1.8<b<2.2、a+bは1.8<a+b<2.25
である、1分子中にビニル基を2個以上含有するものと
されるので、これには式 (こゝにn=0〜1,200、m=0〜200でn+m=100〜
1,200、l=1〜20、Rは式CF3CH2CH2−、C4F9CH2CH
2−、C8F17CH2CH2−などで示されるフルオロアルキル
基、 (p=0〜5)などのフルオロポリエーテル基から選ば
れる基)で示されるものが例示されるが、これは本質的
には従来からシリコーンゴム組成物に使用されているビ
ニル基を含有するオルガノポリシロキサンであればよ
い。しかし、このものは重合度が極端に低いと望ましい
物理的性質が得られず、粘度が100,000cpより高いとこ
れから製造されるシリコーンゴムが流動し難いものとな
って使用時に支障をきたすことになるので、粘度が800
〜100,000cp、好ましくは1,000〜30,000cpのものとする
ことがよい。
また、この組成物を構成する第2成分としての疎水性シ
リカは本質的にはジメチルジクロロシラン、メチルトリ
クロロシラン、ヘキサメチルジシラザンまたはその混合
物などの表面処理剤で、あるいはこれら表面処理剤と水
とで親水性シリカとしてのヒュームドシリカを熱処理し
て得た、その表面が(CH3)3SiO1/2、(CH3)2SiO2/2、CH3S
iO3/2、好ましくは(CH3)2SiO2/2とCH3SiO3/2で処理され
た公知の疎水化されたシリカであればよいが、これはさ
らに好ましくはCH3SiO3/2基で処理されたものとするこ
とがよく、これは補強性の面からはBET法による比表面
積が50〜800m2/g、好ましくは100〜400m2/gのものとす
ることがよい。このようにして表面処理された疎水性シ
リカは通常シリカ全体に対して0.5重量%以上の炭素を
含有するものである。これにはR−812、R−972、R−
976(西独国、デグツサ社製)、HDK−H・15、HDK−H
・25〔西独国、ワッカー社製〕などが例示される。
リカは本質的にはジメチルジクロロシラン、メチルトリ
クロロシラン、ヘキサメチルジシラザンまたはその混合
物などの表面処理剤で、あるいはこれら表面処理剤と水
とで親水性シリカとしてのヒュームドシリカを熱処理し
て得た、その表面が(CH3)3SiO1/2、(CH3)2SiO2/2、CH3S
iO3/2、好ましくは(CH3)2SiO2/2とCH3SiO3/2で処理され
た公知の疎水化されたシリカであればよいが、これはさ
らに好ましくはCH3SiO3/2基で処理されたものとするこ
とがよく、これは補強性の面からはBET法による比表面
積が50〜800m2/g、好ましくは100〜400m2/gのものとす
ることがよい。このようにして表面処理された疎水性シ
リカは通常シリカ全体に対して0.5重量%以上の炭素を
含有するものである。これにはR−812、R−972、R−
976(西独国、デグツサ社製)、HDK−H・15、HDK−H
・25〔西独国、ワッカー社製〕などが例示される。
つぎにこの疎水性シリカはさらに式 で示されるヘキサメチルジシラザンで表面処理される
が、これは上記した第1成分としてのオルガノポリシロ
キサンに第2成分としての疎水性シリカを添加した混合
物をニーダー中で加熱混練するときにこのヘキサメチル
ジシラザンを加え、この際必要に応じて少量の水を加え
て加熱処理すればよく、このように処理すると疎水性シ
リカの残存シラノールが更に処理され、また、オルガノ
ポリシロキサンとの相溶性が増すため、この組成物から
作られたシリコーンゴムが流動し、かつ離型耐久性のす
ぐれたものになるという有利性が与えられるが、この配
合量は第1成分のオルガノポリシロキサン100重量部に
対して1重量部より少ないと補強効果が得られず、50重
量部より多くすると増粘して流動しなくなるので、1〜
50重量部の範囲とする必要がある。
が、これは上記した第1成分としてのオルガノポリシロ
キサンに第2成分としての疎水性シリカを添加した混合
物をニーダー中で加熱混練するときにこのヘキサメチル
ジシラザンを加え、この際必要に応じて少量の水を加え
て加熱処理すればよく、このように処理すると疎水性シ
リカの残存シラノールが更に処理され、また、オルガノ
ポリシロキサンとの相溶性が増すため、この組成物から
作られたシリコーンゴムが流動し、かつ離型耐久性のす
ぐれたものになるという有利性が与えられるが、この配
合量は第1成分のオルガノポリシロキサン100重量部に
対して1重量部より少ないと補強効果が得られず、50重
量部より多くすると増粘して流動しなくなるので、1〜
50重量部の範囲とする必要がある。
なお、このヘキサメチルジシラザンによる処理は疎水性
シリカの物理的特性を改良するものであるということか
ら、1,3−ジビニルテトラメチルジシラザンなどのよう
なビニル基含有シラザン化合物またはジメチルジメトキ
シシランなどのアルコキシシランと併用してもよいが、
このヘキサメチルジシラザンの配合量は第1成分として
のオルガノポリシロキサン100重量部に対して1重量部
より少ないと流動性及び離型性を向上する効果が顕著で
なく、30重量部より多くしてもこれらの効果には大きな
改良性はみられず、また、実使用に当ってこれらシラザ
ンが反応する際に生ずるアンモニアによる危険性が大き
くなるので1〜30重量部の範囲とすることが必要であ
り、この好ましい範囲は2〜15重量部とされる。
シリカの物理的特性を改良するものであるということか
ら、1,3−ジビニルテトラメチルジシラザンなどのよう
なビニル基含有シラザン化合物またはジメチルジメトキ
シシランなどのアルコキシシランと併用してもよいが、
このヘキサメチルジシラザンの配合量は第1成分として
のオルガノポリシロキサン100重量部に対して1重量部
より少ないと流動性及び離型性を向上する効果が顕著で
なく、30重量部より多くしてもこれらの効果には大きな
改良性はみられず、また、実使用に当ってこれらシラザ
ンが反応する際に生ずるアンモニアによる危険性が大き
くなるので1〜30重量部の範囲とすることが必要であ
り、この好ましい範囲は2〜15重量部とされる。
この組成物を構成する第3成分としてのオルガノハイド
ロジェンポリシロキサンは第1成分としてのオルガノポ
リシロキサンに対して架橋剤として作動するものであ
り、したがってこのものは第1成分としてのオルガノポ
リシロキサン中に含有されているビニル基に付加反応す
る,けい素原子に結合した水素原子を1分子中に3個以
上含有するものとする必要があり、このものは一般式R3
cHdSiO(4-c-d)/2で示され、R3が前記したR2と同じ同一
または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和基を含ま
ない1価炭化水素基で、cが1.8<c<2.2、dが0.01≦
d≦1.0、c+dが1.8<c+d≦3.0であるものとされ
るが、この重合度は300以下のものとすることが好まし
い。なお、このものの配合量は第1成分としてのオルガ
ノポリシロキサン中に含有されるビニル基量に応じて調
整すればよいが、これは第1成分としてオルガノシロキ
サン中に含有されるビニル基1モルに対しけい素原子結
合水素原子を0.4〜4.0モル供給する量とすればよい。
ロジェンポリシロキサンは第1成分としてのオルガノポ
リシロキサンに対して架橋剤として作動するものであ
り、したがってこのものは第1成分としてのオルガノポ
リシロキサン中に含有されているビニル基に付加反応す
る,けい素原子に結合した水素原子を1分子中に3個以
上含有するものとする必要があり、このものは一般式R3
cHdSiO(4-c-d)/2で示され、R3が前記したR2と同じ同一
または異種の非置換または置換の脂肪族不飽和基を含ま
ない1価炭化水素基で、cが1.8<c<2.2、dが0.01≦
d≦1.0、c+dが1.8<c+d≦3.0であるものとされ
るが、この重合度は300以下のものとすることが好まし
い。なお、このものの配合量は第1成分としてのオルガ
ノポリシロキサン中に含有されるビニル基量に応じて調
整すればよいが、これは第1成分としてオルガノシロキ
サン中に含有されるビニル基1モルに対しけい素原子結
合水素原子を0.4〜4.0モル供給する量とすればよい。
また、この組成物を構成する第4成分としての白金系化
合物は第1成分としてのオルガノポリシロキサンと第3
成分としてのオルガノハイドロジェンポリシロキサンの
付加反応を行なわせるための触媒とされるものであり、
これには塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール錯体、塩
化白金酸のオレフィンまたはビニルシロキサンとの錯
塩、リン錯体などが例示されるが、この配合量は白金成
分として、第1成分としてのオルガノポリシロキサン10
0重量部に対して1〜200ppmの範囲とすればよい。
合物は第1成分としてのオルガノポリシロキサンと第3
成分としてのオルガノハイドロジェンポリシロキサンの
付加反応を行なわせるための触媒とされるものであり、
これには塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール錯体、塩
化白金酸のオレフィンまたはビニルシロキサンとの錯
塩、リン錯体などが例示されるが、この配合量は白金成
分として、第1成分としてのオルガノポリシロキサン10
0重量部に対して1〜200ppmの範囲とすればよい。
本発明の組成物は、上記した第1〜第4の必須成分に加
えて、疎水性シリカの再処理に用いるヘキサメチルジシ
ラザンの加水分解促進剤として、適当量の水を添加する
ことは任意である。この水は使用しなくても処理しうる
が、処理時間、効率等の面から使用する方が好ましく、
その添加量はヘキサメチルジシラザン100重量部に対し
て0〜100重量部、好ましくは5〜100重量部とすること
ができる。
えて、疎水性シリカの再処理に用いるヘキサメチルジシ
ラザンの加水分解促進剤として、適当量の水を添加する
ことは任意である。この水は使用しなくても処理しうる
が、処理時間、効率等の面から使用する方が好ましく、
その添加量はヘキサメチルジシラザン100重量部に対し
て0〜100重量部、好ましくは5〜100重量部とすること
ができる。
本発明のオルガノポリシロキサン組成物は上記した第1
〜第4成分を混合し、均一に混練りすることによって得
ることができるが、第2成分としてのシリカは疎水性シ
リカをヘキサメチルジシランで再処理するということか
ら第1成分としてのオルガノポリシロキサンと疎水性シ
リカとの混合物にヘキサメチルジシラザンを添加して12
0〜180℃で2〜8時間、好ましくは130〜160℃で3〜6
時間熱処理したのち、第3成分としてのオルガノハイド
ロジェンポリシロキサンと第4成分としての白金系化合
物を添加して均一に混練することが好ましいが、あらか
じめ疎水性シリカをヘキサメチルジシラザンで処理して
おき組成物に添加することも可能である。なお、この組
成物に着色剤としてのFe2O3、Fe3O4、TiO2、ZnO等を添加
することは任意とされるし、これにその離型性向上のた
めに無官能性またはビニル官能基を有するベースオイル
よりも粘度の高いシリコーンオイルまたはシリコーンゴ
ム、あるいは逆に25℃における粘度が5〜100cSのよう
なシリコーンオイルを添加してもよい。
〜第4成分を混合し、均一に混練りすることによって得
ることができるが、第2成分としてのシリカは疎水性シ
リカをヘキサメチルジシランで再処理するということか
ら第1成分としてのオルガノポリシロキサンと疎水性シ
リカとの混合物にヘキサメチルジシラザンを添加して12
0〜180℃で2〜8時間、好ましくは130〜160℃で3〜6
時間熱処理したのち、第3成分としてのオルガノハイド
ロジェンポリシロキサンと第4成分としての白金系化合
物を添加して均一に混練することが好ましいが、あらか
じめ疎水性シリカをヘキサメチルジシラザンで処理して
おき組成物に添加することも可能である。なお、この組
成物に着色剤としてのFe2O3、Fe3O4、TiO2、ZnO等を添加
することは任意とされるし、これにその離型性向上のた
めに無官能性またはビニル官能基を有するベースオイル
よりも粘度の高いシリコーンオイルまたはシリコーンゴ
ム、あるいは逆に25℃における粘度が5〜100cSのよう
なシリコーンオイルを添加してもよい。
このようにして得られたオルガノポリシロキサン組成物
は型取り用シリコーンゴムとするために加硫硬化させら
れるのであるが、この加硫硬化は例えば60℃でこれを適
宜マスター型に流し込み加熱処理すればよく、このよう
にして作られた型取り用シリコーンゴムは機械的強度、
伸び、引き裂き強度のすぐれたものになるし、これは特
に離型耐久性にもすぐれたものとなるので、このものは
電気、電子部品、自動車部品などのような複雑精巧の部
品に複製に有利に使用することができるという有益性が
与えられる。
は型取り用シリコーンゴムとするために加硫硬化させら
れるのであるが、この加硫硬化は例えば60℃でこれを適
宜マスター型に流し込み加熱処理すればよく、このよう
にして作られた型取り用シリコーンゴムは機械的強度、
伸び、引き裂き強度のすぐれたものになるし、これは特
に離型耐久性にもすぐれたものとなるので、このものは
電気、電子部品、自動車部品などのような複雑精巧の部
品に複製に有利に使用することができるという有益性が
与えられる。
つぎに本発明の実施例をあげるが例中の部は重量部を、
粘度は25℃での測定値を示したものである。
粘度は25℃での測定値を示したものである。
実施例1〜5、比較例1〜2 分子鎖両末端がビニルジメチルシリル基で封鎖された、
粘度が5,000cpのジメチルポリシロキサン100部に、式(C
H3)3SiO1/2単位、SiO2単位および(CH2=CH)CH3SiO単
位よりなり、(CH3)3SiO1/2/SiO2=0.8(モル比)でビ
ニル基含有量が0.08モル/100gであるシリコーン樹脂(M
DQレジン)0〜15部と第1表に示した比表面積が約200m
2/gである疎水性シリカ20部とを加えたものをニーダー
中で160℃に加熱し、これにヘキサメチルジシラザン5
部と水0〜2部を加えて4時間加熱処理したのち、塩化
白金酸をジメチルポリシロキサンに対して白金重量で50
ppm添加した。
粘度が5,000cpのジメチルポリシロキサン100部に、式(C
H3)3SiO1/2単位、SiO2単位および(CH2=CH)CH3SiO単
位よりなり、(CH3)3SiO1/2/SiO2=0.8(モル比)でビ
ニル基含有量が0.08モル/100gであるシリコーン樹脂(M
DQレジン)0〜15部と第1表に示した比表面積が約200m
2/gである疎水性シリカ20部とを加えたものをニーダー
中で160℃に加熱し、これにヘキサメチルジシラザン5
部と水0〜2部を加えて4時間加熱処理したのち、塩化
白金酸をジメチルポリシロキサンに対して白金重量で50
ppm添加した。
ついで、このようにして得た組成物100部に平均式 で示されるメチルハイドロジェンポリシロキサン5部を
加え、均一に混練してオルガノポリシロキサン組成物を
作り、このものを25℃で1日放置してシート状に硬化さ
せ、このものの物性をJIS K6301の方法で測定したとこ
ろ、第1表に併記したとおりの結果が得られた。なお、
実施例1〜5および比較例1で用いた表面処理された疎
水性シリカは金属分析装置・EMIA−100[(株)堀場製
作所製商品名]を用いて分析した結果、シリカ中の炭素
量はいずれも2重量%であったが、比較例2のアエロジ
ル−300は0重量%であった。
加え、均一に混練してオルガノポリシロキサン組成物を
作り、このものを25℃で1日放置してシート状に硬化さ
せ、このものの物性をJIS K6301の方法で測定したとこ
ろ、第1表に併記したとおりの結果が得られた。なお、
実施例1〜5および比較例1で用いた表面処理された疎
水性シリカは金属分析装置・EMIA−100[(株)堀場製
作所製商品名]を用いて分析した結果、シリカ中の炭素
量はいずれも2重量%であったが、比較例2のアエロジ
ル−300は0重量%であった。
つぎに上記で得たオルガノポリシロキサン組成物を金型
内に入れ、60℃/2時間の条件で硬化させて凹状の成形物
を作成し、この凹状部にエポキシ樹脂を流し込んで型取
りを行い、得られたエポキシ樹脂成形物の光沢から型取
り回数を測定したところ、第1表に併記したとおりの結
果が得られた。なお第1表に示した型取り回数はエポキ
シ樹脂成形物の表面光沢度をデイジタル光沢計・GM-26D
型[(株)村上色彩技術研究所製商品名]を用いてASTM
-D523に準じた方法で測定し、表面光沢度が初期値の80
%以下に落ちたときの回数である。
内に入れ、60℃/2時間の条件で硬化させて凹状の成形物
を作成し、この凹状部にエポキシ樹脂を流し込んで型取
りを行い、得られたエポキシ樹脂成形物の光沢から型取
り回数を測定したところ、第1表に併記したとおりの結
果が得られた。なお第1表に示した型取り回数はエポキ
シ樹脂成形物の表面光沢度をデイジタル光沢計・GM-26D
型[(株)村上色彩技術研究所製商品名]を用いてASTM
-D523に準じた方法で測定し、表面光沢度が初期値の80
%以下に落ちたときの回数である。
しかし、比較のために上記においてニーダー中における
ヘキサメチルジシラザンによる加熱処理をしなかったも
の、また疎水性シリカを使用せずに親水性シリカアエロ
ジル−300を使用し、これをヘキサメチルジシラザンで
加熱処理したものとしたほかは上記と同様に処理して得
たオルガノポリシロキサン組成物から得られた硬化物の
一般物性およびこれから作った凹状成形物によるエポキ
シ樹脂の型取り回数は第1表に併記したとおりのものと
なった。
ヘキサメチルジシラザンによる加熱処理をしなかったも
の、また疎水性シリカを使用せずに親水性シリカアエロ
ジル−300を使用し、これをヘキサメチルジシラザンで
加熱処理したものとしたほかは上記と同様に処理して得
たオルガノポリシロキサン組成物から得られた硬化物の
一般物性およびこれから作った凹状成形物によるエポキ
シ樹脂の型取り回数は第1表に併記したとおりのものと
なった。
実施例6〜8、比較例3〜5 実施例1〜5、比較例1〜2におけるヘキサメチルジシ
ラザンの添加量を0〜10部で変化させた以外は上記と同
様に処理してオルガノポリシロキサン組成物を作り、こ
れらを上記と同様の方法で硬化させ、さらに型取り回数
15回におけるエポキシ樹脂組成物の光沢度(初期値に対
する比率)を測定したところ、第2表に示したとおりの
結果が得られた。
ラザンの添加量を0〜10部で変化させた以外は上記と同
様に処理してオルガノポリシロキサン組成物を作り、こ
れらを上記と同様の方法で硬化させ、さらに型取り回数
15回におけるエポキシ樹脂組成物の光沢度(初期値に対
する比率)を測定したところ、第2表に示したとおりの
結果が得られた。
Claims (2)
- 【請求項1】1)一般式R1 aR2 bSiO(4-a-b)/2 (ここにR1はビニル基、R2は同一または異種の非置換ま
たは置換の脂肪族不飽和基を含まない1価炭化水素基、
aは0.0016<a<0.05、bは1.8<b<2.2でa+bは1.
8<a+b<2.25)で示される、1分子中にビニル基を
2個以上含有するオルガノポリシロキサン 100重量部、 2)疎水性シリカの表面が式 で示されるヘキサメチルジシラザンによって再度処理さ
れたシリカ 1〜50重量部、 3)第1成分としてのオルガノポリシロキサンに含有さ
れているビニル基1モルに対して、けい素原子に結合し
た水素原子を0.4〜4.0モル供給する量の、一般式 R3 cHdSiO(4-c-d)/2 (ここにR3はR2と同じ同一または異種の非置換または置
換の脂肪族不飽和基を含まない1価炭化水素基、cは1.
8<c<2.2、dは0.01≦d≦1.0でc+dは1.81<c+
d≦3.0)で示される、1分子中にけい素原子に結合し
た水素原子を3個以上含有するオルガノハイドロジェン
ポリシロキサン、 4)第1成分に対し白金成分として1〜200ppmの白金系
化合物 とからなることを特徴とするオルガノポリシロキサン組
成物。 - 【請求項2】第2成分のシリカが、CH3SiO1.5基で表面
処理された疎水性シリカの表面をヘキサメチルジシラザ
ンによって再度処理されたものである請求項1に記載の
オルガノポリシロキサン組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63208889A JPH0684477B2 (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | オルガノポリシロキサン組成物 |
| US07/387,600 US5013772A (en) | 1988-08-23 | 1989-07-28 | Method for the preparation of silicone rubber composition |
| DE3927362A DE3927362C2 (de) | 1988-08-23 | 1989-08-18 | Verfahren zur Herstellung von härtbaren Polyorganosiloxanmassen |
| FR8911129A FR2635782B1 (fr) | 1988-08-23 | 1989-08-22 | Procede pour la preparation d'une composition de caoutchouc en silicone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63208889A JPH0684477B2 (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | オルガノポリシロキサン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0270755A JPH0270755A (ja) | 1990-03-09 |
| JPH0684477B2 true JPH0684477B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16563802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63208889A Expired - Fee Related JPH0684477B2 (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | オルガノポリシロキサン組成物 |
Country Status (4)
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|---|---|
| US (1) | US5013772A (ja) |
| JP (1) | JPH0684477B2 (ja) |
| DE (1) | DE3927362C2 (ja) |
| FR (1) | FR2635782B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE4215205C1 (de) * | 1992-05-08 | 1994-01-05 | Bayer Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Flüssigsiliconkautschuken |
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| JP3189559B2 (ja) * | 1994-02-28 | 2001-07-16 | 信越化学工業株式会社 | 液状シリコーン組成物の製造方法 |
| GB2287248B (en) * | 1994-03-10 | 1998-01-14 | Gen Electric | In-situ filler treating process for RTV silicones |
| EP0694576A1 (en) * | 1994-07-28 | 1996-01-31 | General Electric Company | Treating process for precipitated silica fillers |
| JPH0841346A (ja) * | 1994-07-29 | 1996-02-13 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 定着ロール用シリコーンゴム組成物 |
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| FR2764894B1 (fr) * | 1997-06-24 | 1999-09-24 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'une suspension de silice dans une matrice silicone vulcanisable a temperature ambiante et a chaud pour former des elastomeres |
| DE19756831A1 (de) * | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Wacker Chemie Gmbh | Siliciumdioxid, das an seiner Oberfläche teil- oder vollständig silylierte Polykieselsäureketten trägt |
| JP3937120B2 (ja) | 1999-06-09 | 2007-06-27 | 信越化学工業株式会社 | 液状付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその製造方法 |
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| WO2017163936A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 音響波プローブ用組成物、これを用いた音響波プローブ用シリコーン樹脂、音響波プローブおよび超音波プローブ、ならびに、音響波測定装置、超音波診断装置、光音響波測定装置および超音波内視鏡 |
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-
1989
- 1989-07-28 US US07/387,600 patent/US5013772A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-18 DE DE3927362A patent/DE3927362C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-22 FR FR8911129A patent/FR2635782B1/fr not_active Expired - Fee Related
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