JPH0685033A - 平行に作動する２個のマニュプレータを有する位置決め装置及びその位置決め装置が設けられている光学リソグラフィック装置 - Google Patents
平行に作動する２個のマニュプレータを有する位置決め装置及びその位置決め装置が設けられている光学リソグラフィック装置Info
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- JPH0685033A JPH0685033A JP4218282A JP21828292A JPH0685033A JP H0685033 A JPH0685033 A JP H0685033A JP 4218282 A JP4218282 A JP 4218282A JP 21828292 A JP21828292 A JP 21828292A JP H0685033 A JPH0685033 A JP H0685033A
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- guide
- positioning device
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- G—PHYSICS
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- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
- H10P72/57—Mask-wafer alignment
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 格納位置から動作位置まで板状対象物を交互
に搬送する2個の搬送アームを有する装置を提供する
事。 【構成】 搬送アームは、各々、別々のマニュプレータ
により変位可能であるので、対象物の即座の交換が可能
である。マニュプレータは、各々フレームに固定されて
いる2個の平行なYガイドと、2個のYガイドに沿って変位
可能であるXガイドとを有し、搬送アームは各々Xガイド
の1個に沿って変位可能である。この位置決め装置は、
マスクサポート上に交互にマスクを配置する光学リソグ
ラフィック装置に使用される。マスクサポートが固定さ
れる光学リソグラフィックのマシンフレームは、スプリ
ング部材により位置決め装置のフレームに結合されてい
る。マスクをマスクサポート上に正確に位置決めするこ
とを可能とするため、この光学リソグラフィック装置に
は、位置決め装置を制御する電子制御ユニットに結合さ
れている光学センサーシステムが設けられている。
に搬送する2個の搬送アームを有する装置を提供する
事。 【構成】 搬送アームは、各々、別々のマニュプレータ
により変位可能であるので、対象物の即座の交換が可能
である。マニュプレータは、各々フレームに固定されて
いる2個の平行なYガイドと、2個のYガイドに沿って変位
可能であるXガイドとを有し、搬送アームは各々Xガイド
の1個に沿って変位可能である。この位置決め装置は、
マスクサポート上に交互にマスクを配置する光学リソグ
ラフィック装置に使用される。マスクサポートが固定さ
れる光学リソグラフィックのマシンフレームは、スプリ
ング部材により位置決め装置のフレームに結合されてい
る。マスクをマスクサポート上に正確に位置決めするこ
とを可能とするため、この光学リソグラフィック装置に
は、位置決め装置を制御する電子制御ユニットに結合さ
れている光学センサーシステムが設けられている。
Description
【０００１】本発明は、Z軸を横切る面内に延在する動
作位置に格納位置から板状対象物を交互に搬送する第一
及び第二搬送アームを有し、次の対象物を前記第二搬送
アームによって動作位置から取り出した後、前記第一搬
送アームにより対象物を動作位置に載置する位置決め装
置に関する。
作位置に格納位置から板状対象物を交互に搬送する第一
及び第二搬送アームを有し、次の対象物を前記第二搬送
アームによって動作位置から取り出した後、前記第一搬
送アームにより対象物を動作位置に載置する位置決め装
置に関する。
【０００２】本発明は、又本発明の位置決め装置が設け
られた光学リソグラフィック装置にも関する。
られた光学リソグラフィック装置にも関する。
【０００３】第一パラグラフで述べた種類の位置決め装
置は、特開昭62-195143号により公知である。この既知
の位置決め装置は、マスクに設けられている半導体回路
パターンを半導体基板上に画像化させる電子半導体回路
製造用の光学リソグラフィック装置に使用される。この
露光の間半導体基板は、マスクマガジンから1個ずつ取
り出されかつ位置決め装置により光学リソグラフィック
装置のマスクサポート上に位置決めされた多くの種類の
異なったマスクを介して照射される。
置は、特開昭62-195143号により公知である。この既知
の位置決め装置は、マスクに設けられている半導体回路
パターンを半導体基板上に画像化させる電子半導体回路
製造用の光学リソグラフィック装置に使用される。この
露光の間半導体基板は、マスクマガジンから1個ずつ取
り出されかつ位置決め装置により光学リソグラフィック
装置のマスクサポート上に位置決めされた多くの種類の
異なったマスクを介して照射される。
【０００４】この既知の位置決め装置には、第一ガイド
と第一ガイドに平行な第二ガイドに沿って変位可能な第
一及び第二搬送アームが設けられていて、これらのガイ
ドは両方の搬送アームに共通なターンテーブル上に設け
られている。第一マスクが既知の位置決め装置により作
動位置に載置されると、ターンテーブルがマスクマガジ
ンに向く様に回転して、第二マスクが第一搬送アームに
よりマガジンから取り出される。続いてターンテーブル
は再度マスクサポートに向く様に回転し、第一マスクが
第二搬送アームによって作動位置から取り出され、第二
マスクは第一搬送アームによって作動位置内に載置され
る。最後にターンテーブルは再度マスクマガジンの方に
回転して第一マスクが第二搬送アームによりマスクマガ
ジンに戻され、その後第一搬送アームはマスクマガジン
から再び次のマスクを取り出す位置に移動する。
と第一ガイドに平行な第二ガイドに沿って変位可能な第
一及び第二搬送アームが設けられていて、これらのガイ
ドは両方の搬送アームに共通なターンテーブル上に設け
られている。第一マスクが既知の位置決め装置により作
動位置に載置されると、ターンテーブルがマスクマガジ
ンに向く様に回転して、第二マスクが第一搬送アームに
よりマガジンから取り出される。続いてターンテーブル
は再度マスクサポートに向く様に回転し、第一マスクが
第二搬送アームによって作動位置から取り出され、第二
マスクは第一搬送アームによって作動位置内に載置され
る。最後にターンテーブルは再度マスクマガジンの方に
回転して第一マスクが第二搬送アームによりマスクマガ
ジンに戻され、その後第一搬送アームはマスクマガジン
から再び次のマスクを取り出す位置に移動する。
【０００５】この既知の位置決め装置の欠点は、第一マ
スクを、第二マスクが作動位置に載置されるまでマスク
マガジンに戻すことが出来ない点である。この結果、マ
スクマガジンから次のマスクを取り出す作動位置内のマ
スクを載置し、その後作動位置内に存在するマスクと交
換する状態にそれを載置するまでに必要とされる時間が
増加し、そのためこの位置決め装置が使用される光学リ
ソグラフィック装置の生産能率が低下する。
スクを、第二マスクが作動位置に載置されるまでマスク
マガジンに戻すことが出来ない点である。この結果、マ
スクマガジンから次のマスクを取り出す作動位置内のマ
スクを載置し、その後作動位置内に存在するマスクと交
換する状態にそれを載置するまでに必要とされる時間が
増加し、そのためこの位置決め装置が使用される光学リ
ソグラフィック装置の生産能率が低下する。
【０００６】本発明の目的は上述した時間間隔を減少さ
せた第一パラグラフで述べた種類の位置決め装置を提供
することにある。
せた第一パラグラフで述べた種類の位置決め装置を提供
することにある。
【０００７】この目的のために本発明が特徴とする点
は、前記搬送アームが、X方向と前記X方向に垂直なY方
向（前記X方向と前記Y方向は前記Z方向に垂直）とに平
行な別々のマニュプレータにより各々変位可能である点
である。前記搬送アームが各々別々のマニュプレータの
手段により変位されるので、動作位置から取り出した対
象物を次の対象物が動作位置に搬送されて来る間、収納
位置に戻すことが出来る。加えて搬送アームは、この対
象物を動作位置に載置した後対象物の近くの位置に留ま
ることが出来るので、動作位置から対象物を続いて取り
出すのに必要な時間間隔は、相対的に短い。
は、前記搬送アームが、X方向と前記X方向に垂直なY方
向（前記X方向と前記Y方向は前記Z方向に垂直）とに平
行な別々のマニュプレータにより各々変位可能である点
である。前記搬送アームが各々別々のマニュプレータの
手段により変位されるので、動作位置から取り出した対
象物を次の対象物が動作位置に搬送されて来る間、収納
位置に戻すことが出来る。加えて搬送アームは、この対
象物を動作位置に載置した後対象物の近くの位置に留ま
ることが出来るので、動作位置から対象物を続いて取り
出すのに必要な時間間隔は、相対的に短い。
【０００８】本発明の位置決め装置の特別な実施例が特
徴とする点は、前記マニュプレータが、各々当該搬送ア
ームが変位されるようにガイドされる前記X方向に平行
に延在する直線Xガイドと、前記位置決め装置のフレー
ムに固定されていて、前記Y方向に平行に延在し、そし
て前記Xガイドが変位可能となるようにガイドされる直
線Yガイドとを有している点である。当該XとYガイドの
使用によりマニュプレータの構造がコンパクトにかつ単
純になる。加えて搬送アームをマニュプレータの手段に
よりXとY方向に平行にかなりの距離について変位させる
ことが出来るので、搬送アームを相当数の収納位置に到
達させることが可能である。
徴とする点は、前記マニュプレータが、各々当該搬送ア
ームが変位されるようにガイドされる前記X方向に平行
に延在する直線Xガイドと、前記位置決め装置のフレー
ムに固定されていて、前記Y方向に平行に延在し、そし
て前記Xガイドが変位可能となるようにガイドされる直
線Yガイドとを有している点である。当該XとYガイドの
使用によりマニュプレータの構造がコンパクトにかつ単
純になる。加えて搬送アームをマニュプレータの手段に
よりXとY方向に平行にかなりの距離について変位させる
ことが出来るので、搬送アームを相当数の収納位置に到
達させることが可能である。
【０００９】Xガイドを強固にかつ安定して支持するこ
とが出来る本発明の位置決め装置の別の実施例が特徴と
する点は、各マニュプレータの前記Xガイドが、第一直
線Yガイド及びそれに平行な第二直線Yガイドに沿って変
位可能となるようにガイドされ、当該マニュプレータの
前記Yガイドを前記Z方向に垂直に延在する面内に位置さ
せている点である。X又はY方向に平行に対象物を変位さ
せるのに加えてZ方向に平行に向けられている回転軸に
ついて対象物を回転させることを可能とする本発明の位
置決め装置の更に別の実施例が特徴とする点は、各マニ
ュプレータの前記Xガイドが、前記第一Yガイドに沿って
変位可能である第一スライドと前記第二Yガイドに沿っ
て変位可能である第二スライドとに回転可能に結合され
ていて、前記Xガイドが前記Z方向に平行に向けられてい
る回転軸について各スライドに対して回転可能であり、
かつ前記Xガイドが前記X方向に平行に前記Xガイドを前
記第二スライドに対して変位させることを可能とする結
合部材により前記第二スライドに結合されている点であ
る。この結合部材の使用によりYガイドに対してXガイド
を回転させる場合に必要となる2個の回転軸の間の距離
を変化させる事が可能となる。
とが出来る本発明の位置決め装置の別の実施例が特徴と
する点は、各マニュプレータの前記Xガイドが、第一直
線Yガイド及びそれに平行な第二直線Yガイドに沿って変
位可能となるようにガイドされ、当該マニュプレータの
前記Yガイドを前記Z方向に垂直に延在する面内に位置さ
せている点である。X又はY方向に平行に対象物を変位さ
せるのに加えてZ方向に平行に向けられている回転軸に
ついて対象物を回転させることを可能とする本発明の位
置決め装置の更に別の実施例が特徴とする点は、各マニ
ュプレータの前記Xガイドが、前記第一Yガイドに沿って
変位可能である第一スライドと前記第二Yガイドに沿っ
て変位可能である第二スライドとに回転可能に結合され
ていて、前記Xガイドが前記Z方向に平行に向けられてい
る回転軸について各スライドに対して回転可能であり、
かつ前記Xガイドが前記X方向に平行に前記Xガイドを前
記第二スライドに対して変位させることを可能とする結
合部材により前記第二スライドに結合されている点であ
る。この結合部材の使用によりYガイドに対してXガイド
を回転させる場合に必要となる2個の回転軸の間の距離
を変化させる事が可能となる。
【００１０】前述の結合部材の強固で遊びの無い構成を
提供する本発明の位置決め装置の別の実施例が特徴とす
る点は、前記結合部材が、前記Z方向に平行に向けられ
ている前記第二スライドの回転ピンについてその回転ベ
アリングを有しかつ前記X方向を横切る面内に延在する
ブレードスプリングの手段により前記Xガイドに結合さ
れているスリーブを有している点である。
提供する本発明の位置決め装置の別の実施例が特徴とす
る点は、前記結合部材が、前記Z方向に平行に向けられ
ている前記第二スライドの回転ピンについてその回転ベ
アリングを有しかつ前記X方向を横切る面内に延在する
ブレードスプリングの手段により前記Xガイドに結合さ
れているスリーブを有している点である。
【００１１】前記Xガイドに沿って前記搬送アームの特
に強固で安定しているガイドを提供する本発明の位置決
め装置の更に別の実施例が特徴とする点は、各マニュプ
レータの前記Xガイドに、前記X方向に平行に延在する2
個のガイドレールが設けられている点である。
に強固で安定しているガイドを提供する本発明の位置決
め装置の更に別の実施例が特徴とする点は、各マニュプ
レータの前記Xガイドに、前記X方向に平行に延在する2
個のガイドレールが設けられている点である。
【００１２】本発明の位置決め装置の更に別の実施例が
特徴とする点は、前記2個のマニュプレータが、前記Z方
向において互いにある距離離して配置されていて、前記
Yガイドが相互に対応するX及びY位置内に配置されてい
て、前記XガイドがZ方向で見て前記Yガイドの間に配置
されている点である。この方法でマニュプレータのXとY
ガイドを位置決めすることにより2個の実質上同一のマ
ニュプレータが得られるので、対象物は両方のマニュプ
レータにより等しい正確度で動作位置に載置させること
が出来、これに加え位置決め装置の構成が単純となる。
特徴とする点は、前記2個のマニュプレータが、前記Z方
向において互いにある距離離して配置されていて、前記
Yガイドが相互に対応するX及びY位置内に配置されてい
て、前記XガイドがZ方向で見て前記Yガイドの間に配置
されている点である。この方法でマニュプレータのXとY
ガイドを位置決めすることにより2個の実質上同一のマ
ニュプレータが得られるので、対象物は両方のマニュプ
レータにより等しい正確度で動作位置に載置させること
が出来、これに加え位置決め装置の構成が単純となる。
【００１３】ここで使用される位置決め装置の特性が特
に効果的である光学リソグラフィック装置が特徴とする
点は、Z方向に、前記光学リソグラフィック装置には、Z
方向に横切って延在する支持表面を有する対象物テーブ
ルと、前記Z方向に平行に向けられている主光学軸を有
するレンズシステムと、前記Z方向に横切って向けられ
ている面内のマスクを支持するマスクサポートと、前記
対象物テーブルの手段によって支持されている基板を照
射する光源とが設けられていて、前記光学リソグラフィ
ック装置にはさらにマスクマガジンが設けられていてそ
こからマスクを前記位置決め装置の手段により前記マス
クサポートに交互に搬送することが出来る点である。
に効果的である光学リソグラフィック装置が特徴とする
点は、Z方向に、前記光学リソグラフィック装置には、Z
方向に横切って延在する支持表面を有する対象物テーブ
ルと、前記Z方向に平行に向けられている主光学軸を有
するレンズシステムと、前記Z方向に横切って向けられ
ている面内のマスクを支持するマスクサポートと、前記
対象物テーブルの手段によって支持されている基板を照
射する光源とが設けられていて、前記光学リソグラフィ
ック装置にはさらにマスクマガジンが設けられていてそ
こからマスクを前記位置決め装置の手段により前記マス
クサポートに交互に搬送することが出来る点である。
【００１４】本発明の前記光学リソグラフィック装置の
特別な実施例が特徴とする点は、前記位置決め装置の前
記フレームが、前記レンズシステムが少なくとも1個の
スプリング部材と少なくとも1個のダンピング部材の手
段により固定されている前記光学リソグラフィック装置
のマシンフレームに結合されている点である。スプリン
グ部材とダンピング部材の使用によりレンズシステムと
光学リソグラフィック装置の他の精密部品に対する位置
決め装置からの機械的な振動の望ましくない伝達が防止
される。
特別な実施例が特徴とする点は、前記位置決め装置の前
記フレームが、前記レンズシステムが少なくとも1個の
スプリング部材と少なくとも1個のダンピング部材の手
段により固定されている前記光学リソグラフィック装置
のマシンフレームに結合されている点である。スプリン
グ部材とダンピング部材の使用によりレンズシステムと
光学リソグラフィック装置の他の精密部品に対する位置
決め装置からの機械的な振動の望ましくない伝達が防止
される。
【００１５】本発明の光リソグラフィック装置の別の実
施例が特徴とする点は、前記光学リソグラフィック装置
に、前記マスクサポートの近傍に搬送アームによって前
記マスクサポート上に位置決めされるべきマスクの前記
レンズシステムに対する位置を測定する第一位置決めセ
ンサーが設けられていて、前記光学リソグラフィック装
置に、更に前記レンズシステムに対する前記位置決め装
置の前記フレームの位置を測定する第二位置センサーが
設けられている点である。この位置センサーの使用によ
り、マスクを当該搬送アームによりマスクサポートに載
置する前に当該マニュプレータの手段により正確な方法
でレンズシステムに対してマスクの位置決めをすること
が可能となる。
施例が特徴とする点は、前記光学リソグラフィック装置
に、前記マスクサポートの近傍に搬送アームによって前
記マスクサポート上に位置決めされるべきマスクの前記
レンズシステムに対する位置を測定する第一位置決めセ
ンサーが設けられていて、前記光学リソグラフィック装
置に、更に前記レンズシステムに対する前記位置決め装
置の前記フレームの位置を測定する第二位置センサーが
設けられている点である。この位置センサーの使用によ
り、マスクを当該搬送アームによりマスクサポートに載
置する前に当該マニュプレータの手段により正確な方法
でレンズシステムに対してマスクの位置決めをすること
が可能となる。
【００１６】本発明の光学リソグラフィック装置の更に
別の実施例が特徴とする点は、前記光学リソグラフィッ
ク装置に、搬送アームにより前記マスクサポートに位置
決めされるべき前記レンズシステムに対する位置を測定
する位置センサーが前記マスクサポートの近くに設けら
れていて、更に、前記光学リソグラフィック装置に、前
記位置決め装置の前記フレームが前記位置センサーから
前記マスクサポートまで当該搬送アームにより前記マス
クを変位させる間、前記マシンフレームに結合可能であ
る固定された結合が更に設けられている点である。マス
クをマスクサポート上に正確に位置決めすることがこの
固定された結合の使用により得られる。
別の実施例が特徴とする点は、前記光学リソグラフィッ
ク装置に、搬送アームにより前記マスクサポートに位置
決めされるべき前記レンズシステムに対する位置を測定
する位置センサーが前記マスクサポートの近くに設けら
れていて、更に、前記光学リソグラフィック装置に、前
記位置決め装置の前記フレームが前記位置センサーから
前記マスクサポートまで当該搬送アームにより前記マス
クを変位させる間、前記マシンフレームに結合可能であ
る固定された結合が更に設けられている点である。マス
クをマスクサポート上に正確に位置決めすることがこの
固定された結合の使用により得られる。
【００１７】
【実施例】図1〜図6に示される光学リソグラフィック装
置には、垂直Z軸に平行に延在する光学主軸3を有する、
図1では線図的にのみ示されている、レンズシステム1が
設けられている。下側部分でレンズシステム1にはマウ
ント用金属リング5が、レンズシステム1を光学リソグラ
フィック装置のマシーンフレーム9のマウント部材7に固
定することにより設けられている。マウント部材7は、Z
軸に垂直な面に延在しかつ3個のコーナー部分11が設け
られている実質上三角形の金属板である。マウント部材
7は、コーナー部分11の各々の近くでフレームサポート1
3上に載置される。図1に於ては2個のコーナー部分11と2
個のフレームサポート13のみが示されている。フレーム
サポート13は光学リソグラフィック装置のベース15に位
置決めされていて、そのベースは調整部材17を介して平
面基台に載置されている。各フレームサポート13には、
それ自身は通常の種類の（図1には詳細に示されていな
い）ダンピング部材とスプリング部材が設けられている
ので、マシーンフレーム9はZ軸に平行と垂直な方向内で
ベース15に対して低振動数（約3Hz）でスプリング支持
される。基台からベース15を介してマシンフレーム9と
レンズシステム1に伝わる不必要な振動はフレームサポ
ート13の使用により防止される。
置には、垂直Z軸に平行に延在する光学主軸3を有する、
図1では線図的にのみ示されている、レンズシステム1が
設けられている。下側部分でレンズシステム1にはマウ
ント用金属リング5が、レンズシステム1を光学リソグラ
フィック装置のマシーンフレーム9のマウント部材7に固
定することにより設けられている。マウント部材7は、Z
軸に垂直な面に延在しかつ3個のコーナー部分11が設け
られている実質上三角形の金属板である。マウント部材
7は、コーナー部分11の各々の近くでフレームサポート1
3上に載置される。図1に於ては2個のコーナー部分11と2
個のフレームサポート13のみが示されている。フレーム
サポート13は光学リソグラフィック装置のベース15に位
置決めされていて、そのベースは調整部材17を介して平
面基台に載置されている。各フレームサポート13には、
それ自身は通常の種類の（図1には詳細に示されていな
い）ダンピング部材とスプリング部材が設けられている
ので、マシーンフレーム9はZ軸に平行と垂直な方向内で
ベース15に対して低振動数（約3Hz）でスプリング支持
される。基台からベース15を介してマシンフレーム9と
レンズシステム1に伝わる不必要な振動はフレームサポ
ート13の使用により防止される。
【００１８】図1に示されるように光学リソグラフィッ
ク装置には、レンズシステム1の上側の近くにおいてレ
ンズシステム1に対してマスク21を支持するマスクサポ
ート19が設けられている。例えば集積回路パターンを有
するマスク21は、Z軸を横切る面でマスクサポート19上
に延在する。光源23からの光ビームは、動作中ミラー25
と27によりマスク21を通過しかつレンズシステム1によ
りZ軸に横切って延在する対象物テーブル31の支持表面
上に載置される、例えば半導体基板29の、基板にフォー
カスされる。この方法によりマスク21のパターンは縮小
されて半導体基板29上に映像化される。
ク装置には、レンズシステム1の上側の近くにおいてレ
ンズシステム1に対してマスク21を支持するマスクサポ
ート19が設けられている。例えば集積回路パターンを有
するマスク21は、Z軸を横切る面でマスクサポート19上
に延在する。光源23からの光ビームは、動作中ミラー25
と27によりマスク21を通過しかつレンズシステム1によ
りZ軸に横切って延在する対象物テーブル31の支持表面
上に載置される、例えば半導体基板29の、基板にフォー
カスされる。この方法によりマスク21のパターンは縮小
されて半導体基板29上に映像化される。
【００１９】対象物テーブル31は、Z方向に垂直なX方向
と、X方向とZ方向に垂直なY方向とに平行に図1で部分的
に示されている位置決め装置33によりステップ状に変位
可能である。この場合の対象物テーブル31は、いわゆる
空気力学的に支持されている足35によりZ方向に垂直に
延在するベース表面37に沿って接触せずにガイドされ、
ベース表面37は位置決め装置33が固定されるグラナイト
支持スラブ39の上側表面である。サポートスラブ39は、
垂直パネル43によりマウント部材7の下側45から吊り下
げられているキャリアプレート41に設けられている。位
置決め装置33と空気力学的に支持されている足35とは、
米国特許第4,737,823号により知られている種類のもの
である。半導体基板29には、対象物テーブル31を位置決
め装置33によりステップ状に別々の露光位置に変位させ
る事により同一の回路が数多くの位置で照射される。
と、X方向とZ方向に垂直なY方向とに平行に図1で部分的
に示されている位置決め装置33によりステップ状に変位
可能である。この場合の対象物テーブル31は、いわゆる
空気力学的に支持されている足35によりZ方向に垂直に
延在するベース表面37に沿って接触せずにガイドされ、
ベース表面37は位置決め装置33が固定されるグラナイト
支持スラブ39の上側表面である。サポートスラブ39は、
垂直パネル43によりマウント部材7の下側45から吊り下
げられているキャリアプレート41に設けられている。位
置決め装置33と空気力学的に支持されている足35とは、
米国特許第4,737,823号により知られている種類のもの
である。半導体基板29には、対象物テーブル31を位置決
め装置33によりステップ状に別々の露光位置に変位させ
る事により同一の回路が数多くの位置で照射される。
【００２０】複雑な半導体構造を得るために、半導体基
板29は次々に別々のマスクにより照射されなければなら
ない。図1及び図2に示されるように、光学リソグラフィ
ック装置には、この目的のために、半導体基板29を照射
するのに必要なマスク49がスタックされているマスクマ
ガジン47が複数装備されている。この構成においてマス
ク49は、Z方向を横切る面内に延在し、該当するマスク
マガジン47の内側サイドに設けられていて、かつ図1に
示されているマスクマガジン47の作動位置内のX方向に
実質上平行に延在している2個の平行サポートレッジ51
に、2個の水平方向のサイドにより、各々載置されてい
る。マスクマガジン47は、ベース15に固定されているキ
ャリアプラットフォーム53上にY方向に並べて配置され
ている。マスクマガジン47を簡単にかつ即座に取り替え
るためかつ光学リソグラフィック装置との整合性を良く
するために、キャリアプラットフォーム53は、ベース15
に対して垂直回転軸55と57の各々について別々に回転可
能である。
板29は次々に別々のマスクにより照射されなければなら
ない。図1及び図2に示されるように、光学リソグラフィ
ック装置には、この目的のために、半導体基板29を照射
するのに必要なマスク49がスタックされているマスクマ
ガジン47が複数装備されている。この構成においてマス
ク49は、Z方向を横切る面内に延在し、該当するマスク
マガジン47の内側サイドに設けられていて、かつ図1に
示されているマスクマガジン47の作動位置内のX方向に
実質上平行に延在している2個の平行サポートレッジ51
に、2個の水平方向のサイドにより、各々載置されてい
る。マスクマガジン47は、ベース15に固定されているキ
ャリアプラットフォーム53上にY方向に並べて配置され
ている。マスクマガジン47を簡単にかつ即座に取り替え
るためかつ光学リソグラフィック装置との整合性を良く
するために、キャリアプラットフォーム53は、ベース15
に対して垂直回転軸55と57の各々について別々に回転可
能である。
【００２１】図1に示されるように光学リソグラフィッ
ク装置には更に位置決め装置59が設けられていて、これ
によりマスク49がマスクマガジン47からマスクサポート
19上に交互に載置される。図1で線図的にのみ示されて
いる位置決め装置59には、光学リソグラフィック装置の
ベース15に固定されているフレーム61が設けられてい
る。動作中に位置決め装置59が発生する機械振動のマシ
ンフレーム9とレンズシステム1への望ましくない伝達
は、マスクマガジン47のキャリアプラットフォーム53と
位置決め装置59のフレーム61との両方をフレームサポー
ト13によりベース15に固定する事により防止される。
ク装置には更に位置決め装置59が設けられていて、これ
によりマスク49がマスクマガジン47からマスクサポート
19上に交互に載置される。図1で線図的にのみ示されて
いる位置決め装置59には、光学リソグラフィック装置の
ベース15に固定されているフレーム61が設けられてい
る。動作中に位置決め装置59が発生する機械振動のマシ
ンフレーム9とレンズシステム1への望ましくない伝達
は、マスクマガジン47のキャリアプラットフォーム53と
位置決め装置59のフレーム61との両方をフレームサポー
ト13によりベース15に固定する事により防止される。
【００２２】図1に示されるように位置決め装置59のフ
レーム61は、Z軸方向に延在しかつ下側でベース15の横
の面65に固定されているコラム63を有している。第一サ
ポートプレート67と第二サポートプレート69とはZ方向
で見てある距離離してコラム63に固定されていて、両者
共コラム63からレンズシステム1に向って延在してい
る。第一サポートプレート67の上側表面71と第二サポー
トプレート69の下側面73は、両者共Z方向に垂直に延在
している。位置決め装置59の第一XYマニュプレータ75は
第一サポートプレート67の上側面71に固定されていて、
これにより第一グリッパアーム77はX方向及びY方向に平
行に変位可能である。一方位置決め装置59に属しかつ第
一XYマシンフレーム75に実質上同一である第二XYマニュ
プレータ79は、第二サポートプレート69の下側面73に固
定されていて、このマニュプレータにより第二グリッパ
アーム81（図2参照）がX方向とY方向に平行に変位可能
となる。第一XYマニュプレータ75と第二XYマニュプレー
タ79は、図1では部分的にしか示されていないことに注
意されたい。
レーム61は、Z軸方向に延在しかつ下側でベース15の横
の面65に固定されているコラム63を有している。第一サ
ポートプレート67と第二サポートプレート69とはZ方向
で見てある距離離してコラム63に固定されていて、両者
共コラム63からレンズシステム1に向って延在してい
る。第一サポートプレート67の上側表面71と第二サポー
トプレート69の下側面73は、両者共Z方向に垂直に延在
している。位置決め装置59の第一XYマニュプレータ75は
第一サポートプレート67の上側面71に固定されていて、
これにより第一グリッパアーム77はX方向及びY方向に平
行に変位可能である。一方位置決め装置59に属しかつ第
一XYマシンフレーム75に実質上同一である第二XYマニュ
プレータ79は、第二サポートプレート69の下側面73に固
定されていて、このマニュプレータにより第二グリッパ
アーム81（図2参照）がX方向とY方向に平行に変位可能
となる。第一XYマニュプレータ75と第二XYマニュプレー
タ79は、図1では部分的にしか示されていないことに注
意されたい。
【００２３】図2においては位置決め装置59のフレーム6
1の表示を省いたので、2個のXYマニュプレータ75と79が
この図においてはより詳細に示されている。図2に示さ
れるように第一XYマニュプレータ75は、両者ともY方向
に平行に延在しかつ両者とも第一サポートプレート67の
上側面71に固定されている第一直線Yガイド83と第一の
ガイドに平行な第二直線Yガイド85とを有している。第
一及び第二スライド87、89は、第一及び第二Yガイド8
3、85に沿って変位する様に別々にガイドされる。第一X
Yマニュプレータ75は、更にX方向に実質上平行に延在し
かつ後に詳細に示す様に第一スライド87と第二スライド
89に結合されている直線Xガイド91を有している。それ
自身は公知の種類のZマニュプレータ95により上述した
第一グリッパアーム77が固定されている第三スライド93
は、Xガイド91に沿って変位してガイドされる。第一グ
リッパアーム77はXガイド91に沿って第三スライド93の
変位によりX方向に平行に移動することが可能で、一方
第一グリッパアーム77は、第一及び第二Yガイド83、85
に沿って第一及び第二スライド87、89を各々等しく変位
させる事によりY方向に平行に移動させることが可能で
ある。同様にして第二XYマニュプレータ79には、両者と
もY方向に向けられている第一直線Yガイド97と第二直線
Yガイド99とが設けられている。Yガイド97と99は、第一
XYマニュプレータ75の第一及び第二Yガイド83及び85のX
及びY位置に対応するX及びY位置内における第二サポー
トプレート69の下側面73に固定されている。更に第二XY
マニュプレータ79も、又X方向に実質上平行に延在しか
つ第一XYマニュプレータ75のXガイド91と同様な方法で
第二Yガイド99に沿って移動させる事が可能な第二スラ
イド105と第一Yガイド97に沿って移動させる事が可能な
第一スライド103とに結合されている直線Xガイド101を
有している。前述のZマニュプレータ95と同一のZマニュ
プレータ109によって第二グリッパアーム81が固定され
ている第三スライド107は、Xガイド101に沿って変位し
てガイドされる。2個の同一XYマニュプレータ75と79を
有する位置決め装置59は、この結果単純で強固な構成と
なる。グリッパアーム77と81を有する2個のXガイド91と
101は、Z方向に見てYガイド83、85、97及び99の間に配
置されているので、グリッパアーム77と81はX方向とY方
向及びZ方向に同様な動作範囲を有している。第一XYマ
ニュプレータ75は、以下に詳細に説明する。
1の表示を省いたので、2個のXYマニュプレータ75と79が
この図においてはより詳細に示されている。図2に示さ
れるように第一XYマニュプレータ75は、両者ともY方向
に平行に延在しかつ両者とも第一サポートプレート67の
上側面71に固定されている第一直線Yガイド83と第一の
ガイドに平行な第二直線Yガイド85とを有している。第
一及び第二スライド87、89は、第一及び第二Yガイド8
3、85に沿って変位する様に別々にガイドされる。第一X
Yマニュプレータ75は、更にX方向に実質上平行に延在し
かつ後に詳細に示す様に第一スライド87と第二スライド
89に結合されている直線Xガイド91を有している。それ
自身は公知の種類のZマニュプレータ95により上述した
第一グリッパアーム77が固定されている第三スライド93
は、Xガイド91に沿って変位してガイドされる。第一グ
リッパアーム77はXガイド91に沿って第三スライド93の
変位によりX方向に平行に移動することが可能で、一方
第一グリッパアーム77は、第一及び第二Yガイド83、85
に沿って第一及び第二スライド87、89を各々等しく変位
させる事によりY方向に平行に移動させることが可能で
ある。同様にして第二XYマニュプレータ79には、両者と
もY方向に向けられている第一直線Yガイド97と第二直線
Yガイド99とが設けられている。Yガイド97と99は、第一
XYマニュプレータ75の第一及び第二Yガイド83及び85のX
及びY位置に対応するX及びY位置内における第二サポー
トプレート69の下側面73に固定されている。更に第二XY
マニュプレータ79も、又X方向に実質上平行に延在しか
つ第一XYマニュプレータ75のXガイド91と同様な方法で
第二Yガイド99に沿って移動させる事が可能な第二スラ
イド105と第一Yガイド97に沿って移動させる事が可能な
第一スライド103とに結合されている直線Xガイド101を
有している。前述のZマニュプレータ95と同一のZマニュ
プレータ109によって第二グリッパアーム81が固定され
ている第三スライド107は、Xガイド101に沿って変位し
てガイドされる。2個の同一XYマニュプレータ75と79を
有する位置決め装置59は、この結果単純で強固な構成と
なる。グリッパアーム77と81を有する2個のXガイド91と
101は、Z方向に見てYガイド83、85、97及び99の間に配
置されているので、グリッパアーム77と81はX方向とY方
向及びZ方向に同様な動作範囲を有している。第一XYマ
ニュプレータ75は、以下に詳細に説明する。
【００２４】図3〜図6は、第一XYマニュプレータ75の詳
細を示す。第二XYマニュプレータ79の詳細は同一である
ので以下においては議論しない。図3及び図4が示すよう
に第一Yガイド83は、図3及び図4に示されていないロー
ラ部材により第一スライド87がガイドされるY方向に平
行のガイドレール111を有している。ガイドレール111
は、その両端の近くで各々直立したエンドウォール115
と117が設けられている（図3参照）横長のベースプレー
ト113上に固定されている。第一Yガイド83には、さら
に、ガイドレール111に平行でかつ2個のエンドウォール
115と117内にその回転ベアリングを有しているスピンド
ル119が設けられている。さらに図4が示すように第一ス
ライド87は、スピンドル119に係合しているスリーブナ
ット125を有するナットハウジング123を有している。図
3は、更に、エンドウォール115の近くでベースプレート
113に固定されていてかつその出力シャフト129が直接ス
ピンドル119に結合されている電気駆動モータ127を線図
的に示している。スピンドル119とスリーブナット125と
の間の伝達比を大きくして、スピンドル119と駆動モー
タ127の出力シャフト129とを直接結合させる場合には、
ガイドレール111に沿って第一スライド87に正確で実質
上遊びの無い駆動を与えることが出来る。第二Yガイド8
5も、同様な方法で構成されていることに注意された
い。
細を示す。第二XYマニュプレータ79の詳細は同一である
ので以下においては議論しない。図3及び図4が示すよう
に第一Yガイド83は、図3及び図4に示されていないロー
ラ部材により第一スライド87がガイドされるY方向に平
行のガイドレール111を有している。ガイドレール111
は、その両端の近くで各々直立したエンドウォール115
と117が設けられている（図3参照）横長のベースプレー
ト113上に固定されている。第一Yガイド83には、さら
に、ガイドレール111に平行でかつ2個のエンドウォール
115と117内にその回転ベアリングを有しているスピンド
ル119が設けられている。さらに図4が示すように第一ス
ライド87は、スピンドル119に係合しているスリーブナ
ット125を有するナットハウジング123を有している。図
3は、更に、エンドウォール115の近くでベースプレート
113に固定されていてかつその出力シャフト129が直接ス
ピンドル119に結合されている電気駆動モータ127を線図
的に示している。スピンドル119とスリーブナット125と
の間の伝達比を大きくして、スピンドル119と駆動モー
タ127の出力シャフト129とを直接結合させる場合には、
ガイドレール111に沿って第一スライド87に正確で実質
上遊びの無い駆動を与えることが出来る。第二Yガイド8
5も、同様な方法で構成されていることに注意された
い。
【００２５】図3及び図5に示されるようにXガイド91は
箱状ガーダー131を有している。レンズシステム1に対向
しているガーダー131のサイド133には、X方向に平行に
延在する2個のガイドレール137と139が固定されている
長尺ベースプレート135が設けられている。第三スライ
ド93の第一スライド部分141と第二スライド部分143と
は、各々図3及び図5に示されていないローラ部材により
ガイドレール137と139に沿ってガイドされる。ベースプ
レート135にはその2個の端の近くに於て各々直立したエ
ンドウォール145及び147（図3参照）が設けられてい
る。X方向に平行に向けられていてかつ2個のスライド部
分141と143との間に配置されているスピンドル149（図5
参照）は、エンドウォール145と147内にその回転ベアリ
ングを有しかつブリッジプレート155により2個のスライ
ド部分141と143とに固定されているスリーブナット153
に係合している。スピンドル149は、エンドウォール145
の近くのベースプレート135に固定されている電気駆動
モータ159の出力シャフト157に直接結合されている。
箱状ガーダー131を有している。レンズシステム1に対向
しているガーダー131のサイド133には、X方向に平行に
延在する2個のガイドレール137と139が固定されている
長尺ベースプレート135が設けられている。第三スライ
ド93の第一スライド部分141と第二スライド部分143と
は、各々図3及び図5に示されていないローラ部材により
ガイドレール137と139に沿ってガイドされる。ベースプ
レート135にはその2個の端の近くに於て各々直立したエ
ンドウォール145及び147（図3参照）が設けられてい
る。X方向に平行に向けられていてかつ2個のスライド部
分141と143との間に配置されているスピンドル149（図5
参照）は、エンドウォール145と147内にその回転ベアリ
ングを有しかつブリッジプレート155により2個のスライ
ド部分141と143とに固定されているスリーブナット153
に係合している。スピンドル149は、エンドウォール145
の近くのベースプレート135に固定されている電気駆動
モータ159の出力シャフト157に直接結合されている。
【００２６】図6に示されるようにXガイド91には、Z方
向に平行に向けられている中心ライン165と167を有する
第一及び第二ベアリングブッシュ161と163とが設けられ
ている。ベアリングブッシュ161と163は、Z方向にある
距離離して配置させた2個のボールベアリング169によ
り、ベアリングブッシュ161と同軸的に配置されていて
かつ第一スライド87上に固定されている第一回転ピン17
1と、ベアリングブッシュ163と同軸的に配置されていて
かつ第二スライド89に固定されている第二回転ピン173
とに関し、各々回転可能に支持されている。図6に示す
ように第一ベアリングブッシュ161は2個のマウントブロ
ック175により箱状ガーダー131に固定されているので、
第一ベアリングブッシュ161の中心線165（図3参照）
は、X及びY方向内でXガイド91に対して固定されている
回転軸を形成する。第二ベアリングブッシュ163は、各
々がX方向に横切る面内に延在する2個のブレードスプリ
ング177により箱状ガーダー131に結合されている。ブレ
ードスプリング177の使用により、第二ベアリングブッ
シュ163がX方向に平行に短い距離に渡ってガーダー131
に対して変位することが可能となる。この結果Xガイド9
1を第一及び第二Yガイド83、85に沿って各々第一及び第
二スライド87及び89の等しくない変位によって中心線16
5について小さな角度回転させることを可能とする。こ
れにより第一ベアリングブッシュ161の中心線165と第二
ベアリングブッシュ163の中心線160の間の間隔は2個の
ブレードスプリング167の弾性変形により自動的に適合
化される。
向に平行に向けられている中心ライン165と167を有する
第一及び第二ベアリングブッシュ161と163とが設けられ
ている。ベアリングブッシュ161と163は、Z方向にある
距離離して配置させた2個のボールベアリング169によ
り、ベアリングブッシュ161と同軸的に配置されていて
かつ第一スライド87上に固定されている第一回転ピン17
1と、ベアリングブッシュ163と同軸的に配置されていて
かつ第二スライド89に固定されている第二回転ピン173
とに関し、各々回転可能に支持されている。図6に示す
ように第一ベアリングブッシュ161は2個のマウントブロ
ック175により箱状ガーダー131に固定されているので、
第一ベアリングブッシュ161の中心線165（図3参照）
は、X及びY方向内でXガイド91に対して固定されている
回転軸を形成する。第二ベアリングブッシュ163は、各
々がX方向に横切る面内に延在する2個のブレードスプリ
ング177により箱状ガーダー131に結合されている。ブレ
ードスプリング177の使用により、第二ベアリングブッ
シュ163がX方向に平行に短い距離に渡ってガーダー131
に対して変位することが可能となる。この結果Xガイド9
1を第一及び第二Yガイド83、85に沿って各々第一及び第
二スライド87及び89の等しくない変位によって中心線16
5について小さな角度回転させることを可能とする。こ
れにより第一ベアリングブッシュ161の中心線165と第二
ベアリングブッシュ163の中心線160の間の間隔は2個の
ブレードスプリング167の弾性変形により自動的に適合
化される。
【００２７】上述したように第一グリッパアーム77は、
それ自身は知られている種類のZマニュプレータ95を介
して第三スライド93に結合されている。グリッパアーム
77は、ブリッジプレート155に固定されていてかつ図3及
び図5に線図的にのみ示されているZマニュプレータ95に
より第三スライド93に対してZ方向に平行に変位可能で
ある。Zマニュプレータ95は、ブリッジプレート155に設
けられかつZ方向に延在しているガイドレールに沿って
ナットとリードスクリュー又はラックとピニオンによっ
て変位させる事が可能となるスライドを有していても良
い。Z方向に平行に正確な変位が得られるZマニュプレー
タ95の別の実施例は、ブリッジブレート155に固定され
ている駆動モータにより駆動されるプレートカムを抑え
ている丸いカムフォロワーを有するガイドレールに沿っ
て変位可能なスライドを有している。
それ自身は知られている種類のZマニュプレータ95を介
して第三スライド93に結合されている。グリッパアーム
77は、ブリッジプレート155に固定されていてかつ図3及
び図5に線図的にのみ示されているZマニュプレータ95に
より第三スライド93に対してZ方向に平行に変位可能で
ある。Zマニュプレータ95は、ブリッジプレート155に設
けられかつZ方向に延在しているガイドレールに沿って
ナットとリードスクリュー又はラックとピニオンによっ
て変位させる事が可能となるスライドを有していても良
い。Z方向に平行に正確な変位が得られるZマニュプレー
タ95の別の実施例は、ブリッジブレート155に固定され
ている駆動モータにより駆動されるプレートカムを抑え
ている丸いカムフォロワーを有するガイドレールに沿っ
て変位可能なスライドを有している。
【００２８】図3に示されるようにグリッパアーム77
は、Z方向に垂直に延在しかつレンズシステム1に面して
いてその端181の近くに設けられているプレート状アー
ム179を有している。これには、X方向に向いていてかつ
アーム179の面内に位置しているフォーク部分185を有す
る2つの部分を有するフォーク183が設けられている。こ
れらのフォーク部分には各々の端の近くで直立するサポ
ートリム187が設けられている。第三スライド93は2個の
平行ガイドレール137と139に沿ってガイドされるので
（図5参照）、グリッパアーム77をX方向に平行に安定し
てかつ強固にガイドさせる事ができる。この際グリッパ
アーム77の重量に依存するモーメントは2個のスライド
部分141と143によりガイドレール137と139に発生する通
常の力を介して箱状ガーダー131に伝達される。
は、Z方向に垂直に延在しかつレンズシステム1に面して
いてその端181の近くに設けられているプレート状アー
ム179を有している。これには、X方向に向いていてかつ
アーム179の面内に位置しているフォーク部分185を有す
る2つの部分を有するフォーク183が設けられている。こ
れらのフォーク部分には各々の端の近くで直立するサポ
ートリム187が設けられている。第三スライド93は2個の
平行ガイドレール137と139に沿ってガイドされるので
（図5参照）、グリッパアーム77をX方向に平行に安定し
てかつ強固にガイドさせる事ができる。この際グリッパ
アーム77の重量に依存するモーメントは2個のスライド
部分141と143によりガイドレール137と139に発生する通
常の力を介して箱状ガーダー131に伝達される。
【００２９】マスクマガジン47の1個からマスク49を取
り出すために、グリッパアーム77のフォーク183がXYマ
ニュプレータ75により当該マスク49の下に移動する。次
にグリッパアーム77がZマニュプレータ95により持ち上
げられると、フォーク部分185はマスクマガジン47の当
該支持レッジ51の間に入り込みそしてマスク49はフォー
ク部分185の上に載置される。図3が示すようにグリッパ
アーム77には、更に、マスク49に対して移動するピン19
1を有する空気圧シリンダー189が設けられているので、
マスク49はグリッパアーム77に対して正確な位置でピン
191とフォーク部分185の前記サポートブリッジ187との
間にクランプされる。
り出すために、グリッパアーム77のフォーク183がXYマ
ニュプレータ75により当該マスク49の下に移動する。次
にグリッパアーム77がZマニュプレータ95により持ち上
げられると、フォーク部分185はマスクマガジン47の当
該支持レッジ51の間に入り込みそしてマスク49はフォー
ク部分185の上に載置される。図3が示すようにグリッパ
アーム77には、更に、マスク49に対して移動するピン19
1を有する空気圧シリンダー189が設けられているので、
マスク49はグリッパアーム77に対して正確な位置でピン
191とフォーク部分185の前記サポートブリッジ187との
間にクランプされる。
【００３０】図2に詳細に示されているようにそれらの
上側面がZ方向に垂直である共通面内に位置している4個
の支持ブロック195は、マスクサポート19の光チャネル1
93の回りに配置されている。マスク49がマスクサポート
19上に設けられるべきである場合には、当該マスク49を
最初XYマニュプレータ75によりサポートブロック195の
上に移動させ、その後マスク49が4個のサポートブロッ
ク195の上に位置する様になるまでZマニュプレータ95に
よりグリッパアーム77を下の方に移動させる。次にマス
ク49を図示されていないアンダープレッシャーシステム
によりサポートブロック95上に押し付け、グリッパアー
ム77のピン191をシリンダー189により引き込ませ、グリ
ッパアーム77をZマニュプレータ95により待ち位置まで
短い距離に渡って下に移動させる。マスク49はこのよう
にしてグリッパアーム77から開放され、グリッパアーム
は当該マスク49による半導体基板29の露光の間待ち位置
でマスク49の近くに留まる。次に照射の後上述した動作
がマスクサポート19からマスク49を除去するために逆の
順序に実行される。
上側面がZ方向に垂直である共通面内に位置している4個
の支持ブロック195は、マスクサポート19の光チャネル1
93の回りに配置されている。マスク49がマスクサポート
19上に設けられるべきである場合には、当該マスク49を
最初XYマニュプレータ75によりサポートブロック195の
上に移動させ、その後マスク49が4個のサポートブロッ
ク195の上に位置する様になるまでZマニュプレータ95に
よりグリッパアーム77を下の方に移動させる。次にマス
ク49を図示されていないアンダープレッシャーシステム
によりサポートブロック95上に押し付け、グリッパアー
ム77のピン191をシリンダー189により引き込ませ、グリ
ッパアーム77をZマニュプレータ95により待ち位置まで
短い距離に渡って下に移動させる。マスク49はこのよう
にしてグリッパアーム77から開放され、グリッパアーム
は当該マスク49による半導体基板29の露光の間待ち位置
でマスク49の近くに留まる。次に照射の後上述した動作
がマスクサポート19からマスク49を除去するために逆の
順序に実行される。
【００３１】上述したように位置決め装置59のフレーム
61はベース15に直接固定されているが、レンズシステム
1とマスクサポート19が固定されているマシーンフレー
ム9は、フレームサポート13によりベース15に対して低
振動数のスプリングで支持されている。この結果マシー
ンフレーム9は対象物テーブル31の位置決め装置33が発
生する反力の影響により動作中位置決め装置59のフレー
ム61に対して非常に僅か振動する。そのため、マスクサ
ポート19に対するグリッパアーム77と81の位置が確実に
は規定されない。この結果位置決め精度が最も必要とさ
れる特別な状況の場合にはその正確度は達成できないか
も知れない。この様な状況下でマスクサポート19上にマ
スク49の非常に正確な望ましい位置決めを可能とするた
め、光学リソグラフィック装置の特別な実施例には、グ
リッパアーム77、81の1個により支持されているマスク4
9のレンズシステム1に対するX、Y及びZ位置
61はベース15に直接固定されているが、レンズシステム
1とマスクサポート19が固定されているマシーンフレー
ム9は、フレームサポート13によりベース15に対して低
振動数のスプリングで支持されている。この結果マシー
ンフレーム9は対象物テーブル31の位置決め装置33が発
生する反力の影響により動作中位置決め装置59のフレー
ム61に対して非常に僅か振動する。そのため、マスクサ
ポート19に対するグリッパアーム77と81の位置が確実に
は規定されない。この結果位置決め精度が最も必要とさ
れる特別な状況の場合にはその正確度は達成できないか
も知れない。この様な状況下でマスクサポート19上にマ
スク49の非常に正確な望ましい位置決めを可能とするた
め、光学リソグラフィック装置の特別な実施例には、グ
リッパアーム77、81の1個により支持されているマスク4
9のレンズシステム1に対するX、Y及びZ位置
【外１】 を測定することを可能とする、それ自身は公知である第
一光学位置決めセンサ201と、レンズシステム1に対する
位置決め装置59のX、Y及びZ位置
一光学位置決めセンサ201と、レンズシステム1に対する
位置決め装置59のX、Y及びZ位置
【外２】 を測定することが出来る第二位置センサ203とが設けら
れている。位置センサ201及び203は図1及び図2に線図的
に示されていて、図7は線図的に2個のXYマニュプレータ
75と79を制御する制御システムを示す。
れている。位置センサ201及び203は図1及び図2に線図的
に示されていて、図7は線図的に2個のXYマニュプレータ
75と79を制御する制御システムを示す。
【００３２】図1及び図2に示されるように、位置センサ
201は、マシーンフレーム9に固定されていてかつマスク
サポート19とキャリアプラットフォーム53との間に配置
されているセンサハウジング207のZ方向に横切るように
延在している開口205内に設けられている。当該マスク4
9が当該グリッパアーム77、81によりマスクマガジン47
から取り出された後、マスク49は先ずグリッパアーム7
7、81によりセンサハウジング207の開口205に載置され
る。この位置で、位置センサ201はレンズシステム1に対
するマスク49の位置
201は、マシーンフレーム9に固定されていてかつマスク
サポート19とキャリアプラットフォーム53との間に配置
されているセンサハウジング207のZ方向に横切るように
延在している開口205内に設けられている。当該マスク4
9が当該グリッパアーム77、81によりマスクマガジン47
から取り出された後、マスク49は先ずグリッパアーム7
7、81によりセンサハウジング207の開口205に載置され
る。この位置で、位置センサ201はレンズシステム1に対
するマスク49の位置
【外３】 を測定する。図7が示すように位置センサ201と203の電
気出力は電子サンプラー209に接続されているが、これ
にはレンズシステム1に対するマスク49の初期位置
気出力は電子サンプラー209に接続されているが、これ
にはレンズシステム1に対するマスク49の初期位置
【外４】 と、マスク49がセンサハウジング207内に位置している
間の所定のモーメントでのレンズシステム1に対するフ
レーム61の初期位置
間の所定のモーメントでのレンズシステム1に対するフ
レーム61の初期位置
【外５】 とが登録されている。次いでマスク49は当該XYマニュプ
レータ75、79により距離外４に渡ってセンサハウジング
207からマスクサポート19まで移動する。この変位の間
初期位置外５と瞬時の位置
レータ75、79により距離外４に渡ってセンサハウジング
207からマスクサポート19まで移動する。この変位の間
初期位置外５と瞬時の位置
【外６】 の間の差
【式１】 は図7に示される減算回路211により連続的に決定され、
当該瞬時の位置は第二位置センサ203により連続的に測
定される。当該XYマニュプレータ75、79の変位は、サン
プラー209から初期位置外４の函数である信号及び減算
回路211から差
当該瞬時の位置は第二位置センサ203により連続的に測
定される。当該XYマニュプレータ75、79の変位は、サン
プラー209から初期位置外４の函数である信号及び減算
回路211から差
【外７】 の函数である信号を受け取る電子コントローラ213によ
り制御される。センサハウジング207からマスクサポー
ト19までのマスク49の変位の間、コントローラ213はフ
レーム61に対するマシーンフレーム9の動きに対し、そ
の変位の間に発生するかも知れないレンズシステム1に
対するマスク49の測定された初期位置外４を信号外７に
より補正する。それ故当該移動の間でも、位置決め装置
59によりマスクサポート19上のマスク49の正確な位置決
めを実現させることが出来る。
り制御される。センサハウジング207からマスクサポー
ト19までのマスク49の変位の間、コントローラ213はフ
レーム61に対するマシーンフレーム9の動きに対し、そ
の変位の間に発生するかも知れないレンズシステム1に
対するマスク49の測定された初期位置外４を信号外７に
より補正する。それ故当該移動の間でも、位置決め装置
59によりマスクサポート19上のマスク49の正確な位置決
めを実現させることが出来る。
【００３３】位置センサ203の代わりに、マシンフレー
ム9をフレーム61に対して固定された位置に一時的に結
合させることが出来る結合メカニズム215を使用しても
良い。結合メカニズム215は破線で図7に線図的に示され
ている。レンズシステム1に対するマスク49の位置外４
が位置センサ201により測定される前に、マシンフレー
ム9は結合メカニズム215によりフレーム61に結合され
る。センサハウジング207からマスクサポート19までの
マスク49の変位の間、マシンフレーム9はフレーム61に
結合されたままであるので、マシンフレーム9のフレー
ム61に対する不必要な動きは防止される。結合メカニズ
ム215の使用によりマスクサポート19に対するマスク49
の正確な位置決めは可能となるが、これは光学リソグラ
フィック装置の構成をより複雑にする。
ム9をフレーム61に対して固定された位置に一時的に結
合させることが出来る結合メカニズム215を使用しても
良い。結合メカニズム215は破線で図7に線図的に示され
ている。レンズシステム1に対するマスク49の位置外４
が位置センサ201により測定される前に、マシンフレー
ム9は結合メカニズム215によりフレーム61に結合され
る。センサハウジング207からマスクサポート19までの
マスク49の変位の間、マシンフレーム9はフレーム61に
結合されたままであるので、マシンフレーム9のフレー
ム61に対する不必要な動きは防止される。結合メカニズ
ム215の使用によりマスクサポート19に対するマスク49
の正確な位置決めは可能となるが、これは光学リソグラ
フィック装置の構成をより複雑にする。
【００３４】どの様にマスク49が当該マスクマガジン47
から取り出され、そしてXYマニュプレータ75によりマス
クサポート19にどの様に配置されるかと言う開示と共に
第一XYマニュプレータ75についての詳細な説明をこれま
で行った。以下においては位置決め装置59の2個のXYマ
ニュプレータ75と79の間の協動をより詳細に説明する。
図8における時間ダイアグラムは、時間の函数として2個
のXYマニュプレータ75と79の連続動作を示す。図8に示
される初期時点t0で第一グリッパアーム77は第一マスク
49aが位置するマスクサポート19の近くの待ち位置(WA1)
にあり、一方第二グリッパアーム81は第二マスク49bを
有するセンサハウジング207(SH2-W)にある。時点t0では
マスク49aを介した半導体基板29への照射が終了し、マ
スク49aは図8に示される時間間隔Δt1の間第一グリッパ
アーム77によりマスクサポート19の外側に対しY方向に
平行に移動する（→）。半導体基板29の照射の間第一グ
リッパアーム77はマスク49aの近くにあるので、当該時
間間隔Δt1は短い。時間Δt 1の間マスク49bの第一位置
センサ201により位置測定が行われ(SH2)、その後時点t1
でマスク49bはセンサハウジング207からマスクサポート
19へ第二グリッパアーム81により移動される（→）。こ
れは時間Δt2内で行われ、この後第二グリッパアーム81
は時点t2で待ち位置(WA2)にある。時点t2以降、半導体
基板29はマスク49bに対してまず位置決めされ(WA2-AL、
時間間隔Δt3）、半導体基板29への照射は時点t3で開始
される（WA2-EXP)。露光時間は時間間隔Δt4として図8
に表示されている。一方第一マスク49aは時点t1からス
タートする第一グリッパアーム77により当該マスクマガ
ジン47に戻される。その後次のマスク49cが第一グリッ
パアーム77によりマスクマガジン47から取り出され、セ
ンサハウジング207の位置に置かれる(EXCH1）。位置SH1
-Wに到達するまでの時点t1からの合計の期間は、交換時
間Δt5として図8に示されている。一般に第一グリッパ
アーム77は露光時間Δt4の終了前に位置SH1-Wに到達す
るので、図8内でtCTとして示されているトータルのサイ
クル時間は主に露光時間Δt4によって決まる。露光時間
の終端は図8で時点t4として示されていて、この後時間
Δt6の間にマスク49bは第二グリッパアーム81によりマ
スクサポート19から取り外され（→）、一方同時にマス
ク49cの位置は第一位置センサ201(SH1)によって測定さ
れる。図8に更に示されるようにグリッパアーム77の次
の動作は上述したグリッパアーム81の動作に対応してい
て、グリッパアーム81の次の動作は上述したグリッパア
ーム77の動作に対応している。
から取り出され、そしてXYマニュプレータ75によりマス
クサポート19にどの様に配置されるかと言う開示と共に
第一XYマニュプレータ75についての詳細な説明をこれま
で行った。以下においては位置決め装置59の2個のXYマ
ニュプレータ75と79の間の協動をより詳細に説明する。
図8における時間ダイアグラムは、時間の函数として2個
のXYマニュプレータ75と79の連続動作を示す。図8に示
される初期時点t0で第一グリッパアーム77は第一マスク
49aが位置するマスクサポート19の近くの待ち位置(WA1)
にあり、一方第二グリッパアーム81は第二マスク49bを
有するセンサハウジング207(SH2-W)にある。時点t0では
マスク49aを介した半導体基板29への照射が終了し、マ
スク49aは図8に示される時間間隔Δt1の間第一グリッパ
アーム77によりマスクサポート19の外側に対しY方向に
平行に移動する（→）。半導体基板29の照射の間第一グ
リッパアーム77はマスク49aの近くにあるので、当該時
間間隔Δt1は短い。時間Δt 1の間マスク49bの第一位置
センサ201により位置測定が行われ(SH2)、その後時点t1
でマスク49bはセンサハウジング207からマスクサポート
19へ第二グリッパアーム81により移動される（→）。こ
れは時間Δt2内で行われ、この後第二グリッパアーム81
は時点t2で待ち位置(WA2)にある。時点t2以降、半導体
基板29はマスク49bに対してまず位置決めされ(WA2-AL、
時間間隔Δt3）、半導体基板29への照射は時点t3で開始
される（WA2-EXP)。露光時間は時間間隔Δt4として図8
に表示されている。一方第一マスク49aは時点t1からス
タートする第一グリッパアーム77により当該マスクマガ
ジン47に戻される。その後次のマスク49cが第一グリッ
パアーム77によりマスクマガジン47から取り出され、セ
ンサハウジング207の位置に置かれる(EXCH1）。位置SH1
-Wに到達するまでの時点t1からの合計の期間は、交換時
間Δt5として図8に示されている。一般に第一グリッパ
アーム77は露光時間Δt4の終了前に位置SH1-Wに到達す
るので、図8内でtCTとして示されているトータルのサイ
クル時間は主に露光時間Δt4によって決まる。露光時間
の終端は図8で時点t4として示されていて、この後時間
Δt6の間にマスク49bは第二グリッパアーム81によりマ
スクサポート19から取り外され（→）、一方同時にマス
ク49cの位置は第一位置センサ201(SH1)によって測定さ
れる。図8に更に示されるようにグリッパアーム77の次
の動作は上述したグリッパアーム81の動作に対応してい
て、グリッパアーム81の次の動作は上述したグリッパア
ーム77の動作に対応している。
【００３５】2個の分離したXYマニュプレータ75と79の
使用によりマスク49の早い交換が可能となることは前述
したことから明らかである。図8は、マスクサポート19
にマスク49が存在しない時間Δt1+Δt2がサイクルタイ
ムtCTと比較して短いことを示している。マスクサポー
ト19からマスク49aを取り除いた後、当該マスク49aはす
ぐにマスクマガジン47に戻すことが出来るので、次のマ
スク49cはマスクサポート19上にその時点に存在するマ
スク49bの露光時間の終端以前にセンサハウジング207に
一般的に持ち込むことが可能である。2個のマスク49a、
49bのみが半導体基板29aを照射するのに使用される場合
には、マスク49aはマスクサポート19から取り出された
後センサハウジング207に即座に移動される。
使用によりマスク49の早い交換が可能となることは前述
したことから明らかである。図8は、マスクサポート19
にマスク49が存在しない時間Δt1+Δt2がサイクルタイ
ムtCTと比較して短いことを示している。マスクサポー
ト19からマスク49aを取り除いた後、当該マスク49aはす
ぐにマスクマガジン47に戻すことが出来るので、次のマ
スク49cはマスクサポート19上にその時点に存在するマ
スク49bの露光時間の終端以前にセンサハウジング207に
一般的に持ち込むことが可能である。2個のマスク49a、
49bのみが半導体基板29aを照射するのに使用される場合
には、マスク49aはマスクサポート19から取り出された
後センサハウジング207に即座に移動される。
【００３６】別々のXYマニュプレータ75と79を更に使用
することにより、マスク49は一サイクルの間、当該グリ
ッパアーム77、81により2回しかグリップされないの
で、この原因による光学リソグラフィック装置の汚染と
マスクの摩耗が減少する。
することにより、マスク49は一サイクルの間、当該グリ
ッパアーム77、81により2回しかグリップされないの
で、この原因による光学リソグラフィック装置の汚染と
マスクの摩耗が減少する。
【００３７】平行に動作する2個のマニュプレータを有
する本発明の位置決め装置は、特にその正確で早い動作
により光学リソグラフィック装置の対象物テーブル上の
半導体基板を位置決めするのに適している。さらに本発
明の位置決め装置は、また取り扱う対象物を早急に、連
続して、非常に精度を高く位置決めしなければならない
他の製造または処理機械にも適応可能である。
する本発明の位置決め装置は、特にその正確で早い動作
により光学リソグラフィック装置の対象物テーブル上の
半導体基板を位置決めするのに適している。さらに本発
明の位置決め装置は、また取り扱う対象物を早急に、連
続して、非常に精度を高く位置決めしなければならない
他の製造または処理機械にも適応可能である。
【００３８】上述したXYマニュプレータの代わりに別の
種類のマニュプレータを位置決め装置に使用することも
できる事に更に注意されたい。例えば、ヨーロッパ特許
出願EP-A1-0232930号により知られている2個のマニュプ
レータを光学リソグラフィック装置に平行に動作する2
個のマニュプレータを有する本発明の位置決め装置の応
用にも使用することは可能であり、これによりマスクの
早くて正確な交換が可能となる。
種類のマニュプレータを位置決め装置に使用することも
できる事に更に注意されたい。例えば、ヨーロッパ特許
出願EP-A1-0232930号により知られている2個のマニュプ
レータを光学リソグラフィック装置に平行に動作する2
個のマニュプレータを有する本発明の位置決め装置の応
用にも使用することは可能であり、これによりマスクの
早くて正確な交換が可能となる。
【００３９】第二ベアリングブッシュ163が箱状ガーダ
ー131に固定されているブレードスプリング177の代わり
に交互の結合を第二スライド89、105に対してXガイド9
1、101の変位を許すために使用することも可能である。
それ故例えばXガイド91、101を第二スライド89、105に
固定されていてかつこれはローラ部材によりＸ方向に平
行に延在するストレートガイドに沿ってガイドさせるこ
とも可能である。
ー131に固定されているブレードスプリング177の代わり
に交互の結合を第二スライド89、105に対してXガイド9
1、101の変位を許すために使用することも可能である。
それ故例えばXガイド91、101を第二スライド89、105に
固定されていてかつこれはローラ部材によりＸ方向に平
行に延在するストレートガイドに沿ってガイドさせるこ
とも可能である。
【図１】 本発明の光学リソグラフィック装置を示す。
【図２】 図１の位置決め装置を示す（位置決め装置の
フレームは図示せず）。
フレームは図示せず）。
【図３】 図２の位置決めそう賃XYマニュプレータを詳
細に示す。
細に示す。
【図４】 図３の線IV−IVについてのXYマニュプレータ
のYガイドの断面図を示す。
のYガイドの断面図を示す。
【図５】 図３の線V-V上についてのXYマニュプレータ
のXガイドの断面図を示す。
のXガイドの断面図を示す。
【図６】 図３の線VI-VI上についてのXYマニュプレー
タのXガイドの長手方向の断面図を示す。
タのXガイドの長手方向の断面図を示す。
【図７】 図３のXYマニュプレータを制御する制御シス
テムを示す。
テムを示す。
【図８】 図２の位置決め装置の動作の時間ダイアグラ
ムを示す。
ムを示す。
1：レンズシステム 3：光学主軸 5：マウント用金属リング 7：マウント部材 9：マシーンフレーム 11：コーナー部分 13：フレームサポート 15：ベース 17：調整部材 19：マスクサポート 21：マスク 23：光源 25, 27：ミラー 29：半導体基板 31：対象物テーブル 33：位置決め装置 35：足 37：ベース表面 39：サポートスラブ 41：キャリアプレート 43：垂直パネル 47：マスクマガジン 49：マスク 51：平行サポートレッジ 53：キャリアプラットフォーム 55, 57：垂直回転軸 59：位置決め装置 61：フレーム 63：コラム 67：第一サポートプレート 69：第二サポートプレート 75：第一XYマニュプレータ 77：グリッパアーム 79：第二XYマニュプレータ 81：第二サポートフレーム 83：第一ガイド 85：第二ガイド 87：第一スライド 89：第二スライド 91：Xガイド 93：第三スライド 97：第一直線Yガイド 99：第二直線Yガイド 101：直線Xガイド 103：第一スライド 111：ガイドレール 113：ベースプレート 115, 117：エンドウォール 119：スピンドル 123：ナットハウジング 125：スリーブナット 127：駆動モータ 129：出力シャフト 131：箱状ガーダー 137, 139：ガイドレール 141：第一スライド部分 143：第二スライド部分 145, 147：エンドウォール 149：スピンドル 153：スリーブナット 155：ブリッジプレート 157：出力シャフト 161：第一ベアリングブッシュ 163：第二ベアリングブッシュ 169：ボールベアリング 171：第一回転ピン 173：第二回転ピン 177：ブレードスプリング 179：プレート状アーム 183：フォーク 185：フォーク部分 187：サポートブリッジ 191：ピン 195：サポートブロック 201：第一光学位置決めセンサ 203：第二光学位置決めセンサ 207：センサハウジング 209：サンプラー 211：減算回路 213：電子コントローラ 215：結合メカニズム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 590000248 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイラン ペンファブリケン Ｎ．Ｖ．ＰＨＩＬＩＰＳ’ ＧＬＯＥＩＬ ＡＭＰＥＮＦＡＢＲＩＥＫＥＮ オランダ国 アインドーフェン フルーネ ヴァウツウエッハ １ (72)発明者 ヘンドリカス ヨハネス マリア メイヤ ー オランダ国 5508 ベーカー フェルドホ ーフェン ヘクセンベルグ ７ (72)発明者 ヨハネス アルバート ローゼンフェルド オランダ国 6026 ベーエム マールヘー ゼ ベアトリクスラーン ４ (72)発明者 アドリアヌス ヨハネス ペトラス マリ ア フェルメール オランダ国 アインドーフェン フルーネ ヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ヤン アルバート マルクフォールト オランダ国 アインドーフェン フルーネ ヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ヨハン ファン デア マーデン オランダ国 アインドーフェン フルーネ ヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ヤン ファン エイク オランダ国 アインドーフェン フルーネ ヴァウツウェッハ １
Claims (11)
- 【請求項１】 Z軸を横切る面内に延在する動作位置に
格納位置から板状対象物を交互に搬送する第一及び第二
搬送アームを有し、次の対象物を前記第二搬送アームに
よって動作位置から取り出した後、前記第一搬送アーム
により対象物を動作位置に載置する位置決め装置におい
て、前記搬送アームが、X方向と前記X方向に垂直なY方
向（前記X方向と前記Y方向は前記Z方向に垂直）とに平
行な別々のマニュプレータにより各々変位可能であるこ
とを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項２】 前記マニュプレータが、各々当該搬送ア
ームが変位されるようにガイドされる前記X方向に平行
に延在する直線Xガイドと、前記位置決め装置のフレー
ムに固定されていて、前記Y方向に平行に延在し、そし
て前記Xガイドが変位可能となるようにガイドされる直
線Yガイドとを有していることを特徴とする請求項１に
記載の位置決め装置。 - 【請求項３】 各マニュプレータの前記Xガイドが、第
一直線Yガイド及びそれに平行な第二直線Yガイドに沿っ
て変位可能となるようにガイドされ、当該マニュプレー
タの前記Yガイドを前記Z方向に垂直に延在する面内に位
置させていることを特徴とする請求項２に記載の位置決
め装置。 - 【請求項４】 各マニュプレータの前記Xガイドが、前
記第一Yガイドに沿って変位可能である第一スライドと
前記第二Yガイドに沿って変位可能である第二スライド
とに回転可能に結合されていて、前記Xガイドが前記Z方
向に平行に向けられている回転軸について各スライドに
対して回転可能であり、かつ前記Xガイドが前記X方向に
平行に前記Xガイドを前記第二スライドに対して変位さ
せることを可能とする結合部材により前記第二スライド
に結合されていることを特徴とする請求項３に記載の位
置決め装置。 - 【請求項５】 前記結合部材が、前記Z方向に平行に向
けられている前記第二スライドの回転ピンについてその
回転ベアリングを有しかつ前記X方向を横切る面内に延
在するブレードスプリングの手段により前記Xガイドに
結合されているスリーブを有していることを特徴とする
請求項４に記載の位置決め装置。 - 【請求項６】 各マニュプレータの前記Xガイドに、前
記X方向に平行に延在する2個のガイドレールが設けられ
ていることを特徴とする請求項２、３、４又は５に記載
の位置決め装置。 - 【請求項７】 前記2個のマニュプレータが、前記Z方向
において互いにある距離離して配置されていて、前記Y
ガイドが相互に対応するX及びY位置内に配置されてい
て、前記XガイドがZ方向で見て前記Yガイドの間に配置
されていることを特徴とする請求項２、３、４、５又は
６に記載の位置決め装置。 - 【請求項８】 Z方向に、前記光学リソグラフィック装
置には、Z方向に横切って延在する支持表面を有する対
象物テーブルと、前記Z方向に平行に向けられている主
光学軸を有するレンズシステムと、前記Z方向に横切っ
て向けられている面内のマスクを支持するマスクサポー
トと、前記対象物テーブルの手段によって支持されてい
る基板を照射する光源とが設けられていて、前記光学リ
ソグラフィック装置にはさらにマスクマガジンが設けら
れていてそこからマスクを前記位置決め装置の手段によ
り前記マスクサポートに交互に搬送することが出来るこ
とを特徴とする光学リソグラフィック装置。 - 【請求項９】 前記位置決め装置の前記フレームが、前
記レンズシステムが少なくとも1個のスプリング部材と
少なくとも1個のダンピング部材の手段により固定され
ている前記光学リソグラフィック装置のマシンフレーム
に結合されていることを特徴とする請求項８に記載の光
学リソグラフィック装置。 - 【請求項１０】 前記光学リソグラフィック装置に、前
記マスクサポートの近傍に搬送アームによって前記マス
クサポート上に位置決めされるべきマスクの前記レンズ
システムに対する位置を測定する第一位置決めセンサー
が設けられていて、前記光学リソグラフィック装置に、
更に前記レンズシステムに対する前記位置決め装置の前
記フレームの位置を測定する第二位置センサーが設けら
れていることを特徴とする請求項９に記載の光学リソグ
ラフィック装置。 - 【請求項１１】 前記光学リソグラフィック装置に、搬
送アームにより前記マスクサポートに位置決めされるべ
き前記レンズシステムに対する位置を測定する位置セン
サーが前記マスクサポートの近くに設けられていて、更
に、前記光学リソグラフィック装置に、前記位置決め装
置の前記フレームが前記位置センサーから前記マスクサ
ポートまで当該搬送アームにより前記マスクを変位させ
る間、前記マシンフレームに結合可能である固定された
結合が更に設けられていることを特徴とする請求項９に
記載の光学リソグラフィック装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL91201970.0 | 1991-07-30 | ||
| EP91201970 | 1991-07-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0685033A true JPH0685033A (ja) | 1994-03-25 |
| JP3707803B2 JP3707803B2 (ja) | 2005-10-19 |
Family
ID=8207805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21828292A Expired - Lifetime JP3707803B2 (ja) | 1991-07-30 | 1992-07-24 | 平行に動作する２個のマニュプレータを有する位置決め装置及びその位置決め装置が設けられている光学リソグラフィック装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5301013A (ja) |
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