JPH0686452B2 - 光学活性2―アルキル―2,5―ジアザビシクロ[2,2,1ヘプタンの製法 - Google Patents

光学活性2―アルキル―2,5―ジアザビシクロ[2,2,1ヘプタンの製法

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JPH0686452B2
JPH0686452B2 JP2255029A JP25502990A JPH0686452B2 JP H0686452 B2 JPH0686452 B2 JP H0686452B2 JP 2255029 A JP2255029 A JP 2255029A JP 25502990 A JP25502990 A JP 25502990A JP H0686452 B2 JPH0686452 B2 JP H0686452B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は米国特許公開第4,775,668号において開示され
るような抗菌性キノロン化合物の調製において有用性を
有する中間体である1S,4S−及び1R,4R−2−アルキル−
2,5−ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの製法に関す
る。
2,5−ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの合成法がポル
トゲースら、J.Org.Chem.,31巻,1059ページ(1966年)
によって記述されてきた。本法によれば、ヒドロキシ−
L−プロリンは、ベンジルアミンにつづいてヨウ化水
素、リン、及び酢酸と反応させて、N−ベンジル−2,5-
ジアザビシクロ−[2.2.1]ヘプタンジヒドロヨージド
を生成する、トリトシルヒドロキシ−L−プロリノール
に変換される。米国特許公開第3,947,445号は同様の方
法に従い、つづいてそのジヒドロヨージドを、3工程を
経て2−メチル−2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタ
ンに変換する。
我々の前の実施例(番号第350,423号,1989年5月11日掲
載)において、我々は、下式(I)のトランス−4−ヒ
ドロキシプロリンから前述の、下式(IX)の光学活性2,
5-ジアザ−2−アルキルビシクロ[2.2.1]ヘプテンを
調製するもうひとつの方法を記述している。
4−ヒドロキシプロリン(I)から光学活性2,5-ジアザ
−2−アルキルビシクロ[2.2.1]ヘプタン(IX)を調
製する本発明の全工程はスキーム1及び2に示される。
これらの式において、示される化合物の全ては、キラル
であり、光学活性を有する。絶対的立体化学構造を示す
式として表されるように、これらは、例えば式(I)の
トランス−4−ヒドロキシ−L−プロリン(又、単にヒ
ドロキシプロリンとして知られる)及び式(IX)の(1
R,4R)−2−アルキル−2,5-ジアザ[2.2.1]ヘプタン
を示している。相対的な立体化学構造を示す式として表
されるように、これらは又対応する鏡像異性体を、例え
ば、トランス−4−ヒドロキシ−D−プロリン(I)及
び(1R,4R)−2−アルキル−2,5−ジアザ[2.2.1]ヘ
プタン(IX)で示す。これらの式において、R,R1及びR3
は各々独立に(C1〜C6)アルキルであり;R2及びR4は各
々独立に(C1〜C6)アルキル、トリフロオロメチル又は であり;そして X及びX1は各々独立に水素、(C1〜C6)アルキル、臭
素、塩素、トリフルオロメチル、メトキシ又はニトロで
ある。
特に本発明は工程:(VII)→(VIII) 〔反応不活性溶媒中における少なくとも1モル当量のア
ルカリ金属の炭酸塩の作用によって実行される〕; (VII)→(VIII)→(IX); (I)→(II)→(III)→(IV)→(V)→(VII)→
(VIII); (XIII)→[(XIV)]→(VIII) 〔中間体アミンの単離なしに、反応不活性溶媒中でハラ
ドライド性還元剤の作用によって実行される〕; (XIII)→[(XIV)]→(VIII)→(IX);及び (I)→(X)→(XII)→(XIII)→[(XIV)]→
(VIII) に関する。
「反応不活性溶媒」という表現は単一又は多成分系の溶
媒のことで、その成分は、目的生成物の収率に悪影響を
与える様には、出発原料、試薬、中間体又は生成物と相
互作用しないものである。
(VII)の(VIII)への変換において、好ましい試薬はK
2CO3であり、好ましい溶媒は低級アルコール、とくにメ
タノールである。(XV)の(IX)への変換において、好
ましい水素化物還元剤はLiAlH4であり、好ましい溶媒は
エーテルとくにジエチルエーテル又はテトラヒドロフラ
ンである。
これらの工程において、R及びR3の好ましいものは、各
々メチルであり、R1についてはメチル又はエチルであ
り;R2及びR4の各々はメチル又は4−メチルフェニルで
ある。工程数が減少されるために、R2及びR3又はR4は同
じものであることが好ましい。
本発明は又、下式 の相対的又は絶対的立体化学構造をもつ光学活性中間
体、{ここで、第1の定義は R5は(C1〜C6)アルキルであり; R6はSO2R2であり; R2は前に定義された通りであり; R7は水素又はSO2K3であり;そして R3は前に定義された通りである;又は 第2の定義は、 R6は(C1〜C6)アルキルであり; R5はSO2R2であり; R2は前に定義された通りであり; R7はSO2K4であり;そして R3は前に定義された通りである;} 及び {ここで、R2及びR4は前に定義された通りであり; R8はOR1又はNHRであり;そして R及びR1は前に定義された通りである} に関する。
式(XV)の好ましい化合物は第1の定義においては、R5
としてメチル、R2としてメチル又は4−メチルフェニル
そしてR7がSO2R3の場合にはR3はメチルを有しており、
第2の定義においては、R6としてメチル、R2及びR4とし
てメチル又は4−メチルフェニルを有している。
式(XVI)の好ましい化合物はRとしてメチル、R1とし
てメチル又はエチルそしてR2及びR4は同じであってメチ
ルか4−メチルフェニルを有している。
本発明の様々な工程が容易に実施される。
スキームIに基づく工程はトランス−ヒドロキシプロリ
ン(I)の(C1〜C6)アリファティックアルデヒド又は
ケトンを用いた従来通りの還元的アルキル化による適当
な目的とするN−アルキル置換基への変換(例えばホル
ムアルデヒド→メチル、ヘキサナール→ヘキシル、アセ
トン→イソプロピル)を含む。この還元的アルキル化は
典型的な水素化条件、(貴金属触媒好ましいものとして
はパラジウム上で最良なのだが)のもとで実施される。
本触媒はそれ自体貴金属又はその酸化物・塩でありうる
が、水素化条件下で活性金属に還元されうるし、又、炭
素やアルミナのような担体上の貴金属でもありうる。本
例において最も好ましい触媒はPd/Cである反応不活性溶
媒は水、エタノールや水性アルコールのような混合溶媒
といった有機溶媒を含む。Rがメチルの場合ホルムアル
デヒドの好ましい原料は単に水性ホルムアルデヒドであ
り、この場合、水だけが好ましい溶媒である。少なくと
も1モル当量のアルデヒド又はケトンが通常用いられ、
この試薬(ホルムアルデヒドのように)が容易に得られ
るなら、反応時間を減少させ、一般により貴重なヒドロ
キシプロリンからの化学量論的な収量を最大にするため
に、大過剰用いられる。温度は重要ではなく、0〜50℃
の温度が一般に好ましく、室温が加熱・加冷の経費をな
くすうえで最も好ましい。同様に圧力も重要ではない
が、最適な圧力に下げること(例えば1〜8気圧)が、
高価な高圧反応器の必要性をなくす上で好ましい。
スキームI中の第2工程(II→III)はカルボキシル酸
基の(C1〜C6)カルボキシル酸エステルへの従来法によ
る変換、好ましくは、アルコール(通常大過剰で溶媒と
しても又用いられる)の単純な強酸触媒によるエステル
化によって達成されるものを含む。適切な強酸は、塩
酸、硫酸及びR2SO3H(ここでR2は前に定義した通りであ
り、)一般に無水又はほぼ無水条件で、真に触媒的な量
(例えば10モル%)から、一般に3級アミノ基を中性に
するのに必要な100モル%までの量で用いられる。温度
は重要ではなく、0〜50℃が一般に好ましく、室温がと
くに便利である。
スキームIの第3の工程(III→IV)において、低級ア
ルキルエステル基は従来法に従って、反応不活性溶媒中
でアンモニアの働きによってカルボキシアミド基に変換
される。水が溶媒の場合、未希釈の濃アンモニアが好ま
しい。溶媒がメタノールのような低級アルコールの場
合、該溶媒中に飽和させた無水アンモニアが好ましい。
温度は重要ではなく、0〜50℃が一般に好ましく、室温
はとくに便利である。
スキームIの第4の工程において(IV)のカルバモイル
基は水素化物還元剤を用いて(V)のアミノメチル基へ
還元される。水素化ジイソブチルアルミニウム又は水素
化リチウムアルミニウム(これらはアシドをアミンへ還
元する高い活性を示す)のような水素化物還元剤がこの
還元反応において好ましい試薬である。これらの試薬
を、例えば、アミド1モルに対して、6モルの水素化ジ
イソブチルアルミニウム又は1.5モルの水素化リチウム
アルミニウムといった過剰量使うのが好ましい。還元は
反応不活性溶媒、通常はジエチルエーテル又はテトラヒ
ドロフランのようなエーテル中で行われる。温度は重要
ではないが、0〜50℃が好ましく室温が最も好ましい。
式IにおいてR2及びR3が異なる場合、(V)から(VI
I)への変換は2つの工程を必要とする。これらの第1
において、スルフォンアミドは、反応不活性溶媒、適当
なものとしてはテトラヒドロフランようなエーテル中
で、副生する塩化水素を中和する塩基(n−ブチルリチ
ウムなど)の充分量存在下、実質的に1モル当量の適当
なスルフォニルクロライドを用いたアミンのアシル化に
よって最も選択的に生成される。本反応は、一般に低温
(例えば−50〜+15℃)、この範囲のうちの中間付近の
温度(例えば−10〜15℃)が特に好ましいが、この温度
で行われる。この場合、引き続くO−スルフォニル化
(VI→VII)は容易に、一般にエーテル(例えばテトラ
ヒドロフラン)のような非プロトン性溶媒中で、トリエ
チルアミンのような3級アミンの少なくとも1モル当量
存在下、少なくとも1モル当量のR2SO2Clを用いて達成
される。この第2の段階で温度は重要ではなく、0〜50
℃の範囲の温度が一般に好ましく、室温が通常好まれ
る。
前に注記したように、好ましい経路においてはR2及びR3
は同じであり、その場合、同時に行うN−及びO−スル
フォニル化は、後者の条件下で容易に行われるが、これ
は、スルフォニルクロライド(R2SO2Cl)及び3級アミ
ンの各々が少なくとも2当量使われる場合を除くものと
する。
本発明の中核となるのは、ビス−スルフォニル化誘導体
(VII)の閉環による2−アルキル−5−(アルカン−
又はベンゼン−)スルフォニル誘導体(VIII)の形成で
ある。この閉環は容易に、低級アルコール(例えばメタ
ノールはとくによく適している)のような反応不活性溶
媒中で少なくとも1モル当量のアルカリ金属の炭酸塩
(例えばK2CO3がとくによく適している)の働きにより
達成される。
式IIにおける第1の工程において、ヒドロキシプロリン
(I)は、N−アルキルヒドロキシプロリンのエステル
化(II→III)に対する前述の方法のエステル化によっ
て最もよく達成される。(X)のビス−スルフォニル化
による式(XII)の化合物の生成及びそのアンモニア分
解によるアミド(XIII)の生成は又、前述の方法により
達成されるが、アミンRNH2がNH3に置き換っている場合
は除くものとする。
しかしながら、式IIにおいて、式Iと目だった対照をな
すのは、カルバモイル基の水素化物還元によるアルキル
アミノ基及び閉環がここでは、単一の工程、すなわち前
述のような水素化物還元剤の働きによって達成され、目
的生成物(XIV)については、自然に閉環して、目的と
する2−アルキル−5−アルカン又はベンゼンスルフォ
ニル誘導体(VIII)を形成する。
最後に、アミン(IX)を生成するために、どちらかの式
に従って、N−スルフォニル基は従来法による還元的又
は加水分解的な方法により除去される。これは、試薬と
して酢酸中臭化水素(HBr)によって最も良く達成され
るが、便宜的に(IX)の単離はそのジヒドロブロマイド
塩の形でなされる。再び、温度は重要ではなく、0〜50
℃で充分満足だが室温が一般に好まれる。
本法に熟達する者は、液体アンモニア中のナトリウムが
スルフォニル基の除去に対する代替的な還元による方法
となり、強い水性の酸(HCl,H2SO4など)が同除去に対
する代替的な加水分解による方法となることを理解する
だろう。
本発明の実施において要求される出発原料は容易に得ら
れる。このように、トランス−ヒドロキシ−1−プロリ
ンは市場品として入手できる天然アミノ酸であり、その
鏡像体はベーカーらの方法(J.Org.Chem.,46巻,2952〜2
960ページ,1981年)に従って得られる。
式(IX)のアミンは米国特許公開第4,715,668号におい
て開示されるようなある種の抗菌性キノロンの調製にお
いて側鎖の原料として用いられている。
本発明は次の実施例によって例示される。しかしなが
ら、本発明はこれらの実施例の特異的な詳細に限定され
ないことが理解されるべきである。ここで用いられる命
名法は、リガウディー及びクレスニー、IUPAC有機化学
命名法、1979編、パーガモン出版、ニューヨーク(1979
年)に基づいている。
実施例1 トランス−N−メチル−ヒドロキシ−L−プロリン(I
I、R=CH3) 80ml中トランス−4−ヒドロキシ−L−プロリン40g(3
05mmol)に30%水性ホルムアルデヒド溶液80ml及び5%
パラジウム炭素触媒(50%湿)7.0gを加え、混合物はパ
ール振とう器を用いて50psiで水素化された。24時間
後、触媒珪砂、上濾過された回収され、濾液は減圧下濃
縮され標記生成物43.5g(98.3%)を得た; 融点140-142℃(分解点);1H-NMR(D2O):4.65(m,1H),
4.20(dd,1H),3.97(dd,1H),3.2(dm,1H),2.50(m,1
H),2.25(m,1H);[α]D=−54.8°(c=1.18,H
2O) 実施例2 トランス−N−メチル−ヒドロキシ−L−プロリンメチ
ルエステル(III、R=R1=CH3) 前実施例の標記生成物(100g,690mmol)がメタノール60
0ml中に懸濁され、無水HClガスを反応混合物中に均一に
なるまで流入した。反応液はつづいて、還流するまで加
熱され(16時間)その後、冷却、溶媒が150mlの水で置
換された。200g(1.44モル)の炭酸カリウムが0℃で注
意深く加えられ、生成物は酢酸エチルで(4×200ml)
抽出された。集めた有機層は乾燥され(Na2SO4)、濃縮
して白色固体として生成物87g(72%)を得た。
融点53-54℃;1H-NMR(重水):4.85(s,3H),4.73(m,2
H),3.90(s,3H,N-メチル),3.58(m,1H),3.45(m,1
H),2.54(m,1H)2.37(m,1H), ;[α]D=−80.0°(c=1.038,CH3OH). 実施例3 (2S,4R)−1−メチル−2−カルバモイル−4−ヒド
ロキシピロリジン(IV,R=CH3) 前実施例の標記生成物(20g,126mmol)が氷冷した飽和
アンモニア40ml中に溶解され、その溶液が室温まで加温
された。24時間の攪拌後、溶媒が高真空下、除去され、
白色結晶性固体として本標記生成物を定量的収量で得
た。
融点138−140℃;元素分析C49.99,H8.40,N18.27;計算値
C49.97,H8.40,N19.43;1H-NMR(D2O)4.43(m,1H),3.42
(dd,1H),3.25(ABパターン,1H),2.36(s,3H),2.33
(M,1H),2.1(m,2H);[α]D=−105.48°(c=0.9
53,CH3OH) 実施例4 (2S,4R)−1−メチル−2−アミノメチル−4−ヒド
ロキシピロリジン(V,R=CH3) 前実施例の標記生成物(15g,104mmol)が75mlテトラヒ
ドロフランに懸濁され、ジイソブチルアルミニウムハイ
ドライド572.5ml(572.5mmol)(ヘキサン中1M溶液)が
15分間にわたって加えられた。混合物はつづいて還流す
るまで加熱され(2日間)、薄層クロマトグラフィーに
よってモニターすることによって反応終了が判断され
た。珪砂(30g)が反応液につづいて加えられ、氷浴に
て冷却しながら、300mlのメタノールが滴下された。ガ
ム状生成物はつづいて濾過され、溶媒は濃縮され、無色
油状生成物8.1gを得た(60%);13 C-NMR(重水)69.5(CH),66.8(CH),6.49(CH2),4
4.0(CH2),41.0(CH3)39.5(CH2);[α]D=−61.9
4°(c=0.956,CH3OH) 実施例5 (2S,4R)−1−メチル−2〔(4−メチルベンゼンス
ルフォニル)−アミノ)メチル〕−4−ヒドロキシプロ
リジン (VI,R=CH3,R1=P-CH3C6H4) 前実施例の標記生成物(7.3g,56.2mmol)に−10℃下、2
00mlテトラヒドロフラン中、n−ブチルリチウム(56.2
mmol 2.5Mヘキサン溶液)22.46mlが30分間にわたって加
えられた。p−トルエンスルフォニルクロリド(10.2
g、53.3mmol)の10mlテトラヒドロフラン溶液がつづい
て加えられた。混合物を−10℃下2時間攪拌後20mlの水
が加えられ、反応液は塩化メチレン(2×140ml)で抽
出された。集めた有機層は乾燥(NO2SO4)、減圧濃縮さ
れ、淡黄色油として本標記生成物を15g(94.3%)得
た。13 C-NMR(CDCl3)143.4,136.5,129.7,127.0,69.1,64.7,
62.4,43.0,40.0,38.2,21.5; [α]D=−34.67°(c=0.90,CH3OH) 実施例6 (2S,4R)−1−メチル−2〔(4−メチルベンゼンス
ルフォニル)−アミノ)メチル〕−4−(メタンスルフ
ォニロキシ)ピロリジン(VII,R=R3=CH3,R2=CH3C6H
4) 前実施例の標記生成物(1.0g,3.5mmol)に20mlテトラヒ
ドロフラン中、0.49ml(3.5mmol)のトリエチルアミン
及び0.27ml(3.5mmol)のメタンスルフォニルクロライ
ドが加えられた。室温で30分攪拌後、20mlの水が加えら
れ、反応液は塩化メチレン(2×40ml)で抽出された。
集めた有機層はつづいて乾燥され(Na2SO4)、減圧濃縮
し、油状物質として生成物1.2g(94%)を得た;13 C-NMR(CDCl3)7.73(d,2H),7.40(d,2H),5.04(m,
1H),3.70(m,1H),3.55(dd,1H),3.05(m,1H),3.0
(s,3H),2.83(m,1H),2.62(dd,1H),2.40(s,3H),
2.23(s,3H),2.10(m,1H),1.82(m,1H). 実施例7 (2S,4R)−1−メチル−2−〔(メタンスルフォニル
アミノ)−メチル〕−4−メタンスルフォニロキシピロ
リンジン(VII,R=R2=R3=CH3) 実施例4の標記生成物(100mg、0.76mmol)に2mlテトラ
ヒドロフラン中、0.21ml(1.52mmol)のトリエチルアミ
ン及び0.118ml(1.52mmol)のメタンスルフォニルクロ
リドが加えられ、混合物は、0℃で1時間、室温でさら
に1時間攪拌された。つづいて2mlの水が加えられ、混
合物は塩化メチレン(2×2ml)で抽出された。集めた
有機層は乾燥(MgSO4)、減圧濃縮され、油状物質とし
て本標記生成物を140mg(64%)得た;1 H-NMR(CDCl3)5.05(m,1H),3.50(dd,1H),3.17(m,
1H),3.0(s,3H),2.95(s,3H),2.80(m,1H),2.58(d
d,1H),2.30(s,3H),2.25-2.1(m,3H). CMR(CDCl3):78.4,62.3,61.9,42.5,40.1,39.8,38.2,3
5.4.MS:M+1 287(20),191(17),178(100). 実施例8 (1S,4S)−2−メチル−5−(4−メチルエンゼンス
ルフォニル)−2.5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(VIII,R=CH3,R2=pCH3C6H4) 実施例6の標記生成物(760mg、5.52mmol)に760mg(5.
52mmol)のK2CO3が与えられた。混合物の24時間の攪拌
後、溶媒が減圧下溜去され、20mlの水が加えられた。水
層はつづいて塩化メチレン(2×40ml)で抽出され、集
めた有機層は乾燥後(MgSO4)、減圧濃縮され、固体と
して本標記生成物470mg 164%)を得た; 融点87-88℃;13C-NMR(CDCl3)143.5,135.4,129.8,12
7.4,62.9,61.1,61.0,49.9,40.2,34.9,21.5;元素分析C5
8.73,H6.90,N10.51S12.26,;計算値C58.62,H6.81,N10.5
2,S12.04;[α]D=+18.69°(c=1.18,CH3OH). 実施例9 (1S,4S)−(メタンスルフォニル)−5−メチル−2.5
-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン (VIII,R=R2=CH3) 前実施例の方法により、実施例7の標記生成物(110mg,
0.38mmol)が油状物質として本標記生成物に変換され
た;44mg160%);1 H-NMR(CDCl3)4.27(m,1H),3.55(dd,1H),3.5(s,3
H),3.20(dd,1H),2.84(m,3H),1.92(m,1H),1.71
(m,1H),13C-NMR(CDCl3):63.1,61.4,60.6,50.6,40.
8,38.5,35.7. 実施例10 (1S,4S)−2−メチル−2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]
ヘプタン(IX,R=CH3) 実施例8の標記生成物(60g,225mmol)が酢酸中30%HBr
900ml中に懸濁され、室温下6時間攪拌され、つづい
て、水アスピレーターにて1/2容量まで濃縮し、得られ
た沈殿固体が濾過によって回収された。これらの固体は
必要最小限のメタノールに還流下溶解して冷却し、400m
lのイソプロピルアルコールを加えることにより精製本
標記生成物48g(81%)を得た: 融点258-259℃;1H-NMR(D2O)4.73(m,1H),4.62(m,1
H),3.8-3.6(m,4H),3.08(s,3H),2.65(m,1H),2.35
(m,1H);[α]D=+13.21° (c=0.946,CH3OH) 実施例11 トランス−4−ヒドロキシ−L−プロリンメチル エス
テル ハイドロクライド(X,R1=CH3) 無水HClがトランス−4−ヒドロキシ−L−プロリン(8
0g,0.61ml)の500ml無水メタノール攪拌懸濁中に、混合
物が均一になるまで通された。反応液は還流するまで加
熱され(5時間)、溶媒容量は1/2まで減少された。エ
ーテル(100ml)が加えられ、混合物は冷蔵庫中に一晩
おかれた.生じた沈殿は濾取され、エーテルで洗浄、減
圧下乾燥され、本標記生成物111g(93%,収率)を与え
る。融点170〜172℃ 実施例12 メチル(2S,4R)−(4−メチルベンゼンスルフォニ
ル)−4−(4−メチル−ベンゼンスルフォキシ)ピロ
リジン−2−カルボキシレート (XII,R1=CH3,R2=R4=pCH3C6H4) 前実施例の標記生成物(15g,83.1mmol)が150mlピリジ
ン及び11.5mlトリエチルアミンと、0℃で30分間攪拌さ
れた。p−トリエンスルフォニルクロリド(34.8g,181.
9mmol)が少しずつ加えられ、温度は0〜5℃に保っ
た。混合物は0℃で18時間攪拌され、つづいて2容量の
氷冷水に加えられ、室温で1時間攪拌し、濾過により、
本標記生成物が回収され、減圧乾燥(30℃、48時間)に
より本標記生成物38g(99%)を得た。融点94〜95℃。
実施例13 (2S,4S)−N2−メチル−1−(4メチルベンゼンスル
フォニル)−4−(4−メチルベンゼンスルフォニル)
ピロリジン−2−カルボキサミド (XIII,R=CH3,R2=R4=pCH3C6H4) 水(400ml)がメチルアミンガスで飽和された(20分
間)。前実施例の標記生成物(41g,89.4mmol)が加えら
れ、得られたガム状物質は6日間攪拌された。本標記生
成物(25.2g,62%)が濾過により、白色固体として回収
された, 融点147-149℃;▲[α]25 ▼=−80.70(c=1.108,
methanol); 元素分析 C53.25,H5.24,N6.05, calcd.C53.08,H5.35,N6.19 実施例14 (1S,4S)−2−メチル−5−(4−メチルベンゼンス
ルフォニル)−2,5−ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン
(VIII,R=CH3,R2=pCH3C6H4) 前実施例の標記生成物(2.0g、4.42mmol)に20mlテトラ
ヒドロフラン中、LiAlH4(750mg,19.9mmol)が加えられ
た。反応混合物は24時間攪拌され、つづいて3mlの水及
び0.75mlの15%NaOHの添加によりクウェンチされ、CH2C
l215mlずつで2回抽出された。集めた抽出は、乾燥(Mg
SO4)され、濃縮により、白色固体として標記生成物を1
g(85%)得たが、これは実施例8の生成物と同一であ
る。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下式の相対的又は絶対的立体化学構造を有
    する光学活性2,5−ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタンを
    製造する方法であって: 〔ここで、Rは(C1〜C6)アルキルであり;R2は(C1
    C6)アルキル、トリフルオロメチル又は であり;そしてX及びX1は各々独立に水素、(C1〜C6
    アルキル、ブロモ、クロロ、トリフルオロメチル、メト
    キシ又はニトロである〕 (a)下式の相対的又は絶対的立体化学構造を有する光
    学活性ヒドロキシプロリンの還元的アルキル化 により下式のN−アルキルヒドロキシプロリン を生成し; (b)前述のN−アルキルヒドロキシプロリンを次式R1
    OH(ここで、R1は(C1〜C6)アルキル)のアルコールに
    よって酸触媒の存在下エステル化して下式のエステルを
    生成し; (c)前述のエステルをNH3でアンモニア分解して、下
    式のアミドを生成し; (d)前述のアミドを水素化物で還元して、下式のアミ
    ノメチル誘導体を生成し; (e)段階的N−スルフォニル化に続く、前述アミノメ
    チル誘導体のO−スルフォニル化により、下式のスルフ
    ォナミドを生成し; (ここでR2は前に定義した通りであり、R3は(C1〜C6
    アルキル)又は、同時におこるN及びO−スルフォニル
    化により、式(VII)のスルフォナミド(ここで、R2
    (C1〜C6)アルキルに限定され、R2及びR3は各々同じも
    のである)を生成し; (f)前述のスルフォナミドを少なくとも1モル当量の
    アルカリ金属炭酸塩で反応不活性溶媒中、前述のスルフ
    ォナミドの式(VIII)の前述化合物への変換が実質上完
    了するまで処理することからなる方法。
  2. 【請求項2】式(VIII)の絶対的立体化学構造の2,5−
    ジアザビシクロ〔2.2.1〕ヘプタンを製造する請求項1
    の方法。
  3. 【請求項3】Rはメチルであり、R2はメチル又は4−メ
    チルフェニルであり、R3はメチルである請求項2の方
    法。
  4. 【請求項4】アルカリ金属炭酸塩はK2CO3であり、溶媒
    はメタノールである請求項3の方法。
  5. 【請求項5】下式の相対的又は絶対的立体化学構造の2,
    6−ジアザビシクロ〔2.2.1〕ヘプタンの製造方法であっ
    て; (ここで、Rは(C1〜C6)アルキルであり;R2は(C1
    C6)アルキル、トリフルオロメチル又は であり;そして X及びX1は各々に独立して水素、(C1〜C6)アルキル、
    ブロモ、クロロ、トリフルオロメチル、メトキシ又はニ
    トロである) (a)下式(I)の相対的又は絶対的立体化学構造のヒ
    ドロキシプロリン を式R1OH(ここでR1は(C1〜C6)アルキル)でエステル
    化して式 のカルボン酸エステル(ここでR1は(C1〜C6)アルキ
    ル)を生成し; (b)段階的N−スルホニル化に続いてO−スルホニル
    化を行い下式のスルフォネート (ここでR4は独立に前に定義したR2のものである)を生
    成し;あるいは同時におこるN又はO−スルホニル化に
    より、式(XII)(R2とR4は上記と同じく定義される)
    のスルホネートを生成し; (c)前述のスルホネートのRNH2の式のアミンによるア
    ンモニア分解により下式のカルボキサミドを生成し; (d)前述カルボキサミドを反応不活性溶媒中で水素化
    物によって還元することにより、式(VIII)の前述化合
    物を生成することからなる方法。
  6. 【請求項6】絶対的立体化学構造式(VIII)の2,5−ジ
    アザビシクロ〔2.2.1〕ヘプタンを製造する請求項5の
    方法。
  7. 【請求項7】R及びR1は各々メチルであり、R2及びR4
    同じであって、各々メチル又は4−メチルフェニルであ
    る請求項6の方法。
  8. 【請求項8】水素化物還元剤は水素化リチウムアルミニ
    ウムであり、溶媒はエーテルである請求項7の方法。
  9. 【請求項9】下記絶対的化学構造式の化合物。 (ここで、第1の定義として: R5は(C1−C6)アルキルであり; R6はSO2R2であり; R2は(C1−C6)アルキル、トリフルオロメチル 又は であり; X及びX1は各々独立に水素、(C1−C6)アルキル、ブロ
    モ、クロロ、トリフロオロメチル、メトキシ又はニトロ
    であり; R7は水素又はSO2R3であり;そして R3は(C1−C6)アルキルであるか、あるいは第2の定義
    として; R6は(C1−C6)アルキルであり; R5はSO2R2であり; R2は前に定義された通りであり; R7はSO2R4であり;そして R4は独立に前に定義されたR2である。)
  10. 【請求項10】R5はメチルであり、R7は水素又はSO2CH3
    であり、R6はSO2R2であり、R2はメチル又は4−メチル
    フェニルである第1の定義における請求項9の化合物。
  11. 【請求項11】R6はメチルであり、R5はSO2R2であり、R
    2及びR4は同じであり、各々メチル又は4−メチルフェ
    ニルである第2の定義における請求項9の化合物。
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