JPH0686621B2 - 高周波誘導加熱方法および装置 - Google Patents
高周波誘導加熱方法および装置Info
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- JPH0686621B2 JPH0686621B2 JP2127866A JP12786690A JPH0686621B2 JP H0686621 B2 JPH0686621 B2 JP H0686621B2 JP 2127866 A JP2127866 A JP 2127866A JP 12786690 A JP12786690 A JP 12786690A JP H0686621 B2 JPH0686621 B2 JP H0686621B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はカレントトランスの1次コイルを1対の蚊取線
香型の1次コイルとし、これら1次コイル間に、ワーク
加熱用の高周波加熱コイルと一体形成され、ターンテー
ブル上に設けた複数の2次コイルを、ターンテーブルを
ステップ状に回転させることによって、2次コイル内の
開口に配置したワークを順次焼入する高周波加熱方法と
装置に関する。
香型の1次コイルとし、これら1次コイル間に、ワーク
加熱用の高周波加熱コイルと一体形成され、ターンテー
ブル上に設けた複数の2次コイルを、ターンテーブルを
ステップ状に回転させることによって、2次コイル内の
開口に配置したワークを順次焼入する高周波加熱方法と
装置に関する。
<従来の技術> 以下、図面を参照して従来の技術を説明する。第5図は
例えば多量のスタッドピンを順次加熱する高周波誘導加
熱装置の一例の説明図である。
例えば多量のスタッドピンを順次加熱する高周波誘導加
熱装置の一例の説明図である。
まず、ワークであるスタッドピンWをターンテーブル5
上に複数個設けられたワーク載置台6の内の一つの載置
台の上に手作業或いは機械によって載置する(スタッド
ピンW1の位置)。ワーク載置台6には、スタッドピンW
が安定してワーク載置台6上に載置されているように、
スタッドピンWの外形に対応した形状の凹所6aが形成さ
れている。
上に複数個設けられたワーク載置台6の内の一つの載置
台の上に手作業或いは機械によって載置する(スタッド
ピンW1の位置)。ワーク載置台6には、スタッドピンW
が安定してワーク載置台6上に載置されているように、
スタッドピンWの外形に対応した形状の凹所6aが形成さ
れている。
ターンテーブル5が軸7を中心として矢印Aの方向に所
定角度回転後停止して、スタッドピンWが高周波加熱コ
イル4の直下にくると(スタッドピンW2の位置)、カレ
ントトランス3が高周波加熱コイル4と共に、矢印Bの
方向に、図示しないコイル昇降装置によって降下して高
周波加熱コイル4がスタッドピンWを囲繞する。そし
て、高周波電源1から、可撓導体2を経由してカレント
トランス3の図示しない1次コイルに給電された高周波
電流は、カレントトランス3の図示しない2次コイルを
経て高周波加熱コイル4に所定時間通電されてスタッド
ピンWが加熱される。
定角度回転後停止して、スタッドピンWが高周波加熱コ
イル4の直下にくると(スタッドピンW2の位置)、カレ
ントトランス3が高周波加熱コイル4と共に、矢印Bの
方向に、図示しないコイル昇降装置によって降下して高
周波加熱コイル4がスタッドピンWを囲繞する。そし
て、高周波電源1から、可撓導体2を経由してカレント
トランス3の図示しない1次コイルに給電された高周波
電流は、カレントトランス3の図示しない2次コイルを
経て高周波加熱コイル4に所定時間通電されてスタッド
ピンWが加熱される。
この加熱が終了すると、高周波加熱コイル4のスタッド
ピンWに対向した面に設けた図示しない冷却液噴射孔か
ら冷却液が噴射されてスタッドピンWの焼入が終了す
る。その後、カレントトランス3は高周波加熱コイル4
と共に、矢印Bと反対方向に、前記コイル昇降装置によ
って上昇される。すると、ターンテーブル5が矢印Aの
方向に所定角度回転して停止する(スタッドピンW3の位
置)ので、スタッドピンWを手作業或いは機械によって
ワーク載置台6の上から取り去る。
ピンWに対向した面に設けた図示しない冷却液噴射孔か
ら冷却液が噴射されてスタッドピンWの焼入が終了す
る。その後、カレントトランス3は高周波加熱コイル4
と共に、矢印Bと反対方向に、前記コイル昇降装置によ
って上昇される。すると、ターンテーブル5が矢印Aの
方向に所定角度回転して停止する(スタッドピンW3の位
置)ので、スタッドピンWを手作業或いは機械によって
ワーク載置台6の上から取り去る。
<発明が解決しようとする課題> 上記のように、従来の高周波誘導加熱装置では、大きな
重量であるカレントトランス3を昇降させるので、この
カレントトランス3の昇降のための装置を必要とし、従
って、高周波誘導加熱装置の構造を複雑にしているのみ
ならず、コストを高くしている。
重量であるカレントトランス3を昇降させるので、この
カレントトランス3の昇降のための装置を必要とし、従
って、高周波誘導加熱装置の構造を複雑にしているのみ
ならず、コストを高くしている。
次に、深い硬化層を形成するためには低周波数の電力を
用いる必要があるが、周波数が低いとカレントトランス
の1次コイルが発生する磁束密度が小さいのでワークの
加熱に十分な誘導電流をワークに発生させることが困難
である。そこで、1次コイルのインダクタンスを増加さ
せるために1次コイルの巻数を増加させるが、これはカ
レントトランスの重量を増加させるので、カレントトラ
ンスを昇降させる装置のコストは更に大きくなる。
用いる必要があるが、周波数が低いとカレントトランス
の1次コイルが発生する磁束密度が小さいのでワークの
加熱に十分な誘導電流をワークに発生させることが困難
である。そこで、1次コイルのインダクタンスを増加さ
せるために1次コイルの巻数を増加させるが、これはカ
レントトランスの重量を増加させるので、カレントトラ
ンスを昇降させる装置のコストは更に大きくなる。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであって、カ
レントトランスを昇降させる必要がなく、従って、構造
が簡単で廉価であると共に、低周波数でもワークに十分
な誘導電流を発生することができる高周波誘導加熱方法
および装置を提供することを目的としている。
レントトランスを昇降させる必要がなく、従って、構造
が簡単で廉価であると共に、低周波数でもワークに十分
な誘導電流を発生することができる高周波誘導加熱方法
および装置を提供することを目的としている。
<課題を解決するための手段> 上記問題を解決するために、本発明の高周波誘導加熱方
法は、ほぼ板状で第1および第2の開口とこれら開口間
を繋ぐ狭隙とを有しターンテーブル上に放射状に複数個
設けられた2次コイルの第2の開口内にワークを設置
し、これら2次コイルの中の1個の2次コイルの上方と
ターンテーブルを介した下方とにそれぞれ2次コイルお
よびターンテーブルに接近固定配置され前記第1の開口
の周辺部分の形状に対応するように形成された1対の1
次コイルの間に2次コイルを配置し、1対の1次コイル
と前記周辺部分とで平面対向型のカレントトランスを形
成し、且つ、第2の開口の周辺部分で加熱コイルを形成
し、1次コイルに高周波電流を通電してワークを加熱終
了後、ターンテーブルを回転して次の2次コイルの前記
周辺部分を1次コイルの間に配置して次の2次コイルの
第2の開口内に設置したワークを加熱ようにしている。
法は、ほぼ板状で第1および第2の開口とこれら開口間
を繋ぐ狭隙とを有しターンテーブル上に放射状に複数個
設けられた2次コイルの第2の開口内にワークを設置
し、これら2次コイルの中の1個の2次コイルの上方と
ターンテーブルを介した下方とにそれぞれ2次コイルお
よびターンテーブルに接近固定配置され前記第1の開口
の周辺部分の形状に対応するように形成された1対の1
次コイルの間に2次コイルを配置し、1対の1次コイル
と前記周辺部分とで平面対向型のカレントトランスを形
成し、且つ、第2の開口の周辺部分で加熱コイルを形成
し、1次コイルに高周波電流を通電してワークを加熱終
了後、ターンテーブルを回転して次の2次コイルの前記
周辺部分を1次コイルの間に配置して次の2次コイルの
第2の開口内に設置したワークを加熱ようにしている。
また、上記問題を解決するために、本発明の高周波誘導
加熱装置は絶縁性のターンテーブル上に放射状に設けた
複数のほぼ板状の2次コイルと、これら2次コイルの中
の1個の2次コイルの上方とターンテーブルを介した下
方に固定して設けた1対の1次コイルとを備え、2次コ
イルに第1および第2の開口と両開口間を繋ぐ狭隙とを
設け、また、1次コイルを第1の開口の周辺部分の形状
に対応するように形成し、且つ、上側の1次コイルを前
記周辺部分に対向接近配置すると共に下側の1次コイル
を前記周辺部分に対向しターンテーブルに接近配置する
ことにより1対の1次コイルと前記周辺部分とで平面対
向型のカレントトランスを形成し、且つ、第2の開口の
周辺部分で加熱コイルを形成したことを特徴としてい
る。
加熱装置は絶縁性のターンテーブル上に放射状に設けた
複数のほぼ板状の2次コイルと、これら2次コイルの中
の1個の2次コイルの上方とターンテーブルを介した下
方に固定して設けた1対の1次コイルとを備え、2次コ
イルに第1および第2の開口と両開口間を繋ぐ狭隙とを
設け、また、1次コイルを第1の開口の周辺部分の形状
に対応するように形成し、且つ、上側の1次コイルを前
記周辺部分に対向接近配置すると共に下側の1次コイル
を前記周辺部分に対向しターンテーブルに接近配置する
ことにより1対の1次コイルと前記周辺部分とで平面対
向型のカレントトランスを形成し、且つ、第2の開口の
周辺部分で加熱コイルを形成したことを特徴としてい
る。
<作用> 1次コイルに高周波電流を所定時間通電すると、2次コ
イルの第1の開口、狭隙および第2の開口の周辺には誘
導電流が流れる。この誘導電流によって前記第2の開口
内に設置されたワークに誘導電流が流れてワークが加熱
される。この後、ターンテーブルを回転して次の2次コ
イルの第2の開口内に設置したワークを初めのワークと
同様に加熱する。
イルの第1の開口、狭隙および第2の開口の周辺には誘
導電流が流れる。この誘導電流によって前記第2の開口
内に設置されたワークに誘導電流が流れてワークが加熱
される。この後、ターンテーブルを回転して次の2次コ
イルの第2の開口内に設置したワークを初めのワークと
同様に加熱する。
<実施例> 以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第
1図〜第4図は本発明の高周波加熱方法を実現すること
ができる高周波加熱装置を説明するための図面であっ
て、第1図は第2図のA-A線矢視断面図、第2図は平面
図(但し、上側の1次コイルの図示を省略してある)、
第3図は第2図のB-B線矢視断面図である。第4図は2
次コイル(従来のカレントトランスの2次コイルと高周
波加熱コイルに相当する)を示し、(a)は平面図、
(b)は(a)のA-A線矢視断面図、(c)は(a)のB
-B線矢視断面図、(d)は実際的な2次コイルの平面図
である。
1図〜第4図は本発明の高周波加熱方法を実現すること
ができる高周波加熱装置を説明するための図面であっ
て、第1図は第2図のA-A線矢視断面図、第2図は平面
図(但し、上側の1次コイルの図示を省略してある)、
第3図は第2図のB-B線矢視断面図である。第4図は2
次コイル(従来のカレントトランスの2次コイルと高周
波加熱コイルに相当する)を示し、(a)は平面図、
(b)は(a)のA-A線矢視断面図、(c)は(a)のB
-B線矢視断面図、(d)は実際的な2次コイルの平面図
である。
本実施例は、円柱の両端面に突起を形成した形状のスタ
ッドピンWの外周面を加熱する高周波誘導加熱装置であ
る。第1図および第2図に示すように、図示しない駆動
装置によって間歇的に回転駆動される軸32に取り付けら
れたガラスラミネート板またはセラミック製等の絶縁性
のターンテーブル30の上には、4個の銅等の金属製の2
次コイル20が固定されている。4個の2次コイル20は軸
32を中心として90°ずつずれた位置に配置されている。
ッドピンWの外周面を加熱する高周波誘導加熱装置であ
る。第1図および第2図に示すように、図示しない駆動
装置によって間歇的に回転駆動される軸32に取り付けら
れたガラスラミネート板またはセラミック製等の絶縁性
のターンテーブル30の上には、4個の銅等の金属製の2
次コイル20が固定されている。4個の2次コイル20は軸
32を中心として90°ずつずれた位置に配置されている。
第4図に示すように、良導電金属製でほぼ8字形状の2
次コイル20は、ほぼ円形の開口21(第1の開口)と、ス
タッドピンWの直径より大きい直径を有する円形の開口
22(第2の開口)と、開口21と22とを接続している長方
形状の狭隙23とを備えている。狭隙23には通常第4図
(d)に示すように、テフロン等の絶縁物25を充填して
ある。開口21の周辺部分21aは従来のカレントトランス
の2次コイルに相当し、開口22の周辺部分22aは従来の
高周波加熱コイルに相当する。
次コイル20は、ほぼ円形の開口21(第1の開口)と、ス
タッドピンWの直径より大きい直径を有する円形の開口
22(第2の開口)と、開口21と22とを接続している長方
形状の狭隙23とを備えている。狭隙23には通常第4図
(d)に示すように、テフロン等の絶縁物25を充填して
ある。開口21の周辺部分21aは従来のカレントトランス
の2次コイルに相当し、開口22の周辺部分22aは従来の
高周波加熱コイルに相当する。
第1図および第3図に示すように、2次コイル20の開口
22の下方でターンテーブル30の表面に設けた凹所34に
は、スタッドピンWを載置するセラミック製等の絶縁性
のワーク載置台31が取り付けられている。ワーク載置台
31には載置されたスタッドピンWが倒れないようにスタ
ッドピンWの下部の突起が挿入される凹部31aが穿設さ
れている。
22の下方でターンテーブル30の表面に設けた凹所34に
は、スタッドピンWを載置するセラミック製等の絶縁性
のワーク載置台31が取り付けられている。ワーク載置台
31には載置されたスタッドピンWが倒れないようにスタ
ッドピンWの下部の突起が挿入される凹部31aが穿設さ
れている。
4個の2次コイル20の内の1個の2次コイル20(第2図
上で上方の2次コイル20)の開口21の周辺部分21aの上
方およびターンテーブル30を介した下方には、1対の1
次コイル10が設けられている。1次コイル10は、2次コ
イル20の開口21の周辺部分21aの形状に対応するように
中央に開口部分10aが有るように形成され、且つ、前記
周辺部分21aに対向した位置に配置されている。1次コ
イル10は、絶縁物13を介してスパイラル状に多重に巻か
れた良導電金属製の導体11と、導体11の2次コイル20に
対向した面以外の面を覆うように形成されたフェライト
製等のコア14とを備えている。
上で上方の2次コイル20)の開口21の周辺部分21aの上
方およびターンテーブル30を介した下方には、1対の1
次コイル10が設けられている。1次コイル10は、2次コ
イル20の開口21の周辺部分21aの形状に対応するように
中央に開口部分10aが有るように形成され、且つ、前記
周辺部分21aに対向した位置に配置されている。1次コ
イル10は、絶縁物13を介してスパイラル状に多重に巻か
れた良導電金属製の導体11と、導体11の2次コイル20に
対向した面以外の面を覆うように形成されたフェライト
製等のコア14とを備えている。
導体11は中空部分12を有し、この中空部分12に導体11を
冷却するために冷却液が流通される。そして、1次コイ
ル10は絶縁板15に取り付けられている。また、下側の1
次コイル10の一端および他端はそれぞれリード線101お
よび102を介して高周波電源100の一端および上側の1次
コイル10の一端に接続されており、上側の1次コイル10
の他端はリード線103を介して高周波電源100の他端に接
続されている。このように、1次コイルは直列に接続さ
れた上下の2組に分割してあるので、1次コイル全体と
して十分な大きさのインダクタンスを持たせることがで
きる。
冷却するために冷却液が流通される。そして、1次コイ
ル10は絶縁板15に取り付けられている。また、下側の1
次コイル10の一端および他端はそれぞれリード線101お
よび102を介して高周波電源100の一端および上側の1次
コイル10の一端に接続されており、上側の1次コイル10
の他端はリード線103を介して高周波電源100の他端に接
続されている。このように、1次コイルは直列に接続さ
れた上下の2組に分割してあるので、1次コイル全体と
して十分な大きさのインダクタンスを持たせることがで
きる。
上記のように、1対の1次コイル10と2次コイル20の開
口21の周辺部分21aとで平面対向型のカレントトランス
を形成している。なお、各1次コイル10は通電されたと
きに同方向に磁束が発生するように巻回されている。
口21の周辺部分21aとで平面対向型のカレントトランス
を形成している。なお、各1次コイル10は通電されたと
きに同方向に磁束が発生するように巻回されている。
次に、本実施例の動作について説明する。
まず、第2図上で右方に示す2次コイル20の開口22内の
ワーク載置台31の凹所31aにスタッドピンWの下部の突
起を挿入してスタッドピンWをワーク載置台31に載置す
る。次いで、図示しないターンテーブル駆動装置によっ
てターンテーブル30を矢印Cの方向に90°回転させて後
停止させる。すると、2次コイル20は第2図上で上方に
示す2次コイル20の位置にくる。このとき、第1図に示
すように、2次コイル20の開口21の外周部分21aが1対
の1次コイル10の間で且つ1次コイル10に対向した位置
にある。この状態で高周波電源100から1次コイル10に
高周波電流を所定時間通電すると、第2図に示すよう
に、2次コイル20の開口21の周辺部分21a、狭隙23の両
側および開口22の周辺部分22aには誘導電流iが流れ
る。この誘導電流iによって、開口22内に配置されたス
タッドピンWに誘導電流が流れてスタッドピンWが加熱
される。このように、スタッドピンWを所定時間加熱し
た後、1次コイル10への通電を断つ。次いで、図示しな
いジャケットから冷却液をスタッドピンWに噴射してス
タッドピンWを冷却後、図示しない駆動装置によってタ
ーンテーブル30を矢印Cの方向に90°回転させてから停
止させる。そして、手作業或いは機械によってスタッド
ピンWをワーク載置台31から取り外す。
ワーク載置台31の凹所31aにスタッドピンWの下部の突
起を挿入してスタッドピンWをワーク載置台31に載置す
る。次いで、図示しないターンテーブル駆動装置によっ
てターンテーブル30を矢印Cの方向に90°回転させて後
停止させる。すると、2次コイル20は第2図上で上方に
示す2次コイル20の位置にくる。このとき、第1図に示
すように、2次コイル20の開口21の外周部分21aが1対
の1次コイル10の間で且つ1次コイル10に対向した位置
にある。この状態で高周波電源100から1次コイル10に
高周波電流を所定時間通電すると、第2図に示すよう
に、2次コイル20の開口21の周辺部分21a、狭隙23の両
側および開口22の周辺部分22aには誘導電流iが流れ
る。この誘導電流iによって、開口22内に配置されたス
タッドピンWに誘導電流が流れてスタッドピンWが加熱
される。このように、スタッドピンWを所定時間加熱し
た後、1次コイル10への通電を断つ。次いで、図示しな
いジャケットから冷却液をスタッドピンWに噴射してス
タッドピンWを冷却後、図示しない駆動装置によってタ
ーンテーブル30を矢印Cの方向に90°回転させてから停
止させる。そして、手作業或いは機械によってスタッド
ピンWをワーク載置台31から取り外す。
以下、上記の動作を繰り返すことによって多数のスタッ
ドピンWを順次自動的に高周波誘導加熱してゆくことが
できる。
ドピンWを順次自動的に高周波誘導加熱してゆくことが
できる。
なお、本実施例ではターンテーブル30が全体的に絶縁性
であるとしたが、これにこだわるものではなく、2次コ
イル20の周辺その他必要個所のみを絶縁性とし、その他
の部分を導電性とすることもできる。また、開口21の周
辺部分21aには1次コイル10と同様にコアを取り付けた
り、2次コイル20の内部に冷却液を流通して冷却するこ
とも可能である。
であるとしたが、これにこだわるものではなく、2次コ
イル20の周辺その他必要個所のみを絶縁性とし、その他
の部分を導電性とすることもできる。また、開口21の周
辺部分21aには1次コイル10と同様にコアを取り付けた
り、2次コイル20の内部に冷却液を流通して冷却するこ
とも可能である。
<発明の効果> 以上説明したように本発明の高周波誘導加熱方法および
装置は、ほぼ板状で第1および第2の開口とこれら開口
間を繋ぐ狭隙とを有しターンテーブル上に放射状に複数
個設けられた2次コイルの第2の開口内にワークを設置
し、これら2次コイルの中の1個の2次コイルの上方と
ターンテーブルを介した下方とにそれぞれ2次コイルお
よびターンテーブルに接近固定配置され前記第1の開口
の周辺部分の形状に対応するように形成された1対の1
次コイルの間に2次コイルを配置し、1対の1次コイル
と前記周辺部分とで平面対向型のカレントトランスを形
成し、且つ、第2の開口の周辺部分で加熱コイルを形成
し、1次コイルに高周波電流を通電してワークを加熱終
了後、ターンテーブルを回転して次の2次コイルの前記
周辺部分を1次コイルの間に配置して次の2次コイルの
第2の開口内に設置したワークを加熱する。
装置は、ほぼ板状で第1および第2の開口とこれら開口
間を繋ぐ狭隙とを有しターンテーブル上に放射状に複数
個設けられた2次コイルの第2の開口内にワークを設置
し、これら2次コイルの中の1個の2次コイルの上方と
ターンテーブルを介した下方とにそれぞれ2次コイルお
よびターンテーブルに接近固定配置され前記第1の開口
の周辺部分の形状に対応するように形成された1対の1
次コイルの間に2次コイルを配置し、1対の1次コイル
と前記周辺部分とで平面対向型のカレントトランスを形
成し、且つ、第2の開口の周辺部分で加熱コイルを形成
し、1次コイルに高周波電流を通電してワークを加熱終
了後、ターンテーブルを回転して次の2次コイルの前記
周辺部分を1次コイルの間に配置して次の2次コイルの
第2の開口内に設置したワークを加熱する。
従って、本発明の高周波誘導加熱方法および装置によれ
ば、カレントトランスを昇降させる必要がないから、高
周波加熱装置の構造が簡単で廉価となる。更に、1次コ
イルを上側の1次コイルと下側の1次コイルの2個の1
次コイルから構成しているので、1次コイル全体のイン
ダクタンスを十分に大きくすることができるから、1次
コイルに印加される電力が低周波数であっても、高密度
の磁束を発生してワークを十分に誘導加熱することがで
きる利点を有する。
ば、カレントトランスを昇降させる必要がないから、高
周波加熱装置の構造が簡単で廉価となる。更に、1次コ
イルを上側の1次コイルと下側の1次コイルの2個の1
次コイルから構成しているので、1次コイル全体のイン
ダクタンスを十分に大きくすることができるから、1次
コイルに印加される電力が低周波数であっても、高密度
の磁束を発生してワークを十分に誘導加熱することがで
きる利点を有する。
第1図〜第4図は、本発明の一実施例を説明するための
図面であって、第1図は第2図のA-A線矢視断面図、第
2図は平面図(但し、上側の1次コイルの図示を省略し
てある)、第3図は第2図のB-B線矢視断面図である。
第4図は2次コイル(従来のカレントトランスの2次コ
イルと高周波加熱コイルに相当する)を示し、(a)は
平面図、(b)は(a)のA-A線矢視断面図、(c)は
(a)のB-B線矢視断面図、(d)は実際的な2次コイ
ルの平面図である。第5図は従来の高周波誘導加熱装置
の一例の説明図である。 10……1次コイル、20……2次コイル、21、22……開
口、21a、22a……周辺部分、23……狭隙、30……ターン
テーブル、W……スタッドピン。
図面であって、第1図は第2図のA-A線矢視断面図、第
2図は平面図(但し、上側の1次コイルの図示を省略し
てある)、第3図は第2図のB-B線矢視断面図である。
第4図は2次コイル(従来のカレントトランスの2次コ
イルと高周波加熱コイルに相当する)を示し、(a)は
平面図、(b)は(a)のA-A線矢視断面図、(c)は
(a)のB-B線矢視断面図、(d)は実際的な2次コイ
ルの平面図である。第5図は従来の高周波誘導加熱装置
の一例の説明図である。 10……1次コイル、20……2次コイル、21、22……開
口、21a、22a……周辺部分、23……狭隙、30……ターン
テーブル、W……スタッドピン。
Claims (2)
- 【請求項1】ほぼ板状で第1および第2の開口とこれら
開口間を繋ぐ狭隙とを有しターンテーブル上に放射状に
複数個設けられた2次コイルの第2の開口内にワークを
設置し、これら2次コイルの中の1個の2次コイルの上
方とターンテーブルを介した下方とにそれぞれ2次コイ
ルおよびターンテーブルに接近固定配置され前記第1の
開口の周辺部分の形状に対応するように形成された1対
の1次コイルの間に2次コイルを配置し、1対の1次コ
イルと前記周辺部分とで平面対向型のカレントトランス
を形成し、且つ、第2の開口の周辺部分で加熱コイルを
形成し、1次コイルに高周波電流を通電してワークを加
熱終了後、ターンテーブルを回転して次の2次コイルの
前記周辺部分を1次コイルの間に配置して次の2次コイ
ルの第2の開口内に設置したワークを加熱することを特
徴とする高周波誘導加熱方法。 - 【請求項2】絶縁性のターンテーブル上に放射状に設け
た複数のほぼ板状の2次コイルと、これら2次コイルの
中の1個の2次コイルの上方とターンテーブルを介した
下方に固定して設けた1対の1次コイルとを備え、2次
コイルに第1および第2の開口と両開口間を繋ぐ狭隙と
を設け、また、1次コイルを第1の開口の周辺部分の形
状に対応するように形成し、且つ、上側の1次コイルを
前記周辺部分に対向接近配置すると共に下側の1次コイ
ルを前記周辺部分に対向しターンテーブルに接近配置す
ることにより1対の1次コイルと前記周辺部分とで平面
対向型のカレントトランスを形成し、且つ、第2の開口
の周辺部分で加熱コイルを形成したことを特徴とする高
周波誘導加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2127866A JPH0686621B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 高周波誘導加熱方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2127866A JPH0686621B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 高周波誘導加熱方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0421715A JPH0421715A (ja) | 1992-01-24 |
| JPH0686621B2 true JPH0686621B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=14970592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2127866A Expired - Lifetime JPH0686621B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 高周波誘導加熱方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0686621B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP2127866A patent/JPH0686621B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0421715A (ja) | 1992-01-24 |
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