JPH0688044U - プラズマ発生装置 - Google Patents
プラズマ発生装置Info
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- JPH0688044U JPH0688044U JP3000293U JP3000293U JPH0688044U JP H0688044 U JPH0688044 U JP H0688044U JP 3000293 U JP3000293 U JP 3000293U JP 3000293 U JP3000293 U JP 3000293U JP H0688044 U JPH0688044 U JP H0688044U
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アーク放電が安定して発生し、かつ、カソー
ドの消耗が少ないプラズマ発生装置を提供する。 【構成】 動作ガスが導入される筒体2の下流側に環状
の陰極3を有するカソード1を設け、カソード1の下流
側にカソード1との間で初期放電を発生させるための環
状のアノード7b、8bを設け、アノード8bの下流側
にカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発生
させるための対向電極12を設けたプラズマ発生装置に
おいて、筒体2内の動作ガスの圧力を高めるべくアノー
ド7b、8bの穴径を小さくしたことを特徴としてい
る。
ドの消耗が少ないプラズマ発生装置を提供する。 【構成】 動作ガスが導入される筒体2の下流側に環状
の陰極3を有するカソード1を設け、カソード1の下流
側にカソード1との間で初期放電を発生させるための環
状のアノード7b、8bを設け、アノード8bの下流側
にカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発生
させるための対向電極12を設けたプラズマ発生装置に
おいて、筒体2内の動作ガスの圧力を高めるべくアノー
ド7b、8bの穴径を小さくしたことを特徴としてい
る。
Description
【0001】
本考案は、プラズマ発生装置に関し、特にアーク放電を利用したプラズマ発生 装置に関する。
【0002】
プラズマ発生装置を用いて被加工物にCVD、PVD、イオン窒化等の表面処 理を施すことが行われている。
【0003】 図3は従来のプラズマ発生装置の概念図である。
【0004】 同図において、1は、動作ガスが導入される筒体2の下流側に環状の陰極3が 設けられたカソードである。カソード1内にはフィラメント4が内蔵され、フィ ラメント4は加熱用交流電源5に接続されている。カソード1は筐体6内の上流 側に設けられており、筐体6の下流側にはカソード1との間で初期放電を発生さ せるための環状のアノード7a、8aが環状の絶縁体9、10aを介して設けら れている。フィラメント4およびカソード1は直流高圧電源11の陰極に接続さ れ、アノード7a、8aは抵抗器R1 、R2 を介して直流高圧電源11の陽極に 接続されている。これらカソード1、アノード7a、8aおよび直流高圧電源1 1でプラズマ銃が形成されている。
【0005】 プラズマ銃のアノード8aの下流側には図示しない処理室(チャンバ)が設け られている。チャンバ内にはカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発 生させるための対向電極12が配置されている。
【0006】 プラズマ発生装置は、フィラメント4とアノード7a、8aとの間でアーク放 電(初期放電)を発生させると共に、フィラメント4の熱で陰極3を加熱して熱 電子を放出させ、熱電子の供給が十分となった時にフィラメント4の発熱を停止 し、陰極3のみでプラズマを発生させ、対向電極12上に取り付けられた被加工 物の表面処理を行うようになっている。
【0007】
しかしながら、図3に示したプラズマ発生装置は、アーク放電の発生が不安定 であり、安定したプラズマを発生させるのが容易ではなく、しかもカソードが消 耗しやすいという問題点がある。
【0008】 そこで、本考案の目的は、上記課題を解決し、アーク放電が安定して発生し、 かつ、カソードの消耗が少ないプラズマ発生装置を提供することにある。
【0009】
上記目的を達成するために本考案は、動作ガスが導入される筒体の下流側に環 状の陰極を有するカソードを設け、カソードの下流側にカソードとの間で初期放 電を発生させるための環状のアノードを設け、アノードの下流側にカソードとの 間でアーク放電によるプラズマを発生させるための対向電極を設けたプラズマ発 生装置において、筒体内の動作ガスの圧力を高めるべくアノードの穴径を小さく したものである。
【0010】 また、本考案は、動作ガスが導入される筒体の下流側に環状の陰極を有するカ ソードを設け、カソードの下流側にカソードとの間で初期放電を発生させるため の環状のアノードを設け、アノードの下流側にカソードとの間でアーク放電によ るプラズマを発生させるための対向電極を設けたプラズマ発生装置において、ア ノードとカソードとの間に環状の浮遊電極を設けると共に浮遊電極の穴径をアノ ードの穴径より小さくしたものである。
【0011】
上記構成によれば、アノードまたは浮遊電極の穴径を小さくしたので、カソー ドおよびアノード間またはカソードおよび浮遊電極間における動作ガスの圧力が 高くなる。動作ガスの圧力が高いとアーク放電は安定に発生するので、カソード 、アノード間のアーク放電すなわち初期放電が安定に発生し、初期放電が発生し てからカソード、対向電極間のアーク放電への移行時間が短くなる。従って短時 間でアーク放電が安定状態となり、安定したプラズマを得ることができる。この ため、カソードへの着火時の放電による衝撃が減少し、カソードの消耗が抑制さ れる。
【0012】
以下、本考案の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
【0013】 図1は本考案のプラズマ発生装置の一実施例の概念図である。尚、従来例と共 通の部材には共通の符号を用いた。
【0014】 同図において、1は、Arガス等の動作ガスが導入される筒体2の下流側に環 状の陰極3が設けられたカソードである。陰極3には例えばLaB6 (六硼化ラ ンタン)ディスクが用いられる。カソード1にはフィラメント4が内蔵されてお り、外部に配置された加熱用交流電源5に接続されている。加熱用交流電源5は 例えばプラズマ発生装置の起動時にはタイマ等により所定の時間だけ作動してフ ィラメント4を加熱するようになっている。
【0015】 カソード1は筐体6内の上流側に絶縁体(図示せず)を介して設けられており 、筐体6の下流側には銅からなる複数(図では2枚)の環状のアノード7b、8 bが環状の絶縁体9、10bを介して設けられている。アノード7b、8bの穴 径d1 は図3に示したプラズマ発生装置のアノード7a、8aの穴径d2 と比較 して小さく形成されている。
【0016】 フィラメント4およびカソード1は、外部に配置された直流高圧電源11の陰 極に接続されており、アノード7b、8bは抵抗器R1 、R2 を介して直流高圧 電源11の陽極に接続されている。これらカソード1、アノード7b、8bおよ び直流高圧電源11でプラズマ銃が形成されている。
【0017】 プラズマ銃のアノード8bの下流側には図示しない処理室(チャンバ)が設け られており、チャンバ内にはカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発 生させるための対向電極12が配置されている。対向電極12は直流高圧電源1 1の陽極に接続されている。対向電極12上には表面処理が行われるべく被加工 物が取り付けられるようになっている。
【0018】 次に実施例の作用を述べる。
【0019】 起動時にはカソード1内に動作ガスが導入され、加熱用交流電源5からフィラ メント4に電流が供給され、直流高圧電源11からカソード1、アノード7b、 8bおよび対向電極12間に印加される。フィラメント4が加熱されフィラメン ト4とアノード7b、8bとの間でアーク放電(初期放電)が発生し、この熱で LaB6 ディスク3を加熱して熱電子を放出させ、熱電子電流の供給が十分とな った時に加熱用交流電源5からフィラメント4への電流の供給が停止してフィラ メント4の発熱が停止し、LaB6 ディスク3及び対向電極12間のアーク放電 に移行し、このLaB6 ディスク3のみでプラズマが発生する。
【0020】 このときアノード7b、8bの穴径d1 が従来のものより小さくなっているの で、筐体6内の動作ガスの圧力が高くなり、フィラメント4、アノード7b、8 b間のアーク放電(初期放電)が安定に発生し、初期放電が発生してからLaB 6 ディスク3、対向電極12間のアーク放電へ移行するまでの時間が短縮される 。従って短時間で安定状態となり、安定したプラズマを得ることができる。また 、カソード1への着火時の放電による衝撃が減少し、カソード1の消耗が抑制さ れる。さらに、筐体6内の圧力がチャンバ内の圧力より高いため、動作ガスの逆 流が防止される。尚、本実施例ではアノード7b、8bの数が2枚の場合で説明 したが、これに限定されるものではなく1枚であっても3枚以上であってもよい が、穴径が小さく形成されているのはいうまでもない。
【0021】 図2は本考案のプラズマ発生装置の他の実施例の概念図である。
【0022】 図1に示したプラズマ発生装置との相違点は、カソードとアノードとの間に環 状の絶縁体を介して環状の浮遊電極を設けると共に、この浮遊電極の穴径をアノ ードの穴径より小さくした点である。
【0023】 同図において、銅からなる環状の浮遊電極13の穴径d3 をアノード8cの内 径d2 より小さくしたことにより、筐体6内の動作ガスの圧力が高くなり、しか も動作ガスの逆流が防止される。従って前述と同様に、初期放電が発生してから LaB6 ディスク3、対向電極12間のアーク放電へ移行するまでの時間が短縮 され、カソード1の消耗が軽減される。また、浮遊電極13がカソード1、対向 電極12間のアーク放電路を狭めるので、アノード8cが浮遊電極13の陰にな り消耗も軽減される。
【0024】 以上において本実施例によれば、アノードまたは浮遊電極の穴径を小さくした ので、筐体内の動作ガスの圧力が高くなり、アーク放電が安定に発生するため、 カソード、アノード間のアーク放電すなわち初期放電が安定に発生し、初期放電 が発生してからカソード、対向電極間のアーク放電への移行時間が短くなる。従 って短時間でアーク放電が安定状態となり、安定したプラズマを得ることができ る。このため、カソードへの着火時の放電による衝撃が減少し、カソードの消耗 が抑制される。
【0025】 また、本実施例では加熱用電源は起動時にタイマにより所定の時間だけ作動す るようにした場合で説明したが、これに限定されるものではなく、温度センサを 用いて陰極の温度が所定の温度になったときに停止するように構成してもよい。 さらに、フィラメントの加熱に加熱用交流電源を用いたが、これに限定されるも のではなく直流電源を用いてもよい。
【0026】
以上要するに本考案によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【0027】 筒体内の動作ガスの圧力を高めるべくアノードまたは浮遊電極の穴径を小さく したので、アーク放電が安定して発生し、かつ、カソードの消耗が少ないプラズ マ発生装置を実現することができる。
【図1】本考案のプラズマ発生装置の一実施例の概念図
である。
である。
【図2】本考案のプラズマ発生装置の他の実施例の概念
図である。
図である。
【図3】従来のプラズマ発生装置の概念図である。
1 カソード 2 筒体 3 陰極(LaB6 ディスク) 7b、8b アノード 12 対向電極
フロントページの続き (72)考案者 ▲桑▼原 一 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 川崎 義則 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 白川 忠秀 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 瓦谷 立身 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内
Claims (2)
- 【請求項1】 動作ガスが導入される筒体の下流側に環
状の陰極を有するカソードを設け、該カソードの下流側
に該カソードとの間で初期放電を発生させるための環状
のアノードを設け、該アノードの下流側に前記カソード
との間でアーク放電によるプラズマを発生させるための
対向電極を設けたプラズマ発生装置において、筒体内の
動作ガスの圧力を高めるべく、前記アノードの穴径を小
さくしたことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 【請求項2】 動作ガスが導入される筒体の下流側に環
状の陰極を有するカソードを設け、該カソードの下流側
に該カソードとの間で初期放電を発生させるための環状
のアノードを設け、該アノードの下流側に前記カソード
との間でアーク放電によるプラズマを発生させるための
対向電極を設けたプラズマ発生装置において、前記アノ
ードと前記カソードとの間に環状の浮遊電極を設けると
共に該浮遊電極の穴径を前記アノードの穴径より小さく
したことを特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993030002U JP2603104Y2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993030002U JP2603104Y2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0688044U true JPH0688044U (ja) | 1994-12-22 |
| JP2603104Y2 JP2603104Y2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=12291705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993030002U Expired - Fee Related JP2603104Y2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2603104Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007035623A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Sandvik Intellectual Property Ab | プラズマ活性を向上させる装置 |
| KR101447779B1 (ko) * | 2012-09-06 | 2014-10-08 | 한국기계연구원 | 이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치 |
-
1993
- 1993-06-04 JP JP1993030002U patent/JP2603104Y2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2007035623A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Sandvik Intellectual Property Ab | プラズマ活性を向上させる装置 |
| KR101447779B1 (ko) * | 2012-09-06 | 2014-10-08 | 한국기계연구원 | 이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2603104Y2 (ja) | 2000-02-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |