JPH075245U - プラズマ発生装置 - Google Patents

プラズマ発生装置

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JPH075245U
JPH075245U JP3355693U JP3355693U JPH075245U JP H075245 U JPH075245 U JP H075245U JP 3355693 U JP3355693 U JP 3355693U JP 3355693 U JP3355693 U JP 3355693U JP H075245 U JPH075245 U JP H075245U
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plasma generator
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忠秀 白川
隆幸 中山
一朗 中本
義則 川崎
一 ▲桑▼原
立身 瓦谷
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石川島播磨重工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 初期放電が容易に発生し、しかも製造が容易
なプラズマ発生装置を提供する。 【構成】 作動ガスGが導入される筒体2の下流側に環
状の陰極3を有するカソード1を設け、カソード1の下
流側にカソード1との間で初期放電を発生させるための
環状のアノード7、11を設け、アノード7、11の下
流側にカソード1との間でアーク放電によるプラズマを
発生させるためのターゲット9を設けたプラズマ発生装
置において、アノード11のカソード側を凸形状に形成
したことを特徴としている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、プラズマ発生装置に関し、特にアーク放電を利用してプラズマを発 生させるプラズマ発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマ発生装置を用いて被加工物にCVD、PVD、イオン窒化等の表面処 理を施すことが行われている。
【0003】 図3は従来のプラズマ発生装置の概念図である。
【0004】 同図において、1は、作動ガスGが導入される筒体2の下流側に環状のLaB 6 (六硼化ランタン)ディスク3が設けられたカソードである。カソード1内に はW(タングステン)からなるWフィラメント4が内蔵され、このWフィラメン ト4は発熱用電源5に接続されている。カソード1の下流側にはカソード1との 間で初期放電を発生させるための金属からなる環状のアノード6、7が対向して 設けられている。Wフィラメント4およびカソード1は直流高圧電源8の陰極に 接続され、アノード6、7は抵抗器R1 、R2 を介して直流高圧電源8の陽極に それぞれ接続されている。主にこれらカソード1、Wフィラメント4、発熱用電 源5、アノード6、7、直流高圧電源8および抵抗器R1 、R2 でプラズマ銃が 形成されている。
【0005】 プラズマ銃の下流側には差動排気される図示しない処理室(チャンバ)が設け られている。チャンバ内にはカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発 生させるためのターゲット9が設けられている。
【0006】 このプラズマ発生装置は、Wフィラメント4とアノード6、7との間でアーク 放電(初期放電)を発生させると共に、Wフィラメント4の熱でLaB6 ディス ク3を加熱して熱電子を放出させ、熱電子の供給が十分となった時にWフィラメ ント4の発熱を停止し、LaB6 ディスク3のみでプラズマを発生させ、ターゲ ット9上に取り付けられた被加工物の表面処理を行うようになっている。
【0007】 また、図4は従来の他のプラズマ発生装置の概略図である。
【0008】 図3に示したプラズマ発生装置との相違点はWフィラメントの代わりにTa( タンタル)パイプを用いて初期放電を発生しやすくした点である。
【0009】 このプラズマ発生装置は、Taパイプ10とアノード6、7との間でアーク放 電(初期放電)を発生させると共に、初期放電時の熱でLaB6 ディスク3を加 熱して熱電子を放出させ、LaB6 ディスク3とターゲット9との間に発生した アーク放電でプラズマを発生させ、ターゲット9上に取り付けられた被加工物の 表面処理を行うようになっている。
【0010】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したプラズマ発生装置はいずれも初期放電が容易に発生せ ず、カソード内にフィラメントやTaパイプを設けた構造となっているため、プ ラズマ銃を形成する際にはこれらフィラメントやTaパイプとLaB6 ディスク とが接触しないように、その近傍に設けなければならないので製造が容易ではな い。
【0011】 そこで、本考案の目的は、上記課題を解決し、初期放電が容易に発生し、しか も製造が容易なプラズマ発生装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本考案は、作動ガスが導入される筒体の下流側に環 状の陰極を有するカソードを設け、カソードの下流側にカソードとの間で初期放 電を発生させるための環状のアノードを設け、アノードの下流側にカソードとの 間でアーク放電によるプラズマを発生させるためのターゲットを設けたプラズマ 発生装置において、アノードのカソード側を凸形状に形成したものである。
【0013】 また、本考案のプラズマ発生装置は、アノードに初期放電時のみアーク放電電 圧を印加し、かつ、安定アーク生成後にアノードをフローティングにするための スイッチを設けたものである。
【0014】
【作用】
上記構成によれば、アノードのカソード側が凸形状に形成されているので、こ の凸形状の先端部とカソードとの間でアーク放電が発生しやすくなり、すなわち 初期放電の発生が容易となる。初期放電によりカソードが加熱された後はカソー ドとターゲットとの間で安定なアークプラズマが形成される。
【0015】 WフィラメントやTaパイプを用いることなく初期放電がアノードの先端部と カソードとの間で発生するため、フィラメントやTaパイプが不要となり、構造 が簡略化される。
【0016】
【実施例】
以下、本考案の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
【0017】 図1は本考案のプラズマ発生装置の一実施例の概念図である。尚、前述した従 来例と共通の部材には共通の符号を用いた。
【0018】 同図において、1は、作動ガス(例えばアルゴンガス)Gが導入される筒体2 の下流側に環状のLaB6 ディスク3が設けられたカソードである。カソード1 の下流側にはカソード1との間で初期放電を発生させるための2つの環状のアノ ード7、11が対向して設けられている。これら2つのアノード7、11のうち 、カソード1に近い方のアノード11は、そのカソード側が中心に向かって凸形 状に形成されている。
【0019】 カソード1は直流高圧電源8の陰極に接続され、アノード7、11は抵抗器R 1 、R2 を介して直流高圧電源8の陽極に接続されている。主にこれらカソード 1、アノード、抵抗器R1 、R2 および直流高圧電源8でプラズマ銃が形成され ている。
【0020】 プラズマ銃の下流側には差動排気される図示しない処理室(チャンバ)が設け られている。チャンバ内にはカソード1との間でアーク放電によるプラズマを発 生させるためのターゲット9が配置されている。
【0021】 このプラズマ発生装置は、カソード1とアノード7、11との間でアーク放電 (初期放電)を発生させ、LaB6 ディスク3を加熱して熱電子を放出させ、L aB6 ディスク3とターゲットとの間でプラズマを発生させ、ターゲット9上に 取り付けられた被加工物の表面処理を行うようになっている。
【0022】 次に実施例の作用を述べる。
【0023】 作動ガスGがカソード1内に導入され、カソード1とアノード7、11・ター ゲット9との間に直流高電圧が印加されると、アノード11の凸形状に形成され た先端部11aとカソード1のLaB6 ディスク3との間でアーク放電(初期放 電)が発生し、略同時にLaB6 ディスク3とアノード7との間でアーク放電が 発生する。初期放電によりLaB6 ディスク3が加熱された後はLaB6 ディス ク3とターゲット9との間で安定したアーク放電(安定アーク)が発生し、安定 なアークプラズマが形成される。このアークプラズマによって被加工物の表面処 理が行われる。
【0024】 以上において本実施例によれば、アノード11のカソード側を凸形状に形成し たので、初期放電がアノード11の先端部11aとカソード1との間で容易に発 生するため、従来のようにWフィラメントやTaパイプを用いることなく、構造 が簡略化され、製造が容易なプラズマ発生装置を実現することができる。
【0025】 図2は本考案の他の実施例の概念図である。
【0026】 図1に示した実施例との相違点は、アノードと抵抗器との間にスイッチを設け た点である。
【0027】 図2に示すように、アノード7、11と抵抗器R1 、R2 との間にそれぞれス イッチ12、13が接続されている。これら両スイッチ12、13は連動してお り、同時にオンオフになるようになっている。スイッチ12、13は、アノード 7、11に初期放電時のみアーク放電電圧を印加し(オン)、かつ、安定アーク 生成後にアノード7、11をフローティングにする(オフ)ためのものである( 図はスイッチ12、13がオフの状態を示している)。尚、スイッチ12、13 のオンオフは操作者が行ってもよいが、タイマやセンサおよびマイクロコンピュ ータ等を用いて初期放電時のみ直流高電圧が印加されるようにしてもよい。
【0028】 このため、従来は初期放電時だけでなく安定アーク生成後にもカソード1、ア ノード7、11間にアーク電流が流れていたが(図3、4参照)、本実施のプラ ズマ発生装置は初期放電時にはカソード1とアノード7、11との間に全アーク 電流が流れ、安定アーク生成後にはカソード1とターゲット9との間に全アーク 電流が流れるようになっているので、アーク柱(破線で示す)が長くなって作動 ガスGのイオン化効率が向上し、高密度のプラズマによりCVD、PVD、イオ ン窒化等の表面処理を行うことができる。
【0029】 以上において本実施例によれば、アノードに初期放電時のみアーク放電電圧を 印加し、かつ、安定アーク生成後にアノードをフローティングにするためのスイ ッチを設けたので、イオン化効率がよく、初期放電が容易に発生し、しかも製造 が容易なプラズマ発生装置を実現することができる。
【0030】 尚、本実施例ではアノードの数が2つの場合で説明したが、これに限定される ものではなく1つでも3つ以上であってもよい。
【0031】
【考案の効果】
以上要するに本考案によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【0032】 アノードのカソード側を凸形状に形成したので、初期放電が容易に発生し、し かも製造が容易なプラズマ発生装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案のプラズマ発生装置の一実施例の概念図
である。
【図2】本考案の他の実施例の概念図である。
【図3】従来のプラズマ発生装置の概念図である。
【図4】従来の他のプラズマ発生装置の概略図である。
【符号の説明】
1 カソード 2 筒 体 3 陰極(LaB6 ディスク) 7、11 アノード 9 ターゲット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 中本 一朗 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 川崎 義則 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 ▲桑▼原 一 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)考案者 瓦谷 立身 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 作動ガスが導入される筒体の下流側に環
    状の陰極を有するカソードを設け、該カソードの下流側
    に該カソードとの間で初期放電を発生させるための環状
    のアノードを設け、該アノードの下流側に前記カソード
    との間でアーク放電によるプラズマを発生させるための
    ターゲットを設けたプラズマ発生装置において、前記ア
    ノードの前記カソード側を凸形状に形成したことを特徴
    とするプラズマ発生装置。
  2. 【請求項2】 前記アノードに初期放電時のみアーク放
    電電圧を印加し、かつ、安定アーク生成後に前記アノー
    ドをフローティングにするためのスイッチを設けたこと
    を特徴とする請求項1記載のプラズマ発生装置。
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