JPH0689220B2 - 集積回路用トレー - Google Patents

集積回路用トレー

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JPH0689220B2
JPH0689220B2 JP3651188A JP3651188A JPH0689220B2 JP H0689220 B2 JPH0689220 B2 JP H0689220B2 JP 3651188 A JP3651188 A JP 3651188A JP 3651188 A JP3651188 A JP 3651188A JP H0689220 B2 JPH0689220 B2 JP H0689220B2
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重則 浜岡
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は集積回路(IC)もしくは大規模集積回路(LS
I)−以下、まとめて集積回路又はICと表記する−用ト
レーに係り、より詳しくは表面抵抗及び比重が小さく、
しかも加熱後の変形の少ない耐熱性のIC用トレーに関す
る。
〔従来の技術〕
従来、IC製造の最終工程で行なわれるエポキシ樹脂成形
材料等の封止材の焼成(加熱硬化)工程、及び該工程に
続く梱包工程において、ICを保持および搬送する為に、
例えば凹溝部からなる製品収容部を多数形成した板状の
トレーが使用されている。
このようなトレーにはステンレスやアルミニウム等の金
属製のものと導電性を付与したポリスチレンやポリプロ
ピレン等のプラスチック製のものとの二種類があり、前
者は前記封止材の加熱硬化工程において、また後者は製
品梱包工程で使用されている。金属製及び導電性を付与
したプラスチック製のものが使用されるのは、ICが静電
気によって損傷し易い性質があるため、静電気の帯電を
防止するためである。ところで、上記のように2種類の
トレーが区別して使用されている理由は封止材の加熱硬
化工程では130〜150℃、4〜24時間の熱処理が行なわれ
るので、このような条件に繰り返しさらされるトレーは
優れた耐熱性も寸法安定性が要求され、また製品梱包工
程ではICを保持したトレーを重ねて梱包する為、軽量性
とコンパクト性が要求され、更には安価であることが要
求されるからである。
また、IC製造工場では、前記封止材加熱硬化工程から梱
包工程に移行するときにロボットでICを金属製トレーか
らプラスチック製トレーに移し替える作業が行なわれて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記の如き従来技術では、ロボットによ
るICの移し替え作業の際にICを落下させるなどの操作ミ
スが発生しやすく、また移し替え作業工程が付加されて
いることによる製造コストの増加等の問題がある。
これらの問題を解決する為、例えば特開昭58−214210号
公報に記載される汎用熱可塑性導電材料を使用した例が
あった。しかしながら、この熱可塑性樹脂は基本的特徴
が熱可塑性である為、ガラス転移温度はせいぜい150℃
であり、封止材の加熱硬化工程の熱処理温度を高くする
ことができないので処理時間が長くかかるという欠点が
あるほか、封止材の加熱硬化工程での高温、長時間かつ
ICをセットした後の重量負荷状況下では変形および寸法
変化が激しく、繰り返し使用には耐えられないものであ
った。
そこで、耐熱性を向上させる為、例えば特開昭61−2852
41号公報に開示されているごとく、フェノール樹脂を主
成分とする材料を用いて改質が行なわれた例もある。し
かしながら、この場合にはフェノール樹脂が熱硬化性で
ある為、150℃以上のガラス転移温度を維持するが、フ
ェノール樹脂の欠点である耐衝撃性の低さが未解決であ
り、根本的な問題を残したままであった。
そこで、耐衝撃性を向上させる為、特開昭61−287951号
公報に開示されているごとく、フェノール樹脂を繊維で
強化した材料を検討した例もあるが、耐衝撃性向上の為
には、繊維分30%以上の高充填配合にする必要があり、
繊維を高充填するとその分導電性が低くなり、その為比
重が1.8以上のカーボンブラックを大量に充填せざるを
えなかった。その結果、樹脂分が少なくなり、成形性の
悪し、曲げたわみ量の小さい、大変重いものになってし
まうという欠点を有していた。
本発明者等は、上記の如き従来技術の問題点に鑑み、耐
熱性の良好なフェノール樹脂成形材料に着目し、更に優
れたIC用トレーを製造するために検討を重ね、フェノー
ル樹脂にブタジエン系ゴム、導電性カーボンブラック、
無機充填剤、繊維状物質、流動性付与剤を配合してなる
フェノール樹脂成形材料を開発し、これを使用した体積
固有抵抗値が105Ω・cm以下であるIC用トレーについて
先に特許出願を行なった(特願昭62−193174号)。しか
しながら、この材料からなるIC用トレーはガラス転移温
度は150℃以上ではあるが、比重が1.65以上で重く、ま
たトレーの加熱後の変形すなわち反りについても必ずし
も満足のいくものではなかった。
そこで、本発明は、特に本発明者等が先に開示したフェ
ノール樹脂成形材料によるIC用トレーにおいて低比重化
及び反りの低減を図り、従来技術の問題点を解決し、封
止材の加熱硬化工程及び製品梱包工程で一貫して使用で
きかつ導電性、耐熱性、機械的強度(耐衝撃性、反りの
防止)等に優れたIC用トレーを提供することを目的とす
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ね
た結果、レゾール型フェノール樹脂にアクリロニトリル
ブタジエン(以下「NBR」と略記)系ゴムを併用し、天
然又は再生繊維質充填材、および導電性カーボンブラッ
クを添加することにより、目的とするトレーが得られる
ことを見い出し、本発明を成すに至った。
すなわち、本発明は、レゾール型フェノール樹脂85〜95
重量%とアクリロニトリルブタジエン系ゴム15〜5重量
%とからなるマトリックス100重量部に、天然又は再生
繊維質充填材30〜45重量部及び導電性カーボンブラック
30〜45重量部を添加してなるフェノール樹脂成形材料よ
りなり、かつ表面抵抗値が102〜105Ω、比重が1.45以
下、ガラス転移温度が150℃以上である集積回路用トレ
ーにある。
フェノール樹脂は、熱硬化性樹脂の一つであり、耐熱
性、寸法安定性、品質安定性に優れるものであるが、三
次元架橋樹脂のため本質的に耐衝撃性に劣るので、IC用
トレーのように耐衝撃性の要求される用途では補強素材
を配合して強度の維持を図る必要がある。しかしなが
ら、補強素材としては軽量化のためにセルロースの様な
天然又は再生繊維からなる充填材を使用しなければなら
ないが、IC用トレーでは前記の如く帯電防止を図る必要
があり、軽量化のためにカーボンブラックを大量に配合
すると、大量のカーボンブラックと一緒に補強素材を大
量に配合することはできず、カーボンブラック自体はフ
ェノール樹脂に対する補強性が乏しいために加熱時の剛
性が極端に低下する。従って、薄肉複雑形状からなる本
発明のようなトレーにあっては、製品成形後の脱型時あ
るいはロボットによるトレーからのIC取り出し時の衝撃
により、トレーに割れ、欠け等が発生し、通常の配合処
方では使用不可能となる。そこで、本発明は導電性と熱
時剛性とのバランスを、カーボンブラックと繊維質充填
材のバランスの問題としてのみとらえていては本発明の
目的であるトレーを得ることができないと考え、マトリ
ックスであるフェノール樹脂自体に柔軟性を付与し、か
つトレーの諸特性を検討することによって本発明をなし
たのである。即ち、本発明ではフェノール樹脂85〜95重
量%に対してNBR系ゴム15〜5重量%を加えて有機マト
リックスとすることによって、カーボンブラックの配合
量を最適化しながら、なおかつIC用トレーの高温時剛
性、耐衝撃性をはじめとする諸特性の最適化を可能とし
た。上記の有機マトリックスを配合してなる本発明のト
レーは、IC製造時の高温下で変形や欠け等を生じないば
かりでなく、トレー自体の成形時にも割れ等を生じるこ
となく容易に成形できる。しかも、耐熱性(ガラス転移
温度150℃以上)、軽量(比重1.45以下)、かつ低表面
抵抗(102〜105Ω)のトレーを提供するので、ICの製造
工程及びその後の梱包工程の両方で併用することが可能
になる。
また、本発明に使用されるフェノール樹脂成形材料は、
比較的流動性が良好なため、IC用トレー成形時には、比
較的低い成形圧力時点で該材料がす早く、溶融し、成形
金型の端々まで均一に分散充填され、その後設定圧力で
さらに加熱硬化される。したがって、成形されたIC用ト
レーの各部分の密度が比較的均一になっており、内部応
力が小さいため変形(反り)が小さく押えられる。
本発明に使用されるレゾール型フェノール樹脂は、一般
的に公知のものが使用されるが、特にベンジリックエー
テルタイプ、アンモニアレゾールタイプ、あるいはアル
カリレゾールタイプ等の液状や固形状のものが好適なも
のとして挙げられ、単独又は混合して使用することがで
きる。これらのレゾール型フェノール樹脂が特に好まし
いのは、加熱硬化時に金属を腐食するハロゲンイオンあ
るいはアミン系ガスの発生が少なく、かつ自硬性を有し
ているからである。
本発明に使用されるNBR系ゴムとしては、一般的に公知
のものが使用されるが、特に部分架橋型NBR、カルボキ
シ化NBR等のベール状のもの、パウダー状のものあるい
はラテックス状のものが好適なものとして挙げられ、単
独又は混合して使用することができる。これらのNBR系
ゴムが特に好ましいのは、高温時において弾性率の保持
率が高いからである。NBR系ゴムはレゾール型フェノー
ル樹脂85〜95重量部に対して15〜5重量部使用される。
5重量部より少ないとゴム成分とてしての補強効果が得
られず、15重量部を超えるとフェノール樹脂−NBR系ゴ
ムマトリックスがゴム状物質となり、曲げ強度、引張強
度が低下し、ガラス転移温度が150℃以下となり、耐熱
性が低下するため好ましくない。
本発明に使用される天然又は再生繊維質充填剤として
は、一般的に公知のものが使用されるが、特にセルロー
ス、綿、レーヨン、キュプラ等のパウダー状、繊維状又
は布状のものが好適なものとして挙げられ、単独又は混
合して使用することができる。該充填剤はフェノール樹
脂−NBR系ゴムマトリックス100重量部に対して30〜45重
量部使用される。30重量部より少ないと成形時に気泡を
生じやすくなり、従ってもろくになり、また、45重量部
より多いと成形加工性に劣る為、得られる成形品の強度
が極端に低下するという問題がある。
充填材の比重は小さいものほど良いが、通常得られる天
然又は再生繊維質充填材のほとんどの比重が1.60以下で
ある。比重1.60以上の無機繊維および無機充填材は得ら
れる成形品の比重が1.45以上と重くなり、また曲げたわ
み量も小さくなるので、好ましくない。
また、本発明に使用される導電性カーボンブラックとし
ては、一般的に公知のものが使用されるが、特にアセチ
レンブラック、ファーネスブラックECF等が好適なもの
として挙げられ、単独又は混合して使用することができ
る。導電性カーボンブラックはフェノール樹脂−NBR系
ゴムマトリックス100重量部に対して30〜45重量部使用
される。30重量部より少ないと表面抵抗が105Ω以上と
なり帯電防止性能が劣り、また45重量部を越えると表面
抵抗は102Ω以下となり逆に低すぎて通電しやすくな
り、また成形加工性に劣る為、得られる成形品の強度が
低下するという問題がある。
フェノール樹脂成形材料は上記原材料を主成分として構
成されているが、該原材料以外に適宜、硬化促進剤、離
型剤、流動性付与剤、難燃剤あるいは染顔料等を添加し
て使用することができる。フェノール樹脂成形材料は常
法に従い、加熱混練後シート化を行ない、冷却の後、粉
砕することにより得られる。
本発明のIC用トレーはフェノール樹脂成形材料を使用し
てコンプレッション成形、トランスファー成形、又はイ
ンジェクション成形を行なうことにより得られ、その表
面抵抗値は102〜105Ωであり、比重は1.45以下、ガラス
転移温度は150℃以上のものである。
本発明のIC用トレーの表面抵抗値は102〜105Ωの範囲内
とする。IC用トレーの表面抵抗値が105Ωより大きいとI
C用トレーが静電気を帯びることによりIC等に損傷を与
え易くなり、一方、102Ωより小さいと、IC用トレーが
通電し易くなり、IC等に種々の悪影響を及ぼす。
また、本発明のIC用トレーの比重は1.45以下とする。IC
用トレーの比重が1.45より大きくなるとIC用トレーの重
量が増し、特に運搬作業等において作業者に支障を来
し、また、特に飛行機輸送が多いため、製品輸送におけ
るコストが高くなる。
また、本発明のIC用トレーのガラス転移温度は150℃以
上とする。IC用トレーのガラス転移温度が150℃より低
くなるとIC等の封止材の加熱硬化工程において、変形が
生じトレーとしての価値がなくなる。また、IC用トレー
は数回くり返して該工程で使用されるが、変形が生じる
ことにより、それが不可能となる。
本発明のIC用トレーの表面抵抗値、比重、ガラス転移温
度は前記のフェノール樹脂成形材料において基本的に実
現可能であるが、これらの値が上記の範囲から外れるも
のは本発明の範囲外である。
また、成形して得られたトレーを例えば180〜200℃下2
〜6時間のアフターキュア(後硬化)を行なうと耐熱性
を更に向上させることができる。
例えば、300×200×5mmの板状トレーは金型温度180〜20
0℃、成形圧力200〜400kg/cm2、硬化時間120〜180秒の
条件でコンプレッション成形を行なうことにより得るこ
とができる。該板状トレーは表面抵抗値が104Ωであ
り、比重1.35、ガラス転移温度162℃であり、また常態
および150℃、1時間の加熱後の反りは0.5mm(10%)以
下と小さいものになっている。
〔実施例〕
以下、実施例に基づき本発明を説明する。
なお、フェノール樹脂成形材料の物性及び板状トレーの
反りは次に示す方法に従って測定した。
(1)曲げ強さ、シャルピー衝撃強さ、比重 JIS K-6911に準ずる。
(2)表面抵抗 HIOKI.E.E株式会社製テスターにて、JISK-6911にもとづ
く収縮片で測定した。
(測定方法) 収縮片の環状隆起部の外周側面の直径方向2点に上記テ
スターのコード端子を接触させて測定する。
(3)ガラス転移温度 熱分析装置(島津製作所製)を使用して伸び率(%)−
温度(℃)の相関図を作成し、グラフ上からガラス転移
温度(℃)を求めた。
(測定条件) 試験片 5φ×10mmの丸棒 昇温速度 5℃/min 測定温度 室温〜200℃ (4)反り(常態および150℃、1時間後) 金型温度190℃、成形圧力300kg/cm2、硬化時間150秒で
コンプレッション成形により300×200×5mmの板状トレ
ーを成形し、常態および150℃、1時間の加熱後の反り
をハイトゲージ(ミツトヨ製)にて測定する。
実施例1 ベンジリックエーテル型フェノール樹脂(固形状)90重
量部 部分架橋型NBR(日本合成ゴム 製) 10 セルロース (興人 製) 35 アセチレンブラック(電気化学 製) 35 上記原材料を適量の硬化促進剤、離型剤および溶剤とと
もにヘンシェルミキサーにて均一分散混合し、熱ロール
上(80/60℃)で5〜7分間混練を行ないシート状にし
て取り出した。このシート状材料を適当な大きさに粉砕
し、成形可能なフェノール樹脂成形材料を得た。
この成形材料を使用して、金型温度180〜200℃、成形圧
力200〜400kg/cm2、硬化時間120〜180秒の条件でコンプ
レッション成形を行ない、試験用のテストピースを作成
し、曲げ強さ、シャルピー衝撃強さ、表面抵抗、比重の
各物性を測定した。また、ガラス転移温度および板状ト
レーの反り(常態および150℃、1時間加熱後)につい
ても前記条件で測定した。その結果を第1表に示す。
実施例2〜12 第1表に示す配合割合で実施例1と同様にして成形材料
を作成し、テストピース成形後、同様の物性等の測定を
行なった。その結果を第1表に示す。
比較例1 第2表に示す配合割合でインジェクション成形を行ない
試験用のテストピースを作成し、曲げ強さ、シャルピー
衝撃強さ、表面抵抗、比重、ガラス転移温度、反り(常
態および150℃、1時間加熱後)について測定した。そ
の結果を第2表に示す。
比較例2〜7 第2表に示す配合割合で実施例1と同様にして成形材料
を作成し、テストピース成形後、同様の物性等の測定を
行なった。その結果を第2表に示す。
〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明のIC(LSIを含む)用トレ
ーは耐熱性、耐衝撃性および導電性に優れ、かつ比重お
よび反りの小さいものとなっている。
したがって、本発明のIC用トレーを使用すると、ICもし
くはLSIの製造工場における加熱硬化工程の時間を1/2以
下に短縮することができ、また、該トレーの反りが小さ
いことから、該加熱硬化工程で数回くり返して使用する
ことが可能となり、さらに、製品の搬送、梱包を容易に
行うことができる。
また、本発明のIC用トレーを使用することにより、IC等
の加熱硬化工程および製品梱包工程を一貫作業にするこ
とができ、工程の単純化の実現および製品移し替え時の
作業ミスの削除等がはかられため、作業能率が向上し、
製品価値が大巾に低減できるという大きな効果が得られ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 //(C08L 61/10 9:02) (C08K 13/04 7:02 3:04) (56)参考文献 特開 昭59−223746(JP,A) 特開 昭61−287951(JP,A) 特開 昭61−285241(JP,A) 特開 昭62−193174(JP,A) 特公 昭56−48923(JP,B2)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レゾール型フェノール樹脂85〜95重量%と
    アクリロニトリルブタジエン系ゴム15〜5重量%とから
    なるマトリックス100重量部に、天然又は再生繊維質充
    填材30〜45重量部及び導電性カーボンブラック30〜45重
    量部を添加してなるフェノール樹脂成形材料よりなり、
    かつ表面抵抗値が102〜105Ω、比重が1.45以下、ガラス
    転移温度が150℃以上である集積回路用トレー。
JP3651188A 1988-02-20 1988-02-20 集積回路用トレー Expired - Lifetime JPH0689220B2 (ja)

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JPH0751658B2 (ja) * 1990-08-06 1995-06-05 フドー株式会社 成型用フェノール樹脂組成物およびフェノール樹脂成型品
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JP5648923B2 (ja) 2009-10-09 2015-01-07 国立大学法人静岡大学 半導体素子及び固体撮像装置

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