JPH06893B2 - 架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造する方法 - Google Patents
架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造する方法Info
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- JPH06893B2 JPH06893B2 JP63117166A JP11716688A JPH06893B2 JP H06893 B2 JPH06893 B2 JP H06893B2 JP 63117166 A JP63117166 A JP 63117166A JP 11716688 A JP11716688 A JP 11716688A JP H06893 B2 JPH06893 B2 JP H06893B2
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- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/14—Peroxides
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- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成形体または被覆体の製造法に関する。
成形を圧縮成形（compression molding）、トランスフ
アー成形（transfer molding）または射出成形（inject
ion molding）によつて行なうことにより、架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカ
ル生成剤含有材料から成形体を製造することは、既に数
年来公知である。このためには、たとえばリンチ（Ｗ．
Lynch）著の“ハンドブツク・オブ・シリコーン・フア
ブリケーシヨン（Handbook of Silicone Fabricatio
n）”〔出版社ヴアン・ノーストランド・ラインホルト
・カンパニー（Van Nostvand Reinhold Company）、ニ
ユーヨーク（New York）等在、１９７８年〕が引用され
る。
アー成形（transfer molding）または射出成形（inject
ion molding）によつて行なうことにより、架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカ
ル生成剤含有材料から成形体を製造することは、既に数
年来公知である。このためには、たとえばリンチ（Ｗ．
Lynch）著の“ハンドブツク・オブ・シリコーン・フア
ブリケーシヨン（Handbook of Silicone Fabricatio
n）”〔出版社ヴアン・ノーストランド・ラインホルト
・カンパニー（Van Nostvand Reinhold Company）、ニ
ユーヨーク（New York）等在、１９７８年〕が引用され
る。
ところで、特に短かい架橋時間を可能とし、複雑に成形
された成形体、たとえば比較的著しいアンダーカツトを
有するような成形体の場合でも成形体の容易で迅速な離
型性を、離型在を一緒に使用することなしでもかつ圧縮
成形、トランスフアー成形ないしは射出成形のために使
用される装置の最終形状を惹起する部分を製造する際に
比較的容易に入手しうる物質を使用する場合でも保証
し、かつ寸法の特に僅かな減少、すなわち材料が架橋す
る場合に特に僅かな収縮しか有しない成形体ないしは被
覆体を生じるような、成形を圧縮成形、トランスフアー
成形または射出成形によつて行なうことにより、架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造す
る方法を提供するという課題が生じた。
された成形体、たとえば比較的著しいアンダーカツトを
有するような成形体の場合でも成形体の容易で迅速な離
型性を、離型在を一緒に使用することなしでもかつ圧縮
成形、トランスフアー成形ないしは射出成形のために使
用される装置の最終形状を惹起する部分を製造する際に
比較的容易に入手しうる物質を使用する場合でも保証
し、かつ寸法の特に僅かな減少、すなわち材料が架橋す
る場合に特に僅かな収縮しか有しない成形体ないしは被
覆体を生じるような、成形を圧縮成形、トランスフアー
成形または射出成形によつて行なうことにより、架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造す
る方法を提供するという課題が生じた。
上記の課題は、本発明により解決される。
本発明の対象は、成形を圧縮成形、トランスフアー成形
または射出成形によつて行なうことにより、架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカ
ル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造する方
法において、前記のオルガノポリシロキサンはケイ素と
結合した水素を有しておらず、ラジカル生成剤は、６０
℃〜１４９℃で１分間のベンゾール中での半価時間を有
する少なくとも１種のラジカル生成剤および１５０℃〜
２００℃で１分間のベンゾール中での半価時間を有する
少なくとも１種のラジカル生成剤であることを特徴とす
る架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを成形
しうるラジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体
を製造する方法である。
または射出成形によつて行なうことにより、架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラジカ
ル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造する方
法において、前記のオルガノポリシロキサンはケイ素と
結合した水素を有しておらず、ラジカル生成剤は、６０
℃〜１４９℃で１分間のベンゾール中での半価時間を有
する少なくとも１種のラジカル生成剤および１５０℃〜
２００℃で１分間のベンゾール中での半価時間を有する
少なくとも１種のラジカル生成剤であることを特徴とす
る架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを成形
しうるラジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体
を製造する方法である。
本発明による方法により被覆体を製造することは、たと
えば電気または電子構成部材を被覆することであつても
よい。
えば電気または電子構成部材を被覆することであつても
よい。
一般に６０〜１４９℃でベンゾール１リツトルあたりラ
ジカル生成剤0.1モルの濃度を用いて測定される１分間
のベンゾール中での半価時間を有するラジカル生成剤の
例は、過酸化ジベンゾイル、ビス−（４−クロロベンゾ
イル）−ペルオキシド、ビス−（２，４−ジクロロベン
ゾイル）−ペルオキシド、特定のペルオキシ炭酸塩、た
とえばジアセチル−ペルオキシジカーボネート、ジミリ
スチルペルオキシジカーボネート、ジシクロヘキシルペ
ルオキシジカーボネート、ビス−（４−ｔ−ブチルシク
ロヘキシル）−ペルオキシジカーボネート、ジ−ｎ−ブ
チルペルオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシ
ル−ペルオキシジカーボネートおよびジイソトリデシル
−ペルオキシジカーボネート、アゾビス−（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）およびアゾ−ビス−（イソブチ
ロニトリル）である。
ジカル生成剤0.1モルの濃度を用いて測定される１分間
のベンゾール中での半価時間を有するラジカル生成剤の
例は、過酸化ジベンゾイル、ビス−（４−クロロベンゾ
イル）−ペルオキシド、ビス−（２，４−ジクロロベン
ゾイル）−ペルオキシド、特定のペルオキシ炭酸塩、た
とえばジアセチル−ペルオキシジカーボネート、ジミリ
スチルペルオキシジカーボネート、ジシクロヘキシルペ
ルオキシジカーボネート、ビス−（４−ｔ−ブチルシク
ロヘキシル）−ペルオキシジカーボネート、ジ−ｎ−ブ
チルペルオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシ
ル−ペルオキシジカーボネートおよびジイソトリデシル
−ペルオキシジカーボネート、アゾビス−（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）およびアゾ−ビス−（イソブチ
ロニトリル）である。
同様に一般に１５０〜２００℃でベンゾール１リツトル
あたりラジカル生成剤0.1モルの濃度を用いて測定され
る１分間のベンゾール中での半価時間を有するラジカル
生成剤の例は、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミル
ペルオキシド、２，５−ビス−（ｔ−ブチルペルオキ
シ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔ−ブチルペルベン
ゾエート、ｔ−ブチルペルイソノナノエートおよびｔ−
ブチルペルオキシイソプロピルカーボネートである。
あたりラジカル生成剤0.1モルの濃度を用いて測定され
る１分間のベンゾール中での半価時間を有するラジカル
生成剤の例は、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミル
ペルオキシド、２，５−ビス−（ｔ−ブチルペルオキ
シ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔ−ブチルペルベン
ゾエート、ｔ−ブチルペルイソノナノエートおよびｔ−
ブチルペルオキシイソプロピルカーボネートである。
好ましくは、１ラジカル生成剤がベンゾール中で１分間
の半価時間を有する温度と、架橋可能な同じ材料中の他
のそれぞれのラジカル生成剤がベンゾール中で１分間の
半価時間を有する温度との間隔は少なくとも１５℃であ
る。
の半価時間を有する温度と、架橋可能な同じ材料中の他
のそれぞれのラジカル生成剤がベンゾール中で１分間の
半価時間を有する温度との間隔は少なくとも１５℃であ
る。
ラジカル生成剤は、本発明による方法の場合に使用され
る架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成
しうるラジカル生成剤含有材料中に同じ全量で存在する
ことができ、これらのラジカル生成剤は、成形を圧縮成
形、トランスフアー成形または射出成形によつて行なう
ことにより、架橋してオルガノポリシロキサンエラスト
マーを形成しうるラジカル生成剤含有材料から成形体を
製造するためのこれまで公知の方法の場合に使用された
架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成し
うるラジカル生成剤含有材料中でも上記の量で存在する
ことができた。これは、ラジカル架橋によってのみ架橋
すべき材料の場合には、それぞれそのつどの材料の全重
量に対して有利に０．１〜３重量％、殊に０．１〜１重
量％である。
る架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成
しうるラジカル生成剤含有材料中に同じ全量で存在する
ことができ、これらのラジカル生成剤は、成形を圧縮成
形、トランスフアー成形または射出成形によつて行なう
ことにより、架橋してオルガノポリシロキサンエラスト
マーを形成しうるラジカル生成剤含有材料から成形体を
製造するためのこれまで公知の方法の場合に使用された
架橋してオルガノポリシロキサンエラストマーを形成し
うるラジカル生成剤含有材料中でも上記の量で存在する
ことができた。これは、ラジカル架橋によってのみ架橋
すべき材料の場合には、それぞれそのつどの材料の全重
量に対して有利に０．１〜３重量％、殊に０．１〜１重
量％である。
好ましくは、６０〜１４９℃で１分間のベンゾール中で
の半価時間を有するラジカル生成剤の量は、それぞれラ
ジカル生成剤の全量に対して１〜７０重量％、殊に３〜
６０重量％である。
の半価時間を有するラジカル生成剤の量は、それぞれラ
ジカル生成剤の全量に対して１〜７０重量％、殊に３〜
６０重量％である。
本発明による方法の場合、ラジカル生成剤−組合わせ物
としては、過酸化物のラジカル生成剤の組合わせ物が有
利である。
としては、過酸化物のラジカル生成剤の組合わせ物が有
利である。
成形が圧縮成形かまたはトランスフアー成形により行な
われる場合、過酸化物のラジカル生成剤の特に有利な組
合わせ物は、それぞれの材料の全重量に対してジクミル
ペルオキシド0.1〜１重量％とそれぞれの材料の全重量
に対してジベンゾイルペルオキシド0.05〜１重量％との
組合わせ物であり、かつ上記のこれらの組合わせ物のう
ち、成形が圧縮成形かまたはトランスフアー成形により
行なわれる場合に、それぞれの材料の全重量に対してジ
クミルペルオキシド0.35重量％とそれぞれの材料の全重
量に対してジベンゾイルペルオキシド0.15重量％との組
合わせ物が、最も多く有利である。
われる場合、過酸化物のラジカル生成剤の特に有利な組
合わせ物は、それぞれの材料の全重量に対してジクミル
ペルオキシド0.1〜１重量％とそれぞれの材料の全重量
に対してジベンゾイルペルオキシド0.05〜１重量％との
組合わせ物であり、かつ上記のこれらの組合わせ物のう
ち、成形が圧縮成形かまたはトランスフアー成形により
行なわれる場合に、それぞれの材料の全重量に対してジ
クミルペルオキシド0.35重量％とそれぞれの材料の全重
量に対してジベンゾイルペルオキシド0.15重量％との組
合わせ物が、最も多く有利である。
成形が射出成形により行なわれる場合、過酸化物のラジ
カル生成剤の特に有利な組合わせ物は、それぞれの材料
の全重量に対してジクミルペルオキシド0.1〜１重量％
ならびにそれぞれの材料の全重量に対してジベンゾイル
ペルオキシド0.01〜0.5重量％とそれぞれの材料の全重
量に対してビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペ
ルオキシド0.01〜0.5重量％とからなるような組合わせ
物である。
カル生成剤の特に有利な組合わせ物は、それぞれの材料
の全重量に対してジクミルペルオキシド0.1〜１重量％
ならびにそれぞれの材料の全重量に対してジベンゾイル
ペルオキシド0.01〜0.5重量％とそれぞれの材料の全重
量に対してビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペ
ルオキシド0.01〜0.5重量％とからなるような組合わせ
物である。
過酸化物のラジカル生成剤のこれらの組合わせ物のう
ち、成形が射出成形により行なわれる場合、再びそれぞ
れの材料の全重量に対してジクミルペルオキシド0.35重
量％ならびにそれぞれの材料の全重量に対してジベンゾ
イルペルオキシド0.12重量％とそれぞれの材料の全重量
に対してビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペル
オキシド0.04重量％との組合わせ物が特に有利である。
ち、成形が射出成形により行なわれる場合、再びそれぞ
れの材料の全重量に対してジクミルペルオキシド0.35重
量％ならびにそれぞれの材料の全重量に対してジベンゾ
イルペルオキシド0.12重量％とそれぞれの材料の全重量
に対してビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペル
オキシド0.04重量％との組合わせ物が特に有利である。
本発明により使用されるラジカル生成剤−組合わせ物は
別として、本発明による方法の場合に使用される架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料は、それらの成形を圧縮成形、ト
ランスフアー成形または射出成形によつて行なうことの
できる、１個のラジカル生成剤しか有しない架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうる材料と
同じ組成を有することができる。
別として、本発明による方法の場合に使用される架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料は、それらの成形を圧縮成形、ト
ランスフアー成形または射出成形によつて行なうことの
できる、１個のラジカル生成剤しか有しない架橋してオ
ルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうる材料と
同じ組成を有することができる。
本発明による方法の場合に使用されるラジカル生成剤含
有材料からオルガノポリシロキサンエラストマーを得る
ために、これらの材料中に含まれているオルガノポリシ
ロキサンは、これらのオルガノポリシロキサン中にケイ
素原子１００個あたり多くとも５個、殊に多くとも1.5
個の、脂肪族炭素−炭素−多重結合を有するSiC−結合
有機基を含有してもよい。
有材料からオルガノポリシロキサンエラストマーを得る
ために、これらの材料中に含まれているオルガノポリシ
ロキサンは、これらのオルガノポリシロキサン中にケイ
素原子１００個あたり多くとも５個、殊に多くとも1.5
個の、脂肪族炭素−炭素−多重結合を有するSiC−結合
有機基を含有してもよい。
本発明による方法は、成形を圧縮成形、トランスファー
成形または射出成形によって行なうことにより、架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造す
るためのこれまでの公知の方法と同じ装置中でかつ同じ
温度および圧力で実施することができる。
成形または射出成形によって行なうことにより、架橋し
てオルガノポリシロキサンエラストマーを形成しうるラ
ジカル生成剤含有材料から成形体または被覆体を製造す
るためのこれまでの公知の方法と同じ装置中でかつ同じ
温度および圧力で実施することができる。
これらの材料がラジカル生成によつてのみ架橋されねば
ならないようなものである限りは、２種ないしは３種の
過酸化物からなる上述の有利な過酸化物−組合わせ物を
使用する場合に１７０〜１９０℃が有利である。
ならないようなものである限りは、２種ないしは３種の
過酸化物からなる上述の有利な過酸化物−組合わせ物を
使用する場合に１７０〜１９０℃が有利である。
次の実施例において、部および％の全ての値は、別記し
ない限りないしは有意義である限り重量に関するもので
ある。
ない限りないしは有意義である限り重量に関するもので
ある。
実施例 例１ a) ジメチルシロキサン単位99.93モル％とビニルメチ
ルシロキサン単位0.07モル％とからなり２５℃で８・１
０6mPa.sの粘度を有する、トリメチルシロキサン基によ
つて末端封鎖されたオルガノポリシロキサン１００部
を、１５０℃で運転される混練機中でさしあたり、２０
０m2／ｇのBET表面積を有するガス相中で熱分解法によ
り製造された二酸化ケイ素４２部と、次いで２５℃で４
０mPa.sの粘度を有する、末端単位中にそれぞれ１個のS
i−結合ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサ
ン７部と、最後に、混練機の冷却後にジクミルペルオキ
シド0.35部および同じ部のジベンゾイルペルオキシドと
２５℃で２５０mPa.sの粘度を有するトリメチルシロキ
シ基によつて末端封鎖されたジメチルポリシロキサンと
からなるペースト0.3部とそれぞれ混合する。
ルシロキサン単位0.07モル％とからなり２５℃で８・１
０6mPa.sの粘度を有する、トリメチルシロキサン基によ
つて末端封鎖されたオルガノポリシロキサン１００部
を、１５０℃で運転される混練機中でさしあたり、２０
０m2／ｇのBET表面積を有するガス相中で熱分解法によ
り製造された二酸化ケイ素４２部と、次いで２５℃で４
０mPa.sの粘度を有する、末端単位中にそれぞれ１個のS
i−結合ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサ
ン７部と、最後に、混練機の冷却後にジクミルペルオキ
シド0.35部および同じ部のジベンゾイルペルオキシドと
２５℃で２５０mPa.sの粘度を有するトリメチルシロキ
シ基によつて末端封鎖されたジメチルポリシロキサンと
からなるペースト0.3部とそれぞれ混合する。
b) その製造が上記a)に記載された架橋してオルガノポ
リシロキサンエラストマーを形成しうるラジカル生成剤
含有材料を、市販の射出成形装置〔“オールラウンダー
（Allrounder）”２７０−９０−３５０、名称“オール
ラウンダー（Allrounder）”は登録商標である、アール
ブルク・マシーネンフアブリーク・ヘール＆ゼーネ（Ar
burg Maschinenfabrik Hehl & Sohne、Ｄ−７２９８ロ
ースブルク（LoBburg）在〕（この装置の射出シリンダ
ーは４０℃に加熱されており、この装置の材料最終形状
を惹起する部分は１８５℃に加熱されている）中で、試
料体として１辺につき約１８０mmの縁長さを有する正方
形板（約２０mmが６mmの厚さを有し約１３０mmが２mmの
厚さを有し、約３０mmが１mmの厚さを有する）に加工す
る。
リシロキサンエラストマーを形成しうるラジカル生成剤
含有材料を、市販の射出成形装置〔“オールラウンダー
（Allrounder）”２７０−９０−３５０、名称“オール
ラウンダー（Allrounder）”は登録商標である、アール
ブルク・マシーネンフアブリーク・ヘール＆ゼーネ（Ar
burg Maschinenfabrik Hehl & Sohne、Ｄ−７２９８ロ
ースブルク（LoBburg）在〕（この装置の射出シリンダ
ーは４０℃に加熱されており、この装置の材料最終形状
を惹起する部分は１８５℃に加熱されている）中で、試
料体として１辺につき約１８０mmの縁長さを有する正方
形板（約２０mmが６mmの厚さを有し約１３０mmが２mmの
厚さを有し、約３０mmが１mmの厚さを有する）に加工す
る。
c) 既に３５秒後に、完全に非粘着性の板は容易に離型
することができる。６mmの断面で、これらの板はこの３
５秒後に２９〜３０のシヨアー（Shore）−Ａ−硬度を
有し、２mmの断面で４５のシヨアー−Ａ−硬度を有す
る。６mmの断面で、工具から取出されかつ次いで４時間
で２００℃に加熱された（“熱処理”）板は、４６のシ
ヨアー−Ａ−硬度を有する。
することができる。６mmの断面で、これらの板はこの３
５秒後に２９〜３０のシヨアー（Shore）−Ａ−硬度を
有し、２mmの断面で４５のシヨアー−Ａ−硬度を有す
る。６mmの断面で、工具から取出されかつ次いで４時間
で２００℃に加熱された（“熱処理”）板は、４６のシ
ヨアー−Ａ−硬度を有する。
例２ 例１中のa)およびb)に記載された作業法を繰り返すが、
ジクミルペルオキシド0.35部および過酸化物含有ペース
トの代わりにジクミルペルオキシド0.35部、同じ部とジ
ベンゾイルペルオキシドと２５℃で２５０mPa.sの粘度
を有するトリメチルシロキシ基によつて末端封鎖された
ジメチルポリシロキサンとからなるペースト0.25部およ
び同じ部のビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペ
ルオキシドと前記種類のジメチルポリシロキサンとから
なるペースト0.08部を使用する。
ジクミルペルオキシド0.35部および過酸化物含有ペース
トの代わりにジクミルペルオキシド0.35部、同じ部とジ
ベンゾイルペルオキシドと２５℃で２５０mPa.sの粘度
を有するトリメチルシロキシ基によつて末端封鎖された
ジメチルポリシロキサンとからなるペースト0.25部およ
び同じ部のビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペ
ルオキシドと前記種類のジメチルポリシロキサンとから
なるペースト0.08部を使用する。
既に３５秒後に、完全に非粘着性の板は極めて容易に離
型することができる。６mmの断面でこれらの板はこの３
５秒後に３１〜３２のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２mm
の断面で４５のシヨアー−Ａ−硬度を有する。６mmの断
面で、工具から取出されかつ次いで４時間で２００℃に
加熱された板は、４６のシヨアー−Ａ−硬度を有する。
型することができる。６mmの断面でこれらの板はこの３
５秒後に３１〜３２のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２mm
の断面で４５のシヨアー−Ａ−硬度を有する。６mmの断
面で、工具から取出されかつ次いで４時間で２００℃に
加熱された板は、４６のシヨアー−Ａ−硬度を有する。
例３ 例２に記載された作業法を繰り返すが、射出成形圧は11
6・105Pa（絶対）ではなく111・105Pa（絶対）であり、
同じ部のジベンゾイルペルオキシドと２５℃で２５０mP
a.sの粘度を有するトリメチルシロキシ基によつて末端
封鎖されたジメチルポリシロキサンとからなるペースト
0.4部をこのペースト0.25部の代わりに、かつ同じ部の
ビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペルオキシド
とトリメチルシロキシ基によつて末端封鎖された前記種
類のジメチルポリシロキサンとからなるペースト0.1部
をペースト0.08部の代わりに使用する。
6・105Pa（絶対）ではなく111・105Pa（絶対）であり、
同じ部のジベンゾイルペルオキシドと２５℃で２５０mP
a.sの粘度を有するトリメチルシロキシ基によつて末端
封鎖されたジメチルポリシロキサンとからなるペースト
0.4部をこのペースト0.25部の代わりに、かつ同じ部の
ビス−（２，４−ジクロロベンゾイル）−ペルオキシド
とトリメチルシロキシ基によつて末端封鎖された前記種
類のジメチルポリシロキサンとからなるペースト0.1部
をペースト0.08部の代わりに使用する。
既に３５秒後に、完全に非粘着性の板は極めて容易に離
型することができる。６mmの断面の場合に、これらの板
はこの３５秒後に４１のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２
mmの断面で５３のシヨアー−Ａ−硬度を有する。６mmの
断面で、工具から取出されかつ次いで４時間で２００℃
に加熱された板は、５６のシヨアー−Ａ−硬度を有す
る。
型することができる。６mmの断面の場合に、これらの板
はこの３５秒後に４１のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２
mmの断面で５３のシヨアー−Ａ−硬度を有する。６mmの
断面で、工具から取出されかつ次いで４時間で２００℃
に加熱された板は、５６のシヨアー−Ａ−硬度を有す
る。
比較実験a) 例３に記載された作業法を繰り返すが、例３で使用され
たジクミルペルオキシド量および２種の過酸化物を含有
するペーストの代わりにジクミルペルオキシド0.7部を
使用する。
たジクミルペルオキシド量および２種の過酸化物を含有
するペーストの代わりにジクミルペルオキシド0.7部を
使用する。
８０秒後に初めて、この場合に相変らず粘着性の板を離
型することができる。６mmの断面でこれらの板はこの８
０秒後に３１〜３２のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２mm
の断面で４９のシヨアー−Ａ−硬度を有する。
型することができる。６mmの断面でこれらの板はこの８
０秒後に３１〜３２のシヨアー−Ａ−硬度を有し、２mm
の断面で４９のシヨアー−Ａ−硬度を有する。
例４および比較実験b) 例２に記載された作業法を繰り返すが、射出成形装置の
最終形状を惹起する部分は、１８５℃ではなく１８０℃
に加熱されている。
最終形状を惹起する部分は、１８５℃ではなく１８０℃
に加熱されている。
表 線収縮１） ％ 例 ４ ２） 3.5 ３） 4.5 比較実験ｂ） ２） 4.8 ３） 5.5 １）＝ 射出成形装置の最終形状を惹起する部分 の２つの内側辺１８０mmと、この装置中 で形成された成形体の縁長さとの間の差 ２） 熱処理前 ３） 熱処理後
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 83:00 (56)参考文献 特開 昭54−48870（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−63751（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−40772（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−21447（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】架橋してオルガノポリシロキサンエラスト
マーを成形しうるオルガノポリシロキサンとラジカル生
成剤とを含有する材料から、圧縮成形、トランスファー
成形または射出成形により、成形体または被覆体を製造
する方法において、前記のオルガノポリシロキサンはケ
イ素と結合した水素を有しておらず、ラジカル生成剤
は、６０℃〜１４９℃で１分間のベンゾール中での半価
時間を有する少なくとも１種のラジカル生成剤および１
５０℃〜２００℃で１分間のベンゾール中での半価時間
を有する少なくとも１種のラジカル生成剤であることを
特徴とする架橋してオルガノポリシロキサンエラストマ
ーを成形しうるラジカル生成剤含有材料から成形体また
は被覆体を製造する方法。 - 【請求項２】一方のラジカル生成剤が１分間のベンゾー
ル中での半価時間を有する際の温度と、同じ架橋性材料
中の他方のラジカル生成剤が１分間のベンゾール中での
半価時間を有する際の温度との間隔が、少なくとも１５
℃である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】成形が圧縮成形またはトランスファー成形
により行われる場合、ラジカル生成剤は、ジクミルペル
オキシドおよびジベンゾイルペルオキシドである請求項
１記載の方法。 - 【請求項４】成形が射出成形により行う場合、ラジカル
生成剤はジクミルペルオキシドおよびビス−（２，４−
ジクロロベンゾイル）−ペルオキシドである請求項１記
載の方法。
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| DE19873717076 DE3717076A1 (de) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | Verfahren zur herstellung von formkoerpern oder ueberzuegen |
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