JPH069007Y2 - 真空蒸着装置のシャッタ装置 - Google Patents
真空蒸着装置のシャッタ装置Info
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- JPH069007Y2 JPH069007Y2 JP12949588U JP12949588U JPH069007Y2 JP H069007 Y2 JPH069007 Y2 JP H069007Y2 JP 12949588 U JP12949588 U JP 12949588U JP 12949588 U JP12949588 U JP 12949588U JP H069007 Y2 JPH069007 Y2 JP H069007Y2
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- shutter blades
- blades
- vapor
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、複数の蒸着すべき個所を有する被蒸着物の
前面を、それぞれ別々に変位自在としたシャッタブレー
ドで遮閉あるいは開放するべくした真空蒸着装置のシャ
ッタ装置に関するものである。
前面を、それぞれ別々に変位自在としたシャッタブレー
ドで遮閉あるいは開放するべくした真空蒸着装置のシャ
ッタ装置に関するものである。
（従来技術） 例えば第６図のように、被蒸着物１に蒸着すべき個所１
ａ、１ｂが２個所あって、それぞれ別々の膜厚を形成す
る必要がある場合、蒸着個所１ａ、１ｂに対応する個所
に穴２ａ、２ｂを有するマスク２を、被蒸着物１の前方
に配置し、さらにそのマスク２の前方に、２組のシャッ
タアーム３、４の中間部を回動自在に軸支３ａ、４ａす
るとともに、その一先端部にはシャッタブレード３ｂ、
４ｂを設けている。またシャッターアーム３、４には、
通常引張りばね５、６によりシャッタブレード３ｂ、４
ｂが相互に遠隔する向きに力が付勢されており、その回
動はストッパ７、８により拘束されている。さらにはシ
ャッタアーム３、４を吸着することにより、シャッタブ
レード３ｂ、４ｂで穴２ａ、２ｂを遮閉、また吸着を解
除することにより穴２ａ、２ｂを開放するべくなされて
いる。なおシャッタブレード３ｂ、４ｂの回動変位方向
は、蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線分とほぼ平行になされ
ている。
ａ、１ｂが２個所あって、それぞれ別々の膜厚を形成す
る必要がある場合、蒸着個所１ａ、１ｂに対応する個所
に穴２ａ、２ｂを有するマスク２を、被蒸着物１の前方
に配置し、さらにそのマスク２の前方に、２組のシャッ
タアーム３、４の中間部を回動自在に軸支３ａ、４ａす
るとともに、その一先端部にはシャッタブレード３ｂ、
４ｂを設けている。またシャッターアーム３、４には、
通常引張りばね５、６によりシャッタブレード３ｂ、４
ｂが相互に遠隔する向きに力が付勢されており、その回
動はストッパ７、８により拘束されている。さらにはシ
ャッタアーム３、４を吸着することにより、シャッタブ
レード３ｂ、４ｂで穴２ａ、２ｂを遮閉、また吸着を解
除することにより穴２ａ、２ｂを開放するべくなされて
いる。なおシャッタブレード３ｂ、４ｂの回動変位方向
は、蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線分とほぼ平行になされ
ている。
（解決しようとする課題） 前述のようなシャッタ装置の場合、シャッタアーム３、
４の変形や、シャッタアーム３、４と電磁石９、１０と
の間の異物の付着などにより、シャッタブレード３ｂ、
４ｂの停止位置に異常を生じ、シャッタブレード３ｂ、
４ｂが穴２ａ、２ｂを完全に遮閉できないとか、あるい
は完全に開放できないという事態を生じる可能性があ
る。
４の変形や、シャッタアーム３、４と電磁石９、１０と
の間の異物の付着などにより、シャッタブレード３ｂ、
４ｂの停止位置に異常を生じ、シャッタブレード３ｂ、
４ｂが穴２ａ、２ｂを完全に遮閉できないとか、あるい
は完全に開放できないという事態を生じる可能性があ
る。
（課題を解決するための手段および作用） この考案は前述事情に鑑みなされたものであり、被蒸着
物が複数の蒸着すべき個所を有し、それぞれ別々の膜厚
を形成する必要がある場合、シャッタアームの先端部に
設けたシャッタブレードの変位方向を、隣接する前記蒸
着個所を結ぶ線分とはほぼ直交する方向としたシャッタ
装置である。これによりシャッタアームの停止位置に若
干の異常を生じても、各シャッタブレードはそれぞれに
対応する前記蒸着個所の確実な遮閉あるいは開放が容易
となる。また所望の蒸着膜厚を得ることができる。
物が複数の蒸着すべき個所を有し、それぞれ別々の膜厚
を形成する必要がある場合、シャッタアームの先端部に
設けたシャッタブレードの変位方向を、隣接する前記蒸
着個所を結ぶ線分とはほぼ直交する方向としたシャッタ
装置である。これによりシャッタアームの停止位置に若
干の異常を生じても、各シャッタブレードはそれぞれに
対応する前記蒸着個所の確実な遮閉あるいは開放が容易
となる。また所望の蒸着膜厚を得ることができる。
さらには前記各シャッタブレードは、それぞれの変位面
を相互に前後にずらせて配置したシャッタ装置である。
これにより隣接する前記蒸着個所が接近している場合で
も、シャッタブレード同志の衝突のうれいなく、確実な
遮閉、開放の動作を行なうことができる。
を相互に前後にずらせて配置したシャッタ装置である。
これにより隣接する前記蒸着個所が接近している場合で
も、シャッタブレード同志の衝突のうれいなく、確実な
遮閉、開放の動作を行なうことができる。
（実施例） まず第１〜３図の実施例を説明する。
１１は真空蒸着装置の真空チャンバである。真空チャン
バ１１は、蒸発物質１２の加熱室１１ａと、シャッタ装
置や被蒸着物１やマスク２を収容する蒸着室１１ｂとを
有する。そして両室１１ａ、１１ｂは、蒸発物質１２の
飛翔通路としての開口部１１ｃを有する壁１１ｄにより
区画されている。１３は蒸発物質１２の加熱装置であ
る。
バ１１は、蒸発物質１２の加熱室１１ａと、シャッタ装
置や被蒸着物１やマスク２を収容する蒸着室１１ｂとを
有する。そして両室１１ａ、１１ｂは、蒸発物質１２の
飛翔通路としての開口部１１ｃを有する壁１１ｄにより
区画されている。１３は蒸発物質１２の加熱装置であ
る。
そして被蒸着物１は、その蒸着個所１ａ、１ｂを開口部
１１ｃに向け、しかも蒸着個所１ａ、１ｂを左右に並べ
た状態で蒸着室１１ｂに収容され、その被蒸着物１の前
方にはマスク２が配置されている。シャッタ装置は、そ
のマスク２と壁１１ｄとの間において左右対面するごと
く蒸着室１１ｂの上壁に２組取付けられている。
１１ｃに向け、しかも蒸着個所１ａ、１ｂを左右に並べ
た状態で蒸着室１１ｂに収容され、その被蒸着物１の前
方にはマスク２が配置されている。シャッタ装置は、そ
のマスク２と壁１１ｄとの間において左右対面するごと
く蒸着室１１ｂの上壁に２組取付けられている。
なおシャッタ装置は、Ｌ字形のベース１４、１５と、こ
のベース１４、１５の取付台１４ａ、１５ａに片持ち支
持されるシャッタアーム１６、１７およびそのシャッタ
アーム１６、１７遊端部に設けたシャッタブレード１
８、１９と、ベース１４、１５の脚部１４ｂ、１５ｂの
先端部に傾斜姿勢で固定される電磁石（アーム操作手
段）２０、２１と、シャッタアーム１６、１７の停止位
置を調節するストッパ２２、２３などで構成されてい
る。
のベース１４、１５の取付台１４ａ、１５ａに片持ち支
持されるシャッタアーム１６、１７およびそのシャッタ
アーム１６、１７遊端部に設けたシャッタブレード１
８、１９と、ベース１４、１５の脚部１４ｂ、１５ｂの
先端部に傾斜姿勢で固定される電磁石（アーム操作手
段）２０、２１と、シャッタアーム１６、１７の停止位
置を調節するストッパ２２、２３などで構成されてい
る。
またシャッタアーム１６、１７は板ばねを素材としてお
り、この実施例シャッタブレード１８、１９は、シャッ
タアーム１６、１７先端部を折曲げることにより形成さ
れている。そしてシャッタアーム１６、１７はその基端
部を取付台１４ａ、１５ａに装着され、ストッパ２２、
２３とともにボルト２４、２５により共締め固定されて
いる。
り、この実施例シャッタブレード１８、１９は、シャッ
タアーム１６、１７先端部を折曲げることにより形成さ
れている。そしてシャッタアーム１６、１７はその基端
部を取付台１４ａ、１５ａに装着され、ストッパ２２、
２３とともにボルト２４、２５により共締め固定されて
いる。
さらに両シャッタ装置は、開口部１１ｃの左右に対面す
るごとく、しかも前後に位置をずらせて配置されてい
る。すなわちシャッタブレード１８、１９の変位面が前
後にずらされており、しかもシャッタブレード１８、１
９先端部は正面から見て若干オーバラップするごとく配
置されている。
るごとく、しかも前後に位置をずらせて配置されてい
る。すなわちシャッタブレード１８、１９の変位面が前
後にずらされており、しかもシャッタブレード１８、１
９先端部は正面から見て若干オーバラップするごとく配
置されている。
さらにはまたシャッタ装置は、シャッタブレード１８、
１９の変位方向が隣接する蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線
分（左右方向）に対しほぼ直交する方向（上下方向）と
なるように前記取付けられている。
１９の変位方向が隣接する蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線
分（左右方向）に対しほぼ直交する方向（上下方向）と
なるように前記取付けられている。
なおこの実施例被蒸着物１は水晶であり、その表面２個
所１ａ、１ｂに銀などの蒸着物質１２を別々に蒸着して
発振周波数を所定値に調整するものであり、被蒸着物１
の振動数を図示しない測定装置で計測しながら蒸着を行
なうことにより、被蒸着物１自身が蒸着量を検知するた
めのセンサとして利用される。つまり、蒸着量の増加に
伴う被蒸着物１の振動数の変化を検知し、この検知信号
に基いて電磁石２０、２１への通電励磁を停止するので
ある。
所１ａ、１ｂに銀などの蒸着物質１２を別々に蒸着して
発振周波数を所定値に調整するものであり、被蒸着物１
の振動数を図示しない測定装置で計測しながら蒸着を行
なうことにより、被蒸着物１自身が蒸着量を検知するた
めのセンサとして利用される。つまり、蒸着量の増加に
伴う被蒸着物１の振動数の変化を検知し、この検知信号
に基いて電磁石２０、２１への通電励磁を停止するので
ある。
さらにこのシャッタ装置の動作を説明すると、まず第１
図実線状態において蒸発物質１２を蒸発させ、酸化物な
どの不純物の蒸発がなくなった段階で電磁石２０、２１
を励磁し、シャッタブレード１８、１９を第１図２点鎖
線のように蒸発物質１２の飛翔経路から上方へ退避さ
せ、この状態を維持したまま蒸着を行なう。
図実線状態において蒸発物質１２を蒸発させ、酸化物な
どの不純物の蒸発がなくなった段階で電磁石２０、２１
を励磁し、シャッタブレード１８、１９を第１図２点鎖
線のように蒸発物質１２の飛翔経路から上方へ退避さ
せ、この状態を維持したまま蒸着を行なう。
そして被蒸着物１の蒸着量が所定値に達したところで電
磁石２０、２１を消勢すると、シャッタアーム１６、１
７はそれ自身の変形応力によって第１図実線位置に復帰
し、シャッタブレード１８、１９は蒸発物質１２の飛翔
経路を遮断し、蒸着を停止させる。
磁石２０、２１を消勢すると、シャッタアーム１６、１
７はそれ自身の変形応力によって第１図実線位置に復帰
し、シャッタブレード１８、１９は蒸発物質１２の飛翔
経路を遮断し、蒸着を停止させる。
なお各シャッタ装置はそれぞれ独立して作動するが、各
シャッタブレード１８、１９はその変位面が前後にずら
されているので、蒸着個所１ａ、１ｂが接近しているた
めに、両シャッタブレード１８、１９先端を正面から見
て若干オーバラップさせた方がよい場合でも、両シャッ
タブレード１８、１９の衝突のうれいはない。
シャッタブレード１８、１９はその変位面が前後にずら
されているので、蒸着個所１ａ、１ｂが接近しているた
めに、両シャッタブレード１８、１９先端を正面から見
て若干オーバラップさせた方がよい場合でも、両シャッ
タブレード１８、１９の衝突のうれいはない。
またシャッタブレード１８、１９の変位方向長さは、穴
２ａ、２ｂの長さよりも予裕をもたせた方が穴２ａ、２
ｂを確実に遮閉、開放することができる。ところでシャ
ッターブレード１８、１９の変位方向は、蒸着個所１
ａ、１ｂを結ぶ線分に対しほぼ直交方向であるから、シ
ャッタアーム１６、１７の停止位置に多少の異常を生じ
ても、穴２ａ、２ｂの遮閉、開放は確実に行ない得る
し、しかもシャッタブレード１８が関係のない蒸着個所
１ｂに影響を及ぼすことも、シャッタブレード１９が関
係のない蒸着個所１ａに影響を及ぼすこともない。
２ａ、２ｂの長さよりも予裕をもたせた方が穴２ａ、２
ｂを確実に遮閉、開放することができる。ところでシャ
ッターブレード１８、１９の変位方向は、蒸着個所１
ａ、１ｂを結ぶ線分に対しほぼ直交方向であるから、シ
ャッタアーム１６、１７の停止位置に多少の異常を生じ
ても、穴２ａ、２ｂの遮閉、開放は確実に行ない得る
し、しかもシャッタブレード１８が関係のない蒸着個所
１ｂに影響を及ぼすことも、シャッタブレード１９が関
係のない蒸着個所１ａに影響を及ぼすこともない。
次に第４、５図の実施例につき前述第１〜３図の実施例
との相違点を説明する。
との相違点を説明する。
この実施例シャッタ装置は、シャッタアーム１６′、１
７′の長手方向を前後方向としたものであり、その他の
構成は前述実施例と同様である。
７′の長手方向を前後方向としたものであり、その他の
構成は前述実施例と同様である。
前述シャッタ装置はいずれも実施例であり、例えばシャ
ッタアーム１６、１７、１６′、１７′は回動自在に水
平軸支し、通常はばねによりストッパ２２、２３にあた
って拘束される構造のものであってもよい。また第４、
５図のシャッタブレード１８′、１９′はそれらを正面
視オーバラップさせなくてもよい。さらに第１〜３図の
シャッタブレード１８、１９は、隣接する蒸着個所１
ａ、１ｂの間隔が広ければ、正面視オーバラップさせな
くてもよい。さらには第４、５図のシャッタ装置にあっ
ては、ベース１４、１５をマスク２の前方でなく、加熱
装置１３の熱影響を受けにくい後方の真空チャンバ１１
上壁に取付けてもよい。
ッタアーム１６、１７、１６′、１７′は回動自在に水
平軸支し、通常はばねによりストッパ２２、２３にあた
って拘束される構造のものであってもよい。また第４、
５図のシャッタブレード１８′、１９′はそれらを正面
視オーバラップさせなくてもよい。さらに第１〜３図の
シャッタブレード１８、１９は、隣接する蒸着個所１
ａ、１ｂの間隔が広ければ、正面視オーバラップさせな
くてもよい。さらには第４、５図のシャッタ装置にあっ
ては、ベース１４、１５をマスク２の前方でなく、加熱
装置１３の熱影響を受けにくい後方の真空チャンバ１１
上壁に取付けてもよい。
（考案の効果） この考案は前述したように、複数の蒸着個所１ａ、１ｂ
をそれぞれ別々に遮閉あるいは開放するべくしたシャッ
タブレード１８、１９、１８′、１９′の変位方向を、
隣接する蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線分とほぼ直交する
方向としたので、シャッタアーム１６、１７、１６′、
１７′が変形したとか、あるいはシャッタアーム１６、
１７、１６′、１７′、とアーム操作手段２０、２１と
の間に不純物が付着したなどのために、シャッタブレー
ド１８、１９、１８′、１９′の停止位置に多少の異状
を生じても、シャッタブレード１８、１９、１８′、１
９′はそれぞれ対応する蒸着個所１ａ、１ｂを確実に遮
閉、開放することができる。
をそれぞれ別々に遮閉あるいは開放するべくしたシャッ
タブレード１８、１９、１８′、１９′の変位方向を、
隣接する蒸着個所１ａ、１ｂを結ぶ線分とほぼ直交する
方向としたので、シャッタアーム１６、１７、１６′、
１７′が変形したとか、あるいはシャッタアーム１６、
１７、１６′、１７′、とアーム操作手段２０、２１と
の間に不純物が付着したなどのために、シャッタブレー
ド１８、１９、１８′、１９′の停止位置に多少の異状
を生じても、シャッタブレード１８、１９、１８′、１
９′はそれぞれ対応する蒸着個所１ａ、１ｂを確実に遮
閉、開放することができる。
またシャッタブレード１８、１９、１８′、１９′はそ
れぞれの変位面を相互に前後にずらせて配置しているの
で、隣接する蒸着個所１ａ、１ｂが接近している場合で
も、シャッタブレード１８、１９、１８′、１９′同志
が衝突するうれいもない。
れぞれの変位面を相互に前後にずらせて配置しているの
で、隣接する蒸着個所１ａ、１ｂが接近している場合で
も、シャッタブレード１８、１９、１８′、１９′同志
が衝突するうれいもない。
第１〜３図はこの考案の一実施例を示し、第１図は要部
正面図、第２図は第１図の底面図、第３図は真空蒸着装
置の全体説明用横断平面図である。第４、５図は別の実
施例を示し、第４図は要部正面図、第５図は第４図の右
側面図である。第６図は従来の説明図である。 １……被蒸着物、１ａ、１ｂ……蒸着個所、２……マス
ク、２ａ、２ｂ……穴、１１……真空チャンバ、１１ａ
……加熱室、１１ｂ……蒸着室、１２……蒸発物質、１
６、１７、１６′、１７′……シャッタアーム、１８、
１９、１８′、１９′……シャッタブレード、２０、２
１……アーム操作手段、２２、２３……ストッパ。
正面図、第２図は第１図の底面図、第３図は真空蒸着装
置の全体説明用横断平面図である。第４、５図は別の実
施例を示し、第４図は要部正面図、第５図は第４図の右
側面図である。第６図は従来の説明図である。 １……被蒸着物、１ａ、１ｂ……蒸着個所、２……マス
ク、２ａ、２ｂ……穴、１１……真空チャンバ、１１ａ
……加熱室、１１ｂ……蒸着室、１２……蒸発物質、１
６、１７、１６′、１７′……シャッタアーム、１８、
１９、１８′、１９′……シャッタブレード、２０、２
１……アーム操作手段、２２、２３……ストッパ。
Claims (2)
- 【請求項１】複数の蒸着すべき個所を有する被蒸着物の
前面を、それぞれ別々に変位自在としたシャッタブレー
ドで遮閉あるいは開放するべくした真空蒸着装置のシャ
ッタ装置において、前記シャッタブレードの変位方向
を、隣接する前記蒸着個所を結ぶ線分とはほぼ直交する
方向としたことを特徴とする、前記真空蒸着装置のシャ
ッタ装置。 - 【請求項２】前記各シャッタブレードは、それぞれの変
位面が前後に間隔をおいて配置されてなる、請求項１記
載の真空蒸着装置のシャッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12949588U JPH069007Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空蒸着装置のシャッタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12949588U JPH069007Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空蒸着装置のシャッタ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0251258U JPH0251258U (ja) | 1990-04-10 |
| JPH069007Y2 true JPH069007Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31383823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12949588U Expired - Lifetime JPH069007Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空蒸着装置のシャッタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069007Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP12949588U patent/JPH069007Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0251258U (ja) | 1990-04-10 |
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