JPH0691002B2 - 電子線描画方法および装置 - Google Patents
電子線描画方法および装置Info
- Publication number
- JPH0691002B2 JPH0691002B2 JP60135931A JP13593185A JPH0691002B2 JP H0691002 B2 JPH0691002 B2 JP H0691002B2 JP 60135931 A JP60135931 A JP 60135931A JP 13593185 A JP13593185 A JP 13593185A JP H0691002 B2 JPH0691002 B2 JP H0691002B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shot
- data
- electron beam
- sizing
- beam drawing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は半導体集積回路等の基板に電子線を照射して基
板上にパタンを描画する電子線描画方法および装置に係
り、特に、電子計算機を用いたソフトウエアによる時間
を要するシヨツトデータの拡大あるいは縮小処理を行う
ことなしに、隣接するシヨツト間の二重露光あるいはパ
タン切れを防止したシヨツトの拡大あるいは縮小を実際
の描画時にハードウエアで行うことによつて、リアルタ
イムでサイジング処理を可能としたシヨツトデータを用
いた電子線描画方法および装置に関するものである。
板上にパタンを描画する電子線描画方法および装置に係
り、特に、電子計算機を用いたソフトウエアによる時間
を要するシヨツトデータの拡大あるいは縮小処理を行う
ことなしに、隣接するシヨツト間の二重露光あるいはパ
タン切れを防止したシヨツトの拡大あるいは縮小を実際
の描画時にハードウエアで行うことによつて、リアルタ
イムでサイジング処理を可能としたシヨツトデータを用
いた電子線描画方法および装置に関するものである。
（発明の概要） 本発明の要点は、可変成形電子線描画方法において、シ
ヨツトのサイジングを電子計算機によるソフトウエア処
理で行うのではなく、実際の描画時にハードウエアによ
りシヨツトをサイジング処理するようにした点である。
これには、隣接するシヨツト間の接続情報を付与したシ
ヨツトデータを使用すること、および、該接続情報と与
えられたサイジング量からシヨツトの位置，幅および高
さを算出する演算回路を具備した電子線描画装置を構築
することで実現できる。
ヨツトのサイジングを電子計算機によるソフトウエア処
理で行うのではなく、実際の描画時にハードウエアによ
りシヨツトをサイジング処理するようにした点である。
これには、隣接するシヨツト間の接続情報を付与したシ
ヨツトデータを使用すること、および、該接続情報と与
えられたサイジング量からシヨツトの位置，幅および高
さを算出する演算回路を具備した電子線描画装置を構築
することで実現できる。
（従来の技術およびその問題点） 電子線描画装置を用いたパタン形成では所望のパタン幅
を得るために、レジストの種類、構成，下地膜の種類の
違い等によりシヨツトの拡大あるいは縮小処理すなわち
サイジング処理が必要となる。
を得るために、レジストの種類、構成，下地膜の種類の
違い等によりシヨツトの拡大あるいは縮小処理すなわち
サイジング処理が必要となる。
たとえば、第４図に示す様に１個の矩形パターンを９個
のシヨツトで描画する場合を考える。この矩形パターン
をｘ方向にδｘ、ｙ方向にδｙ拡大するには第５図に示
す様に９個のシヨツトを用意しなければならない。この
９個のシヨツトは第４図の○を付した辺、すなわち隣接
するシヨツトのない辺のみを移動させたものである。×
を付した辺を移動させると二重露光あるいはパタン切れ
が生じるため移動できない。
のシヨツトで描画する場合を考える。この矩形パターン
をｘ方向にδｘ、ｙ方向にδｙ拡大するには第５図に示
す様に９個のシヨツトを用意しなければならない。この
９個のシヨツトは第４図の○を付した辺、すなわち隣接
するシヨツトのない辺のみを移動させたものである。×
を付した辺を移動させると二重露光あるいはパタン切れ
が生じるため移動できない。
従来から、これには電子計算機を用いてソフトウエアで
設計データからのサイジング処理を行いシヨツトデータ
を作成しているが、変換に時間を要しターンアラウンド
・タイムの増大を招くという問題があつた。一方、電子
線描画装置のビーム制御系の係数を変更して、リアルタ
イムで無条件にシヨツトのサイジングをする手法も行わ
れているが、隣接するシヨツト間の位置関係を考慮して
いないために、×を付した辺に二重露光あるいはパタン
切れ等の不都合が生じていた。
設計データからのサイジング処理を行いシヨツトデータ
を作成しているが、変換に時間を要しターンアラウンド
・タイムの増大を招くという問題があつた。一方、電子
線描画装置のビーム制御系の係数を変更して、リアルタ
イムで無条件にシヨツトのサイジングをする手法も行わ
れているが、隣接するシヨツト間の位置関係を考慮して
いないために、×を付した辺に二重露光あるいはパタン
切れ等の不都合が生じていた。
（問題点を解決するための手段） 本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目
的とするところは、従来の電子線描画装置における上述
の如き問題を解消し、パタン精度およびターンアラウン
ドの向上を可能ならしめるシヨツトデータ形式を用いた
電子線描画方法および装置を提供することにある。
的とするところは、従来の電子線描画装置における上述
の如き問題を解消し、パタン精度およびターンアラウン
ドの向上を可能ならしめるシヨツトデータ形式を用いた
電子線描画方法および装置を提供することにある。
（実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図（イ）は本発明の一実施例であるデータ形式を示
す図である。なお、シヨツトの形状および寸法を第１図
（ロ）に示す。描画用シヨツトデータは通常少なくとも
シヨツトの位置，幅および高さのデータから構成され、
これらのデータがビーム整形系，ビーム・ブランキング
系，ビーム偏向系およびステージ系に送られ、基板上の
所望の位置で所望のビーム形状を実現する。右端の４ビ
ツトが本発明で新たに付加した接続情報であり、シヨツ
トのa,b,c,d各辺に対応しており、０が接続すなわち
“移動不可”、１が非接続すなわち“移動可”を表して
いる。この接続情報の例は、第２図のシヨツトS0のもの
であり、辺a,b,cは“移動可”、辺ｄは“移動不可”を
示している。
す図である。なお、シヨツトの形状および寸法を第１図
（ロ）に示す。描画用シヨツトデータは通常少なくとも
シヨツトの位置，幅および高さのデータから構成され、
これらのデータがビーム整形系，ビーム・ブランキング
系，ビーム偏向系およびステージ系に送られ、基板上の
所望の位置で所望のビーム形状を実現する。右端の４ビ
ツトが本発明で新たに付加した接続情報であり、シヨツ
トのa,b,c,d各辺に対応しており、０が接続すなわち
“移動不可”、１が非接続すなわち“移動可”を表して
いる。この接続情報の例は、第２図のシヨツトS0のもの
であり、辺a,b,cは“移動可”、辺ｄは“移動不可”を
示している。
第３図は、本発明の一実施例であるサイジング演算回路
を具備した電子線描画装置の概略構成を示す図である。
図において、10は電子線描画装置本体であり、電子銃1
1、第１整形アパーチヤ12、整形偏向器13、第２整形ア
パーチヤ14、縮小レンズ15、偏向器16から構成されてい
るものである。17は描画対象の例としてのウエハであ
る。また、20はシヨツトデータを記憶する記憶部、30は
シヨツトの拡大，縮小量を記憶するレジスタ回路、40は
サイジング演算回路、50はバツフアメモリ、そして60は
上記各回路を制御するCPUである。
を具備した電子線描画装置の概略構成を示す図である。
図において、10は電子線描画装置本体であり、電子銃1
1、第１整形アパーチヤ12、整形偏向器13、第２整形ア
パーチヤ14、縮小レンズ15、偏向器16から構成されてい
るものである。17は描画対象の例としてのウエハであ
る。また、20はシヨツトデータを記憶する記憶部、30は
シヨツトの拡大，縮小量を記憶するレジスタ回路、40は
サイジング演算回路、50はバツフアメモリ、そして60は
上記各回路を制御するCPUである。
本実施例の動作を以下、第３図により説明する。シヨツ
トデータ記憶部20内のシヨツトデータは描画に先立ちバ
ツフアメモリ50に転送される。シヨツトデータはシヨツ
ト順にサイジング演算回路40に転送される。ここで、あ
らかじめ転送されたサイジング量とともに、接続情報に
応じて演算され、サイジングされたシヨツトデータはビ
ーム制御系に転送され、実際のシヨツトを行う。
トデータ記憶部20内のシヨツトデータは描画に先立ちバ
ツフアメモリ50に転送される。シヨツトデータはシヨツ
ト順にサイジング演算回路40に転送される。ここで、あ
らかじめ転送されたサイジング量とともに、接続情報に
応じて演算され、サイジングされたシヨツトデータはビ
ーム制御系に転送され、実際のシヨツトを行う。
例えば、第１図（イ）に示した〔x0,y0,w0,h0,1,1,1,
0〕なるシヨツトデータ（第２図のシヨツトS0）がサイ
ジング演算回路40に転送された場合この演算は以下のよ
うに表わすことができる。
0〕なるシヨツトデータ（第２図のシヨツトS0）がサイ
ジング演算回路40に転送された場合この演算は以下のよ
うに表わすことができる。
ｘ＝x0−ｄ・δｘ ｙ＝y0−ｃ・δｙ ｗ＝w0＋（ｂ＋ｄ）・δｘ ｈ＝h0＋（ａ＋ｃ）・δｙ a,b,c辺の接続情報は１すなわち非接続であるためy0,
w0,h0に対してサイジング量を加算あるいは減算を実行
してビーム制御系へデータを送る。このとき、辺ｂに対
向する辺ｄは移動しないため、w0に対するサイジングは
δｘとなるが、辺ａに対向する辺ｃは移動するため、h0
に対するサイジング量は２δｙとなる。一方、ｄ辺の接
続情報は０すわわち接続であるためｘに対しては演算を
実行せず、サイジング量を加算あるいは減算しないデー
タをビーム制御系へ送る。こうした構成をとることによ
り、第２図のＳに相当するサイジングしたシヨツトデー
タが得られる。
w0,h0に対してサイジング量を加算あるいは減算を実行
してビーム制御系へデータを送る。このとき、辺ｂに対
向する辺ｄは移動しないため、w0に対するサイジングは
δｘとなるが、辺ａに対向する辺ｃは移動するため、h0
に対するサイジング量は２δｙとなる。一方、ｄ辺の接
続情報は０すわわち接続であるためｘに対しては演算を
実行せず、サイジング量を加算あるいは減算しないデー
タをビーム制御系へ送る。こうした構成をとることによ
り、第２図のＳに相当するサイジングしたシヨツトデー
タが得られる。
接続情報は、設計データをシヨツトデータへ変換するプ
ログラムで付与することが可能であるが、繰り返しデー
タを展開する回路やシヨツトデータをさらに分割する回
路を有する電子線描画装置においては、装置内でも発生
させることが可能である。すなわち、設計データをシヨ
ツトデータへ変換する際には、１シヨツトで描画不能な
矩形は最大シヨツト・サイズ以下の複数のシヨツトに分
割するが、分割時にシヨツト間の接続情報を算出するこ
とが可能である。また、繰り返しデータもプログラムで
作成するため接続情報は算出できる。シヨツトデータを
さらに分割する回路は上記プログラムのアルゴリズムを
ハードウエアで実現したものであるから接続情報の算出
は同様に可能である。
ログラムで付与することが可能であるが、繰り返しデー
タを展開する回路やシヨツトデータをさらに分割する回
路を有する電子線描画装置においては、装置内でも発生
させることが可能である。すなわち、設計データをシヨ
ツトデータへ変換する際には、１シヨツトで描画不能な
矩形は最大シヨツト・サイズ以下の複数のシヨツトに分
割するが、分割時にシヨツト間の接続情報を算出するこ
とが可能である。また、繰り返しデータもプログラムで
作成するため接続情報は算出できる。シヨツトデータを
さらに分割する回路は上記プログラムのアルゴリズムを
ハードウエアで実現したものであるから接続情報の算出
は同様に可能である。
（発明の効果） 以上、説明したように、本発明は電子線描画装置に具備
されているハードウエアと組合わせたサイジング演算回
路とシヨツトの接続情報を使用することにより、時間を
要する電子計算機によるサイジング処理を行わずに、ハ
ードウエアによりリアルタイムで高速にサイジング処理
を行つて描画できるという利点がある。
されているハードウエアと組合わせたサイジング演算回
路とシヨツトの接続情報を使用することにより、時間を
要する電子計算機によるサイジング処理を行わずに、ハ
ードウエアによりリアルタイムで高速にサイジング処理
を行つて描画できるという利点がある。
【図面の簡単な説明】 第１図（イ）は本発明の一実施例であるデータ形式の説
明図、第１図（ロ）はシヨツトの形状および寸法を表わ
す図、第２図は本発明の動作説明に使用したシヨツトの
図、第３図は本発明の一実施例である電子線描画装置の
概略構成を示す図、第４図は複数のシヨツトでパタンを
描画する場合の説明図、第５図は第４図のパタンをサイ
ジングした場合のシヨツトの説明図である。 10……電子線描画装置本体 20……シヨツトデータ記憶部 30……レジスタ回路 40……サイジング回路 50……バツフアメモリ 60……CPU
明図、第１図（ロ）はシヨツトの形状および寸法を表わ
す図、第２図は本発明の動作説明に使用したシヨツトの
図、第３図は本発明の一実施例である電子線描画装置の
概略構成を示す図、第４図は複数のシヨツトでパタンを
描画する場合の説明図、第５図は第４図のパタンをサイ
ジングした場合のシヨツトの説明図である。 10……電子線描画装置本体 20……シヨツトデータ記憶部 30……レジスタ回路 40……サイジング回路 50……バツフアメモリ 60……CPU
Claims (2)
- 【請求項１】少なくともシヨツトの位置，幅および高さ
を指定するシヨツトデータに基づいて電子線を制御し、
所望のパタンを描画する電子線描画方法において、シヨ
ツトの各辺が隣接する他のシヨツトと接続しているか否
かを表す接続情報を各シヨツトデータに付加し、拡大も
しくは縮小を行う際に前記の接続情報に基づき、隣接す
る他のシヨツトと接続のない辺を与えられた拡大量もし
くは縮小量だけ移動した状態における当該シヨツトの位
置，幅および高さを算出し、この算出したシヨツトデー
タにより描画を行うことを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項２】少なくともシヨツトの位置，幅および高さ
を指定するデータならびに当該シヨツトの各辺が隣接す
る他のシヨツトに接続しているか否かを表す接続情報を
含んでなるシヨツトデータとサイジング量とを各シヨツ
トに応じて送出する制御装置と、前記のシヨツトデータ
およびサイジング量に応じて隣接する他のシヨツトと接
続のない辺をサイジング量だけ移動した状態における当
該シヨツトの位置，幅および高さを算出するサイジング
回路と、このサイジング回路の算出データに基づいて露
光を行う電子線ビーム光学部とを備えたことを特徴とす
る電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135931A JPH0691002B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 電子線描画方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135931A JPH0691002B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 電子線描画方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294817A JPS61294817A (ja) | 1986-12-25 |
| JPH0691002B2 true JPH0691002B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=15163192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60135931A Expired - Lifetime JPH0691002B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 電子線描画方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0691002B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7195122B2 (en) | 2000-05-12 | 2007-03-27 | Pall Corporation | Filters |
| US7338599B2 (en) | 2000-05-12 | 2008-03-04 | Pall Corporation | Filtration systems and fitting arrangements for filtration systems |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP60135931A patent/JPH0691002B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7195122B2 (en) | 2000-05-12 | 2007-03-27 | Pall Corporation | Filters |
| US7338599B2 (en) | 2000-05-12 | 2008-03-04 | Pall Corporation | Filtration systems and fitting arrangements for filtration systems |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61294817A (ja) | 1986-12-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6262429B1 (en) | Raster shaped beam, electron beam exposure strategy using a two dimensional multipixel flash field | |
| EP0382249A2 (en) | Electron beam exposure data processing method, electron beam exposure method and apparatus | |
| US4718019A (en) | Election beam exposure system and an apparatus for carrying out a pattern unwinder | |
| EP1060498A1 (en) | A method and apparatus that determines charged particle beam shape codes | |
| KR20200042398A (ko) | 묘화 데이터 생성 방법 및 멀티 하전 입자 빔 묘화 장치 | |
| US6259106B1 (en) | Apparatus and method for controlling a beam shape | |
| JPH0691005B2 (ja) | 荷電ビ−ム描画方法 | |
| JPH0691002B2 (ja) | 電子線描画方法および装置 | |
| JP4664552B2 (ja) | 可変成型ビーム型パターン描画装置 | |
| US9984853B2 (en) | Method for generating writing data | |
| JP6548982B2 (ja) | 描画データの作成方法 | |
| JP2002151387A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| US4413187A (en) | Method for exposing an electron beam | |
| JP2894746B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| CN121142922A (zh) | 一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统 | |
| JPH06349718A (ja) | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | |
| JP2002237445A (ja) | 電子ビーム描画方法及び描画システム | |
| JPH07130594A (ja) | 荷電粒子線描画方法 | |
| JPH05226235A (ja) | 電子ビ−ム描画のデ−タ変換方法 | |
| JP2885782B1 (ja) | 電子線描画装置および電子線描画近接効果補正方法並びにその方法を記録させた記録媒体 | |
| JPH03116922A (ja) | 電子ビーム露光方法 | |
| JP2786671B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| JPH0574215B2 (ja) | ||
| JPH04302451A (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| JPS60119719A (ja) | 図形発生装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |