JPH0691935B2 - 悪臭ガスの脱臭装置 - Google Patents
悪臭ガスの脱臭装置Info
- Publication number
- JPH0691935B2 JPH0691935B2 JP1236909A JP23690989A JPH0691935B2 JP H0691935 B2 JPH0691935 B2 JP H0691935B2 JP 1236909 A JP1236909 A JP 1236909A JP 23690989 A JP23690989 A JP 23690989A JP H0691935 B2 JPH0691935 B2 JP H0691935B2
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- Japan
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- sponge
- malodorous gas
- gas
- concentration
- packed
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、悪臭ガスの脱臭に係り、特に下水処理場、し
尿処理場、各種工場等から発生する悪臭ガスを生物学的
に脱臭する脱臭装置に関するものである。
尿処理場、各種工場等から発生する悪臭ガスを生物学的
に脱臭する脱臭装置に関するものである。
従来より、数10ppm以上の硫化水素を含む高濃度悪臭ガ
スは、脱臭炉等により焼却処理されてきた。また、10pp
m以下の硫化水素を含む中・低濃度の悪臭ガスは、薬液
洗浄＋活性炭吸着法で処理されていた。
スは、脱臭炉等により焼却処理されてきた。また、10pp
m以下の硫化水素を含む中・低濃度の悪臭ガスは、薬液
洗浄＋活性炭吸着法で処理されていた。
上記のような高濃度と中・低濃度の悪臭ガスを、別個の
処理方法で脱臭処理する従来技術では、各々のダクトが
必要であった。
処理方法で脱臭処理する従来技術では、各々のダクトが
必要であった。
その場合のダクト工事費は、脱臭設備全体の約1/2を占
め、非常にコスト高であった。
め、非常にコスト高であった。
また、高濃度の悪臭ガスを中・低濃度用の薬液洗浄法で
処理する場合もあるが、脱臭性能が不安定であったり、
単体イオウの析出による圧力損失の増加等が問題であっ
た。
処理する場合もあるが、脱臭性能が不安定であったり、
単体イオウの析出による圧力損失の増加等が問題であっ
た。
前記したように、従来技術では設備費の増加や処理性能
の不安定等の問題があった。
の不安定等の問題があった。
そこで、本発明は、上記の問題点を解決して、処理性能
の安定化と脱臭設備費に占めるダクト工事費を低減させ
るための、高濃度あるいは中・低濃度の悪臭の処理もし
くはこれらの悪臭を同時に処理できる悪臭ガスの脱臭装
置を提供することを目的とする。
の安定化と脱臭設備費に占めるダクト工事費を低減させ
るための、高濃度あるいは中・低濃度の悪臭の処理もし
くはこれらの悪臭を同時に処理できる悪臭ガスの脱臭装
置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、充填塔内に、
微生物を保持できる内部に連通空間を有するスポンジの
充填層を設け、該スポンジ充填層の上部に散水部を配備
すると共に、充填塔下部に受水部を配備し、該受水部に
はスポンジ充填層と同種のスポンジを用いた浸漬ろ床
と、該ろ床の下部に悪臭ガス供給部とを設けた、悪臭ガ
スの脱臭装置としたものである。
微生物を保持できる内部に連通空間を有するスポンジの
充填層を設け、該スポンジ充填層の上部に散水部を配備
すると共に、充填塔下部に受水部を配備し、該受水部に
はスポンジ充填層と同種のスポンジを用いた浸漬ろ床
と、該ろ床の下部に悪臭ガス供給部とを設けた、悪臭ガ
スの脱臭装置としたものである。
また、本発明では、前記の悪臭ガスの脱臭装置におい
て、スポンジ充填層の下部で浸漬ろ床の上部には中及び
／又は低濃度の悪臭ガスの導入部を設けることができ
る。
て、スポンジ充填層の下部で浸漬ろ床の上部には中及び
／又は低濃度の悪臭ガスの導入部を設けることができ
る。
上記のように、本発明は、生物学的処理によりガス中の
悪臭を除去する脱臭方法において、高濃度の悪臭ガスあ
るいは高濃度の悪臭ガスと中・低濃度の悪臭ガスを処理
できるように構成した悪臭ガスの脱臭装置である。
悪臭を除去する脱臭方法において、高濃度の悪臭ガスあ
るいは高濃度の悪臭ガスと中・低濃度の悪臭ガスを処理
できるように構成した悪臭ガスの脱臭装置である。
本発明を実施例について説明すると、第１図示例は、充
填塔１内に微生物を保持できる内部に連通空間を有する
スポンジの充填層２が多孔板３で支持され、該スポンジ
充填層２の上部には散水部４が配備されている。
填塔１内に微生物を保持できる内部に連通空間を有する
スポンジの充填層２が多孔板３で支持され、該スポンジ
充填層２の上部には散水部４が配備されている。
また、充填塔１下部には受水部５が設けられ、該受水部
５にはスポンジ充填層２に用いたと同種のスポンジを用
いた浸漬ろ床６が配備されている。そして浸漬ろ床６の
下部には高濃度の悪臭ガスあるいは高濃度の悪臭ガスと
中・低濃度の悪臭ガスのガス入口部７が、充填塔１上部
にはガス出口部８が設けられている。
５にはスポンジ充填層２に用いたと同種のスポンジを用
いた浸漬ろ床６が配備されている。そして浸漬ろ床６の
下部には高濃度の悪臭ガスあるいは高濃度の悪臭ガスと
中・低濃度の悪臭ガスのガス入口部７が、充填塔１上部
にはガス出口部８が設けられている。
図中、９は散気管、10は循環ポンプ、11は補給水とNaOH
注入管である。
注入管である。
しかして、高濃度、例えば10ppm以上の硫化水素を含む
悪臭ガスあるいは高濃度の悪臭ガスと中・低濃度、例え
ば10ppm以下の硫化水素を含む悪臭ガスをガス入口部７
より充填塔１下部の受水部５に設けた浸漬ろ床６にて受
水部５内の液と接触したのち、さらにスポンジ充填層２
で散水部４から散水した液とカウンターフロー又はクロ
スフローで接触する。この過程で悪臭ガスは、浸漬ろ床
６、スポンジ充填層２で微生物によって悪臭成分が分
解、除去され、ガス出口部８から排出される。
悪臭ガスあるいは高濃度の悪臭ガスと中・低濃度、例え
ば10ppm以下の硫化水素を含む悪臭ガスをガス入口部７
より充填塔１下部の受水部５に設けた浸漬ろ床６にて受
水部５内の液と接触したのち、さらにスポンジ充填層２
で散水部４から散水した液とカウンターフロー又はクロ
スフローで接触する。この過程で悪臭ガスは、浸漬ろ床
６、スポンジ充填層２で微生物によって悪臭成分が分
解、除去され、ガス出口部８から排出される。
第２図示例は、ガス入口部を受水部５の浸漬ろ床６下部
の他に、スポンジ充填層２の下部と浸漬ろ床６の上部と
の間にガス入口部７′を設けたもので、ガス入口部７に
は高濃度の悪臭ガスを、ガス入口部７′には中、低濃度
の悪臭ガスを導くようにしたものである。
の他に、スポンジ充填層２の下部と浸漬ろ床６の上部と
の間にガス入口部７′を設けたもので、ガス入口部７に
は高濃度の悪臭ガスを、ガス入口部７′には中、低濃度
の悪臭ガスを導くようにしたものである。
本発明で処理できる悪臭ガスは、硫化水素、有機硫黄化
合物、アンモニア、脂肪酸等の少なくとも一種類以上を
含んだガスである。
合物、アンモニア、脂肪酸等の少なくとも一種類以上を
含んだガスである。
悪臭ガスは、活性汚泥等の微生物を付着させた湿潤状態
のスポンジ充填層２や、スポンジ浸漬ろ床６に導かれ、
通過する間に悪臭成分が除去されるが充填塔１に充填す
る充填材及び浸漬ろ床に使用するスポンジは、連続空間
を有する連続気泡型で、セル数（25mm直線上のセル、気
泡の数）は５〜30がよい。
のスポンジ充填層２や、スポンジ浸漬ろ床６に導かれ、
通過する間に悪臭成分が除去されるが充填塔１に充填す
る充填材及び浸漬ろ床に使用するスポンジは、連続空間
を有する連続気泡型で、セル数（25mm直線上のセル、気
泡の数）は５〜30がよい。
スポンジ充填層高は、ガス滞留時間を２〜４秒間とし
て、１〜2mがよい。スポンジ浸漬ろ床の高さは、送気ブ
ロワーの吐出圧を考慮して、0.5〜1.5mがよい。
て、１〜2mがよい。スポンジ浸漬ろ床の高さは、送気ブ
ロワーの吐出圧を考慮して、0.5〜1.5mがよい。
スポンジ充填層には、連続的またはタイマー等により間
欠散水する。なお、充填塔下部の受水部から散水部４に
液を図示例のように循環して再利用するのが好ましい
が、この場合、循環水の溶解性塩類を３％以下及びpH6
〜８に調整するために、工水、懸濁物質が20ppm以下の
生物処理水等の補給やNaOHの注入を行うのがよい。
欠散水する。なお、充填塔下部の受水部から散水部４に
液を図示例のように循環して再利用するのが好ましい
が、この場合、循環水の溶解性塩類を３％以下及びpH6
〜８に調整するために、工水、懸濁物質が20ppm以下の
生物処理水等の補給やNaOHの注入を行うのがよい。
以下に、本発明の具体例を実験例として示すが、本発明
はこれに限定されるものではない。
はこれに限定されるものではない。
実験例１ 高濃度の悪臭ガスを第１図示例の装置で実験した。処理
条件およびその結果を下記ならびに第１表に示す。
条件およびその結果を下記ならびに第１表に示す。
浸漬ろ床部の処理条件 循環液の初期MLSS5 0 0ppmは数日で10ppm以下になった
のでMLSS5 0 0mg/lになるように処理開始２週間で３回
濃度調整した。
のでMLSS5 0 0mg/lになるように処理開始２週間で３回
濃度調整した。
スポンジ充填層の処理条件 実験例２ 第２図示例の装置で、高濃度の悪臭ガスを浸漬ろ床に導
き処理し、その処理ガスと新たに充填塔内に流入する中
・低濃度の悪臭ガスを合わせたものをスポンジ充填層で
脱臭処理した。その処理条件および結果を下記ならびに
第２表に示す。
き処理し、その処理ガスと新たに充填塔内に流入する中
・低濃度の悪臭ガスを合わせたものをスポンジ充填層で
脱臭処理した。その処理条件および結果を下記ならびに
第２表に示す。
浸漬ろ床部の処理条件は実験例１と同じである。
スポンジ充填層の処理条件は次の通り。
〔発明の効果〕 本発明のスポンジ充填材とスポンジ浸漬ろ床とから構成
される脱臭装置であるために、次の効果を奏する。
される脱臭装置であるために、次の効果を奏する。
高濃度と中・低濃度の悪臭ガスを同一装置で処理でき
る。
る。
ダクトが一本化でき、ダクト工事費及び脱臭設備費の
大幅低減が可能。
大幅低減が可能。
原ガスの濃度変動に対応しやすい。
生物学的処理のためにランニングコストが他の方法に
比べて非常に少ない。
比べて非常に少ない。
本発明は設備費やランニングコストが安価で容易に悪臭
ガスを処理する脱臭装置を提供することができる。
ガスを処理する脱臭装置を提供することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す装置の概略断面図、第
２図は本発明の他の実施例を示す装置の概略断面図であ
る。 １…充填塔、２…スポンジ充填層、３…多孔板、４…散
水部、５…受水部、６…スポンジ浸漬ろ床、７、７′…
ガス入口部、８…ガス出口部、９…散気管、10…循環水
ポンプ、11…補給水＋NaOH注入口
２図は本発明の他の実施例を示す装置の概略断面図であ
る。 １…充填塔、２…スポンジ充填層、３…多孔板、４…散
水部、５…受水部、６…スポンジ浸漬ろ床、７、７′…
ガス入口部、８…ガス出口部、９…散気管、10…循環水
ポンプ、11…補給水＋NaOH注入口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有川 彰浩 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 岩崎 謙二 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−98717（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】充填塔内に、微生物を保持できる内部に連
通空間を有するスポンジの充填層を設け、該スポンジ充
填層の上部に散水部を配備すると共に、充填塔下部に受
水部を配備し、該受水部にはスポンジ充填層に用いたと
同種のスポンジを用いた浸漬ろ床と、該ろ床の下部に悪
臭ガス供給部とを設けたことを特徴とする悪臭ガスの脱
臭装置。 - 【請求項２】前記スポンジ充填層の下部で前記浸漬ろ床
の上部に、中及び／又は低濃度の悪臭ガスの導入部を設
けたことを特徴とする請求項１記載の悪臭ガスの脱臭装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1236909A JPH0691935B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 悪臭ガスの脱臭装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1236909A JPH0691935B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 悪臭ガスの脱臭装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101809A JPH03101809A (ja) | 1991-04-26 |
| JPH0691935B2 true JPH0691935B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=17007553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1236909A Expired - Lifetime JPH0691935B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 悪臭ガスの脱臭装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0691935B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5998717A (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-07 | Project Meeking Tokyo:Kk | 細菌を利用する脱臭方法及び装置 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1236909A patent/JPH0691935B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03101809A (ja) | 1991-04-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |