JPH0696640B2 - ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法Info
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Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、パラジウム触媒存在
下、少なくとも1個のケイ素−ケイ素結合を有する環状
ケイ素化合物をキノン類と反応させることによる、ビス
(シロキシ)芳香環基を有する高分子ケイ素化合物の製
造方法に関するものである。本発明の方法により提供さ
れる高分子ケイ素化合物は、その骨格がシロキサン結合
や芳香環などの熱的に安定な基から構成されているの
で、耐熱材料、エンジニアリングプラスチック用材料と
して有用である。また、それら高分子ケイ素化合物は、
各種の芳香環に基づくUV吸収を示すことから、新規感
光性材料としての利用も期待できる。
下、少なくとも1個のケイ素−ケイ素結合を有する環状
ケイ素化合物をキノン類と反応させることによる、ビス
(シロキシ)芳香環基を有する高分子ケイ素化合物の製
造方法に関するものである。本発明の方法により提供さ
れる高分子ケイ素化合物は、その骨格がシロキサン結合
や芳香環などの熱的に安定な基から構成されているの
で、耐熱材料、エンジニアリングプラスチック用材料と
して有用である。また、それら高分子ケイ素化合物は、
各種の芳香環に基づくUV吸収を示すことから、新規感
光性材料としての利用も期待できる。
【0002】
【従来の技術】ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高
分子ケイ素化合物は、一般的には、Si−Cl、Si−
OR、あるいはSi−NHR’結合(R、R’はアルキ
ル基、アリール基を表わす。)を有するケイ素化合物と
ジヒドロキシ芳香族化合物との縮合反応で製造されてい
たが(例えば、Journal of Applied Polymer Science,
9, 295(1965))、これらの方法では、塩化水素、アルコ
ール、あるいはアミンなどの副生物を生じそれらを除去
する必要があった。
分子ケイ素化合物は、一般的には、Si−Cl、Si−
OR、あるいはSi−NHR’結合(R、R’はアルキ
ル基、アリール基を表わす。)を有するケイ素化合物と
ジヒドロキシ芳香族化合物との縮合反応で製造されてい
たが(例えば、Journal of Applied Polymer Science,
9, 295(1965))、これらの方法では、塩化水素、アルコ
ール、あるいはアミンなどの副生物を生じそれらを除去
する必要があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を回避し、ビス(シロキシ)芳香環基を有する高分子ケ
イ素化合物を製造する方法を提供することをその課題と
する。
を回避し、ビス(シロキシ)芳香環基を有する高分子ケ
イ素化合物を製造する方法を提供することをその課題と
する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、パラジウム触媒存
在下、ケイ素−ケイ素結合を有する環状ケイ素化合物の
ケイ素−ケイ素結合にキノン類の挿入が起こると同時
に、環状ケイ素化合物の開環重合が速やかに進行し、副
生物を伴うことなく、ビス(シロキシ)芳香環骨格を有
する高分子ケイ素化合物が生成するという新規な事実を
見いだし、それに基づいて本発明を完成するに至った。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、パラジウム触媒存
在下、ケイ素−ケイ素結合を有する環状ケイ素化合物の
ケイ素−ケイ素結合にキノン類の挿入が起こると同時
に、環状ケイ素化合物の開環重合が速やかに進行し、副
生物を伴うことなく、ビス(シロキシ)芳香環骨格を有
する高分子ケイ素化合物が生成するという新規な事実を
見いだし、それに基づいて本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち、本発明によれば、パラジウム触
媒存在下、少なくとも1個のケイ素−ケイ素結合を有す
る、特定の環状ケイ素化合物をキノン類と反応させるこ
とを特徴とするビス(シロキシ)芳香環基を有する高分
子ケイ素化合物の製造方法が提供される。本発明におい
て原料として用いられる環状ケイ素化合物は、少なくと
も1個のケイ素−ケイ素結合を有するもので、環状オリ
ゴシラン、あるいは、2価の炭化水素基あるいは酸素原
子を環内に有する環状オリゴシランである。その中の環
状オリゴシランは、一般式
媒存在下、少なくとも1個のケイ素−ケイ素結合を有す
る、特定の環状ケイ素化合物をキノン類と反応させるこ
とを特徴とするビス(シロキシ)芳香環基を有する高分
子ケイ素化合物の製造方法が提供される。本発明におい
て原料として用いられる環状ケイ素化合物は、少なくと
も1個のケイ素−ケイ素結合を有するもので、環状オリ
ゴシラン、あるいは、2価の炭化水素基あるいは酸素原
子を環内に有する環状オリゴシランである。その中の環
状オリゴシランは、一般式
【0006】
【化5】 (式中、R1 、R2 はアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、pは3以上7以下
の整数を表わす。)で表される。また、2価の炭化水素
基あるいは酸素原子を環内に有する環状オリゴシラン
は、一般式
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、pは3以上7以下
の整数を表わす。)で表される。また、2価の炭化水素
基あるいは酸素原子を環内に有する環状オリゴシラン
は、一般式
【0007】
【化6】 (式中、R3 、R4 はアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、Yは2価の炭化水
素基あるいは酸素原子を表わす。qは2以上6以下の整
数を表わし、rは、Yが酸素原子でかつqが2の場合に
は2で、それ以外の場合には1を表わす。)で表わされ
る。それら環状ケイ素化合物のケイ素上の置換基R1 、
R2 、R3 、R4 を例示すれば、アルキル基としてはメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
など、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基な
ど、アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基な
ど、アルケニル基としてはビニル基、スチリル基など、
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など、ア
リーロキシ基としてはフェノキシ基、ナフトキシ基な
ど、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子などが
挙げられる。また、Yで表わされる2価の炭化水素基を
例示すれば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ビニレン基、1,3−ブタジエニレン基、o−
フェニレン基などが挙げられる。それらの基を有する、
一般式(II−a)あるいは一般式(II−b)で表わされ
る環状ケイ素化合物を例示すれば、ヘキサネオペンチル
シクロトリシラン、ヘキサ(2,6−キシリル)シクロ
トリシラン、オクタエチルシクロテトラシラン、オクタ
イソプロピルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テ
トラメチル−1,2,3,4−テトラフェニルシクロテ
トラシラン、オクタフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラビ
ニルシクロテトラシラン、オクタメトキシシクロテトラ
シラン、オクタフェノキシシクロテトラシラン、オクタ
クロロシクロテトラシラン、デカフェニルシクロペンタ
シラン、ドデカメチルシクロヘキサシラン、1,2,
3,4,5,6−ヘキサメチル−1,2,3,4,5,
6−ヘキサフェニルシクロヘキサシラン、テトラデカメ
チルシクロヘプタシラン、1,1,2,2,3,3,
4,4−オクタメチル−1,2−ジシラシクロブタン、
3−tert−ブチル−1,1,2,2−テトラフルオ
ロ−1,2−ジシラ−3−シクロブテン、3,4−ベン
ゾ−1,1,2,2−テトラメチル−1,2−ジシラシ
クロブテン、1,1,2,2−テトラメチル−1,2−
ジシラシクロペンタン、1,1,2,2−テトラメチル
−1,2−ジシラシクロヘキサン、1,1,2,2−テ
トラメチル−3,4,5,6−テトラフェニル−1,2
−ジシラ−3,5−シクロヘキサジエン、1,1,2,
2,3,3−ヘキサメチル−1,2,3−トリシラシク
ロヘキサン、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタ
エチル−5−フェニル−1,2,3,4−テトラシラ−
5−シクロヘキセン、7,8−ベンゾ−1,1,2,
2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカメチル−
1,2,3,4,5,6−ヘキサシラシクロオクテン、
2,2,3,3,5,5,6,6−オクタメチル−1,
4−ジオキサ−2,3,5,6−テトラシラシクロヘキ
サン、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタメチル
−1−オキサ−2,3,4,5−テトラシラシクロペン
タン、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7−ドデカメチル−1−オキサ−2,3,4,5,6,
7−ヘキサシラシクロヘプタンなどを挙げることができ
る。
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、Yは2価の炭化水
素基あるいは酸素原子を表わす。qは2以上6以下の整
数を表わし、rは、Yが酸素原子でかつqが2の場合に
は2で、それ以外の場合には1を表わす。)で表わされ
る。それら環状ケイ素化合物のケイ素上の置換基R1 、
R2 、R3 、R4 を例示すれば、アルキル基としてはメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
など、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基な
ど、アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基な
ど、アルケニル基としてはビニル基、スチリル基など、
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など、ア
リーロキシ基としてはフェノキシ基、ナフトキシ基な
ど、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子などが
挙げられる。また、Yで表わされる2価の炭化水素基を
例示すれば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ビニレン基、1,3−ブタジエニレン基、o−
フェニレン基などが挙げられる。それらの基を有する、
一般式(II−a)あるいは一般式(II−b)で表わされ
る環状ケイ素化合物を例示すれば、ヘキサネオペンチル
シクロトリシラン、ヘキサ(2,6−キシリル)シクロ
トリシラン、オクタエチルシクロテトラシラン、オクタ
イソプロピルシクロテトラシラン、1,2,3,4−テ
トラメチル−1,2,3,4−テトラフェニルシクロテ
トラシラン、オクタフェニルシクロテトラシラン、1,
2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラビ
ニルシクロテトラシラン、オクタメトキシシクロテトラ
シラン、オクタフェノキシシクロテトラシラン、オクタ
クロロシクロテトラシラン、デカフェニルシクロペンタ
シラン、ドデカメチルシクロヘキサシラン、1,2,
3,4,5,6−ヘキサメチル−1,2,3,4,5,
6−ヘキサフェニルシクロヘキサシラン、テトラデカメ
チルシクロヘプタシラン、1,1,2,2,3,3,
4,4−オクタメチル−1,2−ジシラシクロブタン、
3−tert−ブチル−1,1,2,2−テトラフルオ
ロ−1,2−ジシラ−3−シクロブテン、3,4−ベン
ゾ−1,1,2,2−テトラメチル−1,2−ジシラシ
クロブテン、1,1,2,2−テトラメチル−1,2−
ジシラシクロペンタン、1,1,2,2−テトラメチル
−1,2−ジシラシクロヘキサン、1,1,2,2−テ
トラメチル−3,4,5,6−テトラフェニル−1,2
−ジシラ−3,5−シクロヘキサジエン、1,1,2,
2,3,3−ヘキサメチル−1,2,3−トリシラシク
ロヘキサン、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタ
エチル−5−フェニル−1,2,3,4−テトラシラ−
5−シクロヘキセン、7,8−ベンゾ−1,1,2,
2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカメチル−
1,2,3,4,5,6−ヘキサシラシクロオクテン、
2,2,3,3,5,5,6,6−オクタメチル−1,
4−ジオキサ−2,3,5,6−テトラシラシクロヘキ
サン、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタメチル
−1−オキサ−2,3,4,5−テトラシラシクロペン
タン、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7−ドデカメチル−1−オキサ−2,3,4,5,6,
7−ヘキサシラシクロヘプタンなどを挙げることができ
る。
【0008】一方、本発明において用いられるキノン類
は、環内炭素数が14以下の芳香族化合物を母体化合物
とし、一般式
は、環内炭素数が14以下の芳香族化合物を母体化合物
とし、一般式
【0009】
【化7】 で表わされる骨格を有するp−キノン類であり、環上の
水素原子が、アルキル基、アルコキシ基、あるいはハロ
ゲン原子などの1価の基で置換されていても差し支えな
い。それら1価の基を例示すると、アルキル基としては
メチル基、エチル基、tert−ブチル基など、アルコ
キシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など、ハロゲン
原子としてはフッ素原子、塩素原子などが挙げられ、無
置換あるいはそれら1価の基を有するキノン類を具体的
に示すと、p−ベンゾキノン、2,5−ジメチル−1,
4−ベンゾキノン、2,5−ジ−tert−ブチル−
1,4−ベンゾキノン、2−メトキシ−1,4−ベンゾ
キノン、2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−ベ
ンゾキノン、2,3,5,6−テトラクロロ−1,4−
ベンゾキノン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−
1,4−ベンゾキノン、1,4−ナフトキノン、2,3
−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、9,10−アント
ラキノンなどが挙げられる。
水素原子が、アルキル基、アルコキシ基、あるいはハロ
ゲン原子などの1価の基で置換されていても差し支えな
い。それら1価の基を例示すると、アルキル基としては
メチル基、エチル基、tert−ブチル基など、アルコ
キシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など、ハロゲン
原子としてはフッ素原子、塩素原子などが挙げられ、無
置換あるいはそれら1価の基を有するキノン類を具体的
に示すと、p−ベンゾキノン、2,5−ジメチル−1,
4−ベンゾキノン、2,5−ジ−tert−ブチル−
1,4−ベンゾキノン、2−メトキシ−1,4−ベンゾ
キノン、2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−ベ
ンゾキノン、2,3,5,6−テトラクロロ−1,4−
ベンゾキノン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−
1,4−ベンゾキノン、1,4−ナフトキノン、2,3
−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、9,10−アント
ラキノンなどが挙げられる。
【0010】反応に供される環状ケイ素化合物およびキ
ノン類の量は任意に選ぶことができるが、環状ケイ素化
合物に対する収率を考慮すると、環状ケイ素化合物中の
一つのケイ素−ケイ素結合1モルに対しキノン類1モル
以上が好ましい。本発明において用いられるパラジウム
触媒は、パラジウム錯体、パラジウム塩、金属または担
持金属パラジウム触媒など、従来公知のものを含む各種
のものが使用できる。それらをさらに具体的に示すと、
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、ジクロロ
ビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ジ−μ−クロロビ
ス(π- アリル)二パラジウム、ジクロロ(η−1,5
−シクロオクタジエン)パラジウム、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリ
メチルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリエ
チルホスフィン)パラジウム、ジヨードビス(ジエチル
フェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリ
ブチルホスフィン)パラジウム、ジブロモ[1,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジク
ロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジク
ロロビス(トリ−o−トリルホスフィン)パラジウム、
酢酸パラジウム、塩化パラジウム、活性炭担持パラジウ
ムなどが挙げられる。これらの錯体、塩などは、2種以
上同時に用いたり、上記例示した金属錯体に含まれる配
位子や1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−4−エ
チルビシクロ[2.2.2]オクタン、トリメチルホス
ファイト、トリフェニルホスファイトなどの配位子と共
存させて使用することもできる。環状ケイ素化合物中の
一つのケイ素−ケイ素結合に対するパラジウム触媒のモ
ル比は、任意に選ぶことができるが、ケイ素−ケイ素結
合1モルに対し通常、0.0001〜0.5モルの範囲
である。
ノン類の量は任意に選ぶことができるが、環状ケイ素化
合物に対する収率を考慮すると、環状ケイ素化合物中の
一つのケイ素−ケイ素結合1モルに対しキノン類1モル
以上が好ましい。本発明において用いられるパラジウム
触媒は、パラジウム錯体、パラジウム塩、金属または担
持金属パラジウム触媒など、従来公知のものを含む各種
のものが使用できる。それらをさらに具体的に示すと、
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、ジクロロ
ビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ジ−μ−クロロビ
ス(π- アリル)二パラジウム、ジクロロ(η−1,5
−シクロオクタジエン)パラジウム、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリ
メチルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリエ
チルホスフィン)パラジウム、ジヨードビス(ジエチル
フェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリ
ブチルホスフィン)パラジウム、ジブロモ[1,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジク
ロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジク
ロロビス(トリ−o−トリルホスフィン)パラジウム、
酢酸パラジウム、塩化パラジウム、活性炭担持パラジウ
ムなどが挙げられる。これらの錯体、塩などは、2種以
上同時に用いたり、上記例示した金属錯体に含まれる配
位子や1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−4−エ
チルビシクロ[2.2.2]オクタン、トリメチルホス
ファイト、トリフェニルホスファイトなどの配位子と共
存させて使用することもできる。環状ケイ素化合物中の
一つのケイ素−ケイ素結合に対するパラジウム触媒のモ
ル比は、任意に選ぶことができるが、ケイ素−ケイ素結
合1モルに対し通常、0.0001〜0.5モルの範囲
である。
【0011】本発明の反応は、窒素、アルゴンなどの不
活性雰囲気中、0℃以上、好ましくは20〜200℃の
反応温度で実施される。また、本発明の方法は溶媒の有
無にかかわらず実施できるが、溶媒を用いる場合は、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、デカリンなど
の炭化水素溶媒やジブチルエーテルなどのエーテル系溶
媒の他、原料の環状ケイ素化合物、キノン類、および生
成する高分子ケイ素化合物と反応するものを除いた各種
の有機溶媒を用いることができる。反応混合物からの目
的生成物の分離精製は、一般に再沈殿またはクロマトグ
ラフィーなどの有機化学的に通常用いられる手段によ
り、容易に達せられる。
活性雰囲気中、0℃以上、好ましくは20〜200℃の
反応温度で実施される。また、本発明の方法は溶媒の有
無にかかわらず実施できるが、溶媒を用いる場合は、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、デカリンなど
の炭化水素溶媒やジブチルエーテルなどのエーテル系溶
媒の他、原料の環状ケイ素化合物、キノン類、および生
成する高分子ケイ素化合物と反応するものを除いた各種
の有機溶媒を用いることができる。反応混合物からの目
的生成物の分離精製は、一般に再沈殿またはクロマトグ
ラフィーなどの有機化学的に通常用いられる手段によ
り、容易に達せられる。
【0012】ここに示した方法により製造される高分子
ケイ素化合物は、一般式
ケイ素化合物は、一般式
【0013】
【化8】 (式中、Aは2価の芳香環基を表わす。)で表わされる
骨格を有するもので、具体的には、一般式 −O−A−O−SiR1 R2 − (I−b) (式中、AおよびR1 、R2 は、それぞれ一般式(I−
a)および一般式(II−a)中のものと同じである。)
で表わされる繰り返し単位、あるいは、一般式 −(−O−A−O−SiR3 R4 )q-1 −Y−SiR3 R4 − (I−c) (式中、AおよびR3 、R4 、Y、qは、それぞれ一般
式(I−a)および一般式(II−b)中のものと同じで
ある。)で表わされる繰り返し単位から構成され、その
重量平均分子量が500以上のものである。それらをよ
り具体的に例示すると、ポリ[オキシ−p−フェニレン
オキシ(ジメチルシリレン)]、ポリ[オキシ−p−フ
ェニレンオキシ(ジエチルシリレン)]、ポリ[オキシ
−p−フェニレンオキシ(メチルフェニルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジフェ
ニルシリレン)]、ポリ[オキシ−(2,3,5,6−
テトラクロロ−1,4−フェニレン)オキシ(ジメチル
シリレン)]、ポリ[オキシ−1,4−ナフチレンオキ
シ(ジメチルシリレン)]、ポリ[オキシ−1,4−ナ
フチレンオキシ(ジフェニルシリレン)]、ポリ[オキ
シ−9,10−アントリレンオキシ(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)−o−フェニレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−(9,10−アントリレン)オ
キシ(ジメチルシリレン)トリメチレン(ジメチルシリ
レン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメ
チルシリレン)テトラメチレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)(1,2,3,4−テトラフェニル−1,
3−ブタジエニレン)(ジメチルシリレン)]、ポリ
[ビス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチルシリ
レン)}トリメチレン(ジメチルシリレン)]、ポリ
[ペンタキス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)}−o−フェニレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)オキシ(ジメチルシリレン)]、ポリ[ト
リス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチルシリレ
ン)}オキシ(ジメチルシリレン)]などが挙げられ
る。これらのビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分
子ケイ素化合物は、熱重量分析において一般に良好な熱
安定性を示すことから、耐熱性材料として有用である。
骨格を有するもので、具体的には、一般式 −O−A−O−SiR1 R2 − (I−b) (式中、AおよびR1 、R2 は、それぞれ一般式(I−
a)および一般式(II−a)中のものと同じである。)
で表わされる繰り返し単位、あるいは、一般式 −(−O−A−O−SiR3 R4 )q-1 −Y−SiR3 R4 − (I−c) (式中、AおよびR3 、R4 、Y、qは、それぞれ一般
式(I−a)および一般式(II−b)中のものと同じで
ある。)で表わされる繰り返し単位から構成され、その
重量平均分子量が500以上のものである。それらをよ
り具体的に例示すると、ポリ[オキシ−p−フェニレン
オキシ(ジメチルシリレン)]、ポリ[オキシ−p−フ
ェニレンオキシ(ジエチルシリレン)]、ポリ[オキシ
−p−フェニレンオキシ(メチルフェニルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジフェ
ニルシリレン)]、ポリ[オキシ−(2,3,5,6−
テトラクロロ−1,4−フェニレン)オキシ(ジメチル
シリレン)]、ポリ[オキシ−1,4−ナフチレンオキ
シ(ジメチルシリレン)]、ポリ[オキシ−1,4−ナ
フチレンオキシ(ジフェニルシリレン)]、ポリ[オキ
シ−9,10−アントリレンオキシ(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)−o−フェニレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−(9,10−アントリレン)オ
キシ(ジメチルシリレン)トリメチレン(ジメチルシリ
レン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメ
チルシリレン)テトラメチレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)(1,2,3,4−テトラフェニル−1,
3−ブタジエニレン)(ジメチルシリレン)]、ポリ
[ビス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチルシリ
レン)}トリメチレン(ジメチルシリレン)]、ポリ
[ペンタキス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)}−o−フェニレン(ジメチルシリレ
ン)]、ポリ[オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチ
ルシリレン)オキシ(ジメチルシリレン)]、ポリ[ト
リス{オキシ−p−フェニレンオキシ(ジメチルシリレ
ン)}オキシ(ジメチルシリレン)]などが挙げられ
る。これらのビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分
子ケイ素化合物は、熱重量分析において一般に良好な熱
安定性を示すことから、耐熱性材料として有用である。
【0014】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0015】実施例1 ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム 0.00
8mmol、1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−
4−エチルビシクロ[2.2.2]オクタン0.016
mmol、オクタフェニルシクロテトラシラン 0.1
0mmol、p−ベンゾキノン 0.44mmol、お
よびベンゼン 0.10mlを窒素下、封管中120℃
で2時間加熱した。褐色反応溶液にベンゼンを加えろ過
した後、ろ液を減圧下濃縮した。褐色濃縮物をベンゼン
−イソプロピルアルコールから再沈殿させた結果、淡褐
色固体の高分子ケイ素化合物、ポリ[オキシ−p−フェ
ニレンオキシ(ジフェニルシリレン)](重量平均分子
量(標準ポリスチレン基準):2.9x104 、多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量):10、融点:8
4〜94℃)が108mg(繰り返し単位当り0.37
mmol、収率93%)得られた。
8mmol、1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−
4−エチルビシクロ[2.2.2]オクタン0.016
mmol、オクタフェニルシクロテトラシラン 0.1
0mmol、p−ベンゾキノン 0.44mmol、お
よびベンゼン 0.10mlを窒素下、封管中120℃
で2時間加熱した。褐色反応溶液にベンゼンを加えろ過
した後、ろ液を減圧下濃縮した。褐色濃縮物をベンゼン
−イソプロピルアルコールから再沈殿させた結果、淡褐
色固体の高分子ケイ素化合物、ポリ[オキシ−p−フェ
ニレンオキシ(ジフェニルシリレン)](重量平均分子
量(標準ポリスチレン基準):2.9x104 、多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量):10、融点:8
4〜94℃)が108mg(繰り返し単位当り0.37
mmol、収率93%)得られた。
【0016】実施例2〜10 表1に示す各種の環状ケイ素化合物、キノン類および触
媒を用いて、原料および触媒の量を、環状ケイ素化合物
0.10〜0.20mmol、キノン1.10当量(環
状ケイ素化合物中の一つのSi−Si結合に対して)、
触媒0.02当量(環状ケイ素化合物中の一つのSi−
Si結合に対して)とし、反応時間を1〜20時間とし
た以外は実施例1と同様に反応を行なった。表1の結果
が示すように、本発明の方法により目的のビス(シロキ
シ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物が好収率で
得られた。また実施例5、6、8、9で得られたもの
は、熱安定性が良好であった。
媒を用いて、原料および触媒の量を、環状ケイ素化合物
0.10〜0.20mmol、キノン1.10当量(環
状ケイ素化合物中の一つのSi−Si結合に対して)、
触媒0.02当量(環状ケイ素化合物中の一つのSi−
Si結合に対して)とし、反応時間を1〜20時間とし
た以外は実施例1と同様に反応を行なった。表1の結果
が示すように、本発明の方法により目的のビス(シロキ
シ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物が好収率で
得られた。また実施例5、6、8、9で得られたもの
は、熱安定性が良好であった。
【0017】
【表1】 1) 標準ポリスチレンを基準にして、ゲル浸透クロマト
グラフィーにより測定した重量平均分子量。括弧内は多
分散度(重量平均分子量/数平均分子量)。 2) 空気中。 3) 再沈殿(ベンゼン−イソプロピルアルコール)によ
り精製した後の収率。 4) dba=ジベンジリデンアセトン、P(OCH2 )3
CEt=1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−4
−エチルビシクロ[2.2.2]オクタン。 5) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、1%(200℃) および6%(40
0℃)。 6) ベンゼン不溶分(o−ジクロロベンゼンに135℃
で可溶)。 7) 窒素雰囲気下。 8) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、0%(200℃)および5%(40
0℃)。 9) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、3%(200℃)および10%(4
00℃)。 10) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、1%(200℃)および10%(4
00℃)。
グラフィーにより測定した重量平均分子量。括弧内は多
分散度(重量平均分子量/数平均分子量)。 2) 空気中。 3) 再沈殿(ベンゼン−イソプロピルアルコール)によ
り精製した後の収率。 4) dba=ジベンジリデンアセトン、P(OCH2 )3
CEt=1−ホスファ−2,6,7−トリオキサ−4
−エチルビシクロ[2.2.2]オクタン。 5) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、1%(200℃) および6%(40
0℃)。 6) ベンゼン不溶分(o−ジクロロベンゼンに135℃
で可溶)。 7) 窒素雰囲気下。 8) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、0%(200℃)および5%(40
0℃)。 9) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、3%(200℃)および10%(4
00℃)。 10) 熱重量分析(ヘリウム気流中、10℃/分昇温)に
おける重量損失は、1%(200℃)および10%(4
00℃)。
【0018】
【発明の効果】本発明の方法により、少なくとも1個の
ケイ素−ケイ素結合を有する環状ケイ素化合物および入
手容易なキノン類から、ビス(シロキシ)芳香環骨格を
有し、高い耐熱性を示す高分子ケイ素化合物を、簡単な
操作で効率よく製造でき、またそれらの分離、精製も容
易である。したがって、本発明の工業的意義は多大であ
る。
ケイ素−ケイ素結合を有する環状ケイ素化合物および入
手容易なキノン類から、ビス(シロキシ)芳香環骨格を
有し、高い耐熱性を示す高分子ケイ素化合物を、簡単な
操作で効率よく製造でき、またそれらの分離、精製も容
易である。したがって、本発明の工業的意義は多大であ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】パラジウム触媒存在下、少なくとも1個の
ケイ素−ケイ素結合を有する下記一般式(II−a)また
は下記一般式(II−b)で表わされる環状ケイ素化合物
をキノン類と反応させ、下記一般式(I−b) または下
記一般式(I−c) で表わされる繰り返し単位から構成
され、かつその重量平均分子量が500以上である下記
一般式(I−a) で表わされる骨格を有する高分子ケイ
素化合物を得ることを特徴とする高分子ケイ素化合物の
製造方法。【化1】 (式中、Aは2価の芳香環基を表わす。) 【化2】 (式中、R 1 、R 2 はアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、pは3以上7以下
の整数を表わす。) 【化3】 (式中、R 3 、R 4 はアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、あるいはハロゲン原子の中から選ばれる互いに同一
あるいは相異なる1価の基を表わし、Yは2価の炭化水
素基あるいは酸素原子を表わす。qは2以上6以下の整
数を表わし、rは、Yが酸素原子でかつqが2の場合に
は2で、それ以外の場合には1を表わす。) −O−A−O−SiR 1 R 2 − (I−b) (式中、AおよびR 1 、R 2 は、それぞれ前記一般式
(I−a)および前記一般式(II−a)中のものと同じ
である。) −(−O−A−O−SiR 3 R 4 ) q-1 −Y−SiR 3 R 4 − (I−c) (式中、AおよびR 3 、R 4 、Y、qは、それぞれ前記
一般式(I−a)および前記一般式(II−b)中のもの
と同じである。) - 【請求項2】キノン類が、環内炭素数が14以下の芳香
族化合物を母体化合物とし、下記一般式(III−a) で表
わされる骨格を有するp−キノン類であり、2価の芳香
環基Aが、環内炭素数が14以下のp−アリーレン基で
あることを特徴とする請求項1記載の方法。 【化4】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4089389A JPH0696640B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4089389A JPH0696640B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255506A JPH05255506A (ja) | 1993-10-05 |
| JPH0696640B2 true JPH0696640B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=13969309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4089389A Expired - Lifetime JPH0696640B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696640B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2887252A1 (fr) * | 2005-06-21 | 2006-12-22 | Air Liquide | Procede de formation d'un film dielectrique et nouveaux precurseurs pour la mise en oeuvre de ce procede |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP4089389A patent/JPH0696640B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255506A (ja) | 1993-10-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |