JPH0697147A - 乾燥装置 - Google Patents
乾燥装置Info
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- JPH0697147A JPH0697147A JP4243188A JP24318892A JPH0697147A JP H0697147 A JPH0697147 A JP H0697147A JP 4243188 A JP4243188 A JP 4243188A JP 24318892 A JP24318892 A JP 24318892A JP H0697147 A JPH0697147 A JP H0697147A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 乾燥工程において、被乾燥部材への異物の付
着を低減させる。また、同時に大量の被乾燥部材を乾燥
できるようにし、そして、より短時間に乾燥できるよう
にする。さらに、被乾燥部材の洗浄及び乾燥の各工程を
一貫化させる。 【構成】 空気１を清浄化するフィルタ２と、清浄化さ
れた空気１を加温するヒータ６とを設け、この清浄、加
温された空気１の対流によってウエハ（被乾燥部材）３
を乾燥させる。一方、ウエハ（被乾燥部材）３はカート
リッジ（収納手段）５に収納され、洗浄装置と連続され
た搬送手段４によって搬送される。
着を低減させる。また、同時に大量の被乾燥部材を乾燥
できるようにし、そして、より短時間に乾燥できるよう
にする。さらに、被乾燥部材の洗浄及び乾燥の各工程を
一貫化させる。 【構成】 空気１を清浄化するフィルタ２と、清浄化さ
れた空気１を加温するヒータ６とを設け、この清浄、加
温された空気１の対流によってウエハ（被乾燥部材）３
を乾燥させる。一方、ウエハ（被乾燥部材）３はカート
リッジ（収納手段）５に収納され、洗浄装置と連続され
た搬送手段４によって搬送される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、乾燥装置に関し、特に
半導体製造装置における半導体ウエハ（以下、単にウエ
ハという）の乾燥装置に適用して有効な技術に関するも
のである。
半導体製造装置における半導体ウエハ（以下、単にウエ
ハという）の乾燥装置に適用して有効な技術に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、ウエハ洗浄後の乾燥装置とし
ては、回転乾燥装置と蒸気乾燥装置とが広く知られてい
る。
ては、回転乾燥装置と蒸気乾燥装置とが広く知られてい
る。
【０００３】ここで、回転乾燥装置とは、カセットに収
納されたウエハを高速で回転させ、ウエハ上の水分を遠
心力で飛ばし去ることによってウエハを乾燥させる装置
である。
納されたウエハを高速で回転させ、ウエハ上の水分を遠
心力で飛ばし去ることによってウエハを乾燥させる装置
である。
【０００４】また、蒸気乾燥装置とは、沸点以上の温度
に加熱された溶剤を装置下部に設け、この溶剤の蒸気が
上昇して、上方に吊り下げられているウエハに残留して
いる水分を溶解させることによってウエハを乾燥させる
装置である。
に加熱された溶剤を装置下部に設け、この溶剤の蒸気が
上昇して、上方に吊り下げられているウエハに残留して
いる水分を溶解させることによってウエハを乾燥させる
装置である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、回転乾燥装置
により乾燥されたウエハには、飛び去った水滴が装置周
囲の壁で反射して再付着していたり、装置内外圧の差か
ら外部の空気を巻き込んで空気中の異物が付着する場合
が多い。
により乾燥されたウエハには、飛び去った水滴が装置周
囲の壁で反射して再付着していたり、装置内外圧の差か
ら外部の空気を巻き込んで空気中の異物が付着する場合
が多い。
【０００６】また、蒸気乾燥装置により乾燥されたウエ
ハには、溶剤中の異物が付着したり、乾燥処理がされる
部屋のクリーン度が低い場合には空気中の異物が付着し
たりして、いずれの装置によっても、ウエハに付着した
異物が問題となることが多かった。
ハには、溶剤中の異物が付着したり、乾燥処理がされる
部屋のクリーン度が低い場合には空気中の異物が付着し
たりして、いずれの装置によっても、ウエハに付着した
異物が問題となることが多かった。
【０００７】ウエハに付着したイオンや異物は、デバイ
ス特性のみならずプロセス歩留りをも悪化させるもので
あるから、この付着した異物の低減は急務である。のみ
ならず、ウエハの異物を低減させないと、今後のデバイ
スプロセスの微細化自体が困難になる。
ス特性のみならずプロセス歩留りをも悪化させるもので
あるから、この付着した異物の低減は急務である。のみ
ならず、ウエハの異物を低減させないと、今後のデバイ
スプロセスの微細化自体が困難になる。
【０００８】また、同時に大量にウエハを乾燥させるこ
とができ、かつ、短時間でウエハを乾燥させることがで
きれば、ウエハの乾燥プロセスを効率化させることがで
きる。
とができ、かつ、短時間でウエハを乾燥させることがで
きれば、ウエハの乾燥プロセスを効率化させることがで
きる。
【０００９】さらに、現在、ウエハの洗浄と乾燥とは別
工程となっているが、これを一貫化させることができれ
ば、生産効率を大幅に向上させることができる。
工程となっているが、これを一貫化させることができれ
ば、生産効率を大幅に向上させることができる。
【００１０】そこで、本発明の目的は、ウエハ等の被乾
燥部材の洗浄後の乾燥プロセスにおいて、被乾燥部材へ
の異物の付着をより低減させることのできる乾燥装置に
関する技術を提供することにある。
燥部材の洗浄後の乾燥プロセスにおいて、被乾燥部材へ
の異物の付着をより低減させることのできる乾燥装置に
関する技術を提供することにある。
【００１１】本発明の他の目的は、同時に大量の被乾燥
部材を乾燥させることのできる乾燥装置に関する技術を
提供することにある。
部材を乾燥させることのできる乾燥装置に関する技術を
提供することにある。
【００１２】また、本発明の他の目的は、より短時間に
被乾燥部材を乾燥させることのできる乾燥装置に関する
技術を提供することにある。
被乾燥部材を乾燥させることのできる乾燥装置に関する
技術を提供することにある。
【００１３】さらに、本発明の他の目的は、被乾燥部材
の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させることのできる乾
燥装置に関する技術を提供することにある。
の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させることのできる乾
燥装置に関する技術を提供することにある。
【００１４】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、次の通
りである。
発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、次の通
りである。
【００１６】すなわち、請求項１記載の発明は、空気を
清浄化するフィルタが設けられ、そのフィルタにより清
浄化された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥される
乾燥装置である。
清浄化するフィルタが設けられ、そのフィルタにより清
浄化された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥される
乾燥装置である。
【００１７】請求項２記載の発明は、前記のフィルタが
帯電作用により空気を清浄化するフィルタと、化学的作
用により空気を清浄化するフィルタとからなる乾燥装置
である。
帯電作用により空気を清浄化するフィルタと、化学的作
用により空気を清浄化するフィルタとからなる乾燥装置
である。
【００１８】請求項３記載の発明は、この乾燥装置に空
気を加温するヒータが設けられ、フィルタによって清浄
化され、このヒータにより加温された空気の対流によっ
て被乾燥部材が乾燥される乾燥装置である。
気を加温するヒータが設けられ、フィルタによって清浄
化され、このヒータにより加温された空気の対流によっ
て被乾燥部材が乾燥される乾燥装置である。
【００１９】請求項４記載の発明は、フィルタと被乾燥
部材との間に静電気除去装置が設けられ、この静電気除
去装置を通過した空気によって被乾燥部材が乾燥される
乾燥装置である。
部材との間に静電気除去装置が設けられ、この静電気除
去装置を通過した空気によって被乾燥部材が乾燥される
乾燥装置である。
【００２０】請求項５記載の発明は、請求項３記載の乾
燥装置に用いられたヒータに代えて、マイクロ波発生装
置が設けられた乾燥装置である。
燥装置に用いられたヒータに代えて、マイクロ波発生装
置が設けられた乾燥装置である。
【００２１】請求項６記載の発明は、被乾燥部材が収納
手段に収納され、洗浄装置と連続された搬送手段によっ
て搬送されながら乾燥される乾燥装置である。
手段に収納され、洗浄装置と連続された搬送手段によっ
て搬送されながら乾燥される乾燥装置である。
【００２２】そして、請求項７記載の発明は、その搬送
手段に多数の間隙が設けられている乾燥装置である。
手段に多数の間隙が設けられている乾燥装置である。
【００２３】
【作用】請求項１記載の発明によれば、清浄化された空
気の対流によって被乾燥部材が乾燥されるので、乾燥後
の被乾燥部材への異物付着数の減少を図ることができ
る。
気の対流によって被乾燥部材が乾燥されるので、乾燥後
の被乾燥部材への異物付着数の減少を図ることができ
る。
【００２４】請求項２記載の発明によれば、化学的作用
により空気を清浄化するフィルタの作用により、被乾燥
部材へのイオン付着量の減少を図ることができる。
により空気を清浄化するフィルタの作用により、被乾燥
部材へのイオン付着量の減少を図ることができる。
【００２５】請求項３記載の発明によれば、ヒータによ
り加温された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥され
るので、乾燥時間の短縮を図ることができる。
り加温された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥され
るので、乾燥時間の短縮を図ることができる。
【００２６】請求項４記載の発明によれば、フィルタを
通過するときに異物に帯電した静電気が、この静電気除
去装置を通過することによって取り除かれるので、帯電
作用による極微小の異物の付着数を減少させることがで
きる。
通過するときに異物に帯電した静電気が、この静電気除
去装置を通過することによって取り除かれるので、帯電
作用による極微小の異物の付着数を減少させることがで
きる。
【００２７】請求項５記載の発明によれば、マイクロ波
発生装置により被乾燥部材が乾燥されるので、ヒータに
より加温して乾燥する場合より、さらに乾燥時間の短縮
を図ることができる。
発生装置により被乾燥部材が乾燥されるので、ヒータに
より加温して乾燥する場合より、さらに乾燥時間の短縮
を図ることができる。
【００２８】請求項６記載の発明によれば、被乾燥部材
が収納手段に収納され、洗浄装置と連続された搬送手段
によって搬送されながら乾燥されるので、同時に多量の
被乾燥部材を乾燥させることができ、また、被乾燥部材
の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させることができる。
が収納手段に収納され、洗浄装置と連続された搬送手段
によって搬送されながら乾燥されるので、同時に多量の
被乾燥部材を乾燥させることができ、また、被乾燥部材
の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させることができる。
【００２９】そして、請求項７記載の発明によれば、搬
送手段に多数の間隙が設けられているので、たとえば搬
送手段の両側に空気の排出空間を確保できない場合に
は、この間隙を排出空間とすることができる。
送手段に多数の間隙が設けられているので、たとえば搬
送手段の両側に空気の排出空間を確保できない場合に
は、この間隙を排出空間とすることができる。
【００３０】
【実施例１】図１は、本発明の一実施例である乾燥装置
を示す要部説明図、表１は、その乾燥装置と従来の回転
乾燥装置とによる乾燥後のウエハへの異物付着数を示す
比較表である。
を示す要部説明図、表１は、その乾燥装置と従来の回転
乾燥装置とによる乾燥後のウエハへの異物付着数を示す
比較表である。
【００３１】まず、図１により、本実施例における乾燥
装置の構成について説明する。
装置の構成について説明する。
【００３２】装置の上部には空気１を清浄化させるため
のフィルタ２が設けられ、また、装置の下部にはウエハ
（被乾燥部材）３を横方向に搬送する搬送手段４が設け
られている。そして、この搬送手段４により、ウエハ
（被乾燥部材）３は、カートリッジ（収納手段）５に収
納されて搬送されるようになっている。
のフィルタ２が設けられ、また、装置の下部にはウエハ
（被乾燥部材）３を横方向に搬送する搬送手段４が設け
られている。そして、この搬送手段４により、ウエハ
（被乾燥部材）３は、カートリッジ（収納手段）５に収
納されて搬送されるようになっている。
【００３３】ここで、搬送手段４には多数の間隙４ａが
設けられており、空気１の対流は、この間隙４ａを通っ
て装置の外部へ排出されるようになっている。
設けられており、空気１の対流は、この間隙４ａを通っ
て装置の外部へ排出されるようになっている。
【００３４】なお、この搬送手段４によって、洗浄装置
（図示せず）とこの乾燥装置とが連続されている。すな
わち、カートリッジ（収納手段）５に収納された複数の
ウエハ（被乾燥部材）３は、この搬送手段４によって搬
送されながら、まず洗浄され、そして乾燥されるように
なっている。
（図示せず）とこの乾燥装置とが連続されている。すな
わち、カートリッジ（収納手段）５に収納された複数の
ウエハ（被乾燥部材）３は、この搬送手段４によって搬
送されながら、まず洗浄され、そして乾燥されるように
なっている。
【００３５】次に、本実施例における乾燥装置の作用に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００３６】カートリッジ（収納手段）５に収納された
複数のウエハ（被乾燥部材）３は、洗浄終了後、搬送手
段４によって洗浄装置（図示せず）からこの乾燥装置に
搬送され、乾燥装置の中を横方向に搬送されてゆく。
複数のウエハ（被乾燥部材）３は、洗浄終了後、搬送手
段４によって洗浄装置（図示せず）からこの乾燥装置に
搬送され、乾燥装置の中を横方向に搬送されてゆく。
【００３７】ここで、ウエハ（被乾燥部材）３はカート
リッジ（収納手段）５に収納された状態で、フィルタ２
によって清浄化された空気１の対流にあてられて乾燥さ
れる。
リッジ（収納手段）５に収納された状態で、フィルタ２
によって清浄化された空気１の対流にあてられて乾燥さ
れる。
【００３８】一方、ウエハ（被乾燥部材）３を乾燥させ
た空気１は、前記のように、搬送手段４に設けられた間
隙４ａを通って外部に排出される。
た空気１は、前記のように、搬送手段４に設けられた間
隙４ａを通って外部に排出される。
【００３９】ここで、本発明の発明者が実験した本実施
例の乾燥装置による乾燥後のウエハ（被乾燥部材）３へ
の付着異物数を、従来の回転乾燥装置におけるそれと比
較すれば、表１の通りである。
例の乾燥装置による乾燥後のウエハ（被乾燥部材）３へ
の付着異物数を、従来の回転乾燥装置におけるそれと比
較すれば、表１の通りである。
【００４０】
【表１】
【００４１】この実験におけるウエハ（被乾燥部材）３
の直径は３インチで、異物はともに0.３μｍ以上のもの
を対象としている。また、本実施例の乾燥装置のクリー
ン度は、0.２μｍの異物でクラス１０、空気１の温度は
４０℃である。
の直径は３インチで、異物はともに0.３μｍ以上のもの
を対象としている。また、本実施例の乾燥装置のクリー
ン度は、0.２μｍの異物でクラス１０、空気１の温度は
４０℃である。
【００４２】この実験結果から明らかなように、本実施
例の乾燥装置によれば、ウエハ（被乾燥部材）３への付
着異物数の平均値は1.０個であり、従来の回転乾燥装置
による場合の2.５個より６０％低減された。
例の乾燥装置によれば、ウエハ（被乾燥部材）３への付
着異物数の平均値は1.０個であり、従来の回転乾燥装置
による場合の2.５個より６０％低減された。
【００４３】また、ウエハ（被乾燥部材）３への付着異
物数の最大値も、本実施例の乾燥装置では4.０個であ
り、やはり従来の回転乾燥装置での１0.０個よりも６０
％低減された。
物数の最大値も、本実施例の乾燥装置では4.０個であ
り、やはり従来の回転乾燥装置での１0.０個よりも６０
％低減された。
【００４４】
【実施例２】図２は、本発明の他の実施例である乾燥装
置を示す要部説明図、表２は、その乾燥装置と従来の回
転乾燥装置とによる乾燥後のウエハへのイオン付着量を
示す比較表である。
置を示す要部説明図、表２は、その乾燥装置と従来の回
転乾燥装置とによる乾燥後のウエハへのイオン付着量を
示す比較表である。
【００４５】本実施例の乾燥装置は、前記実施例１の乾
燥装置のフィルタ２が、帯電作用により空気を清浄化す
るフィルタ（以下、単に静電気フィルタという）２ａ
と、化学的作用により空気を清浄化するフィルタ（以
下、単にケミカルフィルタという）２ｂよりなる。
燥装置のフィルタ２が、帯電作用により空気を清浄化す
るフィルタ（以下、単に静電気フィルタという）２ａ
と、化学的作用により空気を清浄化するフィルタ（以
下、単にケミカルフィルタという）２ｂよりなる。
【００４６】本実施例においても、カートリッジ（収納
手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部材）３
は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、清浄化さ
れた空気１の対流によって乾燥される。
手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部材）３
は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、清浄化さ
れた空気１の対流によって乾燥される。
【００４７】ここで、本発明の発明者が実験した本実施
例における乾燥装置の、ケミカルフィルタ２ｂの作用に
よる乾燥後のウエハ（被乾燥部材）３へのイオン付着量
を、従来の回転乾燥装置におけるそれと比較すれば、表
２の通りである。
例における乾燥装置の、ケミカルフィルタ２ｂの作用に
よる乾燥後のウエハ（被乾燥部材）３へのイオン付着量
を、従来の回転乾燥装置におけるそれと比較すれば、表
２の通りである。
【００４８】
【表２】
【００４９】前記実施例１における実験と同様に、この
実験においてもウエハ（被乾燥部材）３の直径は３イン
チで、本実施例の乾燥装置のクリーン度は、0.２μｍの
異物でクラス１０、空気１の温度は４０℃である。
実験においてもウエハ（被乾燥部材）３の直径は３イン
チで、本実施例の乾燥装置のクリーン度は、0.２μｍの
異物でクラス１０、空気１の温度は４０℃である。
【００５０】この実験結果から明らかなように、本実施
例の乾燥装置によれば、ウエハ（被乾燥部材）３へのイ
オン付着量は、マイナスイオンについてはＣｌ- イオン
およびＳＯ4 2- イオンはともに0.０ngであり、従来の回
転乾燥装置による場合はそれぞれ２0.０ng、5.０ngであ
ることから、これらのマイナスイオンを完全に排除する
ことができた。
例の乾燥装置によれば、ウエハ（被乾燥部材）３へのイ
オン付着量は、マイナスイオンについてはＣｌ- イオン
およびＳＯ4 2- イオンはともに0.０ngであり、従来の回
転乾燥装置による場合はそれぞれ２0.０ng、5.０ngであ
ることから、これらのマイナスイオンを完全に排除する
ことができた。
【００５１】なお、プラスイオンの付着量については、
Ｆｅ3+イオンおよびＣｕ+ イオンは、本実施例の乾燥装
置と従来の回転乾燥装置とは同数値であり、差異は認め
られなかった。
Ｆｅ3+イオンおよびＣｕ+ イオンは、本実施例の乾燥装
置と従来の回転乾燥装置とは同数値であり、差異は認め
られなかった。
【００５２】
【実施例３】図３は、本発明の他の実施例である乾燥装
置を示す要部説明図である。
置を示す要部説明図である。
【００５３】本実施例の乾燥装置は、前記実施例１の乾
燥装置のフィルタ２の下方にヒータ６を設けたものより
なる。
燥装置のフィルタ２の下方にヒータ６を設けたものより
なる。
【００５４】すなわち、装置の上部に設けられた空気１
を清浄化させるためのフィルタ２の下方にヒータ６が位
置しており、フィルタ２に通され清浄化された空気１
は、このヒータ６を通過することで加温されるようにな
っている。
を清浄化させるためのフィルタ２の下方にヒータ６が位
置しており、フィルタ２に通され清浄化された空気１
は、このヒータ６を通過することで加温されるようにな
っている。
【００５５】本実施例においては、カートリッジ（収納
手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部材）３
は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、フィルタ
２によって清浄化され、そしてヒータ６によって加温さ
れた空気１の対流によって乾燥される。
手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部材）３
は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、フィルタ
２によって清浄化され、そしてヒータ６によって加温さ
れた空気１の対流によって乾燥される。
【００５６】すなわち、ウエハ（被乾燥部材）３は、所
定の温度に加温された空気１の対流によって乾燥される
ので、常温の空気１の対流の場合よりも早く乾燥される
こととなり、乾燥時間の短縮を図ることができる。
定の温度に加温された空気１の対流によって乾燥される
ので、常温の空気１の対流の場合よりも早く乾燥される
こととなり、乾燥時間の短縮を図ることができる。
【００５７】
【実施例４】図４は、本発明の他の実施例を示す乾燥装
置の要部説明図である。
置の要部説明図である。
【００５８】本実施例の乾燥装置は、前記実施例１の乾
燥装置のフィルタ２の下方に静電気除去装置７を加えた
ものよりなる。
燥装置のフィルタ２の下方に静電気除去装置７を加えた
ものよりなる。
【００５９】本実施例においても、やはり、カートリッ
ジ（収納手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部
材）３は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、清
浄化された空気１の対流によって乾燥される。
ジ（収納手段）５に収納された複数のウエハ（被乾燥部
材）３は、乾燥装置の中を横方向に搬送されながら、清
浄化された空気１の対流によって乾燥される。
【００６０】ここで、本実施例の乾燥装置においては、
静電気除去装置７が用いられているので、フィルタ２を
通過した極微小の異物に帯電した静電気は、この静電気
除去装置７により除去される。したがって、これら極微
小の異物が静電気の作用によってウエハ（被乾燥部材）
３へ付着することが防止される。
静電気除去装置７が用いられているので、フィルタ２を
通過した極微小の異物に帯電した静電気は、この静電気
除去装置７により除去される。したがって、これら極微
小の異物が静電気の作用によってウエハ（被乾燥部材）
３へ付着することが防止される。
【００６１】
【実施例５】図５は、本発明のさらに他の実施例を示す
乾燥装置の要部説明図である。
乾燥装置の要部説明図である。
【００６２】本実施例の乾燥装置は、前記実施例３の乾
燥装置のヒータ６の代わりに、マイクロ波発生装置８を
用いたものよりなる。
燥装置のヒータ６の代わりに、マイクロ波発生装置８を
用いたものよりなる。
【００６３】すなわち、本実施例の乾燥装置において
は、フィルタ２とウエハ（被乾燥部材）３との間にマイ
クロ波発生装置８が介設されているので、洗浄後のウエ
ハ（被乾燥部材）３の乾燥時間を、前記実施例３の乾燥
装置よりもさらに短縮することができる。
は、フィルタ２とウエハ（被乾燥部材）３との間にマイ
クロ波発生装置８が介設されているので、洗浄後のウエ
ハ（被乾燥部材）３の乾燥時間を、前記実施例３の乾燥
装置よりもさらに短縮することができる。
【００６４】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００６５】たとえば、前記実施例においては、ウエハ
（被乾燥部材）がカートリッジ（収納手段）に収納さ
れ、また、間隙の設けられた搬送手段によって横方向に
搬送されながら乾燥される場合について説明したが、ウ
エハ（被乾燥部材）はカートリッジ（収納手段）に収納
せずに、そのままで乾燥させることも可能であり、ま
た、たとえば空気が搬送手段の両側を通って外部に排出
されるような場合には、搬送手段自体に間隙を設けなく
てもよい。さらに、搬送手段を用いることなく、ウエハ
（被乾燥部材）を乾燥装置内に入れて、乾燥後にこれを
取り出す方法によることもできる。
（被乾燥部材）がカートリッジ（収納手段）に収納さ
れ、また、間隙の設けられた搬送手段によって横方向に
搬送されながら乾燥される場合について説明したが、ウ
エハ（被乾燥部材）はカートリッジ（収納手段）に収納
せずに、そのままで乾燥させることも可能であり、ま
た、たとえば空気が搬送手段の両側を通って外部に排出
されるような場合には、搬送手段自体に間隙を設けなく
てもよい。さらに、搬送手段を用いることなく、ウエハ
（被乾燥部材）を乾燥装置内に入れて、乾燥後にこれを
取り出す方法によることもできる。
【００６６】また、前記実施例で用いられたケミカルフ
ィルタ、ヒータまたはマイクロ波発生装置、および静電
気除去装置は、それぞれ任意の組合せで用いることもで
き、前記実施例３にいうヒータには、赤外線ヒータ等も
含まれる。
ィルタ、ヒータまたはマイクロ波発生装置、および静電
気除去装置は、それぞれ任意の組合せで用いることもで
き、前記実施例３にいうヒータには、赤外線ヒータ等も
含まれる。
【００６７】さらに、前記実施例においては、いずれも
被乾燥部材としてウエハを用いた場合について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえ
ば、石英やガラス、また他の各種の部品材料を被乾燥部
材として用いることも可能である。
被乾燥部材としてウエハを用いた場合について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえ
ば、石英やガラス、また他の各種の部品材料を被乾燥部
材として用いることも可能である。
【００６８】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下
記の通りである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下
記の通りである。
【００６９】(1).すなわち、請求項１記載の発明によれ
ば、清浄化された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥
され、乾燥後の被乾燥部材への異物付着数が減少され
る。その結果、たとえば、被乾燥部材がウエハの場合に
は、ウエハの歩留りの向上を図ることができ、ＬＳＩ等
のデバイス製品の品質が向上するのみならず、今後のデ
バイスプロセスの微細化にも対応できるウエハの製造が
可能になる。
ば、清浄化された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥
され、乾燥後の被乾燥部材への異物付着数が減少され
る。その結果、たとえば、被乾燥部材がウエハの場合に
は、ウエハの歩留りの向上を図ることができ、ＬＳＩ等
のデバイス製品の品質が向上するのみならず、今後のデ
バイスプロセスの微細化にも対応できるウエハの製造が
可能になる。
【００７０】(2).請求項２記載の発明によれば、化学的
作用により空気を清浄化するフィルタの作用により、被
乾燥部材へのイオン付着量が減少される。したがって、
同様に、被乾燥部材がウエハの場合にはウエハの歩留り
の向上を図ることができ、ＬＳＩ等のデバイス製品の品
質が向上し、また、デバイスプロセスの微細化にも対応
できるウエハの製造が可能になる。
作用により空気を清浄化するフィルタの作用により、被
乾燥部材へのイオン付着量が減少される。したがって、
同様に、被乾燥部材がウエハの場合にはウエハの歩留り
の向上を図ることができ、ＬＳＩ等のデバイス製品の品
質が向上し、また、デバイスプロセスの微細化にも対応
できるウエハの製造が可能になる。
【００７１】(3).請求項３記載の発明によれば、ヒータ
により加温された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥
されるので、乾燥時間の短縮による乾燥プロセスの効率
化を図ることができる。
により加温された空気の対流によって被乾燥部材が乾燥
されるので、乾燥時間の短縮による乾燥プロセスの効率
化を図ることができる。
【００７２】(4).請求項４記載の発明によれば、静電気
の作用による極微小の異物付着数が減少されるので、被
乾燥部材への異物付着数がより減少され、たとえば、被
乾燥部材がウエハの場合には、請求項１または２記載の
発明の乾燥装置より、さらにＬＳＩ等のデバイス製品の
品質の向上を図ることができ、また、デバイスプロセス
の微細化により適合したウエハの製造が可能になる。
の作用による極微小の異物付着数が減少されるので、被
乾燥部材への異物付着数がより減少され、たとえば、被
乾燥部材がウエハの場合には、請求項１または２記載の
発明の乾燥装置より、さらにＬＳＩ等のデバイス製品の
品質の向上を図ることができ、また、デバイスプロセス
の微細化により適合したウエハの製造が可能になる。
【００７３】(5).請求項５記載の発明によれば、マイク
ロ波発生装置により被乾燥部材が乾燥されるので、請求
項３記載の発明の乾燥装置より、さらに乾燥時間の短縮
による被乾燥部材の乾燥プロセスの効率化を図ることが
できる。
ロ波発生装置により被乾燥部材が乾燥されるので、請求
項３記載の発明の乾燥装置より、さらに乾燥時間の短縮
による被乾燥部材の乾燥プロセスの効率化を図ることが
できる。
【００７４】(6).請求項６記載の発明によれば、収納手
段により同時に多量の被乾燥部材を乾燥させることがで
きるので、同時多量乾燥による乾燥プロセスの効率化を
図ることができる。
段により同時に多量の被乾燥部材を乾燥させることがで
きるので、同時多量乾燥による乾燥プロセスの効率化を
図ることができる。
【００７５】(7).さらに、請求項６記載の発明によれ
ば、被乾燥部材の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させる
ことができるので、生産効率を向上させることができ
る。
ば、被乾燥部材の洗浄及び乾燥の各工程を一貫化させる
ことができるので、生産効率を向上させることができ
る。
【００７６】(8).そして、請求項７記載の発明によれ
ば、搬送手段に多数の間隙が設けられているので、たと
えば搬送手段の両側に空気の排出空間を確保できない場
合には、この間隙を排出空間とすることができる。
ば、搬送手段に多数の間隙が設けられているので、たと
えば搬送手段の両側に空気の排出空間を確保できない場
合には、この間隙を排出空間とすることができる。
【図１】本発明の実施例１の乾燥装置を示す要部説明図
である。
である。
【図２】本発明の実施例２の乾燥装置を示す要部説明図
である。
である。
【図３】本発明の実施例３の乾燥装置を示す要部説明図
である。
である。
【図４】本発明の実施例４の乾燥装置を示す要部説明図
である。
である。
【図５】本発明の実施例５の乾燥装置を示す要部説明図
である。
である。
１ 空気 ２ フィルタ ２ａ 静電気フィルタ ２ｂ ケミカルフィルタ ３ ウエハ（被乾燥部材） ４ 搬送手段 ４ａ 間隙 ５ カートリッジ（収納手段） ６ ヒータ ７ 静電気除去装置 ８ マイクロ波発生装置
Claims (7)
- 【請求項１】 空気を清浄化するフィルタを設けてな
り、前記フィルタにより清浄化された前記空気の対流に
よって被乾燥部材が乾燥されることを特徴とする乾燥装
置。 - 【請求項２】 前記フィルタは、帯電作用により空気を
清浄化するフィルタと、化学的作用により空気を清浄化
するフィルタとからなることを特徴とする請求項１記載
の乾燥装置。 - 【請求項３】 前記空気を加温するヒータを設けてな
り、前記ヒータにより加温された前記空気の対流によっ
て前記被乾燥部材が乾燥されることを特徴とする請求項
１または２記載の乾燥装置。 - 【請求項４】 前記フィルタと前記被乾燥部材との間に
静電気除去装置を設け、前記静電気除去装置を通過した
前記空気によって前記被乾燥部材が乾燥されることを特
徴とする請求項１、２または３記載の乾燥装置。 - 【請求項５】 前記フィルタと前記被乾燥部材との間に
マイクロ波発生装置を設けてなることを特徴とする請求
項１、２または４記載の乾燥装置。 - 【請求項６】 前記被乾燥部材が収納手段に収納され
て、洗浄装置と連続された搬送手段によって搬送されな
がら乾燥されることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
か１項に記載の乾燥装置。 - 【請求項７】 前記搬送手段に多数の間隙が設けられて
いることを特徴とする請求項６記載の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4243188A JPH0697147A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4243188A JPH0697147A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0697147A true JPH0697147A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=17100140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4243188A Pending JPH0697147A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0697147A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6173761B1 (en) | 1996-05-16 | 2001-01-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cryogenic heat pipe |
| JP2006003036A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
| JP2015096801A (ja) * | 2014-12-24 | 2015-05-21 | 光洋サーモシステム株式会社 | バッチ式乾燥装置 |
| US11785729B2 (en) | 2010-09-17 | 2023-10-10 | Apple Inc. | Glass enclosure |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP4243188A patent/JPH0697147A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6173761B1 (en) | 1996-05-16 | 2001-01-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cryogenic heat pipe |
| JP2006003036A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
| US11785729B2 (en) | 2010-09-17 | 2023-10-10 | Apple Inc. | Glass enclosure |
| US12219720B2 (en) | 2010-09-17 | 2025-02-04 | Apple Inc. | Glass enclosure |
| JP2015096801A (ja) * | 2014-12-24 | 2015-05-21 | 光洋サーモシステム株式会社 | バッチ式乾燥装置 |
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