JPH0697541A - エキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法 - Google Patents
エキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法Info
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- JPH0697541A JPH0697541A JP26678492A JP26678492A JPH0697541A JP H0697541 A JPH0697541 A JP H0697541A JP 26678492 A JP26678492 A JP 26678492A JP 26678492 A JP26678492 A JP 26678492A JP H0697541 A JPH0697541 A JP H0697541A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 レーザー運転に先立って事前に吸着剤に吸着
させておくＫｒなどの希ガスを無駄なく利用することが
可能なエキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄
化方法を提供すること。 【構成】 レーザー１を運転する前には、パッシベーシ
ョンと呼ばれる運転ガス組成で発振する、いわゆるなら
し運転が行われるか、あるいはある程度の運転でガスの
総入れ替えも行われることに着目したもので、希ガスを
含むレーザー用ガス媒体を、レーザー管２と、吸着剤を
収容した吸着塔９との間に循環させながらレーザー発振
を行うエキシマーレーザー用ガス浄化装置４であって、
吸着塔に収容した吸着剤に、レーザー発振に先立ってあ
らかじめ希ガスを吸着可能とするとともに、このあらか
じめ吸着する希ガスとして、前回のレーザー発振に使用
したレーザー用ガス媒体内の希ガスを用いることを特徴
とする。
させておくＫｒなどの希ガスを無駄なく利用することが
可能なエキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄
化方法を提供すること。 【構成】 レーザー１を運転する前には、パッシベーシ
ョンと呼ばれる運転ガス組成で発振する、いわゆるなら
し運転が行われるか、あるいはある程度の運転でガスの
総入れ替えも行われることに着目したもので、希ガスを
含むレーザー用ガス媒体を、レーザー管２と、吸着剤を
収容した吸着塔９との間に循環させながらレーザー発振
を行うエキシマーレーザー用ガス浄化装置４であって、
吸着塔に収容した吸着剤に、レーザー発振に先立ってあ
らかじめ希ガスを吸着可能とするとともに、このあらか
じめ吸着する希ガスとして、前回のレーザー発振に使用
したレーザー用ガス媒体内の希ガスを用いることを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマーレーザー用ガ
ス浄化装置およびガス浄化方法にかかるもので、とくに
レーザー用ガス媒体などのガス媒体を浄化しつつ、循環
させて使用する多成分ガスの浄化を可能としたエキシマ
ーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法に関する
ものである。
ス浄化装置およびガス浄化方法にかかるもので、とくに
レーザー用ガス媒体などのガス媒体を浄化しつつ、循環
させて使用する多成分ガスの浄化を可能としたエキシマ
ーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のエキシマーレーザーに関するガス
浄化装置の技術を、ＫｒＦエキシマーレーザーを例に取
って以下説明する。
浄化装置の技術を、ＫｒＦエキシマーレーザーを例に取
って以下説明する。
【０００３】ＫｒＦエキシマーレーザーは、ガラスなど
により形成したレーザー管にレーザー用ガス媒体として
約９８％のネオンガス（Ｎｅ）（バッファガス）、約２
％のクリプトンガス（Ｋｒ）、および約０．１％のフッ
素ガス（Ｆ2）の混合ガスを収容し、両端にそれぞれミ
ラーを配置し、レーザー用ガス媒体を放電発光させ、共
振を生じさせることにより動作させる。
により形成したレーザー管にレーザー用ガス媒体として
約９８％のネオンガス（Ｎｅ）（バッファガス）、約２
％のクリプトンガス（Ｋｒ）、および約０．１％のフッ
素ガス（Ｆ2）の混合ガスを収容し、両端にそれぞれミ
ラーを配置し、レーザー用ガス媒体を放電発光させ、共
振を生じさせることにより動作させる。
【０００４】上記フッ素ガスは反応性が強く、放電によ
って励起されたフッ素ガスはとくに反応性が強いため
に、放電によってフッ素ガスとレーザー用ガス媒体中の
不純物や他の構成材料との間に反応が起こる結果、上記
レーザー管内にＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などの不純物が発
生し、ＫｒＦエキシマーレーザーのレーザー出力は、放
電回数の増加とともに減少するという問題がある。
って励起されたフッ素ガスはとくに反応性が強いため
に、放電によってフッ素ガスとレーザー用ガス媒体中の
不純物や他の構成材料との間に反応が起こる結果、上記
レーザー管内にＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などの不純物が発
生し、ＫｒＦエキシマーレーザーのレーザー出力は、放
電回数の増加とともに減少するという問題がある。
【０００５】こうしたＫｒＦエキシマーレーザーのガス
浄化方法として、ガスの沸点温度が相違を利用するコー
ルドトラップ方法があるが、ガスの種類によっては、沸
点温度が近接していると利用が困難であるという問題が
ある。
浄化方法として、ガスの沸点温度が相違を利用するコー
ルドトラップ方法があるが、ガスの種類によっては、沸
点温度が近接していると利用が困難であるという問題が
ある。
【０００６】また、吸着剤を用いる方法も提案されてお
り、本出願人による特願平３−１３２９１３号および特
願平３−１３２９１４号などがあるが、これらの出願に
よる方法では、レーザー運転前に、あらかじめＫｒを吸
着剤に吸着させておく必要がある。
り、本出願人による特願平３−１３２９１３号および特
願平３−１３２９１４号などがあるが、これらの出願に
よる方法では、レーザー運転前に、あらかじめＫｒを吸
着剤に吸着させておく必要がある。
【０００７】すなわち、レーザー管と連結する前にあら
かじめＫｒをレーザー用ガス媒体のＫｒ組成（２％）と
同じ平衡になるようにこれを吸着剤に吸着させ、バッフ
ァガスのＮｅを運転圧（４気圧）に調整しておく必要が
ある。
かじめＫｒをレーザー用ガス媒体のＫｒ組成（２％）と
同じ平衡になるようにこれを吸着剤に吸着させ、バッフ
ァガスのＮｅを運転圧（４気圧）に調整しておく必要が
ある。
【０００８】しかしながら、こうした運転前の吸着方法
においては、あらかじめ吸着剤に吸着させるＫｒを余計
にあるいは無駄に使用することとなり、何らかの対策が
要望されていた。
においては、あらかじめ吸着剤に吸着させるＫｒを余計
にあるいは無駄に使用することとなり、何らかの対策が
要望されていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
諸問題にかんがみなされたもので、不純物が発生する多
成分ガス媒体の不純物を除去してガスを浄化しつつ、長
期間にわたって一定のレーザー出力を得ることが容易な
であるとともに、レーザー運転に先立って事前に吸着剤
に吸着させておくＫｒなどの希ガスを無駄なく利用する
ことが可能なエキシマーレーザー用ガス浄化装置および
ガス浄化方法を提供することを課題とする。
諸問題にかんがみなされたもので、不純物が発生する多
成分ガス媒体の不純物を除去してガスを浄化しつつ、長
期間にわたって一定のレーザー出力を得ることが容易な
であるとともに、レーザー運転に先立って事前に吸着剤
に吸着させておくＫｒなどの希ガスを無駄なく利用する
ことが可能なエキシマーレーザー用ガス浄化装置および
ガス浄化方法を提供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、レー
ザーを運転する前には、パッシベーションと呼ばれる運
転ガス組成で発振する、いわゆるならし運転が行われる
か、あるいはある程度の運転でガスの総入れ替えも行わ
れることに着目したもので、第一の発明は、希ガスを含
むレーザー用ガス媒体を、レーザー管と、吸着剤を収容
した吸着塔との間に循環させながらレーザー発振を行う
エキシマーレーザー用ガス浄化装置であって、上記吸着
塔に収容した上記吸着剤に、レーザー発振に先立ってあ
らかじめ上記希ガスを吸着可能とするとともに、このあ
らかじめ吸着する希ガスとして、前回のレーザー発振に
使用した上記レーザー用ガス媒体内の希ガスを用いるこ
とを特徴とするエキシマーレーザー用ガス浄化装置であ
る。
ザーを運転する前には、パッシベーションと呼ばれる運
転ガス組成で発振する、いわゆるならし運転が行われる
か、あるいはある程度の運転でガスの総入れ替えも行わ
れることに着目したもので、第一の発明は、希ガスを含
むレーザー用ガス媒体を、レーザー管と、吸着剤を収容
した吸着塔との間に循環させながらレーザー発振を行う
エキシマーレーザー用ガス浄化装置であって、上記吸着
塔に収容した上記吸着剤に、レーザー発振に先立ってあ
らかじめ上記希ガスを吸着可能とするとともに、このあ
らかじめ吸着する希ガスとして、前回のレーザー発振に
使用した上記レーザー用ガス媒体内の希ガスを用いるこ
とを特徴とするエキシマーレーザー用ガス浄化装置であ
る。
【００１１】上記レーザー用ガス媒体中のハロゲンを除
去可能なハロゲン除去塔を、上記吸着塔の前段に配置す
ることができる。
去可能なハロゲン除去塔を、上記吸着塔の前段に配置す
ることができる。
【００１２】上記吸着剤にあらかじめ吸着する上記希ガ
スは、これをクリプトン（Ｋｒ）とすることができる。
スは、これをクリプトン（Ｋｒ）とすることができる。
【００１３】上記ハロゲン除去塔は、これをフッ素ガス
（Ｆ2）除去塔とすることができる。
（Ｆ2）除去塔とすることができる。
【００１４】上記吸着剤にあらかじめ吸着する上記希ガ
スの吸着平衡圧、およびバッファガスの運転圧の充填
を、コンプレッサにより行うことができる。
スの吸着平衡圧、およびバッファガスの運転圧の充填
を、コンプレッサにより行うことができる。
【００１５】第二の発明は、希ガスを含むレーザー用ガ
ス媒体を、レーザー管と、吸着剤を収容した吸着塔との
間に循環させながらレーザー発振を行うエキシマーレー
ザーのガス浄化方法であって、上記吸着塔に収容した上
記吸着剤に、前回のレーザー発振に使用した上記レーザ
ー用ガス媒体を通過させることにより該レーザー用ガス
媒体中の上記希ガスを該吸着剤にあらかじめ吸着させ、
ついで、新鮮なレーザー用ガス媒体を上記レーザー管に
供給してレーザー発振させることを特徴とするエキシマ
ーレーザーのガス浄化方法である。
ス媒体を、レーザー管と、吸着剤を収容した吸着塔との
間に循環させながらレーザー発振を行うエキシマーレー
ザーのガス浄化方法であって、上記吸着塔に収容した上
記吸着剤に、前回のレーザー発振に使用した上記レーザ
ー用ガス媒体を通過させることにより該レーザー用ガス
媒体中の上記希ガスを該吸着剤にあらかじめ吸着させ、
ついで、新鮮なレーザー用ガス媒体を上記レーザー管に
供給してレーザー発振させることを特徴とするエキシマ
ーレーザーのガス浄化方法である。
【００１６】つぎに、各種データにもとづき本発明をよ
り具体的に説明する。図１は、レーザーガスおよび不純
物ガスの蒸気圧曲線を示すグラフである。
り具体的に説明する。図１は、レーザーガスおよび不純
物ガスの蒸気圧曲線を示すグラフである。
【００１７】ＫｒＦエキシマーレーザーにおいては、レ
ーザー用ガス媒体の必要成分ガスはＮｅ、Ｋｒ、Ｆ2で
あり、主な不純物ガスはＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などであ
る。
ーザー用ガス媒体の必要成分ガスはＮｅ、Ｋｒ、Ｆ2で
あり、主な不純物ガスはＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などであ
る。
【００１８】図１に示すように、こうしたガスのうち、
ＫｒとＣＦ4とは互いにかなり接近した蒸気圧曲線を有
するとともに、Ｋｒの蒸気圧曲線は液体窒素温度付近で
急激に減少する。
ＫｒとＣＦ4とは互いにかなり接近した蒸気圧曲線を有
するとともに、Ｋｒの蒸気圧曲線は液体窒素温度付近で
急激に減少する。
【００１９】図２は、温度マイナス８１℃におけるＫｒ
およびＣＦ4の活性炭での吸着量（吸着平衡曲線）を示
すグラフである。
およびＣＦ4の活性炭での吸着量（吸着平衡曲線）を示
すグラフである。
【００２０】図３は、Ｋｒ存在下でのＣＦ4の吸着平衡
曲線を示すグラフであり、バッファガスＮｅの圧力４気
圧のもとで、あらかじめ所定の濃度で飽和吸着してある
Ｋｒの該濃度を変えて、ＣＦ4の吸着量を示している。
曲線を示すグラフであり、バッファガスＮｅの圧力４気
圧のもとで、あらかじめ所定の濃度で飽和吸着してある
Ｋｒの該濃度を変えて、ＣＦ4の吸着量を示している。
【００２１】図示のように、ＣＦ4の吸着量はＫｒの濃
度に依存する特性を示し、ＫｒＦエキシマーレーザーに
おいては、Ｋｒの濃度が通常２％であるので、ＣＦ4の
濃度が１００ｐｐｍ（０．３０４Ｔｏｒｒ）では、０．
８Ｎｃｃ／ｇのＣＦ4が吸着される。
度に依存する特性を示し、ＫｒＦエキシマーレーザーに
おいては、Ｋｒの濃度が通常２％であるので、ＣＦ4の
濃度が１００ｐｐｍ（０．３０４Ｔｏｒｒ）では、０．
８Ｎｃｃ／ｇのＣＦ4が吸着される。
【００２２】図４は、キセノン（Ｘｅ）およびクリプト
ン（Ｋｒ）の活性炭による吸着を示すグラフである
（Ｒ．Ｄ．Ａｃｋｌｅｙ， Ｒ．Ｅ．Ａｄａｍｓ，
Ｗ．Ｅ．Ｂｒｏｗｎｉｎｇ： ＴＩＤ−７５９３， １
９９−２１６（１９６１））。
ン（Ｋｒ）の活性炭による吸着を示すグラフである
（Ｒ．Ｄ．Ａｃｋｌｅｙ， Ｒ．Ｅ．Ａｄａｍｓ，
Ｗ．Ｅ．Ｂｒｏｗｎｉｎｇ： ＴＩＤ−７５９３， １
９９−２１６（１９６１））。
【００２３】図５は、コロンビアＣＬＡ活性炭によるＫ
ｒの吸着を示すグラフである（Ｊ．Ｎ．Ｂｕｒｄｉｃ
ｋ： ＯＲＯ−１１８（１９５１））。
ｒの吸着を示すグラフである（Ｊ．Ｎ．Ｂｕｒｄｉｃ
ｋ： ＯＲＯ−１１８（１９５１））。
【００２４】以上のようなデータにもとづき、本発明に
よるエキシマーレーザー用ガス浄化装置においては、レ
ーザーのならし運転、あるいはレーザー管内のガスの総
入れ替え時の排気ガスを、冷凍機（図示せず）などによ
りあらかじめ冷却した吸着剤に通してＫｒなどの希ガス
をこの吸着剤に飽和吸着させる。
よるエキシマーレーザー用ガス浄化装置においては、レ
ーザーのならし運転、あるいはレーザー管内のガスの総
入れ替え時の排気ガスを、冷凍機（図示せず）などによ
りあらかじめ冷却した吸着剤に通してＫｒなどの希ガス
をこの吸着剤に飽和吸着させる。
【００２５】なお、Ｆ2、ＨＦなどのハロゲンおよびハ
ロゲン化物が吸着剤に有害の可能性がある場合には、Ｆ
2除去塔に上記排気ガスを通すことにより、これらを除
去した上で吸着塔に導入すればよい。
ロゲン化物が吸着剤に有害の可能性がある場合には、Ｆ
2除去塔に上記排気ガスを通すことにより、これらを除
去した上で吸着塔に導入すればよい。
【００２６】各パラメーターの数値は、たとえばＫｒＦ
エキシマーレーザーの場合で、運転圧が４気圧、バッフ
ァガスをＮｅとし、Ｋｒが１〜２％、Ｆ2が０．１％で
あり、吸着剤温度は１００〜２００Ｋである。
エキシマーレーザーの場合で、運転圧が４気圧、バッフ
ァガスをＮｅとし、Ｋｒが１〜２％、Ｆ2が０．１％で
あり、吸着剤温度は１００〜２００Ｋである。
【００２７】
【作用】本発明によるエキシマーレーザー用ガス浄化装
置においては、ならし運転、あるいは総入れ替え時の排
気ガスを再利用の形で吸着塔に導入し、吸着剤に通して
Ｋｒをあらかじめ吸着させることとしている。
置においては、ならし運転、あるいは総入れ替え時の排
気ガスを再利用の形で吸着塔に導入し、吸着剤に通して
Ｋｒをあらかじめ吸着させることとしている。
【００２８】したがって、高価なＫｒ、Ｎｅガスの節約
にもなるとともに、コンプレッサにより吸着塔内の圧力
をレーザーの運転圧まで高めれば、Ｋｒの濃度調整およ
びＮｅの充填が非常に容易となる。
にもなるとともに、コンプレッサにより吸着塔内の圧力
をレーザーの運転圧まで高めれば、Ｋｒの濃度調整およ
びＮｅの充填が非常に容易となる。
【００２９】
【実施例】つぎに、本発明の一実施例によるガス浄化装
置を装備したエキシマーレーザーを説明する。
置を装備したエキシマーレーザーを説明する。
【００３０】上記エキシマーレーザー１は、レーザー管
を含むレーザー本体２と、循環ポンプ３と、吸着塔を含
むガス浄化装置４と、入口側バルブ５と、出口側バルブ
６とを有するとともに、各構成部材を配管により接続し
て循環通路７を構成してある。
を含むレーザー本体２と、循環ポンプ３と、吸着塔を含
むガス浄化装置４と、入口側バルブ５と、出口側バルブ
６とを有するとともに、各構成部材を配管により接続し
て循環通路７を構成してある。
【００３１】この循環通路７に並列的に排気ガス供給通
路８を設け、ここにＦ2除去塔９と、ガス浄化装置４に
接続するコンプレッサ１０と、開閉バルブ１１とを設け
てある。
路８を設け、ここにＦ2除去塔９と、ガス浄化装置４に
接続するコンプレッサ１０と、開閉バルブ１１とを設け
てある。
【００３２】循環ポンプ３は、レーザー本体２からのレ
ーザー用ガス媒体を循環通路７を介して、ガス浄化装置
４に通過させ、レーザー本体２に循環させるものであ
る。
ーザー用ガス媒体を循環通路７を介して、ガス浄化装置
４に通過させ、レーザー本体２に循環させるものであ
る。
【００３３】ガス浄化装置４は、吸着剤を収容してあ
り、ＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などのフッ化物（不純物）お
よびＫｒを吸着可能で、冷凍機（図示せず）などによ
り、温度７７Ｋから常温まで温度調節可能としてある。
り、ＣＦ4、ＨＦ、ＳｉＦ4などのフッ化物（不純物）お
よびＫｒを吸着可能で、冷凍機（図示せず）などによ
り、温度７７Ｋから常温まで温度調節可能としてある。
【００３４】Ｆ2除去塔９は、ハロゲンを除去可能な活
性炭などのハロゲン用吸着剤を収容してあり、常温でこ
れを運転する。
性炭などのハロゲン用吸着剤を収容してあり、常温でこ
れを運転する。
【００３５】なお、排気ガス供給通路８を介してガス浄
化装置４に供給されるレーザー本体２の排気ガスは、内
部の吸着剤と接触したあと、ガス浄化装置４外に排気さ
れるようになっている。
化装置４に供給されるレーザー本体２の排気ガスは、内
部の吸着剤と接触したあと、ガス浄化装置４外に排気さ
れるようになっている。
【００３６】こうした構成のエキシマーレーザー１にお
いて、ガス浄化装置４には通常のレーザー発振の前にＫ
ｒを飽和吸着する。
いて、ガス浄化装置４には通常のレーザー発振の前にＫ
ｒを飽和吸着する。
【００３７】この吸着にあたっては、入口側バルブ５お
よび出口側バルブ６を閉鎖し、開閉バルブ１１を開放し
て、レーザー本体２のならし運転、あるいは前回のレー
ザー発振の排気ガス（レーザー本体２内のガス）をＦ2
除去塔９および排気ガス供給通路８を介してガス浄化装
置４に供給する。
よび出口側バルブ６を閉鎖し、開閉バルブ１１を開放し
て、レーザー本体２のならし運転、あるいは前回のレー
ザー発振の排気ガス（レーザー本体２内のガス）をＦ2
除去塔９および排気ガス供給通路８を介してガス浄化装
置４に供給する。
【００３８】この排気ガス中のＦ2がＦ2除去塔９におい
て除去され、レーザー用ガス媒体のうち、Ｋｒなどの不
活性ガスおよび不純物（フッ化物）のみがガス浄化装置
４に供給されて、Ｋｒがガス浄化装置４内の吸着剤に飽
和吸着される。
て除去され、レーザー用ガス媒体のうち、Ｋｒなどの不
活性ガスおよび不純物（フッ化物）のみがガス浄化装置
４に供給されて、Ｋｒがガス浄化装置４内の吸着剤に飽
和吸着される。
【００３９】なお、ＣＦ4、ＨＦなどの不純物も同時に
吸着されるとともに、Ｎｅなどのガスは吸着されること
なく、ガス浄化装置４から外部に排気される。
吸着されるとともに、Ｎｅなどのガスは吸着されること
なく、ガス浄化装置４から外部に排気される。
【００４０】こうした供給の際、コンプレッサ１０によ
りガス浄化装置４内の圧力をレーザーの運転圧まで高め
れば、Ｋｒの濃度調整およびＮｅの充填が非常に容易と
なる。
りガス浄化装置４内の圧力をレーザーの運転圧まで高め
れば、Ｋｒの濃度調整およびＮｅの充填が非常に容易と
なる。
【００４１】つぎに、入口側バルブ５および出口側バル
ブ６を開放し、開閉バルブ１１を閉鎖して、レーザー本
体２に新鮮なレーザー用ガス媒体を供給し、運転を開始
する。
ブ６を開放し、開閉バルブ１１を閉鎖して、レーザー本
体２に新鮮なレーザー用ガス媒体を供給し、運転を開始
する。
【００４２】レーザー用ガス媒体は循環通路７に循環さ
れて、ガス浄化装置４に流入し、ここで不純物が除去さ
れ、レーザー本体２に還流する。
れて、ガス浄化装置４に流入し、ここで不純物が除去さ
れ、レーザー本体２に還流する。
【００４３】なお、ガス浄化装置４部分でＫｒが飽和吸
着されているので、循環ガス中のＫｒはほぼ平衡状態に
あり、不純物の増加とともに、Ｋｒが不純物に置換され
て出口側に現れるが、運転条件の範囲内であれば支障は
ない。
着されているので、循環ガス中のＫｒはほぼ平衡状態に
あり、不純物の増加とともに、Ｋｒが不純物に置換され
て出口側に現れるが、運転条件の範囲内であれば支障は
ない。
【００４４】なおまた、必要に応じて循環通路７内にＦ
2除去塔９を配置することもできる（図１中仮想線参
照）。
2除去塔９を配置することもできる（図１中仮想線参
照）。
【００４５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、不純物を
除去するために吸着剤にあらかじめ吸着するＫｒなどの
希ガスを新たに供給するのではなく、前回のレーザー発
振あるいはならし運転などによる排気ガス中のＫｒ等を
再利用するようにしたので、高価なＫｒ等を無駄なく利
用することができる。
除去するために吸着剤にあらかじめ吸着するＫｒなどの
希ガスを新たに供給するのではなく、前回のレーザー発
振あるいはならし運転などによる排気ガス中のＫｒ等を
再利用するようにしたので、高価なＫｒ等を無駄なく利
用することができる。
【００４６】
【図１】本発明を説明するための、レーザーガスおよび
不純物の蒸気圧を示すグラフである。
不純物の蒸気圧を示すグラフである。
【図２】同、温度マイナス８１℃におけるＫｒおよびＣ
Ｆ4の活性炭での吸着量（吸着平衡曲線）を示すグラフ
である。
Ｆ4の活性炭での吸着量（吸着平衡曲線）を示すグラフ
である。
【図３】同、Ｋｒ存在下でのＣＦ4の吸着平衡曲線を示
すグラフである。
すグラフである。
【図４】キセノン（Ｘｅ）およびクリプトン（Ｋｒ）の
活性炭による吸着を示すグラフである。
活性炭による吸着を示すグラフである。
【図５】同、コロンビアＣＬＡ活性炭によるＫｒの吸着
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図６】本発明の一実施例によるガス浄化装置４を装備
したエキシマーレーザー１を示す概略構成図である。
したエキシマーレーザー１を示す概略構成図である。
１ エキシマーレーザー ２ レーザー管を含むレーザー本体 ３ 循環ポンプ ４ 吸着塔を含むガス浄化装置 ５ 入口側バルブ ６ 出口側バルブ ７ 循環通路 ８ 排気ガス供給通路 ９ Ｆ2除去塔 １０ コンプレッサ １１ 開閉バルブ
Claims (6)
- 【請求項１】 希ガスを含むレーザー用ガス媒体を、
レーザー管と、吸着剤を収容した吸着塔との間に循環さ
せながらレーザー発振を行うエキシマーレーザー用ガス
浄化装置であって、 前記吸着塔に収容した前記吸着剤に、レーザー発振に先
立ってあらかじめ前記希ガスを吸着可能とするととも
に、 このあらかじめ吸着する希ガスとして、前回のレーザー
発振に使用した前記レーザー用ガス媒体内の希ガスを用
いることを特徴とするエキシマーレーザー用ガス浄化装
置。 - 【請求項２】 前記レーザー用ガス媒体中のハロゲン
を除去可能なハロゲン除去塔を、前記吸着塔の前段に配
置したことを特徴とする請求項１記載のエキシマーレー
ザー用ガス浄化装置。 - 【請求項３】 前記吸着剤にあらかじめ吸着する前記
希ガスは、これをクリプトン（Ｋｒ）とすることを特徴
とする請求項１記載のエキシマーレーザー用ガス浄化装
置。 - 【請求項４】 前記ハロゲン除去塔は、これをフッ素
ガス（Ｆ2）除去塔としたことを特徴とする請求項１記
載のエキシマーレーザー用ガス浄化装置。 - 【請求項５】 前記吸着剤にあらかじめ吸着する前記
希ガスの吸着平衡圧、およびバッファガスの運転圧の充
填を、コンプレッサにより行うことを特徴とする請求項
１記載のエキシマーレーザー用ガス浄化装置。 - 【請求項６】 希ガスを含むレーザー用ガス媒体を、
レーザー管と、吸着剤を収容した吸着塔との間に循環さ
せながらレーザー発振を行うエキシマーレーザーのガス
浄化方法であって、 前記吸着塔に収容した前記吸着剤に、前回のレーザー発
振に使用した前記レーザー用ガス媒体を通過させること
により該レーザー用ガス媒体中の前記希ガスを該吸着剤
にあらかじめ吸着させ、 ついで、新鮮なレーザー用ガス媒体を前記レーザー管に
供給してレーザー発振させることを特徴とするエキシマ
ーレーザーのガス浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26678492A JPH0697541A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | エキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26678492A JPH0697541A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | エキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0697541A true JPH0697541A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=17435648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26678492A Pending JPH0697541A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | エキシマーレーザー用ガス浄化装置およびガス浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0697541A (ja) |
-
1992
- 1992-09-10 JP JP26678492A patent/JPH0697541A/ja active Pending
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