JPS6341092A - エキシマレ−ザ発振装置 - Google Patents
エキシマレ−ザ発振装置Info
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- JPS6341092A JPS6341092A JP18478086A JP18478086A JPS6341092A JP S6341092 A JPS6341092 A JP S6341092A JP 18478086 A JP18478086 A JP 18478086A JP 18478086 A JP18478086 A JP 18478086A JP S6341092 A JPS6341092 A JP S6341092A
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- gas
- halogen gas
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 49
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はエキシマレーザ発振装置に関し、特に稀ガスと
ハロゲンガスとによりレーザ光を発生させるエキシマレ
ーザ発振装置に関する。
ハロゲンガスとによりレーザ光を発生させるエキシマレ
ーザ発振装置に関する。
従来技術
従来、この種のエキシマレーザ発振装置は、稀ガスハラ
イドエキシマレーザと呼ばれ、数%の稀ガス(キセノン
、クリプトン、アルゴン)と、数%のハロゲンガス(塩
化水素ガス、フッ素ガス)とを組合わせ、残りをヘリウ
ム、ネオンなどのバッファガスで満たした容器内で放電
させることによりレーザ光を発生させるガスレーザ発振
装置である。この容器内のガスが定期的(y11時間な
いし数日)に交換されることによって、一定の出力が得
られる。
イドエキシマレーザと呼ばれ、数%の稀ガス(キセノン
、クリプトン、アルゴン)と、数%のハロゲンガス(塩
化水素ガス、フッ素ガス)とを組合わせ、残りをヘリウ
ム、ネオンなどのバッファガスで満たした容器内で放電
させることによりレーザ光を発生させるガスレーザ発振
装置である。この容器内のガスが定期的(y11時間な
いし数日)に交換されることによって、一定の出力が得
られる。
交換される排ガスは人体に有害なハロゲンガスを含んで
いるので、ハロゲンガス除去装置を通して排ガス中のハ
ロゲン濃度を数PPM以下にした後に大気中に放散して
いる。
いるので、ハロゲンガス除去装置を通して排ガス中のハ
ロゲン濃度を数PPM以下にした後に大気中に放散して
いる。
このような従来のエキシマレーザ発振装置においては、
定期的なガス交換のためにレーザ発振器部分の他に、ボ
ンベボックスと呼ばれるハロゲンガス供給装置やハロゲ
ンガス除去装置が必要であり、また、これらの装置がレ
ーザ発振器外に設置されるため、安全上の理由により夫
々に負圧容器構造やハロゲンガス検出器などが必要にな
るという欠点がある。
定期的なガス交換のためにレーザ発振器部分の他に、ボ
ンベボックスと呼ばれるハロゲンガス供給装置やハロゲ
ンガス除去装置が必要であり、また、これらの装置がレ
ーザ発振器外に設置されるため、安全上の理由により夫
々に負圧容器構造やハロゲンガス検出器などが必要にな
るという欠点がある。
発明の目的
本発明は上記のような従来のものの欠点を除去すべくな
されたもので、装置自体を小形化することができ、ハロ
ゲンガス漏出等に対する安全性を向上させることができ
るエキシマレーザ発振装置の提供を目的とする。
されたもので、装置自体を小形化することができ、ハロ
ゲンガス漏出等に対する安全性を向上させることができ
るエキシマレーザ発振装置の提供を目的とする。
発明の構成
本発明によるエキシマレーザ光1辰装置は、レーザ発振
器と、ハロゲンガス供給手段とを右するエキシマレーザ
発振装置であって、前記レーザ発振器を収納した筺体内
に、前記ハロゲンガス供給手段と、前記筺体内のハロゲ
ンガスを除去するハロゲンガス除去手段とを格納したこ
とを特徴とする。
器と、ハロゲンガス供給手段とを右するエキシマレーザ
発振装置であって、前記レーザ発振器を収納した筺体内
に、前記ハロゲンガス供給手段と、前記筺体内のハロゲ
ンガスを除去するハロゲンガス除去手段とを格納したこ
とを特徴とする。
実施例
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。
図において、エキシマレーザ発振器の筐体1内部の圧力
はファン2により常時この内部の気体を排気することで
外部の大気圧よりも低く保たれている。レーザ発振器部
3はハロゲンガス供給装置4と、稀ガス供給装置5と、
バッファガス供給装置6とに夫々配管で接続されている
。各ガス供給装置4,5.6は各々のガスボンベとバル
ブとにより構成されている。
はファン2により常時この内部の気体を排気することで
外部の大気圧よりも低く保たれている。レーザ発振器部
3はハロゲンガス供給装置4と、稀ガス供給装置5と、
バッファガス供給装置6とに夫々配管で接続されている
。各ガス供給装置4,5.6は各々のガスボンベとバル
ブとにより構成されている。
ハロゲン除去装置7,8は、ソーダライムまたはモレキ
ュラーシーブ等のハロゲン吸着剤を利用しており、レー
ザ発振器部3内部の配管接続部分等からハロゲンガスが
漏出した場合に、ハロゲンガスを除去し外部に排気する
ためのフィルタ7と、レーザ発振器部3内部のガスを交
換する場合にハロゲンガスを除去し、排気ポンプ9によ
り外部に排ガスを送り出すためのフィルタ8である。
ュラーシーブ等のハロゲン吸着剤を利用しており、レー
ザ発振器部3内部の配管接続部分等からハロゲンガスが
漏出した場合に、ハロゲンガスを除去し外部に排気する
ためのフィルタ7と、レーザ発振器部3内部のガスを交
換する場合にハロゲンガスを除去し、排気ポンプ9によ
り外部に排ガスを送り出すためのフィルタ8である。
第2図は本発明の他の実施例を示す構成図である。第2
図の各部は第1図と同じであるが、第2図では稀ガス供
給装置5がレーザ発振器の筒体1内部に配置されている
ので、外部から導入する配管、継手等が省略され簡便に
することが可能である。
図の各部は第1図と同じであるが、第2図では稀ガス供
給装置5がレーザ発振器の筒体1内部に配置されている
ので、外部から導入する配管、継手等が省略され簡便に
することが可能である。
このように、ハロゲンガス供給装置4とハロゲンガス除
去装置7.8とをエキシマレーザ発振器の筺体1内に配
置し、ファン2により筺体1内の気体を排気すると同時
に排気する気体からハロゲンガスを除去することにより
、各装置を接続する配管や継手が省略され、装置全体の
形状も各装置を独立して設置する場合に比べて小形化す
ることが可能となる。さらにハロゲンガス供給装置4と
消費源であるレーザ発振器部3とが同一筺体1内に配置
されるため、ハロゲンガス漏出等の事故に対する安全面
でも有利となる。
去装置7.8とをエキシマレーザ発振器の筺体1内に配
置し、ファン2により筺体1内の気体を排気すると同時
に排気する気体からハロゲンガスを除去することにより
、各装置を接続する配管や継手が省略され、装置全体の
形状も各装置を独立して設置する場合に比べて小形化す
ることが可能となる。さらにハロゲンガス供給装置4と
消費源であるレーザ発振器部3とが同一筺体1内に配置
されるため、ハロゲンガス漏出等の事故に対する安全面
でも有利となる。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、筺体内にハロゲンガ
ス供給装置とハロゲンガス除去装置とを設置し、筺体内
の気体を筺体外へ排気するときにハロゲンガスを除去す
るようにすることによって、装置自体を従来のものより
も小形化することができ、ハロゲンガス漏出等に対する
安全性を向上させることができるという効果がある。
ス供給装置とハロゲンガス除去装置とを設置し、筺体内
の気体を筺体外へ排気するときにハロゲンガスを除去す
るようにすることによって、装置自体を従来のものより
も小形化することができ、ハロゲンガス漏出等に対する
安全性を向上させることができるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は本発
明の他の実施例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・筺体 2・・・・・・ファン 3・・・・・・レーザ発振器部
明の他の実施例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・筺体 2・・・・・・ファン 3・・・・・・レーザ発振器部
Claims (3)
- (1)レーザ発振器と、ハロゲンガス供給手段とを有す
るエキシマレーザ発振装置であって、前記レーザ発振器
を収納した筺体内に、前記ハロゲンガス供給手段と、前
記筺体内のハロゲンガスを除去するハロゲンガス除去手
段とを格納したことを特徴とするエキシマレーザ発振装
置。 - (2)前記ハロゲンガス除去手段が、前記筺体内の気体
を前記筺体外に排気する為のファンと、前記筺体内の前
記気体からハロゲンガスを除去するハロゲンガス除去フ
ィルタとにより構成され、前記筺体内の前記気体が前記
ファンにより前記筺体外に排気される前に前記ハロゲン
ガス除去フィルタを通過するようにしたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項のエキシマレーザ装置。 - (3)前記ハロゲンガス除去手段が、前記ハロゲンガス
除去フィルタと、前記レーザ発振器内の気体の交換時に
前記レーザ発振器内の気体に含まれる前記ハロゲンガス
を除去するハロゲンガス除去器とにより構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項の
エキシマレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18478086A JPS6341092A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | エキシマレ−ザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18478086A JPS6341092A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | エキシマレ−ザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341092A true JPS6341092A (ja) | 1988-02-22 |
Family
ID=16159169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18478086A Pending JPS6341092A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | エキシマレ−ザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6341092A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021194A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-01-05 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置 |
-
1986
- 1986-08-06 JP JP18478086A patent/JPS6341092A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021194A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-01-05 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置 |
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