JPH0699422B2 - 4―位に液晶性残基を持つ光学活性1,3―ジオキソラン―誘導体、その製造方法および液晶組成物においてのドーパントとしてのそれの用途 - Google Patents

4―位に液晶性残基を持つ光学活性1,3―ジオキソラン―誘導体、その製造方法および液晶組成物においてのドーパントとしてのそれの用途

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JPH0699422B2 JP1186179A JP18617989A JPH0699422B2 JP H0699422 B2 JPH0699422 B2 JP H0699422B2 JP 1186179 A JP1186179 A JP 1186179A JP 18617989 A JP18617989 A JP 18617989A JP H0699422 B2 JPH0699422 B2 JP H0699422B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の利用分野] 本発明は、4−位に液晶性残基を持つ光学活性1,3−ジ
オキソラン−誘導体、その製造方法および液晶組成物に
おいてのドーパントとしてのそれの用途に関する。
[従来技術〕 液晶は特に最近の10年間に、電気光学的性質およびディ
スプレー装置用の性質が要求される種々の技術分野(例
えば、時計−、ポケット型計算器−およびタイプライタ
ー用ディスプレー)に使用されている。これらのディス
プレー装置は、液晶化合物のネマチック−、コレステリ
ック−および/またはスメクチック相における誘電的配
列効果を基礎としており、その際に−誘電異方性の結果
として−化合物の分子長軸が印加された電場において特
に有利な配列をする。これらのディスプレー装置の場合
の通例の切り換え時間は、特異な性質の為にそれ自体が
工業にとって非常に有望な化合物である液晶の多くの他
の潜在的な用途分野にとって非常に長過ぎる。この欠点
は、沢山の画像要素を制御し、結果として比較的大きな
面積を持つ電気器具、例えばビデオ装置、オシログラフ
またはテレビジョン、レーダー、EDV−またはワードプ
ロセッター用スクリーンの製造コストが極めて高く成り
過ぎる。
極最近の僅か二三年の間にネマチック液晶およびコレス
テリック液晶の他に、光学活性スメクチック液晶相も益
々重要に成ってきている。
クラーク(Clark)やラガーウエル(Lagerwall)は、非
常に薄いセルにおいて強誘電性液晶系を用いることが、
慣用のTN“捩ネマチック”セルの切り換え時間の1,000
倍まで迅速である切り換え時間を示す電気光学的スイッ
チング装置またはディスプレー要素をもたらすことを証
明することができた(例えば、Lagerwall等、“ディス
プレーの為の強誘電性液晶(Ferroelectric Liquid Cry
stals for Displays)”、SIDシンポジウム、1985年10
月会議、サンジエゴ、カルフォルニア、米国参照)。こ
れらの有利な性質および他の有利な性質−例えば双安定
切り換え性および殆ど視角に無関係なコントラスト−の
為に、強誘電性液晶は原則として上記の用途分野にとっ
て、例えばマトリックス制御による用途分野に非常に適
している。これは、傾斜スメクチック層を形成しそして
それ自体が光学活性である化合物を要求するかまたはこ
れが、この種のスメクチック層を形成するといえども、
それ自体が光学活性でない化合物に混入する為に、光学
活性化合物を用いることによって対掌性の傾斜スメクチ
ック層を誘発することを可能とする。この関係で所望の
相は、できるだけ広い温度範囲に渡って安定であるべき
である。
液晶の均一な平面配向は、電気光学的構造要素において
良好なコントラスト比を達成するのに必要である。SA *
及びSc相における良好な配向は、温度の低下時における
液晶組成物の相順序が以下の通りである場合に得ること
ができる: 等方性→N*→SA *→Sc * N*−相における螺旋のピッチが非常に大きい(10μmよ
り大きい)かまたはピッチが更に良好に完全に相殺され
ることが前提条件である(T.Matumoto等、第468-470
頁、Proc.of the 6th Int.Display Resach Conf.、Japa
n Display、1986年9月30〜10月2日、東京、日本;M.Mu
rakami等、同一文献、第344-347頁)。これは、N*−相
において例えば左旋回螺旋を示す対掌性液晶組成物に右
旋回螺旋を生ぜしめる別の光学活性ドーパントを、螺旋
が完全にまたは少なくとも殆ど(ピッチ>10μm)相殺
されるのに充分な量で添加することによって達成され
る。
従来技術からは、上述の幾つかの性質を持つ化合物が既
に公知であるが、−化合物の種類及び数に依存して−工
業に適合する液晶組成物の製造は相当に複雑な操作であ
るのでドーピング剤を広範囲から選択することを必要と
している。特に、僅かな添加量で添加した時に高い捻じ
れ能力を示しそして上記の相殺を実現し、その際に要求
され且つ組成物の“成分が持つ”他の性質(例えば、高
い自然偏光Ps)にマイナスの影響を及ぼさない化合物が
探究されている。
[発明の解決しようとする課題] 従って、本発明の課題は、かゝる性質を持ち且つ非常に
広範な液晶組成物との相容性がある新規の化合物を合成
することである。
[発明の構成] 本発明は、4−位に液晶性残基を持ち且つ一般式(I) 〔式中、R1または炭素原子数1〜16の直鎖状または分枝状アルキル
基または炭素原子数3〜16の直鎖状または分枝状アルケ
ニル基であり、但しこれらの基自体が不斉炭素原子を有
していてもよく、一つのまたは隣接していない複数の-C
H2-が−O−、−S−、−CO−、−O−CO−および/ま
たは−CO−O−でそして一つ以上のHがF、Cl、Brまた
はCNで交換されていてもよく、 R2およびR3はそれぞれ水素原子または炭素原子数1〜10
のアルキル基であり、但しアルキル基の一つ以上のHが
Fで交換されていてもよくまたは R2およびR3はジオキソラン環のC(2)原子と一緒にな
ってシクロペンタン−、シクロヘキサン−またはシクロ
ヘプタン環またはケト基を形成してもよく、 R4は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基また
は炭素原子数2〜10のアルケニル基であり、 jおよびlは0、1または2であり、 kおよびmは0または1であり、 nは0、1または2であり、 但し、jおよび/またはlが0である場合にはkは0で
あり、nが0である場合にはmは0でありそしてj+l
+nの合計が1以上且つ3以下であり、 -A1および-A2 -A3は、 -M1および-M2は−CO−O、−O−CO、-CH2CH2、−CH=C
H−、-CH2O、-OCH2または−C=C−でありそして XがO、SまたはO−CO−Oである。] で表される光学活性の1,3−ジオキソラン−誘導体に関
する。
上記の式から、最も近似した基が最も右の分子部分に結
合しているように理解できる。
特に有利な実施形態において、一般式(I)中の各記号
は以下の意味を有する: R1は不斉炭素原子を含有していてもよい炭素原子数4〜
14の直鎖状または分枝状アルキル−またはアルケニル
基、またはその際一つの-CH2-が−O−,−S−または
−O−CO−で交換されていてもよくまたは一つ以上のH
がFで交換されていてもよい、 R2、R3、R4が水素原子または炭素原子数1〜5のアルキ
ル基であるか、またはR2およびR3はジオキソラン環のC
(2)原子と一緒になってシクロペンタ環、シクロヘキ
サン環またはケト基を形成してもよく、 jおよびlは0または1であり、 k、mはおよびnは0または1であり、 -M1および-M2は−CO−Oまたは−O−COでありそして XはOまたは−O−CO−Oある。
本発明の特に有利な別の実施形態では、1,3−ジオキソ
ラン誘導体は、一般式(IV) 〔式中、R6およびR7がメチル基または、ジオキソラン環
のC(2)原子と一緒になってシクロヘキサン環を意味
し、 R5は不斉炭素原子を含有していてもよい炭素原子数6〜
12の直鎖状または分枝状アルキル−またはアルケニル基
を意味し、 -M3は−O、−Sまたは−O−COを意味しそして -A4 で表される。
一般式(I)、特に式(IV)の新規の化合物には、有利
なものとして実施例に名称で挙げた化合物が包含されて
いる。
一般式(I)の化合物を製造する為には、一般式(II) R1(-A1)j(-M1)k(-A2)l(-M2)m(-A3)n-X-H (II) で表される液晶性フェノール類、チオフェノ
ール類またはカルボン酸モノエステルを式(III) [式中、Yは適当な脱離基である。] で表される1,3−ジオキソラン−誘導体と反応させるこ
とによって製造される。
式(II)中X=Oの化合物と式(III)中Y=OHの化合
物とをアゾジカルボン酸エステル及びチオフェニルホス
フィンの存在下に反応させて(I)とすることができ
る。これにはミツノブ反応(Mitunobu Reaktion)とし
て当業者に知られている方法を用いる[例えば、J.Che
m.Soc.Perkin Trans1975、第461頁参照]。しかしなが
ら式(III)の化合物とYが代表的な脱離基、例えばメ
チル−スルホニル、トリフルオルメチルスルホニル、4
−トルエンスルホニルまたは(求核置換反応の標準的な
文献から)当業者に知られている他の脱離基である式
(II)から誘導されるアルカリ金属塩またはアルカリ土
類金属塩とを反応させることもできる。
式(II)の種類の化合物の製造方法は、当業者にとって
公知である(例えば、Zaschke等、“Fluessige Kristal
le in Tabellen(表の液晶)”、第I及びII巻、・・
・〕。即ち、式(II)の種類のカルボン酸モノエステル
は例えば相応するフェノールとホスゲンとから有機系塩
基の存在下に製造される。
一般に式(III)の化合物は市販されているかまたは文
献、例えばTetrahedron42、447(1986)に従って製造で
きる。化合物(I)は原則としてクロマトグラフィーお
よび/または結晶化によって精製できる。
本発明の別の対象である液晶組成物、特に強誘電性液晶
組成物は、液晶相を形成しそして一般式(I)の光学活
性化合物を少なくとも一種類含有している。
本発明の液晶組成物は液晶相を形成しそして一般式
(I)の少なくとも一種類の光学活性化合物を含有して
いる。
“液晶相”なる概念にはネマチック−、コレステリック
−、直交性スメクチック−または傾斜スメクチック相、
特にS* C−相を意味する。この液晶組成物は2〜20成
分、2〜15成分より成り、その内の少なくとも一種類が
本発明の対掌性化合物である。
他の成分は、ネマチック相、コレステリック相および/
またはスメクチック相を示す公知の化合物から選択する
のが有利である。これら化合物には例えばシッフ塩基、
ビスフェニル類、テルフェニル類(Terphenyle)、フェ
ニルシクロヘキサン類、シクロヘキシルビフェニール
類、N、SまたはO−含有ヘテロ環化合物、例えばピリ
ミジン類、桂皮酸エステル、コレステロールエステル、
種々の方法で橋架しそして末端極性基を持つp−アルキ
ル安息香酸の多核エステルが含まれる。市販の液晶組成
物は一般に、既に光学活性化合物の添加前に、少なくと
も一種類が液晶性である−即ち、誘導体の形−化合物と
してまたは特定の共成分との混合状態で少なくとも一種
類の互変(清澄温度>溶融温度)のまたは単変(清澄温
度>溶融温度)のメソ相形成が期待できる液晶相を示
す、非常に広範囲の成分の組成物として存在している。
液晶組成物は、本発明の光学活性化合物の少なくとも一
種類の他にSc−相を示すエステル化合物、例えばフェニ
ル−アルコキシ安息香酸、または窒素原子含有ヘテロ環
を持つビアロマチック化合物、例えばアルキルピリミジ
ニル−アルコキシ−ベンゼンを含有しているのが好まし
い。
液晶組成物は本発明の化合物を一般に0.05〜70重量%、
特に0.1〜50重量%含有している。
本発明の化合物は、ネマチック−、コレステリック−お
よび/またはスメクチック相を示す液晶組成物、特に強
誘電性液晶組成物の為のドーパントとして特に適してい
る。ネマチック−および/またはコレステリック相にお
いては例えば、これらは高い捻じれ力を示し、僅かな添
加量ですら、ドーピングされた組成物の既に存在する別
の性質に本質的に不利な影響を及ぼすことなく、冒頭に
記載した捻じれ相殺を行うのに充分である。この種の非
常に特異な効果は工業に適合する組成物を開発するのに
極めて有益である。
特に、本発明に従う組成物はSc相において僅かな自然な
偏光(Ps)しか生じず、その結果極性に殆ど影響するこ
となしに組成物のピッチに顕著に作用する。それ故にこ
れらの化合物はそこに存在する自然な偏光の正負の記号
に無関係に強誘電性組成物において使用するのに有利で
ある[例えばR.B.Meyer等、J.Phys.(Paris)Lett.36
L−69(1975)]。また本発明の化合物はSc相において
捻じれを生ぜしめ、この効果がSc *−相において捻じれ
を相殺するのにまたは、実地において使用するのに有利
である特別な値に調整するのに使用できる[例えば、T.
Tsuchiga等、Jpn.J.Appl.Phys.25、L−27(1986)]。
本発明の化合物の高い捻じれ力は、ネマチック相でさ
え、以前の“典型的な”ディスプレー技術において用い
ることを有利にも可能とする。しかしながらこの場合に
は、相殺でなく、対掌性ドーパントをできるだけ僅かに
添加することによって捻じれを達成することが重要であ
る。これは、現時点で(未だ)市場を支配するTN(捻じ
れネマチック)[M.Schadt等、Appl.Phys.Lett18、第12
7頁(1971)]及びいわゆるホワイト−タイラー・ディ
スプレー(White-Taylor display)[D.L.White等、J.A
ppl.Phys.45、第4718頁(1974)]またはSBE/STN(超複
屈折効果/超捻じれネマチック)ディスプレー[T.J.Sc
heffer等、Appl.Rhys.Lett.45、第1021頁(1984)]及
びそれの種々の変形ディスプレー、例えばOMI(オプテ
ィカル・モード・インターフェース)ディスプレー[M.
Schadt等、Appl.Phys.Lett.、50、第237頁(1987)]に
適合する。
実施例1 (S)−4−(5−オクチル−ピリミジン−2−イル)
−フェニル(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
イル)−メチルエーテル 1.38gのトリフェニルホスフィンを30mlのテトラヒドロ
フランに溶解した溶液に0℃で0.83mlのジエチル−アゾ
ジカルボキシラートを添加する。15分後に1.5gの4−
(5−オクチル−ピリミジン−2−イル)−フェノール
及び0.7gの(S)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−4−メタノールを添加しそしてこの混合物を2日間25
℃に維持する。溶剤を蒸留によって除きそして残渣をク
ロマトグラフィー(SiO2、95/5 CH2Cl2/酢酸エチル)
によって分離する。114.2℃の融点を有する所望の生成
物0.95gがn−ヘキサンでの再結晶処理の後に得られ
る。
▲〔α〕22 D▼:+6.6(c=5、CHCl3) 同様にして以下の化合物も得られる: 実施例2 (S)−4−(2−オクチルオキシ−ピリミジン−5−
イル)−フェニル−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−4−イル)−メチルエーテル 融点:90.2℃ ▲〔α〕22 D▼:+4.1(c=5、CHCl3) 実施例3 (S)−4−(5−オクチルチオ−ピリミジン−5−イ
ル)−フェニル−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン
−4−イル)−メチルエーテル 融点:86.8℃ ▲〔α〕22 D▼:+4.0(c=5、CHCl3) 実施例4 (S)−4−(2−オクチル−ピリミジン−5−イル)
−フェニル−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4
−イル)−メチルエーテル 融点:95.6℃ ▲〔α〕22 D▼:+4.4(c=5、CHCl3) 実施例5 (S)−4−(5−オクチルオキシ−ピリミジン−2−
イル)−フェニル−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラ
ン−4−イル)−メチルエーテル 融点:94.2℃ ▲〔α〕22 D▼:+8.3(c=5、CHCl3) 実施例6 (S)−4−[5−(4−ヘキシルフェニル)−ピリミ
ジン−2−イル]−フェニル−(2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル 融点:110℃、清澄点:164℃ ▲〔α〕22 D▼:+3.9(c=5、CHCl3) 実施例7 (S)−4−(4−デシルオキシベンゾイルオキシ)−
フェニル−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
イル)メチルエーテル 融点:70.4℃ ▲〔α〕22 D▼:+4.9(c=5、CHCl3) 実施例8 (S)−〔4−(4−オクチルオキシベンゾイルオキ
シ)−ベンゾイルオキシ]−フェニル−(−2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテ
X 126 ▲S* A▼149N*175 I ▲〔α〕22 D▼:+3.6(c=5、CHCl3) この化合物はそれ自体液晶であり、それ故に−対掌性ド
ーパントとしての機能の他に−液晶混合物の▲S* A▼−
相及びN*相範囲を拡げるのにも使用できる。
実施例9 (S)−4−[5−(1H,1H−ペルフルオロオクチルオ
キシ)−ピリミジン−2−イル]−フェニル(−2,2−
ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエ
ーテル 融点:98.9℃ ▲〔α〕22 D▼:+4.0(c=5、CHCl3) 実施例10 (S)−4−[5−(7−メチルノニルオキシ)−ピリ
ミジン−2−イル]−フェニル(−2,2−ジメチル−1,3
−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル X 56 SA 57 I ▲〔α〕22 D▼:+9.7(c=5、CHCl3) SA−相の発生がこの化合物の、スメクチック相での特に
良好な相溶性をもたらす。
以下の化合物を同様にして得るが、(S)−2−オキソ
−1,3−ジオキソラン−4−メタノールまたは5−プロ
ピル−4−メタノール誘導体を用いる: 実施例11 (S)−4−(5−オクチル−ピリミジン−2−イル)
−フェニル−(2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−
イル)−メチルエーテル 融点:122.4℃ ▲〔α〕22 D▼:−5.3(c=5、CHCl3) 実施例12 (S)−4−(2−(オクチルチオ−ピリミジン−5−
イル)−フェニル−(2−オキソ−1,3−ジオキソラン
−4−イル)−メチルエーテル 融点:104.9℃ ▲〔α〕22 D▼:−10.0(c=5、CHCl3) 実施例13 (S)−4−(2−(オクチルオキシ−ピリミジン−5
−イル)−フェニル−(2−オキソ−1,3−ジオキソラ
ン−4−イル)−メチルエーテル 融点:117.8℃ ▲〔α〕22 D▼:−8.9(c=5、CHCl3) 実施例14 4−ドデシルオキシビフェニル−4′−イル(2−オキ
ソ−5−プロピル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メ
チルエーテル 融点:94℃ 実施例15 シス−4−(4−ドデシルオキシベンゾイルオキシ)−
ビフェニル−4′−イル(2−オキソ−5−プロピル−
1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル 融点:122.5℃ 実施例16 トランス−4−(4−デシルオキシベンゾイルオキシ)
−ビフェニル−4′−イル(2−オキソ−5−プロピル
−1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル 相転移:K 133.5 SA 146.5 I 実施例17 シス−[4−(5−オクチルオキシ−ピリミジン−2−
イル)−フェニル]−(2−オキソ−5−プロピル−1,
3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル 融点:100℃ 実施例18 トランス−[4−(5−オクチルオキシ−ピリミジン−
2−イル)−フェニル]−(2−オキソ−5−プロピル
−1,3−ジオキソラン−4−イル)−メチルエーテル 融点:83℃ 実施例19 (S)−4−(2−オクチルオキシ−ピリミジン−5−
イル)−フェニル−[スピロ(1,3−ジオキソラン−2,
1′−シクロヘキサン)−4−イル]−メチルエーテル 0.72gのNaH(パラフィン油に溶解した50%濃度溶液)
を、100mlのジメチルホルムアミドに3gの4−(2−オ
クチルオキシピリミジン−5−イル)−フェニルを溶解
した溶液に添加し、そして反応が減衰した後に、4.89g
の(S)−2,3−O−シクロヘキシリデングリセロール
−トシラートを添加する。4時間後に500mlのH2Oを添加
し、この水性混合物をメチレンクロライドで抽出処理
し、そして抽出物をクロマトグラフィー(SiO2、99/1CH
2Cl2/酢酸エチル)によって分離する。93.4℃の融点を
有する所望の生成物2.0gがn−ヘキサンでの再結晶処理
の後に得られる。
▲〔α〕22 D▼:+8.0(c=5、CHCl3) 同様にして以下の化合物も得られる: 実施例20 (S)−4−(2−オクチルチオピリミジン−5−イ
ル)−フェニルオキシ−[スピロ(1,3−ジオキソラン
−2,1′−シクロヘキサン)−4−イル]−メチルエー
テル 融点:80.2℃ ▲〔α〕22 D▼:+8.6(c=5、CHCl3) 実施例21 (S)−4−(2−オクチルピリミジン−5−イル)−
フェニル−[スピロ(1,3−ジオキソラン−2,1′−シル
クロヘキサン)−4−イル]−メチルエーテル 融点:91.3℃ ▲〔α〕22 D▼:+8.3(c=5、CHCl3) 実施例22 (S)−4−[−4<−(5−オクチルピリミジン−2
−イル)−フェニルオキシ>−カルボニルオキシ−メチ
ル]−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン トルエンにホスゲンを溶解した15重量%濃度溶液9.9g
を、50mlのトルエンに4.3gの4−(5−オクチル−ピリ
ミジン−2−イル)−フェノール及び2.1gのN,N−ジメ
チルアニリンを溶解した溶液に添加する。この混合物を
24時間後に濾過し、そして濾液を1.2gのピリジンと混合
し、次いで2gの(S)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソ
ラン−4−メタノールを0℃で滴加する。6時間後にこ
の混合物を濾過し、濾液から溶剤を減圧下に除きそして
残渣をクロマトグラフィー(SiO2、CH2Cl2)によって分
離する。47℃の融点を有する所望の生成物1.4gがn−ヘ
キサンでの再結晶処理の後に得られる。
▲〔α〕22 D▼:−5.1(c=1.5、CHCl3) 測定の為に用いた方法: (非対掌性)溶剤を僅かな量の対掌性化合物と混合する
場合には、平面偏光させた光の平面が(特徴を示す)角
度αだけ捩じれる。この角度は次のように表示される: ▲〔α〕T D▼(c=x、S) この場合、xは溶液の濃度(g/l)であり、Sは溶剤で
あり、Dは589nm(NaD−線)をそしてTは溶液の温度を
意味する。捩じれ角は光が10cm貫通した後に偏光測定装
置で測定する。
用途例A1〜A13 HTP(螺旋捻じれ力)値の測定−即ち、捻じれ力の測定
−は、Kassubek等、Mol.Cryst.Liq.Cryst.8、第305〜31
4頁(1969)に記載された方法で実施する。これはネマ
チックのホスト混合物中に対掌性ドーパントを混入する
ことによって行う。即ち、平面に置いたくさび型セルに
試験用混合物を充填し、そしてコレステリック螺旋ピッ
チを、偏光マイクロスコープ中の転位線を(セルの既知
のくさび角で)測定することによって測定する。ピッチ
の正負の符号はアナライザーを回転することによって測
定することができる。
ピッチPが分かった時に、HTPは次の式から算出する: HTP=1/p.X 式中、Xは対掌性ドーパントのモル分率である。用いる
ホスト混合物の量をA〜Dで示す。HTP値を第1表から
知ることができる。ホスト混合物は以下の範囲のコレス
テリック相を持つ: A 78〜83℃ B 77〜98℃ C 90〜105℃ D 61〜67℃ 結果は、高いHTP値が得られること及び広い幅の所望の
ピッチが僅かな添加量の本発明の化合物にて可能である
ことを示している。
強誘電性(スメクチックC*)液晶組成物のピッチを相殺
する為にドーパントを用いるには、たとえ捻じり力が高
くとも、(スメクチックC*相で)同時に誘発される自然
偏光(Ps)を出来るだけ低くするのが有利であり、その
場合には別の対掌性成分との符号相容性を全くまたは殆
ど注意する必要がない。これは、本発明の化合物を用い
る場合に可能である(第2表参照)。Ps値はSawyer-Tow
er法[K.Skarp等、Ferroelectric Letters6、67(198
6)]に従って、ホスト混合物においてドーパント(ス
メクチックC*相;14〜51℃)の10重量%濃度の混合物で2
5℃で測定する。工業において使用できる混合物は、≧5
nC/cm2のPs値を有するべきである。即ち、低い自然偏光
の所望の対象物が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 417/12 317 9051−4C C09K 19/34 9279−4H 19/54 B 9279−4H G02F 1/13 500 (72)発明者 ハンス‐ロルフ・デユバール ドイツ連邦共和国、ケ‐ニッヒシユタイン /タウヌス、ホイホ‐ルウエーク、6 (72)発明者 クラウス・エッシエル ドイツ連邦共和国、ミユータール、アムゼ ル ウエーク、3 (72)発明者 ウオルフガング・ヘムメルリング ドイツ連邦共和国、ズルツバッハ/タウヌ ス、ビルタール ストラーセ、332 (72)発明者 井野口 義夫 東京都保谷市富士町4―4―12―201 (72)発明者 イングリート・ミユラー ドイツ連邦共和国、ホーフハイム・アム・ タウヌス、アム、プフイングストブルンネ ン、1 (72)発明者 デイーター・オーレンドルフ ドイツ連邦共和国、リーデルバッハ、ア ム・キユーレン、グルント、4 (56)参考文献 欧州特許公開306195(EP,A)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】4−位に液晶性残基を持ち且つ一般式
    (I) 〔式中、R1または炭素原子数1〜16の直鎖状または分枝状アルキル
    基または炭素原子数3〜16の直鎖状または分枝状アルケ
    ニル基であり、但しこれらの基自体が不斉炭素原子を有
    していてもよく、一つのまたは隣接していない複数の-C
    H2-が−O−、−S−、−CO−、−O−CO−および/ま
    たは−CO−O−でそして一つ以上のHがF、Cl、Brまた
    はCNで交換されていてもよく、 R2およびR3はそれぞれ水素原子または炭素原子数1〜10
    のアルキル基であり、但しアルキル基の一つ以上のHが
    Fで交換されていてもよくまたは R2およびR3はジオキソラン環のC(2)原子と一緒にな
    ってシクロペンタン−、シクロヘキサン−またはシクロ
    ヘプタン環またはケト基を形成してもよく、 R4は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基また
    は炭素原子数2〜10のアルケニル基であり、 jおよびlは0、1または2であり、 kおよびmは0または1であり、 nは0、1または2であり、 但し、jおよび/またはlが0である場合にはkは0で
    あり、nが0である場合にはmは0でありそしてj+l
    +nの合計が1以上且つ3以下であり、 -A1および-A2 -A3は、 -M1および-M2は−CO−O、−O−CO、-CH2CH2、−CH=C
    H−、-CH2O、-OCH2または−C=C−でありそして XがO、SまたはO−CO−Oである。] で表される光学活性の1,3−ジオキソラン−誘導体。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の一般式(I)で表される
    少なくとも一種類の光学活性の1,3−ジオキソラン−誘
    導体を含有する液晶組成物。
  3. 【請求項3】請求項1に記載の一般式(I)で表される
    少なくとも一種類の光学活性の1,3−ジオキソラン−誘
    導体を含有する強誘電性液晶組成物。
  4. 【請求項4】請求項2に記載の液晶組成物を含有する電
    気光学的スイッチング−またはディスプレー構成要素。
  5. 【請求項5】請求項1に記載の一般式(I)の光学活性
    の1,3−ジオキソラン−誘導体を製造するに当たって、
    一般式(II) R1(-A1)j(-M1)k(-A2)l(-M2)m(-A3)n-X-H (II) で表される液晶性フェノール類、チオフェノール類また
    はカルボン酸モノエステルを式(III) [式中、Yは適当な脱離基である。] で表される1,3−ジオキソラン−誘導体と反応させるこ
    とを特徴とする、上記1,3−ジオキソラン−誘導体の製
    造方法。
JP1186179A 1988-07-22 1989-07-20 4―位に液晶性残基を持つ光学活性1,3―ジオキソラン―誘導体、その製造方法および液晶組成物においてのドーパントとしてのそれの用途 Expired - Fee Related JPH0699422B2 (ja)

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