JPH0699450B2 - 抗菌性化合物 - Google Patents

抗菌性化合物

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JPH0699450B2
JPH0699450B2 JP29387986A JP29387986A JPH0699450B2 JP H0699450 B2 JPH0699450 B2 JP H0699450B2 JP 29387986 A JP29387986 A JP 29387986A JP 29387986 A JP29387986 A JP 29387986A JP H0699450 B2 JPH0699450 B2 JP H0699450B2
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • A61P31/04—Antibacterial agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07D463/22—Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof with the acylating radicals further substituted by hetero atoms or by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen further substituted by nitrogen atoms
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は優れた抗菌作用を有する新規な抗菌性化合物お
よびその製造法ならびに抗菌剤に関するものである。
従来の技術 従来より、３位に含窒素複素環チオメチル基を持つセフ
ェム化合物またはその誘導体は種々合成されている。し
かしながら、該含窒素複素環が縮合環である例は数少な
く、しかもその縮合環もトリアゾールまたはテトラゾー
ルと他の複素環との縮合環に限られており［たとえば特
開昭50-58089,同53-28191,同53-98987,同54-76591,同55
-9048,同55-151594,同56-92291,同57-112357,同57-1123
98,同59-122494,同60-142987など］、置換されていても
よい、Ｃ−Ｎ結合を共有するイミダゾールまたはピラゾ
ールと５または６員含窒素芳香族複素環との縮合環基を
３位の置換基である含窒素複素環チオメチル基の含窒素
複素環として有する化合物については全く記載されてい
ない。
発明が解決しようとする問題点 セフェム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用であ
る。その場合グラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれ、現在数種の第３
世代のセファロスポリン化合物が市販されている。しか
しそれらの抗菌活性は十分満足できるものではなく、例
えばセファロスポリン耐性菌に対して活性を示すセフェ
ム系抗生物質やエシェリヒア・コリ菌、シトロバクター
属およびインドール陽性のプロテウス属、エンテロバク
ター属、セラチア属あるいはシュウドモナス属などに分
類される病原性細菌に対して優れた抗菌作用を示す化合
物はまだ見出されていない。
問題を解決するための手段 本発明は一般式 ［式中、R0は水素原子，含窒素複素環基，アシル基また
はアミノ基の保護基を、ＺはＳまたはＳ→Ｏを、R4は水
素原子，メトキシ基またはホルムアミド基を、R13は水
素原子，メチル基、水酸基またはハロゲン原子を、Ａは
置換されていてもよい,C−Ｎ結合を共有するイミダゾー
ルまたはピラゾールと５または６員含窒素芳香族複素環
との縮合環基を、それぞれ示す］で表わされる化合物ま
たはその塩もしくはエステルに関する。すなわち本発明
の抗菌性化合物またはその合成中間体は一般式［Ｉ］で
表わされるセフェム化合物（Ｚ＝S,S→Ｏ）ならびにそ
れらの塩もしくはエステルである。
本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ」第84
巻,3400頁（1962年）に記載されている「セフェム」に
基づいて命名された化合物群であり、セフェム化合物は
セファム化合物のうち3,4−位に二重結合を有する化合
物を意味する。
本発明者らは一般式［Ｉ］で表わされる化合物またはそ
の塩もしくはエステル（以下化合物［Ｉ］と略すことも
ある）を合成することに成功するとともに、それらの化
合物の抗菌活性と抗菌スペクトルを調べた結果、化合物
［Ｉ］（R0が含窒素複素環基またはアシル基を示す）が
広い範囲の細菌に対して強い抗菌作用を示すことを見出
して本発明を完成した。化合物［Ｉ］は前述のセファロ
スポリン耐性菌に対する強い抗菌作用もあわせ持ってい
る。
本発明の化合物は前記したように３位の置換基（−CH2S
A）のＡとして、置換されていてもよい、Ｃ−Ｎ結合を
共有するイミダゾールまたはピラゾールと５または６員
含窒素芳香族複素環との縮合環基を有する点に構造上の
特徴がある。
つぎに本明細書において使用する基名，記号について述
べる。特にことわりのない限り、本明細書における各基
名および各記号の意味は下記のとおりである。
「アルキル基」は直鎖状または分枝状の炭素数１〜６の
低級アルキル基（以後、「C-6アルキル基」と略すこと
もある）が好ましく、たとえばメチル，エチル,n−プロ
ピル，イソプロピル,n−ブチル，イソブチル,sec−ブチ
ル,tert−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどがあげ
られる。
「アルケニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数２〜６
の低級アルケニル基（以下、「C2-6アルケニル基」と略
すこともある）が好ましく、たとえばビニル，アリル,1
−プロペニル，イソプロペニル,1−ブテニル,2−ブテニ
ル,3−ブテニル，メタリル,1,1−ジメチルアリルなどが
あげられる。
「アルキニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数２〜６
の低級アルキニル基（以後、「C2-6アルキニル基」と略
すこともある）が好ましく、たとえばエチニル,1−プロ
ピニル，プロパルギルなどがあげられる。
「シクロアルキル基」は炭素数３〜10からなる３〜７員
脂環状炭化水素基（以後、「C3-10シクロアルキル基」
と略すこともある）が好ましく、たとえばシクロプロピ
ル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル，
シクロヘプチル，ノルボルニル，アダマンチルなどがあ
げられる。
「シクロアルケニル基」は二重結合を有する５〜６員脂
環状炭化水素基（以後、「C5-6シクロアルケニル基」と
略すこともある）が好ましく、たとえばシクロペンテニ
ル，シクロペンタジエニル，シクロヘキセニル，シクロ
ヘキサジエニルなどがあげられる。
「アリール基」は炭素数６〜12の芳香族炭化水素基（以
後、「C6-12アリール基」と略すこともある）が好まし
く、たとえばフェニル，α−ナフチル，β−ナフチル，
ビフェニリルなどがあげられる。さらに炭素数６から10
のもの（以後「C6-10アリール基」と略すこともある）
が好ましい。
「アラルキル基」は炭素数７〜12の芳香族置換アルキル
基（以後、「C7-12アラルキル基」と略すこともある）
が好ましく、たとえばベンジル,1−フェニルエチル,2−
フェニルエチル，フェニルプロピル，ナフチルメチルな
どがあげられる。なお、C7-12アラルキル基と下記のジC
6-10アリール−メチル基，トリC6-10アリール−メチル
基とをあわせて「C7-19アラルキル基」と記す場合もあ
る。
「ジアリールメチル基」は上記のC6-10アリール基が２
個置換したメチル基（以後、「ジC6-10アリール−メチ
ル基」と略すこともある）を意味し、たとえばベンズヒ
ドリルなどがあげられる。
「トリアリールメチル基」は上記のC6-10アリール基が
３個置換したメチル基（以後、「トリC6-10アリール−
メチル基」と略すこともある）を意味し、たとえばトリ
チルなどがあげられる。
「アリールメチレン基」のアリール基は上記のC6-10ア
リール基がよく、したがって以後、「C6-10アリール−
メチレン基」と略すこともある。C6-10アリール−メチ
レン基としてはたとえば、ベンジリデン（C6H5CH＝）な
どがあげられる。
「アルコキシ基」のアルキル基は上記のC1-6アルキル基
が好ましく、したがって以後、「C1-6アルコキシ基」と
記すこともある。C1-6アルコキシ基としてはたとえば、
メトキシ，エトキシ,n−プロポキシ，イソプロポキシ,n
−ブトキシ,tert−ブトキシ，ペンチルオキシ，ヘキシ
ルオキシなどがあげられる。
「シクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は上記
のC3-10シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、「C3-10シクロアルキルオキシ基」と記すこともあ
る。C3-10シクロアルキルオキシ基としてはたとえば、
シクロプロピルオキシ，シクロペンチルオキシ、シクロ
ヘキシルオキシ，ノルボルニルオキシなどがあげられ
る。
「アリールオキシ基」のアリール基は上記のC6-10アリ
ール基が好ましく、したがって以後、「C6-10アリール
オキシ基」と記すこともある。C6-10アリールオキシ基
としてはたとえば、フェノキシ，ナフチルオキシなどが
あげられる。
「アラルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のC7-19
アラルキル基が好ましく、したがって以後、「C7-19ア
ラルキルオキシ基」と記すこともある。C7-19アラルキ
ルオキシ基としてはたとえば、ベンジルオキシ,1−フェ
ニルエチルオキシ,2−フェニルエチルオキシ，ナフチル
メチルオキシ，ベンズヒドリルオキシ，トリチルオキシ
などがあげられる。
「アルキルチオ基」のアルキル基は上記のC1-6アルキル
基が好ましく、したがって以後、「C1-6アルキルチオ
基」と記すこともある。C1-6アルキルチオ基としてはた
とえば、メチルチオ，エチルチオ,n−プロピルチオ,n−
ブチルチオなどがあげられる。
「アミノアルキルチオ基」のアルキルチオ基は上記のC
1-6アルキルチオ基が好ましく、したがって以後、「ア
ミノC1-6アルキルチオ基」と記すこともある。アミノC
1-6アルキルチオ基としてはたとえば、アミノメチルチ
オ,2−アミノエチルチオ,3−アミノプロピルチオなどが
あげられる。
「アルケニルチオ基」のアルケニル基は上記のC2-6アル
ケニル基が好ましく、したがって以後、「C2-6アルケニ
ルチオ基」と記すこともある。C2-6アルケニルチオ基と
してはたとえば、ビニルチオ，アリルチオ,1−プロペニ
ルチオ，イソプロペニルチオなどがあげられる。
「シクロアルキルチオ基」のシクロアルキル基は上記の
C3-10シクロアルキル基が好ましく、したがって以後、
「C3-10シクロアルキルチオ基」と記すこともある。C
3-10シクロアルキルチオ基としてはたとえば、シクロプ
ロピルチオ，シクロヘキシルチオなどがあげられる。
「アリールチオ基」のアリール基は上記のC6-10アリー
ル基が好ましく、したがって以後、「C6-10アリールチ
オ基」と記すこともある。C6-10アリールチオ基として
はたとえば、フェニルチオ，ナフチルチオなどがあげら
れる。
「アラルキルチオ基」のアラルキル基は上記のC7-19ア
ラルキル基が好ましく、したがって以後、「C7-19アラ
ルキルチオ基」と記すこともある。C7-19アラルキルチ
オ基としてはたとえば、ベンジルチオ，フェニルエチル
チオ，ベンズヒドリルチオ，トリチルチオなどがあげら
れる。
「モノアルキルアミノ基」のアルキル基は上記のC1-6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「モノC1-6アル
キルアミノ基」と記すこともある。モノC1-6アルキルア
ミノ基としてはたとえば、メチルアミノ，エチルアミ
ノ,n−プロピルアミノ,n−ブチルアミノ,tert−ブチル
アミノ,n−ペンチルアミノ,n−ヘキシルアミノなどがあ
げられる。
「ジアルキルアミノ基」のアルキル基は上記のC1-6アル
キル基が好ましく、したがって以後、「ジC1-6アルキル
アミノ基」と記すこともある。ジC1-6アルキルアミノ基
としてはたとえば、ジメチルアミノ，ジエチルアミノ，
メチルエチルアミノ，ジ−（ｎ−プロピル）アミノ，ジ
−（ｎ−ブチル）アミノなどがあげられる。
「トリアルキルアンモニウム基」のアルキル基は上記の
C1-6アルキル基が好ましく、したがって以後、「トリC
1-6アルキルアンモニウム基」と記すこともある。トリC
1-6アルキルアンモニウム基としてはたとえば、トリメ
チルアンモニウム［(CH3)3N −］，トリエチルアンモ
ニウムなどがあげられる。トリアルキルアンモニウム基
はこれに対するアニオンを必ず伴っている。このような
アニオンとしてはたとえば、ハロゲンイオン（塩素イオ
ン、臭素イオン，ヨウ素イオンなど），スルフエートイ
オン，ナイトレートイオン，カルボネートイオン，有機
カルボキシレートイオン（たとえばオギザレートイオ
ン，トリフルオロアセテートイオンなど），有機スルホ
ネートイオン（たとえば，メタンスルホネートイオン,p
−トルエンスルホネートイオンなど）があげられる。分
子内に有機カルボキシレートイオン，有機スルホネート
イオンなどが存在する場合、上記トリアルキルアンモニ
ウム基はこれらのイオンと分子内塩を形成してもよい。
「シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上記
のC3-10シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、「C3-10シクロアルキルアミノ基」と記すこともあ
る。C3-10シクロアルキルアミノ基としてはたとえば、
シクロプロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロ
ヘキシルアミノなどがあげられる。
「アリールアミノ基」のアリール基は上記のC6-10アリ
ール基が好ましく、したがって以後、「C6-10アリール
アミノ基」と記すこともある。C6-10アリールアミノ基
としてはたとえば、アニリノ,N−メチルアニリノなどが
あげられる。
「アラルキルアミノ基」のアラルキル基は上記のC7-19
アラルキル基が好ましく、したがって以後、「C7-19ア
ラルキルアミノ基」と記すこともある。C7-19アラルキ
ルアミノ基としてはたとえば、ベンジルアミノ,1−フェ
ニルエチルアミノ,2−フェニルエチルアミノ，ベンズヒ
ドリルアミノ，トリチルアミノなどがあげられる。
「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素環または
その二重結合を飽和したものの環形成窒素原子に結合し
ている水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、た
とえば1H−テトラゾール−１−イル,1H−ピロール−１
−イル，ピロリノ，ピロリジノ,1H−イミダゾール−１
−イル，イミダゾリノ，イミダゾリジノ,1H−ピラゾー
ル−１−イル，ピラゾリノ，ピラゾリジノ，ピペリジ
ノ，ピペラジノ，ピラジノ，モルホリノなどがあげられ
る。
「ヒドロキシアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「ヒドロキシC
1-6アルキル基」と記すこともある。ヒドロキシC1-6ア
ルキル基としてはたとえば、ヒドロキシメチル,1−ヒド
ロキシエチル,2−ヒドロキシエチル,3−ヒドロキシプロ
ピルなどがあげられる。
「メルカプトアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「メルカプトC
1-6アルキル基」と記すこともある。メルカプトC1-6ア
ルキル基としてはたとえばメルカプトメチル,1−メルカ
プトエチル,2−メルカプトエチルなどがあげられる。
「アルコキシアルキル基」のアルコキシ基は上記のC1-6
アルコキシ基が、アルキル基は上記のC1-6アルキル基が
好ましく、したがって以後、「C1-6アルコキシC1-6アル
キル基」と記すこともある。C1-6アルコキシC1-6アルキ
ル基としてはたとえば、メトキシエチル，エトキシメチ
ル,2−メトキシエチルなどがあげられる。
「アルキルチオアルキル基」のアルキルチオ基は上記の
C1-6アルキルチオ基が、アルキル基は上記のC1-6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「C1-6アルキルチオ
C1-6アルキル基」と記すこともある。C1-6アルキルチオ
C1-6アルキル基としてはたとえば、メチルチオメチル,2
−メチルチオエチルなどがあげられる。
「アミノアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「アミノC1-6アルキ
ル基」と記すこともある。アミノC1-6アルキル基として
はたとえば、アミノメチル,2−アミノエチル,3−アミノ
プロピルなどがあげられる。
「モノアルキルアミノアルキル基」は「モノC1-6アルキ
ルアミノC1-6アルキル基」が好ましく、たとえばメチル
アミノエチル，エチルアミノメチル,2−（Ｎ−メチルア
ミノ）エチル,3−（Ｎ−メチルアミノ）プロピルなどが
あげられる。
「ジアルキルアミノアルキル基」は「ジC1-6アルキルア
ミノC1-6アルキル基」好ましく、たとえば、N,N−ジメ
チルアミノメチル,N,N−ジエチルアミノメチル,2−（N,
N−ジメチルアミノ）エチル,2−（N,N−ジエチルアミ
ノ）エチル,3−（N,N−ジメチルアミノ）プロピルなど
があげられる。
「環状アミノアルキル基」の環状アミノ基は上記のもの
が好ましく、またアルキル基は上記のC1-6アルキル基が
好ましいので、したがって以後、「環状アミノC1-6アル
キル基」と記すこともある。環状アミノC1-6アルキル基
としてはたとえば、ピロリジノメチル，ピペリジノメチ
ル，ピペラジノメチル，モルホリノメチル,2−（モルホ
リノ）エチルなどがあげられる。
「環状アミノアルキルアミノ基」の環状アミノアルキル
基は上記の環状アミノC1-6アルキル基が好ましく、した
がって以後、「環状アミノC1-6アルキルアミノ基」と記
すこともある。環状アミノC1-6アルキルアミノ基として
はたとえば、ピロリジノメチルアミノ，ピペリジノメチ
ルアミノ，ピペラジノメチルアミノ，モルホリノメチル
アミノなどがあげられる。
「ハロゲノアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6アル
キル基が好ましく、したがって以後、「ハロゲノC1-6ア
ルキル基」と記すこともある。ハロゲノC1-6アルキル基
としてはたとえば、フルオロメチル，ジフルオロメチ
ル，トリフルオロメチル，クロロメチル，ジクロロメチ
ル，トリクロロメチル,2−フルオロメチル,2,2−ジフル
オロエチル,2,2,2−トリフルオロメチル,2−クロロエチ
ル,2,2−ジクロロエチル,2,2,2−トリクロロエチル,2−
ブロモエチル,2−ヨードエチルなどがあげられる。
「シアノアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「シアノC1-6アルキ
ル基」と記すこともある。シアノC1-6アルキル基として
はたとえば、シアノメチル,2−シアノエチルなどがあげ
られる。
「カルボキシアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「カルボキシC
1-6アルキル基」と記すこともある。カルボキシC1-6ア
ルキル基としてはたとえば、カルボキシメチル,1−カル
ボキシエチル,2−カルボキシエチルなどがあげられる。
「スルホアルキル基」のアルキル基は上記のC1-6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「スルホC1-6アルキ
ル基」と記すこともある。スルホC1-6アルキル基として
はたとえば、スルホメチル,2−スルホエチルなどがあげ
られる。
「アルカノイルアルキル基」のアルカノイル基は後記す
るC2-6アルカノイル基が好ましく、またアルキル基は上
記のC1-6アルキル基が好ましいので、以後「C2-6アルカ
ノイルC1-6アルキル基」と記すこともある。C2-6アルカ
ノイルC1-6アルキル基としてはたとえば、アセチルメチ
ル,1−アセチルエチル,2−アセチルエチルなどがあげら
れる。
「アルカノイルオキシアルキル基」のアルカノイルオキ
シ基は後記するC2-6アルカノイルオキシ基が好ましく、
またアルキル基は上記のC1-6アルキル基が好ましいの
で、以後「C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキル基」と
記すこともある。C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキル
基としてはたとえば、アセトキシメチル,1−アセトキシ
エチル,2−アセトキシエチルなどがあげられる。
「アルコキシカルボニルアルキル基」のアルコキシカル
ボニル基は後記するC1-10アルコキシ−カルボニル基が
好ましく、またアルキル基は上記のC1-6アルキル基が好
ましいので、以後「C1-10アルコキシ−カルボニルC1-6
アルキル基」と記すこともある。C1-10アルコキシ−カ
ルボニルC1-6アルキル基としてはたとえ、メトキシカル
ボニルメチル，エトキシカルボニルメチル,tert−ブト
キシカルボニルメチルなどがあげられる。
「カルバモイルアルキル基」のアルキル基はC1-6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「カルバモイルC1-6
アルキル基」と記すこともある。カルバモイルC1-6アル
キル基としてはたとえば、カルバモイルメチルなどがあ
げられる。
「カルバモイルオキシアルキル基」のアルキル基はC1-6
アルキル基が好ましく、したがって以後、「カルバモイ
ルオキシC1-6アルキル基」と記すこともある。カルバモ
イルオキシC1-6アルキル基としてはたとえば、カルバモ
イルオキシメチルなどがあげられる。
「ハロゲン原子」としてはたとえば、フッ素，塩素，臭
素，ヨウ素などがあげられる。
「アルカノイル基」は炭素数１〜６の脂肪族アシル基
（以後、「C1-6アルカノイル基」と略すこともある）が
好ましく、たとえばホルミル，アセチル，プロピオニ
ル，ブチリル，イソブチリル，バレリル，イソバレリ
ル，ピバロイルなどがあげられる。このうちホルミルを
除いたアルカノイル基を「C2-6アルカノイル基」と記す
こともある。
「アルケノイル基」は炭素数３〜５のアルケノイル基
（以後、「C3-5アルケノイル基」と略すこともある）が
好ましく、たとえばアクリロイル，クロトノイル，マレ
オイルなどがあげられる。
「シクロアルキルカルボニル基」のシクロアルキル基は
上記のC3-10シクロアルキル基が好ましく、したがって
以後、「C3-10シクロアルキル−カルボニル基」と記す
こともある。C3-10シクロアルキル−カルボニル基とし
てはたとえば、シクロプロピルカルボニル，シクロブチ
ルカルボニル，シクロペンチルカルボニル，シクロヘキ
シルカルボニル，シクロヘプチルカルボニル，アダマン
チルカルボニルなどがあげられる。
「シクロアルケニルカルボニル基」のシクロアルケニル
は上記のC5-6シクロアルケニル基が好ましく、したがっ
て以後、「C5-6シクロアルケニル−カルボニル基」と記
すこともある。C5-6シクロアルケニル−カルボニル基と
してはたとえば、シクロペンテニルカルボニル，シクロ
ペンタジエニルカルボニル，シクロヘキセニルカルボニ
ル，シクロヘキサジエニルカルボニルなどがあげられ
る。
「アリールカルボニル基」のアリール基は上記のC6-10
アリール基が好ましく、したがって以後、「C6-10アリ
ール−カルボニル基」と記すこともある。C6-10アリー
ル−カルボニル基としてはたとえば、ベンゾイル，ナフ
トイルなどがあげられる。
「アラルキルカルボニル基」のアラルキル基は上記のC
7-19アラルキル基が好ましく、したがって以後、「C
7-19アラルキル−カルボニル基」と記すこともある。C
7-19アラルキル−カルボニル基としてはたとえば、フェ
ニルアセチル，フェニルプロピオニル，α，α−ジフェ
ニルアセチル，α，α，α−トリフェニルアセチルなど
があげられる。
「アルコキシカルボニル基」のアルキル基はここでは炭
素数１〜８の低級アルキル基のほか、上記のC3-10シク
ロアルキル基を含むものとする。したがってアルコキシ
カルボニル基は以後、「C1-10アルコキシ−カルボニル
基」と記すこともある。C1-10アルコキシ−カルボニル
基としてはたとえば、メトキシカルボニル，エトキシカ
ルボニル,n−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカ
ルボニル,n−ブトキシカルボニル，イソブキシカルボニ
ル,tert−ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシ
カルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどがあげられる。
「アリールオキシカルボニル基」のアリールオキシ基は
上記のC6-10アリールオキシ基が好ましく、したがって
以後、「C6-10アリールオキシ−カルボニル基」と記す
こともある。C6-10アリールオキシ−カルボニル基とし
てはたとえば、フェノキシカルボニル，ナフチルオキシ
カルボニルなどがあげられる。
「アラルキルオキシカルボニル基」のアラルキルオキシ
基は上記のC7-19アラルキルオキシ基が好ましく、たと
えばベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキシ
カルボニル，トリチルオキシカルボニルなどがあげられ
る。
「置換オキシカルボニル基」は上記のC1-10アルコキシ
−カルボニル基，C6-10アリールオキシ−カルボニル基
またはC7-19アラルキルオキシ−カルボニル基をいう。
「アルキルチオカルボニル基」のアルキルチオ基は上記
のC1-6アルキルチオ基が好ましく、したがって以後、
「C1-6アルキルチオ−カルボニル基」と記すこともあ
る。C1-6アルキルチオ−カルボニル基としてはたとえ
ば、メチルチオカルボニル，エチルチオカルボニル,n−
プロピルチオカルボニル,n−ブチルチオカルボニルなど
があげられる。
「アルカノイルオキシ基」のアルカノイル基は上記のC
1-6アルカノイル基が好ましく、したがって以後、「C
1-6アルカノイルオキシ基」と記すこともある。C1-6ア
ルカノイルオキシ基としてはたとえば、ホルミルオキ
シ，アセトキシ，プロピオニルオキシ，ブチリルオキ
シ、バレリルオキシ，ピバロイルオキシなどがあげられ
る。このうちホルミルオキシを除いたアルカノイルオキ
シ基を「C2-6アルカノイルオキシ基」と記すこともあ
る。
「アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記のC
3-5アルケノイル基が好ましく、したがって以後、「C
3-5アルケノイルオキシ基」と記すこともある。C3-5ア
ルケノイルオキシ基としてはたとえば、アクリロイルオ
キシ，クロトノイルオキシなどがあげられる。
「モノアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記の
C1-6アルキル基が好ましく、したがって以後、「モノC
1-6アルキルカルバモイル基」と記すこともある。モノC
1-6アルキルカルバモイル基としてはたとえば、Ｎ−メ
チルカルバモイル,N−エチルカルバモイルなどがあげら
れる。
「ジアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記のC
1-6アルキル基が好ましく、したがって以後、「ジC1-6
アルキルカルバモイル基」と記すこともある。ジC1-6ア
ルキルカルバモイル基としてはたとえば、N,N−ジメチ
ルカルバモイル,N,N−ジエチルカルバモイルなどがあげ
られる。
「モノアルキルカルバモイルオキシ基」のモノアルキル
カルバモイル基は上記のモノC1-6アルキルカルバモイル
基が好ましく、したがって以後、「モノC1-6アルキルカ
ルバモイルオキシ基」と記すこともある。モノC1-6アル
キルカルバモイルオキシ基としてはたとえば、Ｎ−メチ
ルカルバモイルオキシ,N−エチルカルバモイルオキシな
どがあげられる。
「ジアルキルカルバモイルオキシ基」のジアルキルカル
バモイル基は上記のジC1-6アルキルカルバモイル基が好
ましく、したがって以後、「ジC1-6アルキルカルバモイ
ルオキシ基」と記すこともある。ジC1-6アルキルカルバ
モイルオキシ基としてはたとえば、N,N−ジメチルカル
バモイルオキシ,N,N−ジエチルカルバモイルオキシなど
があげられる。
「アルキルスルホニル基」のアルキル基は上記のC1-6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「C1-6アルキル
スルホニル基」と記すこともある。C1-6アルキルスルホ
ニル基としてはたとえば、メタンスルホニル，エタンス
ルホニルなどがあげられる。
「アリールスルホニル基」のアリール基は上記のC6-10
アリール基が好ましく、したがって以後、「C6-10アリ
ールスルホニル基」と記すこともある。C6-10アリール
スルホニル基としてはたとえば、ベンゼンスルホニルな
どがあげられる。
「アラルキルスルホニル基」のアラルキル基は上記のC
7-19アラルキル基が好ましく、したがって以後、「C
7-19アラルキルスルホニル基」と記すこともある。C
7-19アラルキルスルホニル基としてはたとえば、フェニ
ルメタンスルホニル，ジフェニルメタンスルホニルなど
があげられる。
「アルキルスルホニルオキシ基」のアルキルスルホニル
基は上記のC1-6アルキルスルホニル基が好ましく、した
がって以後、「C1-6アルキルスルホニルオキシ基」と記
すこともある。C1-6アルキルスルホニルオキシ基として
はたとえば、メタンスルホニルオキシ，エタンスルホニ
ルオキシなどがあげられる。
「アリールスルホニルオキシ基」のアリールスルホニル
基は上記のC6-10アリールスルホニル基が好ましく、し
たがって以後「C6-10アリールスルホニルオキシ基」と
記すこともある。C6-10アリールスルホニルオキシ基と
してはたとえば、ベンゼンスルホニルオキシなどがあげ
られる。
「アラルキルスルホニルオキシ基」のアラルキルスルホ
ニル基は上記のC7-19アラルキルスルホニル基が好まし
く、したがって以後、「C7-19アリールスルホニルオキ
シ基」と記すこともある。C7-19アラルキルスルホニル
オキシ基としてはたとえば、フェニルメタンスルホニル
オキシ，ジフェニルメタンスルホニルオキシなどがあげ
られる。
「アミノ酸残基」は通常のアミノ酸のカルボキシル基の
水酸基をとりのぞいてできるアシル基をいい、具体的に
はたとえば、グリシル，アラニル，バリル，ロイシル，
イソロイシル，セリル，スレオニル，システィニル，シ
スチル，メチオニル，アスパラギル，グルタミル，リジ
ル，アルギニル，フェニルグリシル，フェニルアラニ
ル，チロシル，ヒスチジル，トリプトフイル，プロリル
などがあげられる。
かかるアミノ酸残基中のアミノ酸は、Ｌ体のみからずＤ
体も含む。
「含窒素複素環」は１〜数個の、好ましくは１〜４個の
窒素原子（オキシド化されていてもよい）を含む５〜８
員環またはその縮合環をいう。このような含窒素複素環
は窒素原子のほかに酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原
子を１〜数個、好ましくは１〜２個含んでいてもよい。
「含窒素複素環基」は上記の含窒素複素環の環形成炭素
原子に結合している水素原子を１個とりのぞいてできる
基をいう。
「複素環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基をいい、そのような複素
環はたとえば、窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環をいう。このような複素環基としては具体的には２−
または３−ピロリル,3−,4−または５−ピラゾリル,2
−,4−または５−イミダゾリル,1,2,3−または1,2,4−
トリアゾリル,1Hまたは2H−テトラゾリル,2−または３
−フリル,2−または３−エチニル,2−,4−または５−オ
キサゾリル,3−,4−または５−イソキサゾリル,1,2,3−
オキサジアゾール−４−または５−イル,1,2,4−オキサ
ジアゾール−３−または５−イル,1,2,5−または1,3,4
−オキサジアゾリル,2−,4−または５−チアゾリル,3
−,4−または５−イソチアゾリル,1,2,3−チアジアゾー
ル−４−または５−イル,1,2,4−チアジアゾール−３−
または５−イル,1,2,5−または1,3,4−チアジアゾリル,
2−または４−ピロリジニル,2−,3−または４−ピリジ
ル,2−,3−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド,3−また
は４−ピリダジニル,3−または４−ピリダジニル−Ｎ−
オキシド,2−,4−または５−ピリミジニル,2−,4−また
は５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド，ピラジニル,2−,3
−または４−ピペリジニル，ピペラジニル,3H−インド
ール−２−または３−イル,2−,3−または４−ピラニ
ル,2−,3−または４−チオピラニル，ベンゾピラニル
（例、ベンゾピラン−３−イル），キノリル（例、２−
キノリル），ピリド［2,3−ｄ］ピリミジニル（例、ピ
リド［2,3−ｄ］ピリミジン−２−イル）,1,5−,1,6−,
1,7−,1,8−,2,6−または2,7−ナフチリジニル（例、1,
8−ナフチリジン−２−イル），チエノ［2,3−ｄ］ピリ
ジル（例、チエノ［2,3−ｄ］ピリジン−２−イル）な
どがあげられる。
「複素環オキシ基」，「複素環チオ基」，「複素環アミ
ノ基」，「複素環カルボニル基」，「複素環アセチル
基」および「複素環カルボキサミド基」の複素環基はい
ずれも上記の「複素環基」が好ましい。
「第４級アンモニウム基」は上記の含窒素複素環の１個
の３級窒素原子上の不対電子が結合手となり、自らは４
級化している基をいう。したがってこれに対するアニオ
ンを必ず伴っている。第４級アンモニウム基としてはた
とえば、オキサゾリウム，チアゾリウム，イソキサゾリ
ウム，イソチアゾリウム，ピリジニウム，キノリニウム
などがあげられる。アニオンとしてはたとえば、水酸イ
オン，ハロゲンイオン（塩素イオン，臭素イオン，ヨウ
素イオンなど），スルフェートイオン，ナイトレートイ
オン，カルボネートイオン，有機カルボキシレートイオ
ン（たとえばオギザレートイオン，トリフルオロアセテ
ートイオンなど），有機スルホネートイオン（たとえば
ｐ−トルエンスルホネートイオンなど）があげられる。
有機カルボキシレートイオン，有機スルホネートイオン
などは分子内の場合もある。
右肩に記号※を付した基は、その基が「置換基を有して
いてもよい基」であることを示す。たとえばアルキル※
基は「置換基を有していてもよいアルキル基」を表わ
す。この場合、置換基の数は１個だけに限定されず、置
換される基によっては同一または異なって２〜４個、好
ましくは２〜３個存在していてもよい。
「C6-10アリール※基」，「C7-12アラルキル※基」，
「C6-10アリール※オキシ基」および「C7-19アラルキル
※オキシ基」としてはそれぞれ、「フェニル※基」，
「ベンジル※基」，「フェノキシ※基」および「ベンジ
ル※オキシ基」がより好ましい。
本発明の化合物［Ｉ］において置換基R0は水素原子，含
窒素複素環基，アシル基またはアミノ基の保護基を表わ
す。これらのうち置換基R0が含窒素複素環基またはアシ
ル基である化合物［Ｉ］は広い範囲の細菌に対して強い
抗菌作用を示し、特にセファロスポリン耐性菌に対する
強い抗菌作用もあわせ持つ抗菌性化合物である。一方、
置換基R0が水素原子またはアミノ基の保護基である化合
物［Ｉ］は置換基R0が含窒素複素環基またはアシル基で
ある上記の化合物［Ｉ］を製造する際に、中間体として
使用しうる有用な化合物である。
置換基R0としての含窒素複素環基（以後、記号Raで表わ
す場合もある）は前記したような「含窒素複素環基」を
いい、たとえば２−ピロリル,3−ピロリル,3−ピラゾリ
ル,4−ピラゾリル,5−ピラゾリル,2−イミダゾリル,4−
イミダゾリル,5−イミダゾリル,1,2,3−トリアゾリル,
1,2,4−トリアゾリル,1H−テトラゾリル,2H−テトラゾ
リル,2−オキサゾリル,4−オキサゾリル,5−オキサゾリ
ル,3−イソキサゾリル,4−イソキサゾリル,5−イソキサ
ゾリル,1,2,3−オキサジアゾール−４−イル,1,2,3−オ
キサジアゾール−５−イル,1,2,4−オキサジアゾール−
３−イル,1,2,4−オキサジアゾール−５−イル,1,2,5−
オキサジアゾリル,1,3,4−オキサジアゾリル,2−チアゾ
リル,4−チアゾリル,5−チアゾリル,3−イソチアゾリ
ル,4−イソチアゾリル,5−イソチアゾリル,1,2,3−チア
ジアゾール−４−イル,1,2,3−チアジアゾール−５−イ
ル,1,2,4−チアジアゾール−３−イル,1,2,4−チアジア
ゾール−５−イル,1,2,5−チアジアゾリル,1,3,4−チア
ジアゾリル,2−ピロリジニル,3−ピロリジニル,2−ピリ
ジル,3−ピリジル,4−ピリジル,2−ピリジル−Ｎ−オキ
シド,3−ピリジル−Ｎ−オキシド,4−ピリジル−Ｎ−オ
キシド,3−ピリダジニル,4−ピリダジニル,3−ピリダジ
ニル−Ｎ−オキシド,4−ピリダジニル−Ｎ−オキシド,2
−ピリミジニル,4−ピリミジニル,5−ピリミジニル,2−
ピリミジニル−Ｎ−オキシド,4−ピリミジニル−Ｎ−オ
キシド,5−ピリミジニル−Ｎ−オキシド，ピラジニル,2
−ピペリジニル,3−ピペリジニル,4−ピペリジニル，ピ
ペラジニル,3H−インドール−２−イル,3H−インドール
−３−イルなどがあげられるが、特に２−ピリジル,3−
ピリジル,4−ピリジル,2−イミダゾリル,4−イミダゾリ
ル,5−イミダゾリルなどが好ましい。
上記の含窒素複素環基は環上に置換基を有していてもよ
い。そのような置換基は１個だけに限定されず、置換さ
れる基によっては同一または異なって２〜数個、好まし
くは２〜３個存在していてもよい。このような含窒素複
素環上の置換基としてはたとえば、アルキル基，シクロ
アルキル基，アリール基，アラルキル基，水酸基，アル
コキシ基，メルカプト基，アルキルチオ基，アミノ基，
モノアルキルアミノ基，ジアルキルアミノ基，ハロゲン
原子，ニトロ基，アジド基，シアノ基，カルボキシル
基，アルコキシカルボニル基，アルカノイル基，アルカ
ノイルオキシ基，カルバモイル基，モノアルキルカルバ
モイル基，ジアルキルカルバモイル基，カルバモイルオ
キシ基，モノアルキルカルバモイルオキシ基，ジアルキ
ルアルバモイルオキシ基などがあげられる。
置換基を有する含窒素複素環基としては上記したアルキ
ル基，アリール基，ハロゲン原子などが置換した２−イ
ミダゾリル基，もしくは４−ピリジル基の窒素原子に上
記のアルキル基やアラルキル基などが置換して該窒素原
子が４級化したＮ−置換ピリジニウム−４−イル基が好
ましい。このような置換−２−イミダゾリル基としては
たとえば、１−メチル−２−イミダゾリル,4−クロロ−
２−イミダゾリルなどが、Ｎ−置換ピリジニウム−４−
イル基としてはたとえば、Ｎ−メチルピリジニウム−４
−イル,N−エチルピリジニウム−４−イル,N−ベンジル
ピリジニウム−４−イル,N−（ｐ−フルオロベンジル）
ピリジニウム−４−イルなどがあげられる。
置換基R0としてのアシル基（以後、記号Rbで表わす場合
もある）は従来から知られているペニシリン誘導体の６
位のアミノ基に置換しているアシル基やセファロスポリ
ン誘導体の７位アミノ基に置換しているアシル基などを
いう。このようなアシル基としてはアルカノル基，アル
ケノイル基，シクロアルキルカルボニル基、シクロアル
ケニルカルボニル基，アリールカルボニル基，複素環カ
ルボニル基などがあげられ、より具体的にはそれぞれC
1-6アルカノイル※基，C3-5アルケノイル※基，C3-10シ
クロアルキル−カルボニル基，C5-6シクロアルケニル−
カルボニル基，C6-10アリール※カルボニル基，複素環
※カルボニル基があげられる。
C1-6アルカノイル基としてはたとえば、ホルミル，アセ
チル，プロピオニル，ブチリル，イソブチリル，バレリ
ル，イソバレリル，ピバロイルなどがあげられる。
C1-6アルカノイル※基で表わされる「置換基を有してい
てもよいC1-6アルカノイル基」の置換基としてはたとえ
ば、C1アルカノイル基（すなわちホルイル）の場合は
複素環※カルボニル基が、またC2-6アルカノイル基
（すなわちアセチル，プロピオニル，ブチリル，イソブ
チリル，バレリル，イソバレリル，ピバロイルなど）の
場合は以下に述べる「置換基S1」があげられる。「置換
基S1」はC3-10シクロアルキル※基，C5-6シクロアルケ
ニル※基，C6-10アリール※基，水酸基，C1-6アルコキ
シ基，C3-10シクロアルキルオキシ基，C6-10アリール※
オキシ基，C7-19アラルキル※オキシ基，メルカプト
基，C1-6アルキル※チオ基，アミノC1-6アルキルチオ
基，C2-6アルケニル※チオ基，C3-10シクロアルキルチ
オ基，C6-10アリール※チオ基，C7-19アラルキル※チオ
基，アミノ基，モノC1-6アルキルアミノ基，ジC1-6アル
キルアミノ基，C3-10シクロアルキルアミノ基，C6-10ア
リール※アミノ基，C7-19アラルキル※アミノ基，環状
アミノ※基，ハロゲン原子，ニトロ基，アジド基，シア
ノ基，カルボキシル基，アシル+基，置換オキシカルボ
ニル基，C1-6アルキルチオ−カルボニル基，アシル+オ
キシ基，アシル+アミノ基，アシル+アミノアルキルチオ
基，カルバモイル基，モノC1-6アルキルカルバモイル
基，ジC1-6アルキルカルバモイル基，カルバモイルオキ
シ基，モノC1-6アルキルカルバモイルオキシ基，ジC1-6
アルキルカルバモイルオキシ基，スルホ基，ヒドロキシ
スルホニルオキシ基，C1-6アルキルスルホニル基，C
6-10アリール※スルホニル基，C7-19アラルキル※スル
ホニル基，C1-6アルキルスルホニルオキシ基，C6-10ア
リール※スルホニルオキシ基，C7-19アラルキル※スル
ホニルオキシ基，ウレイド※基，スルファモイル※基，
複素環※基，複素環※オキシ基，複素環※チオ基，複素
環※アミノ基，複素環※カルボニル基，複素環※カルボ
キサミド基または第４級アンモニウム※基をいう。これ
らの置換基の数は１個に限定されないが、好ましくは１
ないし４個であり、置換基が２個ないし４個の場合、そ
れらの置換基は同一でも、また異なっていてもよい。さ
らにはそのうちの２個の置換基があわさって後記するよ
うなＣ＝Ｃ二重結合またはＣ＝Ｎ二重結合を形成してい
てもよい。
C3-5アルケノイル※基で表わされる「置換基を有してい
てもよいC3-5アルケノイル基」の置換基（以後「置換基
S2」という）としてはたとえば、C3-10シクロアルキル
基，C6-10アリール※基，C1-6アルコキシ基，C6-10アリ
ール※オキシ基，C7-19アラルキル※オキシ基，ハロゲ
ン原子，シアノ基，カルボキシル基，アシル+基，置換
オキシカルボニル基，アシル+オキシ基，複素環※基，
第４級アンモニウム※基などがあげられる。
C6-10アリール※カルボニル基で表わされる「置換基を
有していてもよいC6-10アリール−カルボニル基」の置
換基および複素環※カルボニル基で表わされる「置換基
を有していてもよい複素環基」の置換基（以後、「置換
基S3」という）としてはたとえば、C1-6アルキル基，C
2-6アルケニル基，C6-10アリール基，C7-12アラルキル
基，ジC6-10アリール−メチル基，トリC6-10アリール−
メチル基，水酸基，C1-6アルコキシ基，C6-10アリール
オキシ基，C7-19アラルキルオキシ基，メルカプト基，C
1-6アルキルチオ基，C6-10アリールチオ基，C7-19アラ
ルキルチオ基，アミノ基，モノC1-6アルキルアミノ基，
ジC1-6アルキルアミノ基，ヒドロキシC1-6アルキル基，
メルカプトC1-6アルキル基，ハロゲノC1-6アルキル基，
カルボキシC1-6アルキル基，ハロゲン原子，ニトロ基，
アジド基，シアノ基，カルボキシル基，置換オキシカル
ボニル基，アシル+基，アシル+オキシ基，アシル+アミ
ノ基，カルバモイル基，チオカルバモイル基，C1-6アル
キルスルホニル基，C6-10アリールスルホニル基，C7-19
アラルキルスルホニル基などがあげられる。
上記したC1-6アルカノイル基，C3-5アルケノイル基，C
6-10アリール−カルボニル基および複素環カルボニル基
の置換基（S1,S2およびS3）で以下に述べるもの以外の
基は前記した基をここでも意味する。
C6-10アリール※基，フェニル※基，C6-10アリール※オ
キシ基，フェノキシ※基，C6-10アリール※チオ基，C
6-10アリール※アミノ基，C6-10アリール※スルホニル
基およびC6-10アリール※スルホニルオキシ基のC6-10ア
リール基の置換基としては、上記の置換基S3がここでも
そのままあげられる。
C7-12アラルキル※基，ベンジル※基，C7-19アラルキル
※オキシ基，ベンジル※オキシ基，C7-19アラルキル※
チオ基，C7-19アラルキル※アミノ基，C7-19アラルキル
※スルホニル基およびC7-19アラルキル※スルホニルオ
キシ基のC7-12またはC7-19アラルキル基の芳香環の置換
基としては、上記の置換基S3がここでもそのままあげら
れる。
複素環※基，複素環※オキシ基，複素環※チオ基，複素
環※アミノ基，複素環※アセチル基および複素環※カル
ボキサミド基の複素環の置換基としては、上記の置換基
S3がここでもそのままあげられる。
第４級アンモニウム※基の含窒素複素環上の置換基とし
ては、上記の置換基S3がここでもそのままあげられる。
C1-6アルキル※基で表わされる「置換基れていてもよい
C1-6アルキル基」のC1-6アルキル基の置換基としては、
上記の置換基S1がここでもそのままあげられる。
C3-10シクロアルキル※基およびC5-6シクロアルケニル
※基で表わされる「置換されていてもよいC3-10シクロ
アルキル基」および「置換されていてもよいC5-6シクロ
アルケニル基」の置換基としては、上記の置換基S3がこ
こでもそのままあげられる。
C1-6アルキル※チオ基で表わされる「置換されていても
よいC1-6アルキルチオ基」のC1-6アルキルチオ基の置換
基（以後、「置換基S4」という）としてはたとえば、水
酸基，C1-6アルコキシ基，C3-10シクロアルキルオキシ
基，C6-10アリール※オキシ基，C7-19アラルキル※オキ
シ基，メルカプト基，C1-6アルキルチオ基，C3-10シク
ロアルキルチオ基，C6-10アリール※チオ基，C7-19アラ
ルキル※チオ基，アミノ基，モノC1-6アルキルアミノ
基，ジC1-6アルキルアミノ基，環状アミノ※基，ハロゲ
ン原子，シアノ基，カルボキシル基，カルバモイル基，
アシル+オキシ基，スルホ基，第４級アンモニウム※基
などがあげられる。
C2-6アルケニル※チオ基で表わされる「置換されていて
もよいC2-6アルケニルチオ基」のC2-6アルケニルチオ基
の置換基（以後、「置換基5」という）としてはたとえ
ば、ハロゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，カルバ
モイル基，モノC1-6アルキルカルバモイル基，ジC1-6ア
ルキルカルバモイル基，チオカルバモイル基などがあげ
られる。
「アシル+基」は上記のC1-6アルカノイル基，C6-10アリ
ール※カルバモイル基，C7-19アラルキル※カルバモイ
ル基，複素環※カルボニル基または複素環※アセチル基
をいう。したがってアシル+基の代表的なものをあげる
とたとえば、ホルミル，アセチル，プロピオニル,n−ブ
チリル，イソブチリル，バレリル，ピバロイル,n−ヘキ
サノイル，クロロアセチル，ジクロロアセチル，トリク
ロロアセチル,3−オキソブチリル,4−クロロ−３−オキ
ソブチリル,3−カルボキシプロピオニル,4−カルボキシ
ブチリル,3−エトキシカルバモイルプロピオニル，ベン
ゾイル，ナフトイル,p−メチルベンゾイル,p−ヒドロキ
シベンゾイル,p−メトキシベンゾイル,p−クロロベンゾ
イル,p−ニトロベンゾイル,o−カルボキシベンゾイル,o
−（エトキシカルボニルカルバモイル）ベンゾイル,o−
（エトキシカルボニルスルファモイル）ベンゾイル，フ
ェニルアセチル,p−メチルフェニルアセチル,p−ヒドロ
キシフェニルアセチル,p−メトキシフェニルアセチル,
2,2−ジフェニルアセチル,2−チエニルカルボニル,2−
フリルカルボニル,2−,4−または５−チアゾリルアセチ
ル,2−または３−チエニルアセチル,2−または３−フリ
ルアセチル,2−アミノ−４−または５−チアゾリルアセ
チル,5−アミノ−３−［1,2,4］チアジアゾリルアセチ
ルなどがあげられる。「アシル+オキシ基」および「ア
シル+アミノ基」のアシル+基は上記のアシル+基をい
い、したがって「アシル+オキシ基」としてはたとえ
ば、ホルミルオキシ，アセトキシ，プロピオニルオキ
シ，ブチリルオキシ，バレリルオキシ，ピバロイルオキ
シ，クロロアセトキシ，ジクロロアセトキシ，トリクロ
ロアセトキシ,3−オキソブチリルオキシ,4−クロロ−３
−オキソブチリルオキシ,3−カルボキシプロピオニルオ
キシ,4−カルボキシブチリルオキシ,3−エトキシカルバ
モイルプロピオニルオキシ，ベンゾイルオキシ，ナフト
イルオキシ,p−メチルベンゾイルオキシ,p−メトキシベ
ンゾイルオキシ,p−クロロベンゾイルオキシ,o−カルボ
キシベンゾイルオキシ,o−（エトキシカルボニルカルバ
モイル）ベンゾイルオキシ,o−（エトキシカルボニルス
ルファモイル）ベンゾイルオキシ，フェニルアセチルオ
キシ,p−メチルフェニルアセチルオキシ,p−メトキシフ
ェニルアセチルオキシ,p−クロロフェニルアセチルオキ
シ,2,2−ジフェニルアセチルオキシ，チエニルカルボニ
ルオキシ，フリルカルボニルオキシ，チアゾリルアセチ
ルオキシ，チエニルアセチルオキシ，フリルアセチルオ
キシなどが、また「アシル+アミノ基」としてはたとえ
ば、アセトアミド（CH3CONH−），ベンズアミド（C6H5C
ONH−），フェニルアセトアミド（C6H5CH2CONH−）,2−
チエニルアセトアミド などがあげられる。
「アシル+アミノアルキルチオ基」のアシル+アミノ基お
よびアルキルチオ基はそれぞれ前記のアシル+アミノ基
およびC1-6アルキルチオ基を意味し、したがってこのよ
うな「アシル+アミノC1-6アルキルチオ基」としてはた
とえば、アセトアミドメチルチオ,2−アセトアミドエチ
ルチオなどがあげられる。
「アリールアシル+基」は「C6-10アリール−アシル
+基」がよく、たとえばベンゾイル，フタロイル，ナフ
トイル，フェニルアセチルなどがあげられる。
「アリールアシル+オキシ基」は「C6-10アリール−アシ
ル+オキシ基」がよく、たとえばベンゾイルオキシ，ナ
フトイルオキシ，フェニルアセチルオキシなどがあげら
れる。
「ウレイド※基」で表わされる「置換されていてもよい
ウレイド基」のウレイド基の置換基としてはたとえば、
C1-6アルキル基，C6-10アリール※基，C7-19アラルキル
※基，アシル+基，カルバモイル基，スルホ基（ナトリ
ウム，カリウムなどと適宜に塩を形成していてもよ
い），スルファモイル基，アミジノ基などがあげられ
る。
「スルファモイル※基」で表わされる「置換されていて
もよいスルファモイル基」のスルファモイル基の置換基
としてはたとえば、C1-6アルキル基，アミジノ基などが
あげられる。
「カルバモイル※基」および「カルバモイル※オキシ
基」で表わされる「置換されていてもよいカルバモイル
基」の置換基としてはたとえば、C1-6アルキル基，C
6-10アリール※基，C7-19アラルキル※基，アシル+基な
どがあげられ、また、カルバモイル基の窒素原子が含窒
素複素環の環形成窒素原子である場合も含まれる。
「チオカルバモイル※基」で表わされる「置換されてい
てもよいチオカルバモイル基」の置換基としてはたとえ
ば、C1-6アルキル基，C6-10アリール※基，C7-12アラル
キル※基，アシル+基などがあげられ、また、チオカル
バモイル基の窒素原子が含窒素複素環の環形成窒素原子
である場合も含まれる。
「環状アミノ※基」で表わされる「置換されていてもよ
い環状アミノ基」の環状アミノ基の置換基（以後、「置
換基6」という）としてはたとえば、C1-6アルキル基，C
2-6アルケニル基，C3-10シクロアルキル基，C6-10アリ
ール※基，C7-12アラルキル※基，ジC6-10アリール−メ
チル基，トリC6-10アリール−メチル基，水酸基，C1-6
アルコキシ基，C6-10アリール※オキシ基，C7-19アラル
キル※オキシ基，メルカプト基，C1-6アルキルチオ基，
C6-10アリール※チオ基，C7-19アラルキル※チオ基，ア
ミノ基，モノC1-6アルキルアミノ基，ジC1-6アルキルア
ミノ基，C6-10アリール※アミノ基，C7-19アラルキル※
アミノ基，ハロゲン原子、ニトロ基，アジド基，オキソ
基，チオキソ基，シアノ基，カルボキシル基，アシル+
基，置換オキシカルボニル基，アシル+オキシ基，アシ
ル+アミノ基，カルバモイル基，カルバモイルオキシ
基，チオカルバモイル基，スルホ基などがあげられる。
C1-6アルカノイル※基のひとつとして前記した複素環※
カルボニル基で置換されたホルミル基はすなわち複素環
※−CO-CO−なる式を有するアシル基で、該複素環※基
は前記のものがここでもあげられるが、置換基を有して
いてもよいオキサゾリル基，チアゾリル基，オキサジア
ゾリル基，チアジアゾリル基などがより好ましい。この
ような「複素環※−CO-CO−」なる基としてはたとえ
ば、２−（２−,4−または５−オキサゾリル）−２−オ
キソアセチル,2−（２−,4−または５−チアゾリル）−
２−オキソアセチル,2−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−オキソアセチル,2−（1,2,4−オキサジアゾ
ール−３−または５−イル）−２−オキソアセチル,2−
（1,2,4−チアジアゾール−３−または５−イル）−２
−オキソアセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−３−イル）−２−オキソアセチルなどがあげら
れる。
C2-6アルカノイル※基としては置換基を有するアセチル
基が最も好ましい。置換基を有するアセチル基の置換基
の数は１〜３個であり、置換基はC1-6アルカノイル基の
置換基として前記した「置換基S1」がここでもあげられ
る。置換基の数が２〜３個の場合、それらの置換基は同
一でも、また異なっていてもよく、さらには２個の置換
基があわさって二重結合を形成していてもよい。モノ置
換アセチル基としてはR15CH2CO−，ジ置換アセチル基と
しては と表わすことができる。一方、トリ置換アセチル基とし
てはそのうちの２個の置換基があわさってＣ＝Ｃ二重結
合もしくはＣ＝Ｎ二重結合を形成しているものがよく、
それぞれ と表わすことができる。ここで記号R15〜R17,R20および
R22は前記した置換基（S1）を意味し、記号R18,R19およ
びR21については後記する。以下、これらの置換基（R15
〜R22）を有するアセチル基について詳述する。
ｉ）R15CH2CO− 記号R15は前記のC1-6アルキル基の置換基（S1）を意味
するが、とりわけ、C5-6シクロアルケニル基，C6-10ア
リール※基，C6-10アリール※オキシ基，C1-6アルキル
※チオ基，C2-6アルケニル※チオ基，C6-10アリール※
チオ基，アミノ基，環状アミノ基，シアノ基，アシル+
基，アシル+オキシ基，複素環※基，複素環※チオ基，
第４級アンモニウム※基などが繁用される。したがって
「アシル基R15CH2CO−」としてはたとえば、1,4−シク
ロヘキサジエニルアセチル，フェニルアセチル,p−トリ
ルアセチル,p−ヒドロキシフェニルアセチル,p−メトキ
シフェニルアセチル,p−クロロフェニルアセチル,o−ア
ミノメチルフェニルアセチル，フェノキシアセチル,p−
ヒドロキシフェノキシアセチル,p−クロロフェノキシア
セチル，シアノメチルチオアセチル，ジフルオロメチル
チオアセチル，トリフルオロメチルチオアセチル，（２
−カルボキシエチル）チオアセチル，（２−アミノ−２
−カルボキシエチル）チオアセチル，（２−クロロビニ
ル）チオアセチル，（２−カルボキシビニル）チオアセ
チル，（２−フルオロ−２−カルバモイルビニル）チオ
アセチル，（1,2−ジクロロビニル）チオアセチル，
（２−クロロ−２−カルボキシビニル）チオアセチル，
フェニルチオアセチル,p−ヒドロキシフェニルチオアセ
チル，グリシル,1H−テトラゾリル−１−イルアセチル,
3,5−ジクロロ−４−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−
１−イルアセチル，シアノアセチル，アセトアセチル，
ベンゾイルアセチル，フリルカルボニルアセチル，チエ
ニルカルボニルアセチル,1H−テトラゾール−５−イル
アセチル,1−メチル−1H−テトラゾール−５−イルアセ
チル，（２−フリル）アセチル，（２−チエニル）アセ
チル，（３−チエニル）アセチル，（４−オキサゾリ
ル）アセチル，（４−チアゾリル）アセチル，（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）アセチル，（1,2,4−チアジア
ゾール−３−イル）アセチル，（５−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）アセチル，（２−ピリジ
ル）アセチル，（４−ピリジル）アセチル，（２−イミ
ダゾリル）チオアセチル，（２−ピリジル）チオアセチ
ル，（４−ピジリル）チオアセチル，（２−チエニル）
チオアセチル，ヒドロキシピリジルチオアセチル，（５
−イソチアゾリル）チオアセチル，（３−メチルチオ−
５−イソチアゾリル）チオアセチル，（４−シアノ−５
−イソチアゾリル）チオアセチル，（４−シアノ−２−
メチル−３−オキソ−2,3−ジヒドロイソチアゾール−
５−イル）チオアセチル，ビリジニウムアセチル，キノ
リニウムアセチルなどがあげられる。
ii） 記号R16は前記の置換基（S1）を意味するが、とりわ
け、C5-6シクロアルケニル基，C6-10アリール※基，C
6-10アリール※オキシ基，C1-6アルキル※チオ基，C2-6
アルケニル※チオ基，C6-10アリール※チオ基，環状ア
ミノ基，シアノ基，複素環※基，複素環※チオ基，複素
環※カルボキサミド基，第４級アンモニウム※基などが
ここでも繁用される。また記号R17も前記の置換基を意
味するが、とりわけ、水酸基，メルカプト基，アミノ
基，アミノ酸残基で置換されたアミノ基，ヒドラジノ
基，アジド基，ウレイド※基，アシル+オキシ基，アシ
ル+アミノ基，カルボキシル基，置換オキシカルボニル
基，スルホ基，スルファモイル基，カルバモイル基，複
素環※カルボキサミド基などが好ましい。これらのうち
置換基R17がアミノ基のもの（すなわち は特に「アミノ酸残基」として分類されることもある。
したがって「アシル基 としてはたとえば２−アミノ−２（1,4−シクロヘキサ
ジエニル）アセチル，マンデリル，α−アジドフェニル
アセチル，α−カルボキシフェニルアセチル，α−（フ
ェノキシカルボニル）フェニルアセチル，α−（ｏ−ヒ
ドロキシフェニル）オキシカルボニルフェニルアセチ
ル，α−（ｐ−トリルオキシカルボニル）フェニルアセ
チル，α−スルホフェニルアセチル，α−スルホ−ｐ−
ヒドロキシフェニルアセチル，α−ウレイドフェニルア
セチル，α−（Ｎγ−スルホウレイド）フェニルアセチ
ル，α−カルボキシ−ｐ−ヒドロキシフェニルアセチ
ル，α−（ホルミルオキシ）フェニルアセチル，α−
（２−アミノ−３−カルボキシプロピオンアミド）フェ
ニルアセチル，α−（３−アミノ−３−カルボキシプロ
ピオンアミド）フェニルアセチル，α−（3,4−ジヒド
ロキシベンズアミド）フェニルアセチル，α−（５−カ
ルボキシ−４−イミダゾリルカルボキサミド）フェニル
アセチル，α−（1,3−ジメチル−４−ピラゾリルカル
ボキサミド）フェニルアセチル,5−フェニル−３−イソ
キサゾリルカルボキサミド）フェニルアセチル，α−
［１−（ｐ−メロキシフェニル）−４−クロロ−1,2,3
−トリアゾール−５−イルカルボキサミド］フェニルア
セチル，α−（４−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−
３−イルカルボキサミド）フェニルアセチル，α−［２
−オキソ−５−（3,4−ジヒドロキシフェニル）−1,2−
ジヒドロピリジン−３−イルカルボキサミド］フェニル
アセチル，α−（４−オキソ−4H−１−チオピラン−３
−イルカルボキサミド）フェニルアセチル、α−（４−
ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン−３−イルカルボキサ
ミド）フェニルアセチル，α−（４−エチル−2,3−ジ
オキソピペラジノカルボキサミド）フェニルアセチル，
α−（４−エチル−2,3−ジオキソピペラジノカルボキ
サミド）−ｐ−ヒドロキシフェニルアセチル，α−（４
−エチル−2,3−ジオキソピペラジノカルボキサミド）
−ｐ−ベンジルオキシフェニルアセチル，α−（４−エ
チル−2,3−ジオキソピペラジノカルボキサミド）−ｐ
−スルホフェニルアセチル、α−（４−エチル−2,3−
ジオキソピペラジノカルボキサミド）−ｐ−メトキシフ
ェニルアセチル、α−（２−オキソイミダゾリジノカル
ボキサミド）フェニルアセチル、α−（２−オキソ−３
−メタンスルホニルイミダゾリジノカルボキサミド）フ
ェニルアセチル，α−（6,7−ジヒドロキシ−４−オキ
ソ−4H−ベンゾピラン−３−イルカルボキサミド）フェ
ニルアセチル，α−（6,7−ジヒドロキシ−２−オキソ
−2H−ベンゾピラン−３−イルカルボキサミド）フェニ
ルアセチル，α−ヒドロキシ−２−チエニルアセチル，
α−ヒドロキシ−３−チエニルアセチル，α−カルボキ
シ−３−チエニルアセチル，α−アミノ−α−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセチル，α−ホルムアミ
ド−α−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセチ
ル，α−アセトアミド−α−（２−アミノチアゾール−
４−イル）アセチル，α−ホルムアミド−α−（２−ア
ミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）アセチル，α
−アセトアミド−α−（２−アミノ−５−クロロチアゾ
ール−４−イル）アセチル，α−ホルムアミド−α−
（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）ア
セチル，α−アセトアミド−α−（５−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−３−イル）アセチル，α−ヒドラジ
ノ−α−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセチ
ル，α−ヒドロキシ−α−（２−アミノチアゾール−４
−イル）アセチル，α−ウレイド−α−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセチル，α−［Ｎγ−（ｍ−ヒ
ドロキシフェニル）ウレイド］フェニルアセチル，α−
［Ｎγ−（２−メチル−６−ヒドロキシピリミジン−５
−イル）ウレイド］フェニルアセチル，α−［Ｎγ−
（3,4−ジアセトキシベンゾイル）ウレイド］フェニル
アセチル，α−［Ｎγ−（3,4−ジヒドロキシシンナモ
イル）ウレイド］フェニルアセチル，α−［Ｎγ−（3,
4−ジアセトキシベンズアミドアセチル）ウレイド］フ
ェニルアセチル，α−［Ｎγ−（２−フリルカルボニ
ル）ウレイド］フェニルアセチル，α−［Ｎγ−（6,7
−ジヒドロ−４−オキソ−4H−ベンゾピラン−３−イル
カルボニル）ウレイド］フェニルアセチル，α−（２−
クロロビニルチオ）フェニルアセチル，α−カルバモイ
ル−α−（２−クロロビニルチオ）アセチル，α−（４
−エチル−2,3−ジオキソピペラジノカルボキサミド）
−α−（２−クロロビニルチオ）アセチル，α，α−ビ
ス−（４−エチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノカ
ルボキサミド）アセチル，α−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−α−（４−エチル−2,3−ジオキソ−１−ピ
ペラジノカルボキサミド）アセチル，α−（４−ヒドロ
キシ−６−メチルニコチンアミド）−α−フェニルアセ
チル，α−（４−ヒドロキシ−６−メチルニコチンアミ
ド）−α−（４−ヒドロキシフェニル）アセチル，α−
｛5,8−ジヒドロ−２−（４−ホルミル−１−ピペラジ
ニル）−５−オキソピリド［2,3−ｄ］ピリミジン−６
−カルボキサミド｝−α−フェニルアセチル，α−（3,
5−ジオキソ−1,2,4−トリアジン−６−カルボキサミ
ド）−α−（４−ヒドロキシフェニル）アセチル，α−
（３−フルフリデンアミノ−２−オキソイミダゾリジン
−１−カルボキサミド）−α−フェニルアセチル，α−
（クマリン−３−カルボキサミド）−α−フェニルアセ
チル，α−（４−ヒドロキシ−７−メチル−1,8−ナフ
チリジン−３−カルボキサミド）−α−フェニルアセチ
ル，α−（４−ヒドロキシ−７−トリフルオロメチルキ
ノリン−３−カルボキサミド）−α−フェニルアセチ
ル,N−［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）アセチ
ル］−Ｄ−フェニルグリシル，α−（６−ブロモ−１−
エチル−1,4−ジヒドロ−４−オキソチエノ［2,3−ｂ］
ピリジン−３−カルボキサミド）−α−フェニルアセチ
ル，α−（４−エチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボキサミド）−α−チエニルアセチル，α−（４
−ｎ−ペンチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノカル
ボキサミド）−α−チエニルアセチル，α−（４−ｎ−
オクチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサ
ミド）−α−チエニルアセチル，α−（４−シクロヘキ
シル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミ
ド）−α−チエニルアセチル，α−［４−（３−フェニ
ルエチル）−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキ
サミド］−α−チエニルアセチル，α−（３−フルフリ
テンアミノ−２−オキソイミダゾリジン−１−カルボキ
サミド）−α−（４−ヒドロキシフェニル）アセチルな
どが例示される。またアミノ酸の残基 としてはここでもたとえば、アラニル，バリル，ロイシ
ル、イソロイシル，セリル，スレオニル，システイニ
ル，シスチル，メチオニル，アスパラギル，グルタミ
ル，リジル，アルギニル，フェニルグリシル，フェニル
アラニル，チロシル，ヒスチジル，トリプトフイル，プ
ロリルなどが例示される。またこれらのアミノ酸残基の
アミノ基は後記するようなアミノ基の保護基で保護され
ていてもよい。「アミノ基が保護されたアミノ酸残基」
としてはたとえば、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアラ
ニル,N−ベンジルオキシカルボキサミドフェニルグリシ
ルなどがあげられる。またアミノ酸残基のアミノ基はさ
らにもうひとつのアミノ酸残基で置換されていてもよ
い。このようなアシル基はすなわち「ジペプチドの残
基」であり、このようなアシル基としてはたとえば、フ
ェニルグリシル−アラニル，ベンジルＮα−ベンジルオ
キシカルボニル−γ−グルタミル−アラニル，アラニル
−フェニルグリシル，α−アスパルチル−フェニルグリ
シル，γ−グルタミル−アラニルなどがあげられる。ま
たアミノ酸残基のアミノ基は環状カルバモイル基で置換
されていてもよい。このようなアシル基としてはたとえ
ば、Ｎ−（４−エチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボニル）アラニル,N−（４−エチル−2,3−ジチ
オキソ−１−ピペラジノカルボニル）フェニルグリシ
ル,N−（４−エチル−2,3−ジオキソ−１−ピペラジノ
カルボニル）スルオニルなどがあげられる。
またアシル基 のひとつとして ［式中、R24,R25は同一または異なって水素原子，ハロ
ゲン原子（フッ素，塩素，臭素，ヨウ素），ヒドロキシ
メチル基，ジフルオロメチル基，トリフルオロメチル
基，ホルミル基，シアノ基，アジド基，カルボキシル
基，カルバモイル基，C1-6アルキルチオ基またはC6-10
アリール※チオ基を示す］で表わされるアシル基も使用
される。
このようなアシル基としてはたとえば などがあげられる。
iii） 記号R20は前記の置換基（S1）を意味するが、とりわけC
6-10アリール※基，C6-10アリール※オキシ基，C6-10ア
リール※チオ基，複素環※基，複素環※チオ基などが繁
用される。記号R18は水素原子またはハロゲン原子（フ
ッ素，塩素，臭素，ヨウ素）を表わし、ハロゲン原子と
しては塩素が好ましい。記号R19はC1-6アルキル基，C
6-10アリール※基，C1-6アルキルチオ基，ハロゲン原
子，シアノ基，アミノ基，C1-6アルキルスルホニル基，
C6-10アリール※スルホニル基，カルバモイル基，C1-6
アルコキシイミドイル基または複素環※基を表わす。こ
こでC1-6アルコキシイミドイル基のC1-6アルコキシ基は
前記のC1-6アルコキシ基がよく、したがってC1-6アルコ
キシイミドイル基としてはたとえば、メトキシイミドイ
ル エトキシイミドイルなどがあげられる。その他の基はい
ずれも前記した基がここでもそのままあてはめられる。
したがって「アシル基 としてはたとえば、２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−３−クロロアクリロイル,2−（２−アミノ−４−
チアゾリル）クロトノイル,2−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）シンナモイル,2−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−３−メタンスルホニルアクリロイル,2−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−３−ベンゼンスルホニルアク
リロイル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２−ペンテノイル,2−（５−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−３−イル）−３−クロロアクリロ
イル,2−（５−アミノ−1,2,4チアジアゾール−３−イ
ル）クロトノイル,2−（２−アミノ−５−クロロ−４−
チアゾリル）−３−クロロアクリロイル,2−（２−アミ
ノ−５−クロロ−４−チアゾリル）クロトノイルなどが
あげられる。
iv） 記号R22は前記の置換基（S1）を意味するが、とりわけC
3-10シクロアルキル※基，C5-6シクロアルケニル※基，
C6-10アリール※基，C1-6アルコキシ基，C6-10アリール
※オキシ基，C1-6アルキル※チオ基，アミノC1-6アルキ
ルチオ基，C6-10アリール※チオ基，C7-19アラルキル※
チオ基，シアノ基，アシル+基，カルバモイル基，複素
環※基などが繁用される。
これらのなかでもC6-10アリール※基，複素環※基が特
に好ましい。これらのC6-10アリール基，複素環基の置
換基はC1-6アルキル基，水酸基，アミノ基，ハロゲン原
子（フッ素，塩素，臭素，ヨウ素）が好ましい。したが
って置換基R22として好ましい基をあげると、たとえば
フェニル,p−ヒドロキシフェニル,2−フリル,2−チエニ
ル,4−オキサゾリル,2−アミノ−４−オキサゾリル,2−
アミノ−５−クロロ−４−オキサゾリル,4−チアゾリ
ル,2−アミノ−４−チアゾリル,2−アミノ−５−クロロ
−４−チアゾリル,2−アミノ−５−ブロモ−４−チアゾ
リル,2−アミノ−５−フルオロ−４−チアゾリル,2−ア
ミノ−４−チアゾリル−３−オキシド,2−イミノ−３−
ヒドロキシチアゾリン−４−イル,3−イソキサゾリル,5
−アミノ−３−イソキサゾリル,3−イソチアゾリル,5−
アミノ−３−イソチアゾリル,1,2,4−オキサジアゾール
−３−イル,5−アミノ−1,2,4−オキサジアゾール−３
−イル,1,2,4−チアジアゾール−３−イル,5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−３−イル,1,3,4−オキサジア
ゾリル,2−アミノ−1,3,4−オキサジアゾール−５−イ
ル,1,3,4−チアジアゾリル,2−アミノ−1,3,4−チアジ
アゾール−５−イル,1−（C1-6アルキル）−５−アミノ
−1,2,4−トリアゾール−３−イル,4−（C1-6アルキ
ル）−５−アミノ−1,2,4−トリアゾール−３−イル,1
−（C1-6アルキル）−２−アミノ−４−イミダゾリル,2
−アミノ−６−ピリジル,4−アミノ−２−ピリミジル,2
−アミノ−５−ピリミジル,3−ピラゾリル,4−ピラゾリ
ルなどが例示される。また記号R21はOR23基（式中、R23
は水素原子または置換されていてもよい炭化水素残基を
示す）である。ここで で表わされる基は で表わされるシン異性体または で表わされるアンチ異性体，もしくはそれらの混合物を
表わし、なかでも置換基R22が複素環※基でかつシン異
性体であるものがより好ましい。このようなアシル基は
式 ［式中、R22′は複素環※基を、R3は水素原子または置
換されていてもよい炭化水素残基を示す］で表わすこと
ができる。ここで複素環※基R22′は置換されたチアゾ
リル基またはチアジアゾリル基，すなわち式 ［式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2は水
素原子，ハロゲン原子またはニトロ基を示す］のものが
最も好ましい。したがって最も好ましいRb基は式 である。すなわち置換基R0としてアシル基Rbを有する化
合物［Ｉ］としては または ［式中の記号は前記と同意義を示す］（塩，エステルも
含む）の構造のものが好ましい。以下、置換基R1,R2,R3
について詳しく述べる。
記号R1は保護されていてもよいアミノ基を表わす。β−
ラクタムおよびペプチドの分野ではアミノ基の保護基は
充分に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに
確立されており、本発明においてもアミノ基の保護基と
してはそれら公知のものが適宜に採用されうる。アミノ
基の保護基としてはたとえば、C1-6アルカノイル※基，
C3-5アルケノイル※基，C6-10アリール※カルボニル
基，フタロイル基，複素環※カルボニル基，C1-6アルキ
ル※スルホニル基，カンファスルホニル基，C6-10アリ
ール※スルホニル基，置換オキシカルボニル基，カルバ
モイル※基，カルバモイル※オキシ基，チオカルバモイ
ル※基，C6-10アリール※メチル基，ジC6-10アリール※
メチル基，トリC6-10アリール※メチル基，C6-10アリー
ル※メチレン基，C6-10アリール※チオ基，置換シリル
基,2−C1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１
−エテニル基などがあげられる。
「C1-6アルカノイル※基」としてはここではたとえば、
ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリ
ル，ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノクロロ
アセチル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチル，モ
ノブロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフルオロ
アセチル，トリフルオロアセチル，モノヨードアセチ
ル,3−オキソブチリル,4−クロロ−３−オキソブチリ
ル，フェニルアセチル,p−クロロフェニルアセチル，フ
ェノキシアセチル,p−クロロフェノキシアセチルなどが
あげられる。
「C3-5アルケノイル※基」としてはここではたとえば、
アクリロイル，クロトノイル，マレオイル、シンナモイ
ル,p−クロロシンナモイル，β−フェニルシンナモイル
などがあげられる。
「C6-10アリール※カルボニル基」としてはここではた
とえば、ベンゾイル，ナフトイル,p−トルオイル,p−te
rt−ブチルベンゾイル,p−ヒドロキシベンゾイル、ｐ−
メトキシベンゾイル,p−tert−ブトキシベンゾイル,p−
クロロベンゾイル,p−ニトロベンゾイルなどがあげられ
る。
複素環※カルボニル基としては後記するものがあげられ
る。
「C1-6アルキル※スルホニル基」としてはたとえば、メ
タンスルホニル，エタンスルホニルなどがあげられる。
「C6-10アリール※スルホニル基」としてはここではた
とえば、ベンゼンスルホニル，ナフタレンスルホニル,p
−トルエンスルホニル,p−tert−ブチルベンゼンスルホ
ニル,p−メトキシベンゼンスルホニル,p−クロロベンゼ
ンスルホニル,p−ニトロベンゼンスルホニルなどがあげ
られる。
「置換オキシカルボニル基」としては前記の置換オキシ
カルボニル基すなわちC1-10アルコキシ−カルボニル
基，C6-10アリールオキシ−カルボニル基またはC7-19ア
ラルキルオキシ−カルボニル基のほか、ここではそれら
がさらに置換基を有しているものも含まれ、たとえばメ
トキシカルボニル，エトキシカルボニル,n−プロポキシ
カルボニル，イソプロポキシカルボニル,n−ブトキシカ
ルボニル,tert−ブトキスカルボニル，シクロヘキシル
オキシカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニル，フ
ェノキシカルボニル，ナフチルオキシカルボニル，ベン
ジルオキシカルボニル，メトキシメチルオキシカルボニ
ル，アセチルメチルオキシカルボニル,2−トリメチルシ
リルエトキシカルボニル,2−メタンスルホニルエトキシ
カルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル,2
−シアノエトキシカルボニル,p−メチルフエノキシカル
ボニル,p−メトキシフエノキシカルボニル,p−クロロフ
エノキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカルボニ
ル,p−メトキシベンジルオキシカルボニル,p−クロロベ
ンジルオキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル，ベンズヒドリルオキシカルボニル，シクロプロ
ピルオキシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニ
ル，シクロヘキシルオキシカルボニルなどがあげられ
る。「カルバモイル※基」としてはここではたとえば、
カルバモイル,N−メチルカルバモイル,N−エチルカルバ
モイル,N,N−ジメチルカルバモイル,N,N−ジエチルカル
バモイル,N−フェニルカルバモイル,N−アセチルカルバ
モイル,N−ベンゾイルカルバモイル,N−（ｐ−メトキシ
フェニル）カルバモイルなどがあげられる。
「カルバモイル※オキシ基」としてはここではたとえ
ば、カルバモイルオキシ,N−メチルカルバモイルオキ
シ,N,N−ジメチルカルバモイルオキシ,N−エチルカルバ
モイルオキシ,N−フェニルカルバモイルオキシなどがあ
げられる。
「チオカルバモイル※基」としてはここではたとえば、
チオカルバモイル,N−メチルチオカルバモイル,N−フェ
ニルチオカルバモイルなどがあげられる。
「C6-10アリール※メチル基」としてはたとえば、ベン
ジル，ナフチルメチル,p−メチルベンジル,p−メトキシ
ベンジル,p−クロロベンジル,p−ニトロベンジルなどが
あげられる。
「ジC6-10アリール※メチル基」としてはたとえば、ベ
ンズヒドリル，ジ（ｐ−トリル）メチルなどがあげられ
る。
「トリC6-10アリール※メチル基」としてはたとえば、
トリチル，トリ（ｐ−トリル）メチルなどがあげられ
る。
「C6-10アリール※メチレン基」としてはたとえば、ベ
ンジリデンｐ−メチルベンジリデン、ｐ−クロロベンジ
リデンなどがあげられる。
「C6-10アリール※チオ基」としてはたとえば、ｏ−ニ
トロフェニルチオなどがあげられる。
「置換シリル基」で保護されたアミノ基としては一般式
R6R7R8SiNH,(R6R7R8Si)Nまたは ［式中、R6,R7,R8,R9,R10,R9′,R10′はそれぞれC1-6ア
ルキル基もしくはC6-10アリール※基を示し、それぞれ
同一または異なっていてもよい。またＺ′はたとえばメ
チレン，エチレン，プロピレンなどのC1-3アルキレン基
を示す］で表わされるようなシリル基を意味し、具体的
にはトリメチルシリル,tert−ブチルジメチルシリル，
−Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2−などがあげられる。
「２−C1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１
−エテニル基のC1-10アルコキシ−カルボニル基は前記
したものがよく、したがって２−C1-10アルコキシ−カ
ルボニル−１−メチル−１−エテニル基としてはたとえ
ば、２−メトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニ
ル,2−エトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニ
ル,2−tert−ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エ
テニル,2−シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチ
ル−１−エテニル,2−ノルボルニルオキシカルボニル−
１−メチル−１−エテニルなどがあげられる。
記号R2は水素原子，ハロゲン原子またはニトロ基を表わ
す。ハロゲン原子としてはここではフッ素，塩素，臭素
などがあげられ、好ましくは塩素である。
記号R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素
残基を表わす。炭化水素残基としてはたとえばC1-6アル
キル基，C2-6アルケニル基，C2-6アルキニル基，C3-10
シクロアルキル基，C5-6シクロアルケニル基などがあげ
られるが、好ましくはC1-3アルキル基、C2-3アルキニル
基または置換されたC1-3アルキル基、とりわけC1-3アル
キル基または置換されたC1-3アルキル基がとくに好まし
い。C1-6アルキル基としてはここでも前記したC1-6アル
キル基がよく具体的にはメチル，エチル,n−プロピル，
イソプロピル,n−ブチル，イソブチル,sec−ブチル,ter
t−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどがあげられる
がとりわけメチル，エチル,n−プロピル等のC1-3アルキ
ル基が好ましい。C2-6アルケニル基としてはここでも前
記したC2-6アルケニル基がよく具体的にはビニル，アリ
ル，イソプロペニル，メタリル,1,1−ジメチルアリル,2
−ブテニル,3−ブテニルなどがあげられる。C2-6アルキ
ニル基としては具体的にはエチニル,1−プロピニル,2−
プロピニル，プロパルギル,3−ブチニルなどがあげられ
るが、とりわけエチニル,1−プロピニル,2−プロピニ
ル，プロパルギルなどのC2-3アルキニル基が好ましい。
C3-10シクロアルキル基としてはここでも前記したC3-8
シクロアルキル基がよく具体的にはシクロプロピル，シ
クロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル，シクロ
ヘプチル，アダマンチルなどがあげられる。C5-6シクロ
アルケニル基としては具体的には２−シクロペンテニ
ル,3−シクロペンテニル,2−シクロヘキセニル,3−シク
ロヘキセニル，シクロペンタジエニル，シクロヘキサジ
エニルなどがあげられる。
これらの炭化水素残基の置換基としてはたとえば水酸
基，C1-6アルキル基，C2-6アルケニル基，C2-6アルキニ
ル基，C3-10シクロアルキル基，C5-6シクロアルケニル
基，C6-10アリール基，C7-19アラルキル基，複素環基，
C1-6アルコキシ基，C3-10シクロアルキルオキシ基，C
6-10アリールオキシ基，C7-19アラルキルオキシ基，複
素環オキシ基，メルカプト基，C1-6アルキルチオ基，C
3-10シクロアルキルチオ基，C6-10アリールチオ基，C
7-19アラルキルチオ基，複素環チオ基，アミノ基，モノ
C1-6アルキルアミノ基，ジC1-6アルキルアミノ基，トリ
C1-6アルキルアンモニウム基，C3-10シクロアルキルア
ミノ基，C6-10アリールアミノ基，C7-19アラルキルアミ
ノ基，複素環アミノ基，環状アミノ基，アジド基，ニト
ロ基，ハロゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，C
1-10アルコキシ−カルボニル基，C6-10アリールオキシ
−カルボニル基，C7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基，C6-10アリール−アシル+基，C1-6アルカノイル基，
C3-5アルケノイル基，C6-10アリール−アシル+オキシ
基，C2-6アルカノイルオキシ基，C3-5アルケノイルオキ
シ基，カルバモイル※基，チオカルバモイル※基，カル
バモイル※オキシ基，フタルイミド基，C1-6アルカノイ
ルアミノ基，C6-10アリール−アシル+アミノ基，カルボ
キシアミノ基、C1-10アルコキシ−カルボキサミド基，C
6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，C7-19アラル
キルオキシ−カルボキサミド基、好ましくは水酸基，C
1-6アルコキシ基，ジC1-6アルキルアミノ基などがあげ
られ、同一または異なって１ないし３個存在していても
よい。炭化水素残基の置換基としては、具体的にはC1-6
アルキル基は前記のもの、すなわちメチル，エチル,n−
プロピル，イソプロピル,n−ブチル，イソブチル,sec−
ブチル,tert−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシルなど
を、C2-6アルケニル基は前記のもの、すなわちビニル，
アリル，イソプロペニル，メタリル,1,1−ジメチルアリ
ル,2−ブテニル,3−ブテニルなどを、C2-6アルキニル基
は前記のもの、すなわちエチニル,1−プロピニル,2−プ
ロピニル，プロパルギルなどを、C3-10シクロアルキル
基は前記のもの、すなわちシクロプロピル，シクロブチ
ル，シクロペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチ
ル，アダマンチルなどを、C5-6シクロアルケニル基は前
記のもの、すなわちシクロプロペニル,2−シクロペンテ
ニル,3−シクロペンテニル,2−シクロヘキセニル,3−シ
クロヘキセニル，シクロペンタジエニル，シクロヘキサ
ジエニルなどを、C6-10アリール基は前記のもの、すな
わちフェニル，ナフチル，ビフェニリルなどを、C7-19
アラルキル基は前記のもの、すなわちベンジル,1−フェ
ニルエチル,2−フェニルエチル，フェニルプロピル，ナ
フチルメチル，ベンズヒドリルなどを、C1-6アルコキシ
基は前記のもの、すなわちメトキシ，エトキシ,n−プロ
ポキシ，イソプロポキシ,n−ブトキシ,tert−ブトキシ,
n−ペンチルオキシ,n−ヘキシルオキシなどを、C3-10シ
クロアルキルオキシ基は前記のもの、すなわちシクロプ
ロピルオキシ，シクロヘキシルオキシなどを、C6-10ア
リールオキシ基は前記のもの、すなわちフェノキシ，ナ
フチルオキシなどを、C7-19アラルキルオキシ基は前記
のもの、すなわちベンジルオキシ,1−フェニルエチルオ
キシ,2−フェニルエチルオキシ，ベンズヒドリルオキシ
などを、C1-6アルキルチオ基は前記のもの、すなわちメ
チルチオ，エチルチオ,n−プロピルチオ,n−ブチルチオ
などを、C3-10シクロアルキルチオ基は前記のもの、す
なわちシクロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなど
を、C6-10アリールチオ基は前記のもの、すなわちフェ
ニルチオ，ナフチルチオなどを、C7-19アラルキルチオ
基は前記のもの、すなわちベンジルチオ，フェニルエチ
ルチオ，ベンズヒドリルチオなどを、モノC1-6アルキル
アミノ基は前記のもの、すなわちメチルアミノ，エチル
アミノ,n−プロピルアミノ,n−ブチルアミノなどを、ジ
C1-6アルキルアミノ基は前記のもの、すなわちジメチル
アミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ−
（ｎ−プロピル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノな
どを、トリC1-6アルキルアンモニウム基は前記のもの、
すなわちトリメチルアンモニウム，トリエチルアンモニ
ウムなどを、C3-10シクロアルキルアミノ基は前記のも
の、すなわちシクロプロピルアミノ，シクロペンチルア
ミノ，シクロヘキシルアミノなどを、C6-10アリールア
ミノ基は前記のもの、すなわちアニリノ,N−メチルアニ
リノなどを、C7-19アラルキルアミノ基は前記のもの、
すなわちベンジルアミノ,1−フェニルエチルアミノ,2−
フェニルエチルアミノ，ベンズヒドリルアミノなどを、
環状アミノ基は前記のもの、うなわちピロリジノ，ピペ
リジノ，ピペラジノ，モルホリノ,1−ピロリルなどを、
ハロゲン原子はここではフッ素，塩素，臭素，ヨウ素な
どを、C1-10アルコキシ−カルボニル基は前記のもの、
すなわちメトキシカルボニル，エトキシカルボニル,n−
プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニル,n−
ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニル,tert−
ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニ
ル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボルニルオ
キシカルボニルなどを、C6-10アリールオキシ−カルボ
ニル基は前記のもの、すなわちフェノキシカルボニル，
ナフチルオキシカルボニルなどを、C7-19アラルキルオ
キシ−カルボニル基は前記のもの、すなわちベンジルオ
キシカルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボニルなど
を、C6-10アリール−アシル+基は前記のもの、すなわち
ベンゾイル，ナフトイル，フタロイル，フェニルアセチ
ルなどを、C1-6アルカノイル基は前記のもの、すなわち
ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリ
ル，ピバロイル，サクシニル，グルタリルなどを、C3-5
アルケノイル基は前記のもの、すなわちアクリロイル，
クロトノイル，マレオイルなどを、C6-10アリール−ア
シル+オキシ基は前記のもの、すなわちベンゾイルオキ
シ，ナフトイルオキシ，フェニルアセトキシなどを、C
2-6アルカノイルオキシ基は前記のもの、すなわちアセ
トキシ，プロピオニルオキシ，ブチリルオキシ，バレリ
ルオキシ，ピバロイルオキシなどを、C3-5アルケノイル
オキシは前記のもの、すなわちアクリロイルオキシ，ク
ロトノイルオキシなどを、カルバモイル※基は前記のも
の、すなわちカルバモイル,N−メチルカルバモイル,N−
エチルカルバモイル,N,N−ジメチルカルバモイル,N−エ
チルカルバモイル,N,N−ジエチルカルバモイル,N−フェ
ニルカルバモイル,N−アセチルカルバモイル,N−ベンゾ
イルカルバモイル,N−（ｐ−メトキシフェニル）カルバ
モイルに加えてピロリジノカルボニル，ピペリジノカル
ボニル，ピペラジノカルボニル，モルホリノカルボニル
などを、チオカルバモイル※基は前記のもの、すなわち
チオカルバモイル,N−メチルチオカルバモイル,N−フェ
ニルチオカルボニルなどを、カルバモイル※オキシ基は
前記のもの、すなわちカルバモイルオキシ,N−メチルカ
ルバモイルオキシ,N,N−ジメチルカルバモイルオキシ,N
−エチルカルバモイルオキシ,N−フェニルカルバモイル
オキシなどを、「C1-6アルカノイルアミノ基」はたとえ
ばアセトアミド，プロピオンアミド，ブチロアミド，バ
レロアミド，ピバロアミドなどを、「C6-10アリール−
アシル+アミノ基」はたとえばベンズアミド，ナフトイ
ルアミド，フタルイミドなどを、「C1-10アルコキシ−
カルボキサミド基」はたとえばメトキシカルボキサミド
（CH3OCONH−），エトキシカルボキサミド,tert−ブト
キシカルボキサミドなどを、「C6-10アリールオキシ−
カルボキサミド基」はたとえばフェノキシカルボキサミ
ド（C6H5OCONH−）などを、「C7-19アラルキルオキシ−
カルボキサミド基」はたとえばベンジルオキシカルボキ
サミド（C6H5CH2OCONH−），ベンズヒドリルオキシカル
ボキサミドなどを表わす。複素環基，複素環オキシ基，
複素環チオ基および複素環アミノ基の複素環基はここで
も複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個とり
のぞいてできる基をいい、そのような複素環は、たとえ
ば窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素原
子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個，好ましくは
１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。この
ような複素環基としてはここでも２−ピロリル以下、具
体的に前記したものがそのままあげられる。したがって
「複素環オキシ基」としてはたとえばチアゾリルオキシ
などが、「複素環チオ基」としてはたとえばチアゾリル
チオなどがあげられる。「複素環アミノ基」としてはた
とえばチアゾリルアミノ，チアジアゾリルアミノなどが
あげられる。
置換された炭化水素残基でより好ましいものは水酸基，
シクロアルキル基，アルコキシ基，アルキルチオ基，ア
ミノ基，トリアルキルアンモニウム基，ハロゲン原子，
カルボキシル基，アルコキシカルボニル基，カルバモイ
ル基，シアノ基，アジド基，複素環基などで１ないし３
個置換されたC1-3アルキル基（C1-3アルキル基はメチ
ル，エチル,n−プロピル，イソプロピルなどをいう）で
あり、それらを具体的にあげると，シクロプロピルメチ
ル，メトキシメチル，エトキシメチル,1−メトキシエチ
ル,2−メトキシエチル,1−エトキシエチル,2−ヒドロキ
シエチル，メチルチオメチル,2−アミノエチル,2−（ト
リメチルアンモニウム）エチル,2−（トリエチルアンモ
ニウム）エチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，
トリフルオロメチル,2−フルオロエチル,2,2−ジフルオ
ロエチル，クロロメチル,2−クロロエチル,2,2−ジクロ
ロエチル,2,2,2−トリクロロエチル,2−ブロモエチル,2
−ヨードエチル,2,2,2−トリフルオロエチル，カルボキ
シメチル,1−カルボキシエチル,2−カルボキシエチル,2
−カルボキシプロピル,3−カルボキシプロピル,1−カル
ボキシブチル，シアノメチル,1−カルボキシ−１−メチ
ルエチル，メトキシカルボニルメチル，エトキシカルボ
ニルメチル,tert−ブトキシカルボニルメチル,1−メト
キシカルボニル−１−メチルエチル,1−エトキシカルボ
ニル−１−メチルエチル,1−tert−ブトキシカルボニル
−１−メチルエチル,1−ベンジルオキシカルボニル−１
−メチルエチル,1−ピバロイルオキシカルボニル−１−
メチルエチル，カルバモイルメチル,2−アジドエチル,2
−（ピラゾリル）エチル,2−（イミダゾリル）エチル,2
−（２−オキソピロリジン−３−イル）エチル,2−アミ
ノ−４−チアゾリルメチル,5−アミノ−［1,2,4］チア
ジアゾール−３−イルメチル,1−カルボキシ−１−（2,
3,4−トリヒドロキシフェニル）メチル,2−オキソ−３
−ピロリジルなどのほか多くのものがあげられる。具体
的にあげた炭化水素残基のうち最も好ましいものはメチ
ル，エチル,n−プロピルなどの直鎖状のC1-3アルキル基
および２−フルオロエチル,2−クロロエチル,2−ヒドロ
キシエチル,2−メトキシエチル，シアノメチル，カルボ
キシメチル,tert−ブトキシカルボニルメチル,1−カル
ボキシ−１−メチルエチル,1−tert−ブトキシカルボニ
ル−１−メチルエチルなどのハロゲン原子，水酸基，ア
ルコキシ基，カルボキシル基，アルコキシカルボニル
基，シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のC1-3アル
キル基およびアリル基，プロパルギル基である。ここで
記号R3′を上に例示した最も好ましい炭化水素残基もし
くは水素原子を表わすものとすると、置換基R0としてア
シル基 ［式中、R22′は複素環※基を示す］を有する本発明の
化合物［Ｉ］はいずれも抗菌活性が特に強く、特に耐性
菌に対して優れた殺菌作用をもつ。また前記したように
複素環※基R22′は式 ［いずれも式中、R1は保護されていてもよいアミノ基
を、R2は水素原子，ハロゲン原子またはニトロ基、好ま
しくは水素原子をそれぞれ示す］のものが最も好まし
く、したがって化合物［Ｉ］としては または ［式中の記号は前記したものを示す］（塩，エステルも
含む）の構造のものが最も好ましい。上記のうち特に
［VII″］が好ましい。
として好ましい例をあげるとたとえば、２−（２−アミ
ノチアゾール−２−イル）−２（Ｚ）−（ヒドロキシイ
ミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチル,2−（２
−クロロアセタミドチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（メトキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（ｎ−プロポキシイミノ）アセチル,2−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（イソプロ
ポキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２（Ｚ）−（ｎ−ブトキシイミノ）アセチ
ル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（ｎ−ヘキシルオキシイミノ）アセチル,2−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（シクロプル
ピルメチルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（ベンジルオキシイ
ミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−（アリルオキシイミノ）アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（プ
ロパルギルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（メトキシメチルオ
キシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−（エトキシメチルオキシイミノ）
アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（１−メトキシエチル）オキシイミノ｝アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（２−メトキシエチル）オキシイミノ｝アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（２−エトキシエチル）オキシイミノ｝アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（１−エトキシエチル）オキシイミノ｝アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（２−ヒドロキシエチル）オキシイミノ｝ア
セチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（メチルチオメチルオキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（２−アミノエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（フ
ルオロメチルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（ジフルオロメチ
ルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−（トリフルオロメチルオキシ
イミノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−｛（２−フルオロエチル）オキシイミ
ノ｝アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２（Ｚ）−｛（2,2−ジフルオロエチル）オキシイミ
ノ｝アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２（Ｚ）−（クロロメチルオキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（２−クロロエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（2,2−ジクロロエチル）オキシイミノ｝アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（2,2,2−トリクロロエチル）オキシイミノ｝アセチ
ル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−｛（２−ブロモエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（２−ヨードエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（2,2,2−トリフルオロエチル）オキシイミノ｝アセ
チル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（カルボキシメチルオキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（１−カルボキシエチルオキシイミノ）アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（２−カルボキシエチル）オキシイミノ｝アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（１−カルボキシプロピルオキシイミノ）アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（３−カルボキシプロピル）オキシイミノ｝アセチ
ル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−｛（１−カルボキシブチル）オキシイミノ｝アセチ
ル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（シアノメチルオキシイミノ）アセチル,2−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−｛（１−カル
ボキシ−１−メチルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（メトキシカルボニルメチルオキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（エトキシカルボニルメチルオキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（tert−ブトキシカルボニルメチル）オキシイミノ｝
アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
｛１−（tert−ブトキシカルボニル）エトキシイミノ｝
アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−｛（１−メトキシカルボニル−１−メチルエチ
ル）オキシイミノ｝アセチル,2−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２（Ｚ）−｛（１−エトキシカルボニ
ル−１−メチルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチルエチ
ル）オキシイミノ｝アセチル,2−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２（Ｚ）−｛１−（tert−ブトキシカ
ルボニル）プロポキシイミノ｝アセチル,2−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−｛（１−ベンジ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチル）オキシイミ
ノ｝アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２（Ｚ）−｛（１−ピバロイルオキシカルボニル−１
−メチルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（カルバモイ
ルメチルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２（Ｚ）−｛（１−（１−カルバ
モイル−１−メチル）エチルオキシイミノ｝アセチル,2
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（２−アジドエチルオキシイミノ）アセチル,2−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（フェノ
キシカルボニルオキシイミノ）アセチル,2−（２−アミ
ノ−５−クロロチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（ヒドロキシイミノ）アセチル,2−（２−アミノ−５−
クロロチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（メトキシ
イミノ）アセチル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾ
ール−４−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセ
チル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−（ｎ−プロポキシイミノ）アセチル,2
−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−｛（２−フルオロエチル）オキシイミノ｝ア
セチル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−
イル）−２（Ｚ）−｛（２−クロロエチル）オキシイミ
ノ｝アセチル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−（カルボキシメチルオキシイ
ミノ）アセチル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾー
ル−４−イル）−２（Ｚ）−｛（tert−ブトキシカルボ
ニルメチル）オキシイミノ｝アセチル,2−（２−アミノ
−５−クロロチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
｛（１−カルボキシ−１−メチルエチル）オキシイミ
ノ｝アセチル,2−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−｛（１−tert−ブトキシカル
ボニル−１−メチルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2
−（２−アミノ−５−ブロモチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル,2−（５−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−
（ヒドロキシイミノ）アセチル,2−（５−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−（メトキ
シイミノ）アセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）
アセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノ）アセチル,2−
（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−
２（Ｚ）−｛（２−フルオロエチル）オキシイミノ｝ア
セチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３
−イル）−２（Ｚ）−｛（２−クロロエチル）オキシイ
ミノ｝アセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−３−イル）−２（Ｚ）−（カルボキシメチルオキ
シイミノ）アセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−３−イル）−２（Ｚ）−｛（１−カルボキシ
−１−メチルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−（５
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−２
（Ｚ）−｛（１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル）オキシイミノ｝アセチル,2−（５−アミノイ
ソキサゾール−３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミ
ノ）アセチル,2−（５−アミノ−1,2,4−オキサジアゾ
ール−３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセ
チル,2−（２−イミノ−３−ヒドロキシチアゾリン−４
−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル,2−
（２−アミノ−３−オキシドチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル,2−チエニル−
２（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチル,2−チエニル−
２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル,2−フリル−２
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチル,2−フリル−２
（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル,2−（1,3,4−チ
アジアゾリル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチ
ル,2−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２（Ｚ）−（エト
キシイミノ）アセチル,2−フェニル−２（Ｚ）−（エト
キシイミノ）アセチル,2−フェニル−２（Ｚ）−（ヒド
ロキシイミノ）アセチル,2−｛ｐ−（γ−Ｄ−グルタミ
ルオキシ）フェニル｝−２（Ｚ）−（ヒドロキシイミ
ノ）アセチル,2−｛ｐ−（３−アミノ−３−カルボキシ
プロポキシ）フェニル｝−２（Ｚ）−（ヒドロキシイミ
ノ）アセチル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２（Ｚ）−｛（２−アミノチアゾール−４−イルメチ
ル）オキシイミノ｝アチル,2−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−｛（５−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−５−イルメチル）オキシイミノ｝アセチ
ル,2−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−｛１−カルボキシ−１［（2,3,4−トリヒドロキシ）
フェニル］メチルオキシイミノ｝アセチル,2−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−｛（２−オキ
ソ−３−ピロリジルメチル）オキシイミノ｝アセチルな
どが例示される。
以上、アシル基（Rb）のひとつとして述べてきたC1-6ア
ルカノイル※基には上記のC1-6アルカノイル基，複素環
※CO-CO−，R15CH2 のほか、トリフルオロアセチル,4−カルボキシブチリ
ル,5−アミノ−５−カルボキシバレリル,5−オキソ−５
−カルボキシバレリル,N−｛２−（２−アミノ−４−チ
アゾリル）−２（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチル｝
−Ｄ−アラニル,N−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル−２（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチル｝−Ｄ−フ
ェニルグリシル,2−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２（Ｚ）
−（メトキシイミノ）アセタミド｝アセチルなども含ま
れる。
C1-6アルカノイル※基以外のアシル基（Rb）としてのC
3-5アルケノイル※基としてはここでも前記したアクリ
ロイル，クロトノイル，マレオイル，シンナモイル,p−
クロロシンナモイル，β−フェニルシンナモイルなど
が、C3-10シクロアルキル−カルボニル基としてはここ
でも前記したシクロプロピルカルボニル，シクロブチル
カルボニル，シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシ
ルカルボニル，シクロヘプチルカルボニル，アダマンチ
ルカルボニルなどが、C5-6シクロアルケニル−カルボニ
ル基としてはここでも前記したシクロペンテニルカルボ
ニル，シクロペンタジエニルカルボニル，シクロヘキセ
ニルカルボニル，シクロヘキサジエニルカルボニルなど
が、C6-10アリール※カルボニル基としてはここでもベ
ンゾイル，ナフトイル,p−トルオイル,p−tert−ブチル
ベンゾイル,p−ヒドロキシベンゾイル,p−メトキシベン
ゾイル,p−tert−ブトキシベンゾイル,p−クロロベンゾ
イル,p−ニトロベンゾイルなどが、「複素環※カルボニ
ル基」としてはたとえば、２−または３−ピロリルカル
ボニル,3−,4−または５−ピラゾリルカルボニル,2−,4
−または５−イミダゾリルカルボニル,1,2,3−または1,
2,4−トリアゾリルカルボニル,1H−または2H−テトラゾ
リルカルボニル,2−または３−フリルカルボニル,2−ま
たは３−チエニルカルボニル,2−,4−または５−オキサ
ゾリルカルボニル,3−,4−または５−イソキサゾリルカ
ルボニル,1,2,3−オキサジアゾール−４−または５−イ
ルカルボニル,1,2,4−オキサジアゾール−３−または５
−イルカルボニル,1,2,5−または1,3,4−オキサジアゾ
リルカルボニル,2−,4−または５−チアゾリルカルボニ
ル,2−アミノ−４−チアゾリルカルボニル,3−,4−また
は５−イソチアゾリルカルボニル,1,2,3−チアジアゾー
ル−４−または５−イルカルボニル,1,2,4−チアジアゾ
ール−３−または５−イルカルボニル,5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−３−イルカルボニル,1,2,5−また
は1,3,4−チアジアゾールカルボニル,2−または３−ピ
ロリジニルカルボニル,2−,3−または４−ピリジルカル
ボニル,2−,3−または４−ピリジルカルボニル−Ｎ−オ
キシド,3−または４−ピリダジニルカルボニル,3−また
は４−ピリダジニルカルボニル−Ｎ−オキシド,2−,4−
または５−ピリミジニルカルボニル,2−,4−または５−
ピリミジニルカルボニル−Ｎ−オキシド，ピラジニルカ
ルボニル,2−,3−または４−ピペリジニルカルボニル，
ピペラジニルカルボニル,3H−インドール−２−または
３−イルカルボニル,2−,3−または４−ピラニルカルボ
ニル,2−,3−または４−チオピラニルカルボニル，ベン
ゾピラニルカルボニル，キノリルカルボニル，ピリド
［2,3−ｄ］ピリミジルカルボニル,1,5−,1,6−,1,7−,
1,8−,2,6−または2,7−ナフチリジルカルボニル，チエ
ノ［2,3−ｂ］ピリジルカルボニル，ピリミドピリジル
カルボニル，ピラジノキノリルカルボニル,3−（2,6−
ジクロロフェニル）−５−メチルイソキサゾール−４−
イルカルボニルなどがあげられる。
置換基R0としてのアミノ基の保護基（以後、記号Rcで表
わす場合もある）は、記号R1で表わされる保護されてい
てもよいアミノ基の保護基として前記したフタロイル
基，C1-6アルキル※スルホニル基，カンファースルホニ
ル基，C6-10アリール※スルホニル基，置換オキシカル
ボニル基，カルバモイル※基，チオカルバモイル※基，
C6-10アリール※メチル基，ジC6-10アリール※メチル
基，トリC6-10アリール※メチル基，C6-10アリール※メ
チレン基，C6-10アリール※チオ基，置換シリル基,2−C
1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エテニ
ル基などがここでものそのままあげられ、なかでも、フ
タロイル基，置換オキシカルボニル基，C6-10アリール
※メチル基，ジC6-10アリール※メチル基，トリC6-10ア
リール※メチル基がより好ましい。したがって置換基R0
としてのアミノ基の保護基として具体的には、フタロイ
ル，メトキシカルボニル，エトキシカルボニル,n−プロ
ポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニル,n−ブト
キシカルボニル,tert−ブトキシカルボニル，シクロヘ
キシルオキシカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニ
ル，フェノキシカルボニル，ナフチルオキシカルボニ
ル，ベンジルオキシカルボニル，メトキシメチルオキシ
カルボニル，アセチルメチルオキシカルボニル,2−トリ
メチルシリルエトキシカルボニル,2−メタンスルホニル
エトキシカルボニル,2,2,2−トリクロロエトキシカルボ
ニル,2−シアノエトキシカルボニル,p−メチルフェノキ
シカルボニル,p−メトキシフェノキシカルボニル,p−ク
ロロフェノキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカ
ルボニル,p−メトキシベンジルオキシカルボニル,p−ク
ロロベンジルオキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボニル，シク
ロプロピルオキシカルボニル，シクロペンチルオキシカ
ルボニル，シクロヘキシルカルボニル，ベンジル，ナフ
チルメチル,p−メチルベンジル,p−メトキシベンジル,p
−クロロベンジル,p−ニトロベンジル，ベンズヒドリ
ル，ジ（ｐ−トリル）メチル，トリチルなどがあげられ
る。
本発明の化合物［Ｉ］において置換基R4は水素原子，メ
トキシ基またはホルムアミド基（HCONH−）、好ましく
は水素原子を表わす。
本発明の化合物［Ｉ］において置換基R13は水素原子，
メチル基，水酸基またはハロゲン原子、好ましくは水素
原子を表わす。ここでハロゲン原子はフッ素，塩素，臭
素，ヨウ素をいう。
化合物［Ｉ］において置換基Ａは、置換されていてもよ
い、Ｃ−Ｎ結合を共有するイミダゾールまたはピラゾー
ルと５または６員含窒素芳香族複素環との縮合環基を表
わす。ここでＣ−Ｎ結合を共有するイミダゾールまたは
ピラゾールと５または６員含窒素芳香族複素環との縮合
環基（以後、縮合環基A0と略す）はイミダゾール環また
はピラゾール環と５または６員含窒素芳香族複素環がＣ
−Ｎ結合を共有して縮合した環（以後、縮合環A0と略
す）の炭素原子に結合する水素原子１個をとりのぞいて
できる基をいう。縮合環A0を構成する５または６員含窒
素芳香族複素環（以後、環Ｂまたは単にＢと略す）は環
構成原子として炭素原子および窒素原子のほかに酸素原
子および／または硫黄原子を含んでいてもよい５または
６員の芳香族複素環をいう。したがって縮合環A0は下記
の一般式A1,A2またはA3で表わすことができる。
縮合環A1〜A3の は該縮合環が芳香族環であることを示す。縮合環基A0は
上記の縮合環A1〜A3の炭素原子に結合する水素原子を１
個とりのぞいてできる基であり、以後それぞれを縮合環
基A1，縮合環基A2，縮合環基A3と略すこともある。前記
したように置換基Ａは置換されていてもよい縮合環基A0
を表わす。すなわち置換基Ａは置換されていてもよい縮
合環基A1，縮合環基A2または縮合環基A3である。縮合環
基A1,A2またはA3上の置換基は縮合環を構成する炭素原
子のうち結合手を有しない炭素原子に結合する置換基で
ある。縮合環基A0すなわち縮合環基A1,A2,A3上の置換基
の具体例については後記する。縮合環基の結合手はイミ
ダゾール環・ピラゾール環上の炭素原子から出ていても
よい、また、環Ｂ上の炭素原子から出ていてもよい。
縮合環基A1を構成する縮合環A1としては具体的にはつぎ
のようなものがあげられる。
縮合環基A2を構成する縮合環A2としては具体的にはつぎ
のようなものがあげられる。
縮合環基A3を構成する縮合環A3としては具体的にはつぎ
のようなものがあげられる。
縮合環基A1,A2,A3上の置換基としてはたとえば水酸基，
ヒドロキシC1-6アルキル基，C1-6アルキル基，C2-6アル
ケニル基，C2-6アルキニル基，C4-6アルカジエニル基，
C3-10シクロアルキル基，C5-6シクロアルケニル基，C
3-10シクロアルキルC1-6アルキル基，C6-10アリール
基、C7-12アラルキル基，ジC6-10アリールメチル基，ト
リC6-10アリールメチル基，複素環基，C1-6アルコキシ
基，C1-6アルコキシ−C1-6アルキル基，C3-10シクロア
ルキルオキシ基，C6-10アリールオキシ基，C7-19アラル
キルオキシ基，メルカプト基，メルカプトC1-6アルキル
基，スルホ基，スルホC1-6アルキル基，C1-6アルキルチ
オ基，C1-6アルキルチオC1-6アルキル基，C3-10シクロ
アルキルチオ基，C6-10アリールチオ基，C7-19アラルキ
ルチオ基，アミノ基，アミノC1-6アルキル基，モノC1-6
アルキルアミノ基，ジC1-6アルキルアミノ基，モノC1-6
アルキルアミノC1-6アルキル基，ジC1-6アルキルアミノ
C1-6アルキル基，C3-10シクロアルキルアミノ基，C6-10
アリールアミノ基，C7-19アラルキルアミノ基，環状ア
ミノ基，環状アミノC1-6アルキル基，環状アミノC1-6ア
ルキルアミノ基，アジド基，ニトロ基，ハロゲン原子，
ハロゲノC1-6アルキル基，シアノ基，シアノC1-6アルキ
ル基，カルボキシル基，カルボキシC1-6アルキル基，C
1-10アルコキシ−カルボニル基，C1-10アルコキシ−カ
ルボニルC1-6アルキル基，C6-10アリールオキシ−カル
ボニル基、C7-19アラルキルオキシ−カルボニル基，C
6-10アリール−アシル+基，C1-6アルカノイル基，C2-6
アルカノイルC1-6アルキル基，C3-5アルケノイル基，C
6-10アリール−アシル+オキシ基，C2-6アルカノイルオ
キシ基，C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキル基，C3-5
アルケノイルオキシ基，カルバモイルC1-6アルキル基，
カルバモイル※基，チオカルバモイル※基，カルバモイ
ル※オキシ基，カルバモイルオキシC1-6アルキル基，C
1-6アルカノイルアミノ基，C6-10アリール−アシル+ア
ミノ基，スルホンアミド基，カルボキシアミノ基，C
1-10アルコキシ−カルボキサミド基，C6-10アリールオ
キシ−カルボキサミド基，C7-19アラルキルオキシ−カ
ルボキサミド基などがあげられる。上記の置換基中、
「C4-6アルカジエニル基」はたとえば、1,3−ブタジエ
ニルなどを、「C3-10シクロアルキルC1-6アルキル基」
はたとえば、シクロペンチルメチル，シクロヘキシルメ
チルなどを、ハロゲン原子はここでフッ素，塩素，臭素
などをそれぞれ表わす。その他の基はすべて前記のもの
がここでもそのままあげられる。
好ましくは、C1-6アルキル基，アミノC1-6アルキル基，
モノC1-6アルキルアミノ基，ジC1-6アルキルアミノ基，
モノC1-6アルキルアミノC1-6アルキル基，ジC1-6アルキ
ルアミノC1-6アルキル基，ニトロ基，ハロゲン原子，シ
アノ基，カルボキシル基またはカルバモイル基である。
特に好ましくはC1-6アルキル基である。
これらの置換基は同一または異なって複数個（最大限５
個まで）、好ましくは１〜２個置換されていてもよい。
また隣接する２個の置換基があわさって脂環，芳香環，
複素環を形成していてもよい。そのような例として具体
的にはつぎのようなものがあげられる。
縮合環A0を構成する環Ｂはピリジン環，ピリダジン環，
ピリミジン環，ピラジン環であるものがより好ましい。
したがってより好ましい縮合環A1は、 であり、より好ましい縮合環A2は であり、より好ましい縮合環A3は である。
上記のうち最も好ましくは である。
縮合環基A0は縮合環A0を構成する炭素原子に結合する水
素原子１個をとり除いてできる基であり、例えば縮合環 に対応する縮合環基は、 である。
化合物［Ｉ］は塩もしくはエステルであってもよい。化
合物［Ｉ］の塩のうち、特に薬理学的に受容される塩は
化合物［Ｉ］を抗菌剤として使用する際に用いられる塩
であり、その他の塩は合成中間体として利用できる塩で
ある。
化合物［Ｉ］の塩としては無機塩基塩，アンモニウム
塩，有機塩基塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩，塩基性
アミノ酸塩などがあげられる。無機塩基塩を生成させう
る無機塩基としてはアルカリ金属（たとえばナトリウ
ム，カリウムなど），アルカリ土類金属（たとえばカル
シウムなど）などが、有機塩基塩を生成させうる有機塩
基としてはたとえばプロカイン,2−フェニルエチルベン
ジルアミン，ジベンジルエチレンジアミン，エタノール
アミン，ジエタノールアミン，トリスヒドロキシメチル
アミノメタン，ポリヒドロキシアルキルアミン,N−メチ
ルグルコサミンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無
機酸としてはたとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，
リン酸などが、有機酸付加塩を生成させうる有機酸とし
てはたとえばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホン
酸，ギ酸，トリフルオロ酢酸，マレイン酸などが、塩基
性アミノ酸塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはた
とえばリジン，アルギニン，オルニチン，ヒスチジンな
どがあげられる。これらの塩のうち塩基塩（すなわち無
機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，塩基性アミノ
酸塩）は化合物［Ｉ］の４位のカルボキシル基において
形成しうる塩基塩もしくは、化合物［Ｉ］の置換基R0も
しくは置換基Ａ中にカルボキシル基，スルホ基などの酸
性基が存在する場合に形成しうる塩基塩を意味し、酸付
加塩（すなわち無機酸付加塩，有機酸付加塩）は化合物
［Ｉ］の置換基R0もしくは置換基Ａ中にアミノ基，モノ
アルキルアミノ基，ジアルキルアミノ基，シクロアルキ
ルアミノ基，アリールアミノ基，アラルキルアミノ基，
環状アミノ基，含窒素複素環基などの塩基性塩が存在す
る場合に形成しうる酸付加塩を意味する。
化合物［Ｉ］のエステル誘導体は分子中に含まれるカル
ボキシル基，なかんづく４位のカルボキシル基をエステ
ル化することにより生成されうるエステルを意味し、合
成中間体として利用できるエステルおよび経口投与に適
した代謝上不安定な無毒のエステルである。合成中間体
として利用できるエステルとしてはC1-6アルキル※エス
テル，C2-6アルケニルエステル，C3-10シクロアルキル
エスエル，C3-10シクロアルキルC1-6アルキルエスエ
ル，C6-10アリール※エステル，C7-12アラルキル※エス
テル，ジC6-10アリール−メチルエステル，トリC6-10ア
リール−メチルエステル，置換シリルエステルなどがあ
げられる。C1-6アルキル※エステルを形成する「C1-6ア
ルキル※基」としてはたとえば、メチル，エチル,n−プ
ロピル，イソプロピル,n−ブチル，イソブチル,sec−ブ
チル,tert−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシル，ベンジ
ルオキシメチル,2−メチルスルホニルエチル,2−トリメ
チルシリルエチル,2,2,2−トリクロロエチル,2−ヨード
エチル，アセチルメチル,p−ニトロベンゾイルメチル,p
−メシルベンゾイルメチル，フタルイミドメチル，サク
シンイミドメチル，ベンゼンスルホニルメチル，フェニ
ルチオメチル，ジメチルアミノエチル，ピリジン−１−
オキシド−２−メチル，メチルスルフィニルメチル,2−
シアノ−1,1−ジメチルエチルなどを、C2-6アルケニル
エステルを形成するC2-6アルケニル基としてはここでも
前記のもの、すなわちビニル，アリル,1−プロペニル，
イソプロペニル,1−ブテニル,2−ブテニル,3−ブテニ
ル，メタリル、1,1−ジメチルアリル,3−メチル−３−
ブテニルなどを、C3-10シクロアルキルエステルを形成
するC3-10シクロアルキル基としてはここでも前記のも
の、すなわちシクロプロピル，シクロブチル，シクロペ
ンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，ノルボルニ
ル，アダマンチルなどを、C3-10シクロアルキルC1-6ア
ルキルエステルを形成するC3-10シクロアルキルC1-6ア
ルキル基としてはここでも前記のもの、すなわちシクロ
プロピルメチル，シクロペンチルメチル，シクロヘキシ
ルメチルなどを、C6-10アリール※エステルを形成する
「C6-10アリール※基」としてはたとえばフェニル，α
−ナフチル，β−ナフチル，ビフェニリル,p−ニトロフ
ェニル,p−クロロフェニルなどを、C7-12アラルキル※
エステルを形成する「C7-12アラルキル※基」としては
たとえば、ベンジル,1−フェニルエチル,2−フェニルエ
チル，フェニルプロピル，ナフチルメチル,p−ニトロベ
ンジル,p−メトキシベンジル,1−インダニル，フェナシ
ル,3,5−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシベンジルなど
を、ジC6-10アリール−メチルエステルを形成するジC
6-10アリール−メチル基としてはここでも前記のもの、
すなわちベンズヒドリル，ビス（ｐ−メトキシフェニ
ル）メチルなどを、トリC6-10アリール−メチルエステ
ルを形成するトリC6-10アリール−メチル基としてはこ
こでも前記のもの、すなわちトリチルなどを、置換シリ
ルエステルを形成する置換シリル基としてはここでも前
記のもの、すなわちトリメチルシリル,tert−ブチルジ
メチルシリル，−Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2−などをそれ
ぞれ表わす。
代謝上不安定な無毒のエステルとしては特に経口投与用
のペニシリン，セファロスポリンの分野ですでに確立さ
れているもの本発明においても便宜に採用されうる。こ
のような代謝上不安定な無毒のエステルとしては、たと
えばC2-6アルカノイルオキシC1-6アルキルエステル,1−
（C1-6アルコキシ）C1-6アルキルエステル,1−（C1-6ア
ルキルチオ）C1-6アルキルエステル,1−（C1-6アルコキ
シカルボニルオキシ）C1-6アルキルエステルなどがあげ
られ、C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキルエステルと
してはたとえば、アセトキシメチルエステル,1−アセト
キシエチルエステル,1−アセトキシブチルエステル,2−
アセトキシエチルエステル，プロピオニルオキシメチル
エステル，ピバロイルオキシメチルエステル,1−（２−
メチル−２−メトキシプロピオニルオキシ）エチルエス
テルなどが、１−（C1-6アルコキシ）C1-6アルキルエス
テルとしてはたとえば、メトキシメチルエステル，エト
キシメチルエステル，イソプロポキシメチルエステル,1
−メトキシエチルエステル,1−エトキシエチルエステル
などが、１−（C1-6アルキルチオ）C1-6アルキルエステ
ルとしてはたとえば、メチルチオメチルエステル，エチ
ルチオメチルエステルなどが、１−（C1-6アルコキシカ
ルボニルオキシ）C1-6アルキルエステルとしてはたとえ
ば１−（エトキシカルボニルオキシ）エチルエステル,1
−（tert−ブトキシカルボニルオキシ）エチルエステル
などがそれぞれあげられる。上記したもののほか、フタ
リジルエステルもあげられる。本発明は上記エステル誘
導体のほかに、生体内において化合物［Ｉ］に変換され
る薬理学的に受容しうる化合物も包含する。
上記エステルのうち特にこのましくは、C2-6アルカノイ
ルオキシC1-6アルキルエステルである。
また化合物［Ｉ］が水酸基を有する場合、その水酸基は
保護されていてもよい。水酸基の保護基としては、β−
ラクタムおよび有機化学の分野で通常、水酸基の保護基
として使用しうるものはすべて利用でき、前記のC2-6ア
ルカノイル基，置換オキシカルボニル基,tert−ブチル
基，C7-12アラルキル※基，ジC6-10アリール−メチル
基，トリC6-10アリール−メチル基,1−（C1-6アルコキ
シ）C1-6アルキル基,1−（C1-6アルキルチオ）C1-6アル
キル基，置換シリル基などのほか、たとえば２−テトラ
ヒドロピラニル,4−メトキシ−４−テトラヒドロピラニ
ルなどのアセタール残基などが用いられる。
化合物［Ｉ］が前記したアミノ基以外のアミノ基をさら
に有する場合、そのアミノ基もやはり保護されていても
よい。このようなアミノ基の保護基としては、前記のア
ミノ基の保護基がここでもそのままあげられる。
本発明の化合物［Ｉ］またはその塩もしくはエステルの
製造法を以下に詳しく述べる。以下に述べる方法は反応
自体としてはいずれも公知であり、それらの公知方法ま
たはそれらに準ずる方法を応用することができる。
下記に述べる化合物の塩，エスエルは特にことわりのな
い限り化合物［Ｉ］と同様のものが用いられる。
製造法（１）：化合物［II］（化合物［Ｉ］，R0＝水素
原子）の合成法 たとえば、一般式 ［式中、R5は水酸基，アシルオキシ基，カルバモイルオ
キシ基，置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子
を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わされる
化合物またはその塩もしくはエステルと一般式ASH［式
中、Ａは置換されていてもよい、Ｃ−Ｎ結合を共有する
イミダゾールまたはピラゾールと５または６員含窒素芳
香族複素環との結合環基を示す］で表わされるチオール
化合物またはその塩とを反応させることにより７−アミ
ノ化合物［II］を合成することができる。すなわち次の
反応式で示される。
［式中の記号は前記と同意義を示す］ ここで原料となる化合物［IX］または塩もしくはエステ
ルは公知の方法もしくはそれに準ずる方法を用いて容易
に入手しうる化合物である。化合物［IX］の塩，エステ
ルについては化合物［II］の塩，エステルとして後記す
るものと同じ塩，エステルがここでもあげられる。
前記R5で表わされるアシルオキシ基は前記のアシル※オ
キシ基がここでも用いられるが、とりわけアセトキシ，
クロロアセトキシ，プロピオニルオキシ，ブチリルオキ
シ，ピバロイルオキシ,3−オキソブチリルオキシ,4−ク
ロロ−３−オキソブチリルオキシ,3−カルボキシプロピ
オニルオキシ,4−カルボキシブチリルオキシ,3−エトキ
シカルバモイルプロピオニルオキシ，ベンゾイルオキ
シ,o−カルボキシベンゾイルオキシ,o−（エトキシカル
ボニルカルバモイル）ベンゾイルオキシ,o−（エトキシ
カルボニルスルファモイル）ベンゾイルオキシなどが好
ましい。記号R5で表わされる置換カルバモイルオキシ基
は前記のものがここでも用いられるが、とりわけメチル
カルバモイルオキシ,N,N−ジメチルカルバモイルオキシ
などが好ましい。記号R5で表わされるハロゲン原子は塩
素，臭素，ヨウ素などが好ましい。またチオール化合物
ASHとその塩については後に詳記する。
本反応は７位−アミノ基が保護されていても上記と同様
に反応が進行して製造法（４）に記載する方法で合成さ
れる化合物と同一の化合物が得られ、反応後、要すれば
保護基の脱離を行うことにより同じく７−アミノ化合物
［II］に導くことができる。
製造法（２）：化合物［Ia］（化合物［Ｉ］R0＝Ra；Ra
は含窒素複素環基を示す）の合成法 たとえば （２−１）：製造法（１）で得られる７−アミノ化合物
［II］またはその塩もしくはエステル（塩，エステルに
ついては後記する）と一般式RaHal（Raは含窒素複素環
基,Halはフッ素，塩素，臭素，ヨウ素などのハロゲン原
子を、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその塩
とを反応させることにより化合物［Ia）を合成すること
ができる。すなわち次の反応式で示される。
［式中、Raは含窒素複素環基を、他の記号は前記と同意
義を示す］ 化合物RaHalのハロゲン原子（Hal）としてはフッ素が最
も繁用される。化合物RaHalの塩としてはたとえば塩酸
塩，臭化水素酸塩，硫酸塩，硝酸塩，リン酸塩，などの
無機酸付加塩，ギ酸塩，酢酸塩，トリフルオロ酢酸塩，
メタンスルホン酸塩,p−トルエンスルホン酸塩などの有
機酸付加塩などがあげられる。反応は一般的には水もし
くは含水溶媒中，室温（約15〜30℃、以下同じ）で化合
物RaHalまたはその塩と７−アミノ化合物［II］または
その塩もしくはエステルを混合することにより行なわれ
る。化合物RaHalが化合物［II］と反応する前に加水分
解されるのを防ぐため、反応液のpHの調節が必要であ
る。至適pHは６〜8.5である。反応によって生成するハ
ロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤を用い
てもよい。このような脱酸剤としてはたとえば、炭酸ナ
トリウム，炭酸カリウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナ
トリウムなどの無機塩基，たとえばトリエチルアミン，
トリ（ｎ−プロピル）アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミ
ン，ジイソプロピルエチルアミン，シクロヘキシルジメ
チルアミン，ピリジン，ルチジン，γ−コリジン,N,N−
ジメチルアニリン,N−メチルピペリジン,N−メチルピロ
リジン,N−メチルモルホリンなどの第３級アミン，たと
えばプロピレンオキシド，エピクロルヒドリンなどのア
ルキレンオキシド類などがあげられる。また、アルカリ
性になりすぎるのを防ぐために、塩酸，臭化水素酸，硫
酸，硝酸，リン酸などの無機酸を使用する場合もある。
含水溶媒を使用する場合、水と混合して用いられる有機
溶媒としてはたとえばジオキサン，テトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル,tert−ブチルエチルエーテル，
ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類，ホルムアミ
ド,N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類，たとえばアセトン，メチルエチル
ケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類などの
ほかジメチルスルホキシド，スルホラン，ヘキサメチル
ホスホルアミドなどがあげられる。化合物RaHalの使用
量は７−アミノ化合物［II］１モルに対して通常約１〜
３モル，好ましくは約１〜２モルである。反応時間は７
−アミノ化合物［II］と化合物RaHalの種類，溶媒の種
類，反応温度などに依存し、通常約１分〜48時間，好ま
しくは約15分〜３時間である。
化合物RaHalおよびその塩は公知の方法もしくはそれに
準ずる方法により容易に合成することができる。
本方法によりたとえば次式の化合物が合成できる。
［式中の記号は前記と同意義］ 化合物RaHalが活性すぎて加水分解されやすい場合は、
たとえば無水のジメチルスルホキシド中，たとえば無水
のトリエチルアミンなどの有機塩基の存在下に反応を行
なってもよい。この方法によりたとえば次式の化合物が
合成できる。
［式中の記号は前記と同意義］ また、たとえばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホ
ン酸，エタンスルホン酸，酢酸，酪酸，炭酸などの有機
酸もしくは塩酸，硫酸などの無機酸の存在下に上記の反
応を行なう場合もある。この場合も化合物RaHalのハロ
ゲン原子（Hal）としてはフッ素が最も繁用される。反
応は通常ジメチルホルムアミド，テトラヒドロフラン，
ジオキサン，クロロホルム，メタノール，アセトニトリ
ル，ベンゼン，アセトン，水などの溶媒中もしくはそれ
らの混合溶媒中で行なわれる。反応温度は約０〜150
℃，好ましくは約20〜80℃である。反応時間は通常約30
分〜20時間である。この方法によりたとえば次式の化合
物が合成できる。
［式中の記号は前記と同意義］ （２−２）：製造法（１）で使用した原料化合物［IX］
またはその塩もしくはエステルを化合物RaHalまたはそ
の塩と反応させたのち、チオール化合物ASH［式中、Ａ
は前記と同意義を示す］またはその塩を反応させること
により化合物［Ia］を合成することもできる。すなわち
次の反応式で示される。
［式中、Raは含窒素複素環基を、他の記号は前記と同意
義を示す］原料化合物［IX］とその塩もしくはエステ
ル，化合物RaHalとその塩については前記したものがこ
こでもあげられる。チオール化合物ASHとその塩につい
ては後に詳記する。反応は製造法（２−１）および製造
法（１）で述べた方法をそのまま応用することができ
る。
製造法（３）：化合物［Ib］（化合物［Ｉ］，R0＝Rb；
Rbはアシル基を示す）の合成法 たとえば （３−１）：製造法（１）で得られる７−アミノ化合物
［II］またはその塩もしくはエステルと一般式RbOH［式
中、Rbはアシル基を示す］で表わされるカルボン酸また
はその塩もしくは反応性誘導体とを反応させることによ
り化合物［Ib］を合成することができる。すなわち次の
反応式で示される。
［式中、Rbはアシル基を、他の記号は前記と同意義を示
す］ 本法は７−アミノ化合物［II］をカルボン酸RbOHまたは
その塩もしくは反応性誘導体でアシル化する方法であ
る。この方法においてカルボン酸RbOHは遊離のままある
いはその塩もしくは反応性誘導体が７−アミノ化合物
［II］の７位アミノ基のアシル化剤として用いられる。
すなわち遊離酸RbOHあるいは遊離酸RbOHの無機塩基塩，
有機塩基塩，酸ハライド，酸アジド，酸無水物，混合酸
無水物，活性アミド，活性エステル，活性チオエステル
などの反応性誘導体がアシル化反応に供される。無機塩
基塩としてはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩，
カリウム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえばカル
シウム塩など）などが、有機塩基塩としてはたとえばト
リメチルアミン塩，トリエチルアミン塩,tert−ブチル
ジメチルアミン塩，ジベンジルメチルアミン塩、ベンジ
ルジメチルアミン塩,N,N−ジメチルアニリン塩，ピリジ
ン塩，キノリン塩などが，酸ハライドとしてはたとえば
酸クロライド，酸ブロマイドなどが，混合酸無水物とし
ては、モノC1-6アルキル炭酸混合酸無水物（たとえば遊
離酸RbOHとモノメチル炭酸，モノエチル炭酸，モノイソ
プロピル炭酸，モノイソブチル炭酸，モノtert−ブチル
炭酸，モノベンジル炭酸，モノ（ｐ−ニトロベンゼン）
炭酸，モノアリル炭酸などとの混合酸無水物），C1-6脂
肪族カルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸RbOHと酢
酸，トリクロロ酢酸，シアノ酢酸，プロピオン酸，酪
酸，イソ酪酸，吉草酸，イソ吉草酸，ピバル酸，トリフ
ルオロ酢酸，トリクロロ酢酸，アセト酢酸などとの混合
酸無水物），C7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物（た
とえば遊離酸RbOHと安息香酸,p−トルイル酸、ｐ−クロ
ロ安息香酸などとの混合酸無水物），有機スルホン酸混
合酸無水物（たとえば遊離酸RbOHとメタンスルホン酸，
エタンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸,n−トルエンス
ルホン酸などとの混合酸無水物）などが，活性アミドと
しては含窒素複素環化合物とのアミド（たとえば遊離酸
RbOHとピラゾール，イミダゾール，ベンゾトリアゾール
などとの酸アミドで，これらの含窒素複素環化合物は前
記のC1-6アルキル基，C1-6アルコキシ基，ハロゲン原
子，オキソ基，チオキソ基，C1-6アルキルチオ基などで
置換されていてもよい）などがあげられる。活性エステ
ルとしてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものはすべて利用でき，たとえば有
機リン酸エステル（たとえばジエントキシリン酸エステ
ル，ジフェノキシリン酸エステルなど）のほかｐ−ニト
ロフェニルエステル,2,4−ジニトロフェニルエステル，
シアノメチルエステル，ペンタクロロフェニルエステ
ル,N−ヒドロキシサクシンイミドエステル,N−ヒドロキ
シフタルイミドエステル,1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル,6−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾールエステル,1−ヒドロキシ−1H−２−ピリドンエス
テルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳香
族複素環チオール化合物とのエステル（たとえば２−ピ
リジルチオールエスエル,2−ベンゾチアゾリルチオール
エステルなどで、これらの複素環は前記のC1-6アルキル
基、C1-6アルコキシ基，ハロゲン原子，C1-6アルキルチ
オ基などで置換されていてもよい）があげられる。一
方、７−アミノ化合物［II］は遊離のまま，その塩あり
はエステルとして用いられる。７−アミノ化合物［II］
の塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩などがあげられる。無
機塩基塩としてはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム
塩，カリウム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえば
カルシウム塩など）などが、有機塩基塩としてはたとえ
ばトリメチルアミン塩，トリエチルアミン塩,tert−ブ
チルジメチルアミン塩，ジベンジルメチルアミン塩，ベ
ンジルジメチルアミン塩,N,N−ジメチルアニリン塩，ピ
リジン塩，キノリン塩などが，無機酸付加塩としてはた
とえば塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸塩，硝酸塩，リン酸
塩などが、有機酸付加塩としてはギ酸塩，酢酸塩，トリ
フルオロ酢酸塩，メタンスルホン酸塩,p−トルエンスル
ホン酸塩などがあげられる。７−アミノ化合物［II］の
エステルとしては化合物［Ｉ］のエステル誘導体として
すでに述べたエステルがここでもそのままあげられる。
すなわちC1-6アルキル※エステル，C2-6アルケニルエス
テル，C3-10シクロアルキルエステル，C3-6シクロアル
キルC1-6アルキルエステル，C6-10アリール※エステ
ル，C7-12アラルキル※エステル，ジC6-10アリールメチ
ルエステル，トリC6-10アリールメチルエステル，C2-6
アルカノイルオキシC1-6アルキルエステルなどがあげら
れる。原料物質RbOHおよびその塩，反応性誘導体は公知
の方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造でき
る。化合物RbOHの反応性誘導体は反応混合物から単離さ
れた物質として７−アミノ化合物［II］と反応させても
よいし，または単離前の化合物RbOHの反応性誘導体を含
有する反応混合物をそのまま７−アミノ化合物［II］と
反応させることもできる。カルボン酸RbOHを遊離酸また
は塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤を用いる。縮
合剤としてはたとえばN,N′−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのN,N′−ジ置換カルボジイミド類，たと
えばN,N′−カルボニルジイミダゾール,N,N′−チオカ
ルボニルジイミダゾールなどのアゾライド類，たとえば
Ｎ−エトキシカルボニル−２−エトキシ−1,2−ジヒド
ロキノリン，オキシ塩化リン，アルコキシアセチレンな
どの脱水剤，たとえば２−クロロピリジニウムメチルア
イオダイド,2−フルオロピリジニウムメチルアイオダイ
ドなどの２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられ
る。これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸Rb
OHの反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は
一般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒が適宜
に選択される。このような溶媒としてはたとえばジオキ
サン，テトラヒドロフラン，ジエチルエーテル,tert−
ブチルメチルエーテル，ジイソプロピルエーテル、エチ
レングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類，
たとえばギ酸エチル，酢酸エチル，酢酸ｎ−ブチルなど
のエステル類，たとえばジクロロメタン，クロロホル
ム，四塩化炭素，トリクレン,1,2−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類，たとえばｎ−ヘキサン，ベン
ゼン，トルエンなどの炭化水素類，たとえばホルムアミ
ド,N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類，たとえばアセトン，メチルエチル
ケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類，たと
えばアセトニトリル，プロピオニトリルなどのニトリル
類などのほか，ジメチルスルホキシド，スルホラン，ヘ
キサメチルホスホルアミド，水などが単独または混合溶
媒として用いられる。アシル化剤（RbOH）の使用量は７
−アミノ化合物［II］１モルに対して通常約１〜５モ
ル，好ましくは約１〜２モルである。反応は約−80〜80
℃，好ましくは約−40℃〜50℃，最も好ましくは約−30
〜30℃の温度範囲で行われる。反応時間は化合物［II］
およびカルボン酸RbOHの種類，溶媒の種類（混合溶媒の
場合はその混合比も），反応温度などに依存し、通常約
１分〜72時間，好ましくは約15分〜３時間である。アシ
ル化剤として酸ハライドを用いた場合は放出されるハロ
ゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存在下
に反応を行うことができる。このような脱酸剤としては
たとえば炭酸ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸カルシウ
ム，炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基，たとえばトリ
エチルアミン，トリ（ｎ−プロピル）アミン，トリ（ｎ
−ブチル）アミン，ジイソプロピルエチルアミン，シク
ロヘキシルジメチルアミン，ピリジン，ルチジン，γ−
コリジン,N,N−ジメチルアニリン,N−メチルピペリジ
ン,N−メチルピロリジン,N−メチルモルホリンなどの第
３級アミン，たとえばプロピレンオキシド，エピクロル
ヒドリンなどのアルキレンオキシドなとがあげられる。
ここにあげた方法によりたとえば前記した化合物［VI
I］を合成することができる。反応式は次に示すとおり
である。
カルボン酸［III］は公知の方法もしくはそれに準ずる
方法により容易に製造することできる。
（３−２）：一般式 ［式中、Rbはアシル基，他の記号は前記と同意義を示
す］で表わされる化合物またはその塩もしくはエステル
と一般式ASH［式中、Ａは前記と同意義を示す］で表わ
されるチオール化合物またはその塩とを反応させること
により化合物［Ib］を合成することができる。すなわち
次の反応式で示される。
［Ｘ］＋ASH→［Ib］（塩，エステルも含む） ［式中の記号は前記と同意義を示す］ この反応は製造方（１）で述べた方法と本質的に同一の
反応であり、化合物［Ｘ］またはその塩もしくはエステ
ルに対してチオール化合物ASHまたはその塩を反応さ
せ、求核置換反応により化合物［Ib］を合成する方法で
ある。化合物［Ｘ］においてR5はここでも水酸基，アシ
ルオキシ基，カルバモイルオキシ基，置換カルバモイル
オキシ基またはハロゲン原子を示す。化合物［Ｘ］は遊
離のまま、その塩あるいはエステルとして用いられる。
化合物［Ｘ］の塩，エステルとしては製造法（３−１）
において７−アミノ化合物［II］の塩，エステルとして
あげたものがここでもそのままあてはめられる。化合物
［Ｘ］，その塩およびエステルならびにチオール化合物
AHSまたはその塩は公知の方法またはそれに準ずる方法
によって容易に製造できる。例えばチオール化合物ASH
またはその塩は、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケ
ミストリー18,1253（1975）；アナーレン・デア・ヘミ
ー699,127（1966）；コンプリヘンシイブ・ヘテロサイ
クリック・ケミストリー ５巻 カトリッキー著，パー
ガモンプレス発行；ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリ
ック・ケミストリー 17,1351（1980），等に記載の方
法または下記反応式に従って製造することができる。
［式中の記号は前記と同意義］ 原料化合物Ａ−Halは公知か自体公知の方法（例、ジャ
ーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー 27,206
（1984）；同26,357（1983）；ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー 49,4021（1984）；同45,3738
（1980）；ブレテイン・デ・ラ・ソシエテ・ケミク・デ
・フランス1972,3503;ケミカル・アンド・ファーマシュ
ーチカル・ブレチン 31,2540（1983）；オーストラリ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー 36,1215（198
3）；シンセシス1981,987;USP 4478835等に記載の方
法）に従って製造することができる。チオール化合物AS
Hは塩としても用いられる。チオール化合物ASHの塩とし
てはたとえばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩，
カリウム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえばナト
リウム塩など）などがあげられる。
チオール化合物ASHまたはその塩による化合物［Ｘ］へ
の本求核置換反応は自体公知反応であって、通常溶媒中
で行なわれる。この反応に用いられる溶媒としては製造
法（３−１）で使用されるエーテル類，エステル類，ハ
ロゲン化炭化水素類，炭化水素類，アミド類，ケトン
類，ニトリル類，水などの溶媒がそのままあてはめられ
るが、これらのほかにたとえばメタノール，エタノー
ル,n−プロパノール，イソプロパノール，エチレングリ
コール,2−メトキシエタノールなどのアルコール類も用
いられる。
（３−２−１）：R5アシルオキシ基，カルバモイルオキ
シ基，置換カルバモイルオキシ基の場合 より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒
と水との混合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、
より好ましいものはアセトン，メチルエチルケトン，ア
セトニトリルなどである。チオール化合物ASHまたはそ
の塩の使用量は化合物［Ｘ］またはその塩もしくはエス
テル１モルに対して通常約１〜５モル，好ましくは約１
〜３モルである。反応は約10〜100℃，好ましくは約30
〜80℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は化合物
［Ｘ］および化合物ASHの種類，溶媒の種類（混合溶媒
の場合はその混合比），反応温度などに依存し、通常約
30分〜５日間，好ましくは約１〜５時間である。反応は
pH2〜8,好ましくは中性付近すなわちpH5〜８で行なうの
が有利である。また本反応は通常約２〜30当量のヨウ化
物またはチオシアン酸塩の存在下でより容易に進行す
る。このような塩としてはヨウ化ナトリウム，ヨウ化カ
リウム，チオシアン酸ナトリウム，チオシアン酸カリウ
ムなどがあげられる。上記の塩のほか、たとえばトリメ
チルベンジルアンモニウムブロマイド，トリエチルベン
ジルアンモニウムブロマイド，トリエチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイドのような界面活性作用を有する
第４級アンモニウム塩を添加することによって反応を円
滑に進行させうる場合もある。
（３−２−２）：R5が水酸基の場合 たとえば特開昭58-43979などに記載された方法にしたが
って有機リン化合物の存在下に行う。ここで用いられる
有機リン化合物としてはたとえばｏ−フェニレンホスホ
ロクロリデエイト、ｏ−フェニレンホスホロフロリデエ
イト、メチル ｏ−フェニレンホスフェイト、エチル
ｏ−フェニレンホスフェイト、プロピル ｏ−フェニレ
ンホスフェイト、イソプロピル ｏ−フェニレンホスフ
ェイト、ブチル ｏ−フェニレンホスフェイト、イソブ
チル ｏ−フェニレンホスフェイト、sec−ブチル ｏ
−フェニレンホスフェイト、シクロヘキシル ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、フェニル ｏ−フェニレンホスフ
ェイト、ｐ−クロロフェニル ｏ−フェニレンホスフェ
イト、ｐ−アセチル ｏ−フェニレンホスフェイト、２
−クロロエチル ｏ−フェニレンホスフェイト、2,2,2
−トリクロロエチル ｏ−フェニレンホスフェイト、エ
トキシカルボニルメチル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、カルバモイルメチル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、２−シアノエチル ｏ−フェニレンホスフェイト、
２−メチルスルホニルエチル ｏ−フェニレンホスフェ
イト、ベンジル ｏ−フェニレンホスフェイト、1,1−
ジメチル−２−プロペニル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、２−プロペニル ｏ−フェニレンホスフェイト、３
−メチル−２−ブテニル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、２−チエニルメチル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、２−フルフリルメチル ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、ビス−ｏ−フェニレンピロホスフェイト、２−フェ
ニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２−（ｐ−クロロフェニル）−1,3,2−ベンゾジオ
キサホスホール−２−オキシド,2−ブチル−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２−アニリノ
−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、
２−フェニルチオ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール
−２−オキシド、２−メトキシ−５−メチル−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２−クロロ
−５−エトキシカルボニル−1,3,2−ベンゾジオキサホ
スホール−２−オキシド、２−メトキシ−５−エトキシ
カルボニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−
オキシド、５−エトキシカルボニル−２−フェニル−1,
3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、2,5−
ジクロロ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−オ
キシド、４−クロロ−２−メトキシ−1,3,2−ベンゾジ
オキサホスホール−２−オキシド、２−メトキシ−４−
メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−２−オキ
シド、2,3−ナフタレンメチルホスフェイト、5,6−ジメ
チル−２−メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール
−２−オキシド、2,2−ジヒドロ−4,5,6,7−テトラクロ
ロ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホール、2,2−ジヒドロ−4,5,6,7−テトラクロロ−2,2,
2−トリフェノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホー
ル、2,2−ジヒドロ−2,2−エチレンジオキシ−２−メト
キシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−２−ベンジル−2,2−ジメトキシ−1,3,2−ベンゾジ
オキサホスホール、2,2−ジヒドロ−4,5−ベンゾ−2,2,
2−トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、
2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリフェノキシ−1,3,2−ベン
ゾジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2−（ｏ−フ
ェニレンジオキシ）−２−フェノキシ−1,3,2−ベンゾ
ジオキサホスホール、２−クロロ−2,2−ジヒドロ−2,2
−（ｏ−フェニレンジオキシ）−1,3,2−ベンゾジオキ
サホスホール、2,2−ジヒドロ−２−メトキシ−2,2−
（ｏ−フェニレンジオキシ）−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリクロロ−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール、9,10−フェナンスレン
ジオキシトリメトキシホスホラス、ｏ−フェニレンホス
ホロクロリダイト、ｏ−フェニレンホスホロブロミダイ
ト、ｏ−フェニレンホスホロクロリダイト、ｏ−フェニ
レンホスファイト、ブチル ｏ−フェニレンホスファイ
ト、メトキシカルボニルメチル ｏ−フェニレンホスフ
ァイト、フェニル ｏ−フェニレンホスファイト、ｐ−
クロロ（またはｐ−ニトロ）フェニル ｏ−フェニレン
ホスファイト、２−フェニル−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホスホール、ビス−ｏ−フェニレンピロホスファイト、
２−メトキシ−５−メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホ
スホール、５−アセチル−２−フェノキシ−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール、9,10−フェナンスレンホスホ
ロクロリダイト、２−クロロ−４−メチル−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール、５−エトキシカルボニル−２
−フェニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、２−
クロロ−２−チオキソ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
ール、２−フェノキシ−２−オキソ−1,3,2−ベンゾジ
アザホスホール、２−フェノキシ−1,3,2−ベンゾジオ
キサアザホスホール、2,2−ジヒドロ−２−オキソ−２
−メトキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホー
ル、2,2−ジヒドロ−２−オキソ−２−クロロ−4,5−ジ
メチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−
２−オキソ−２−（１−イミダゾリル）−4,5−ジメチ
ル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2
−エチレンジオキシ−２−メトキシ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2−ジ
メトキシ−２−フェノキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジ
オキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキ
シ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2
−ジヒドロ−2,2,2−トリフェノキシ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−
トリエトキシ−4,5−ジフェニル−1,3,2−ジオキサホス
ホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4,5−
ジフェニル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−２−オキソ−２−メトキシ−4,5−ジフェニル−1,
3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−ト
リメトキシ−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−2,2,2−トリメトキシ−４−フェニル−1,3,2−ジオ
キサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ
−４−メチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒ
ドロ−2,2,2−トリメトキシ−４−メチル−５−フェニ
ルカルバモイル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2,4,
5,6,7−ヘキサヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール、2,2′−オキシビス（4,5−
ジメチル−2,2−ジヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホー
ル）、2,2′−オキシビス（4,5−ジメチル−2,2−ジヒ
ドロ−1,3,2−ジオキサホスホール−２−オキシド）な
どがあげられる。反応に用いる溶媒は反応を阻害しない
ものであればよく、好ましくは前記したエーテル類，エ
ステル類，ハロゲン化炭化水素類，炭化水素類，アミド
類，ケトン類，ニトリル類などが単独または混合溶媒と
して用いられる。とりわけ、たとえばジクロロメタン，
アセトニトリル，ホルムアミド，ホルムアミドとアセト
ニトリルの混合溶媒，ジクロロメタンとアセトニトリル
の混合溶媒などを使用すると好効果が得られる。チオー
ル化合物ASHまたはその塩，および有機リン化合物の使
用量は化合物［Ｘ］またはその塩もしくはエステル１モ
ルに対してそれぞれ約１〜５モル，約１〜10モル，より
好ましくはそれぞれ約１〜３モル，約１〜６モルであ
る。反応は約−80〜50℃，好ましくは約−40〜40℃の温
度範囲で行なわれる。反応時間は通常約１分〜15時間，
好ましくは約５分〜２時間である。反応系に有機塩基を
添加してもよい。このような有機塩基としてはたとえば
トリエチルアミン，トリ（ｎ−ブチル）アミン，ジ（ｎ
−ブチル）アミン，ジイソブチルアミン，ジシクロヘキ
シルアミン,2,6−ルチジンなどのアミン類があげられ
る。塩基の添加量は化合物［Ｘ］またはその塩もしくは
エステル１モルに対して約１〜５モルがよい。
（３−２−３）：R5がハロゲン原子の場合 好ましい溶媒は前記のエーテル類，エステル類，ハロゲ
ン化炭化水素類，炭化水素類，アミド類，ケトン類，ニ
トリル類，アルコール類，水などである。チオール化合
物ASHまたはその塩の使用量は化合物［Ｘ］またはその
塩もしくはエステル１モルに対して通常約１〜５モル，
好ましくは約１〜３モルである。反応は約０〜80℃，好
ましくは約20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反応時間
は通常約30分〜15時間，好ましくは約１〜５時間であ
る。反応を促進するため脱ハロゲン剤の存在下に反応を
行うこともできる。このような脱ハロゲン剤としては製
造法（３−１）で述べた無機塩基，第３級アミン，アル
キレンオキシド類などの脱酸剤がここでもあげられる。
R5で示されるハロゲン原子は塩素，臭素，ヨウ素などで
あるが、好ましくはヨウ素である。R5がヨウ素である化
合物［Ｘ］はたとえば特開昭58-57390に記載の方法また
はそれに準ずる方法などを用いて容易に製造できる。こ
こにあげた方法によりたとえば前記した化合物［VII］
もしくは［VIII］を合成することができる。反応式は次
に示すとおりである。
化合物［IV′］および［IV］は公知の方法もしくはそれ
に準ずる方法により容易に製造することができる。また
化合物［VII］，［VIII］を含む下記の化合物［XI］は
上記の製造法（３−１）または（３−２）のほか、下記
の製造法（３−３）によっても製造することができる。
化合物［VII］は製造法（３−１），（３−２）または
（３−３）のほか、下記の製造法（３−４）によっても
製造することができる。
（３−３）：反応式は次のとおりである。
［式中、R22′は置換されていてもよい複素環基を、他
の記号は前記と同意義を示す］ 本法はヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］に対して一般式
R3″OHで示される化合物またはその反応性誘導体を反応
させて化合物［XI］を合成する方法であり、よく知られ
たエーテル化反応である。ここでR22′が の場合、生成物［XI］はそれぞれ化合物［VII］または
［VIII］である。3″は置換されていてもよい炭化水素
残基を示し、このような炭化水素残基としてはR3におけ
る置換されていてもよい炭化水素残基としてすでにあげ
たものがここでもそのままあてはめられる。R3″OHはそ
のままあるいはその反応性誘導体として用いられる。
R3″OHの反応性誘導体はヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］
の水素原子とともに離脱する基を有するR3″OHの誘導
体、すなわち一般式R3″Ｙで表わされる化合物を意味す
る。ここで水素原子とともに離脱する基Ｙはハロゲン原
子，スルホ基，モノ置換スルホニルオキシ基などを示
す。ハロゲン原子としては塩素，臭素，ヨウ素などがあ
げられる。モノ置換スルホニルオキシ基としてはたとえ
ばメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ，
ベンゼンスルホニルオキシ,p−トルエンスルホニルオキ
シなどのC1-6アルキルスルホニルオキシ基，C6-10アリ
ールスルホニルオキシ基などがあげられる。また特に化
合物［Ｖ］のC1-4アルキルエーテル体を製造する場合に
は上記の反応性誘導体のほか、たとえばジアゾメタン，
ジアゾエタンなどのC1-4ジアゾアルカン，たとえばジメ
チル硫酸，ジエチル硫酸などのジC1-4アルキル硫酸など
も用いられる。
化合物［Ｖ］は製造法（３−１）で述べたアシル化反応
または製造法（３−２）で述べた求核置換反応にしたが
って合成することができる。すなわち、それぞれ次の反
応式で示される。
また原料化合物［XII］および［Ｘ′］も公知の方法ま
たはそれに準ずる方法により容易に合成することができ
る。化合物R3″OHおよびその反応性誘導体も公知の方法
またはそれに準ずる方法により容易に合成することがで
きる。
（３−３−１）：R3″OHを使用する場合 適当な脱水剤を用いてヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］と
R3″OHとを反応させる化合物［XI］を合成する。このよ
うな目的に使用される脱水剤としてはたとえばオキシ塩
化リン，塩化チオニル，アゾジカルボン酸ジアルキル
（通常、ホスフィンとの共存で使用される）,N,N′−ジ
シクロロヘキシルカルボジイミドなどがあげられ、好ま
しくはトリフェニルホスフィン共存下のアゾジカルボン
酸ジエチルである。トリフェニルホスフィン共存下でア
ゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通常、無水の溶
媒中で行なわれ、前記のエーテル類，炭化水素類などが
使用される。ヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］１モルに対
して化合物R3″OH,アゾジカルボン酸エチル，トリフェ
ニルホスフィンはいずれも約１〜1.5モル用いられる。
約０〜50℃の温度範囲で約１〜４日間を要する。
（３−３−２）：R3″Ｙを使用する場合 R3″Ｙとヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］との反応は通常
のエーテル化反応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒
としては製造法（３−１）の項であげたエーテル類，エ
ステル類，ハロゲン化炭化水素類，炭化水素類，アミド
類，ケトン類，ニトリル類，アルコール類，水などの溶
媒もしくは混合溶媒がここでもあげられ、好ましくは水
と混合しうる溶媒と水との混合溶媒（たとえば含水メタ
ノール，含水エタノール，含水アセトン，含水ジメチル
スルホキシドなど）である。本反応は適当な塩基の存在
下に円滑に進行させることもできる。このような塩基と
してはたとえば炭酸ナトリウム，炭酸水素ナトリウム，
炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩，たとえば水酸化ナ
トリウム，水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物
などの無機塩基があげられる。また本反応をpH7.5〜8.5
の緩衝溶液中で行なってもよい。原料化合物［Ｖ］１モ
ルに対して使用する試薬R3″Ｙおよび塩基のモル数はそ
れぞれ約１〜5,約１〜10,好ましくはそれぞれ約１〜3,
約１〜５である。反応温度は約−30〜100℃，好ましく
は約０〜80℃の範囲である。反応時間は約10分〜15時
間，好ましくは約30分〜５時間である。
（３−３−３）：C1-4ジアゾアルカンを使用する場合 反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒としては前記の
エーテル類，炭化水素類などが用いられる。ヒドロキシ
イミノ化合物［Ｖ］を溶媒に溶解したのち、ジアゾアル
カン化合物の溶液に加えると反応は進行する。試薬は化
合物［Ｖ］１モルに対して約１〜10モル，好ましくは約
１〜５モル使用する。反応は比較的低温で行なわれ約−
50〜20℃，好ましくは約−30〜０℃である。反応時間は
約１分〜５時間，好ましくは約10分〜１時間である。
（３−３−４）：ジC1-4アルキル硫酸を使用する場合 反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては製造法（３−
３−２）であげた含水溶媒がここでもあげられる。この
反応は通常、たとえば水酸化ナトリウム，水酸化カリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物などの無機塩基の存在下
に行なわれる。試薬は化合物［Ｖ］１モルに対して約0.
5〜10モル，好ましくは約１〜２モル使用する。反応温
度は約20〜100℃，好ましくは約50〜100℃の範囲であ
る。反応時間は約10分〜５時間，好ましくは約30分〜３
時間である。
（３−４）：反応式は次のとおりである。
［式中、Ｘはハロゲン原子を、他の記号は前記と同意義
を示す］ 本法は化合物［VI］と一般式R1C(=S)NH2で表わされるチ
オ尿素またはチオ尿素誘導体とを反応させて目的化合物
［VII］を合成する方法である。化合物［VI］は遊離の
まま，塩あるいはエステルとして用いられる。化合物
［VI］におけるＸはたとえば塩素，臭素，ヨウ素などの
ハロゲン原子を示す。化合物［VI］の塩としては製造法
（３−１）の項であげた７−アミノ化合物［II］の塩
（無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，無機酸付
加塩，有機酸付加塩など）がここでもあてはめられる。
化合物［VI］のエステルとしては同じく製造法（３−
１）の項であげた７−アミノ化合物［II］のエステル
（C1-6アルキル※エスエル，C2-6アルケニルエステル，
C3-10シクロアルキルエステル、C3-10シクロアルキルC
1-6アルキルエスエル，C6-10アリール※エステル，C
7-12アラルキル※エスエル，ジC6-10アリール−メチル
エステル，トリC6-10アリール−メチルエステル，C2-6
アルカノイルオキシC1-6アルキルエステルなどがここで
もあてはめられる。原料化合物［VI］は一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
物またはその塩もしくは反応性、誘導相と前記の７−ア
ミノ化合物［II］またはその塩あるいはエステルとを、
製造法（３−１）で述べた方法にしたがって反応させる
ことにより容易に製造することができる。
一般式 で表わされる化合物またはその反応誘導体はそれ自体公
知の方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造で
きる。化合物［VI］とR1C(S=)NH2との反応は通常溶媒中
で行なわれる。溶媒としてはたとえばジオキサン，テト
ラヒドロフラン，ジエチルエーテルなどのエーテル類，
たとえばメタノール，エタノール,n−プロパノールなど
のアルコール類、ジメチルホルムアミド，ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類，などが用いられる。チオ尿素
またはその誘導体R1C(S=)NH2の使用量は化合物［VI］に
対して通常約１〜５モル，好ましくは約１〜３モルであ
る。反応は約０〜100℃，好ましくは約20〜60℃の温度
範囲で行なわれる。反応時間は通常約30分〜15時間，好
ましくは約１〜５時間である。
また上記した製造法（３−１）〜（３−４）により製造
される化合物［Ib］の置換基Rb中にヒドロキシイミノ基
（または置換ヒドロキシイミノ基）が存在する場合（た
とえば化合物［VII］，［VIII］など），化合物［Ib］
がシン［Ｚ］−，アンチ（Ｅ）−異性体の混合物として
用いられる場合がある。混合物から所望のシン異性体を
分離するには自体公知の方法またはそれに準ずる方法が
適用される。それらの方法としてはたとえば溶解性，結
晶性などの差を利用した分別法，クロマトグラフィーに
よる分離，エステル誘導体の加水分解速度の差を利用し
た分離法などがあげられる。
製造法（４）：化合物［Ｉ］（R0=Rc；Rcはアミノ基の
保護基を示す）の合成法 たとえば、製造法（１）で合成された７−アミノ化合物
［II］またはその塩もしくはエステルとアミノ基を保護
する試薬とを反応させることにより合成することができ
る。以下に具体的に例示する。
（４−１）：Rcがフタロイル基の場合 フタロイル化試薬としては無水フタル酸，ハロゲン化フ
タロイル（たとえば塩化フタロイルなど）などが用いら
れる。反応は一般に溶媒中で行なわれ、ハロゲン化フタ
ロイルを用いる場合は無水の溶媒がより好ましい。溶媒
としてはたとえばジオキサン，テトラヒドロフラン，ジ
エチルエーテル,tert−ブチルメチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル，エチレングリコール−ジメチルエー
テルなどのエーテル類、たとえばジクロロエタン，クロ
ロホルム，四塩化炭素，トリクレン,1,2−ジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類、たとえばｎ−ヘキサ
ン，ベンゼン，トルエンなどの炭化水素類などが繁用さ
れ、単独または混合溶媒として用いられる。試薬の使用
量は７−アミノ化合物［II］１モルに対して通常約１〜
３モル，好ましくは約１〜1.5モルである。反応は約−8
0〜150℃で行なわれうるが、無水フタル酸の場合は、約
30〜150℃，好ましくは約70℃〜140℃，ハロゲン化フタ
ロイルの場合は約−80〜100℃，好ましくは約−30〜80
℃の温度範囲である。反応時間は７−アミノ化合物［I
I］およびフタロイル化試薬の種類，溶媒の種類，反応
温度などに依存し、通常約１分〜24時間，好ましくは約
10分〜４時間である。
無水フタル酸を用いた場合は副生する水を反応系外にと
り出すことにより反応をより効果的に行いうる場合があ
る。ハロゲン化フタロイルを用いた場合は放出されるハ
ロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存在
下に反応を行うことができる。このような脱酸剤として
はたとえば炭酸ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸カルシ
ウム，炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基，たとえばト
リエチルアミン，トリ（ｎ−プロピル）アミン，トリ
（ｎ−ブチル）アミン，ジイソプロピルエチルアミン，
シクロヘキシルメチルアミン，ピリジン，ルチジン，γ
−コリジン,N,N,−ジメチルアニリン,N−メチルピペリ
ジン,N−メチルピロリジン,N−メチルモルホリンなどの
第３級アミン，たとえばプロピレンオキシド，エピクロ
ルヒドリンなどのアルキレンオキシド類などがあげられ
る。
（４−２）：Rcが置換オキシカルボニル基の場合 置換オキシカルボニル化試薬としてはたとえば、置換オ
キシカルボニルハライド（ハロゲンとしては塩素，臭
素，ヨウ素など），置換オキシカルボニルアジド，置換
オキシカルボニック アンヒドリド，置換オキシカルボ
ニルスルフィド，置換オキシカルボニル アゾライド
（アゾールとしてはイミダゾール,N−メチルイミダゾー
ル，トリアゾール、２−チオオキサゾリジン,2−オキソ
オキサゾリジンなど）などが用いられる。反応は一般に
溶媒中で行なわれ、無水の溶媒がより好ましい。このよ
うな溶媒としてはたとえば、ジオキサン，テトラヒドロ
フラン，ジエチルエーテル,tert−ブチルメチルエーテ
ル，ジイソプロピルエーテル，エチレングリコール−ジ
メチルエーテルなどのエーテル類，たとえばジクロロエ
タン，クロロホルム，四塩化炭素，トリクレン,1,2−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類，たとえばア
セトニトリルなどのニトリル類，たとえばメタノール，
エタノール，プロパノール，ブタノールなどのアルコー
ル類，たとえばｎ−ヘキサン，ベンゼン，トルエンなど
の炭化水素類たとえばジメチルホルムアミド，ジメチル
アセトアミド，ヘキサメチルホスホラストリアミドなど
のアミド類，たとえばジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類などが繁用され、単独または混合溶媒として
用いられる。置換オキシカルボニル化試薬の使用量は７
−アミノ化合物［II］１モルに対して通常約１〜５モ
ル，好ましくは約１〜２モルである。反応は約−80〜80
℃，好ましくは約−40〜50℃，最も好ましくは約−30〜
30℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は化合物［II］
および置換オキシカルボニル化試薬の種類，溶媒の種
類、反応温度などに依存し、通常約１分〜48時間，好ま
しくは約10分〜２時間である。置換オキシカルボニル化
試薬として置換オキシカルボニルハライドを用いた場合
は放出されるハロゲン化水素を反応系から除去する目的
で脱酸剤の存在下に反応を行うことができる。このよう
な脱酸剤としてはたとえば炭酸ナトリウム，炭酸カリウ
ム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナトリウムなどの無機塩
基，たとえばトリエチルアミン，トリ（ｎ−プロピル）
アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミン、ジイソプロピルエ
チルアミン，シクロヘキシルジメチルアミン，ピリジ
ン，ルチジン，γ−コリジン,N,N−ジメチルアニリン,N
−メチルピペジリン,N−メチルピロリジン,N−メチルモ
ルホリンなどの第３級アミン，たとえばプロピレンオキ
シド，エピクロルヒドリンなどのアルキレンオキシド類
などがあげられる。
（４−３）：RcがC6-10アリール※メチル基，ジC6-10ア
リール※メチル基，トリC6-10アリール※メチル基の場
合 試薬としては通常、対応するハロゲン化物、すなわちハ
ロゲン化C6-10アリール※メチル，ハロゲン化ジC6-10ア
リール※メチル，ハロゲン化トリC6-10アリール※メチ
ルが用いられ、ヨウ化物，臭化物，塩化物が好ましい。
溶媒としては製造法（４−２）であげた溶媒がここでも
使用される。試薬の使用量は７−アミノ化合物［II］１
モルに対して通常約１〜３モル，好ましくは約１〜1.5
モルである。反応は約−80〜100℃，好ましくは約−30
〜70℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は７−アミノ
化合物［II］および置換オキシカルボニル化試薬の種
類，溶媒の種類，反応温度などに依存し、通常約１分〜
24時間，好ましくは約10分〜５時間である。この反応は
副生するハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱
酸剤の存在下に反応を行なってもよい。このような脱酸
剤としては製造法（４−１）であげた脱酸剤がここでも
あげられる。上記した製造法（１）〜（４）の反応のう
ち、要すれば保護基の除去および精製を行うことにより
本発明の目的化合物［Ｉ］を得ることができる。以下に
保護基の除去法および精製法について説明する。
保護基除去法：前記した通りβ−ラクタムおよびペプチ
ド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており、本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をそのまま利用できる。
たとえばモノハロゲノアセチル基（クロロアセチル，ブ
ロモアセチルなど）はチオ尿素により，アルコキシカル
ボニル基（メトキシカルボニル，エトキシカルボニル,t
ert−ブトキシカルボニルなど）は酸（たとえば塩酸な
ど）により、アラルキルオキシカルボニル基（ベンジル
オキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルなど）は接触
還元により,2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルは亜
鉛と酸（たとえば酢酸など）により除去することができ
る。一方、合成中間体として化合物［Ｉ］がエステル化
されている場合もそれ自体公知の方法またはそれに準ず
る方法によってエステル残基を除去することができる。
たとえば２−メチルスルホニルエチルエステルはアルカ
リにより，アラルキルエステル（ベンジルエステル,p−
メトキシベンジルエステル,p−ニトロベンジルエステル
など）は酸（たとえばトリフルオロ酢酸など）または接
触還元により,2,2,2−トリクロロエチルエステルは亜鉛
と酸（たとえば酢酸など）により、シリルエステル（ト
リメチルシリルエステル,tert−ブチルジメチルシリル
エステルなど）は水のみにより除去することができる。
化合物［Ｉ］の精製法：製造法（１）〜（４）に詳記し
た各種製造法により，また要すれば上記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物［Ｉ］は抽出法，カラムクロマトグラフィー，沈澱
法，再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物［Ｉ］を公知
の方法により所望の薬学的に受容される塩または代謝上
不安定な無毒のエスエルへと変換することもできる。
セフェム化合物（［Ｉ］,Z＝Ｓ）のスルホキシド
（［Ｉ］,Z＝Ｓ→Ｏ）は化合物（［Ｉ］,Z＝Ｓ）の酸化
反応により得られる。このような酸化反応自体公知の反
応である。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化
剤としてはたとえば酸素，過酸，ヒドロパーオキシド，
過酸化水素などがあげられ、過酸はその場で酸と過酸化
水素の混和によって製造することもできる。過酸として
は過酢酸，過安息香酸,p−クロル過安息香酸などが繁用
される。反応は通常、溶媒中で行なわれる。この反応に
用いられる溶媒としてはたとえばジオキサン，テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類，たとえばジクロロメタ
ン，クロロホルム，クロロベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素類，たとえばギ酸，酢酸，トリフルオロ酢酸など
の有機酸類，たとえばジメチルホルムアミド，ジメチル
アセトアミドなどのアミド類などがあげられる。反応温
度は約−20〜80℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い
温度，好ましくは約−20〜20℃で行なわれる。セフェム
化合物（［Ｉ］,Z＝Ｓ）の酸化に際してはＳ−立体配位
をもつスルホキシドが主に生成することが一般に知られ
ている。Ｒ−およびＳ−スルホキシドはそれらの異なる
溶解性およびクロマトグラフィー分離に際しての異なる
移動速度によって分離される。スルホキシドを得るため
の上記の酸化反応は前記製造法（１）〜（４）の反応
前、または反応後に行なってもよい。
化合物［VII］および［VIII］を含む本発明の化合物
［Ｉ］またはその薬理学的に受容される塩またはその代
謝上不安定な無毒のエステルは公知のペニシリン剤，セ
フアロスポリン剤と同様に注射剤，カプセル剤，錠剤，
顆粒剤として非経口または経口的に投与できる。投与量
は前記したような病原性細菌に感染した人および動物の
体重1kgあたり0.5〜80mg/日，より好ましくは１〜20mg/
日を１日３〜４回に分割して投与すればよい。注射剤と
して用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水，生理食
塩水などが用いられ、カプセル剤，粉剤，顆粒剤，錠剤
として用いられる場合は、公知の薬学的に許容される賦
形剤（たとえばデンプン，乳糖，白糖，炭酸カルシウ
ム，リン酸カルシウムなど），結合剤（たとえばデンプ
ン，アラビアゴム，カルボキシメチルセルロース，ヒド
ロキシプロピルセルロース，結晶セルロースなど），滑
沢剤（たとえばステアリン酸マグネシウム，タルクな
ど），破壊剤（たとえばカルボキシメチルカルシウム，
タルクなど）と混合して用いられる。
化合物［Ｉ］またはその塩もしくはエステルを含む抗菌
剤は公知の方法により製造することができる。該抗菌剤
は通常化合物［Ｉ］またはその薬理学的に受容される塩
もしくはエステルの少くとも１種以上と上記の担体，賦
形剤などとを混合することにより製造される。抗菌剤全
体に対する化合物［Ｉ］の配合割合は通常５〜100重量
％，好ましくはカプセル剤，錠剤，顆粒剤などの固形製
剤においては20〜100重量％，注射剤などの液状製剤に
おいては、５〜30重量％である。
化合物［Ｉ］またはその薬理学的に受容される塩または
その代謝上不安定な無毒のエステルはたとえば注射剤と
して投与することによりエシェリヒア・コリ菌に起因す
る尿路感染の治療に用いられる。この場合の投与量は人
および動物の体重1kgあたり0.5〜80mg/日，より好まし
くは１〜20mg/日で、１日３〜４回に分割して投与す
る。該注射剤はたとえば化合物［Ｉ］またはその薬理学
的に受容される塩またはその代謝上不安定な無毒のもし
くは薬理学的に受容されるエスエルを生理食塩水に溶解
もしくは懸濁することにより容易に製造することができ
る。
発明の効果 本発明の化合物［Ｉ］のうち置換基R0が含窒素複素環基
（Ra）またはアシル基（Rb）のものはスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人および動物における病原性細菌によ
り生ずる種々の疾病、たとえば気道感染，尿路感染の予
防ならびに治療のために使用されうる。化合物［Ｉ］
（R0=RaまたはRb）またはその薬理学的に受容される塩
またはその代謝上不安定な無毒のエステルの抗菌スペク
トルの特徴としてつぎのような点があげられる。
（１）多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。
（２）グラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・ア
ウレウス，コリネバクテリウム・ジフテリアエなど）に
対して非常に高い活性を有している。
（３）通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に
感受性でないシュウドモナス・エアルギノサに対しても
効果を示す。
（４）多くのβ−ラクタマーゼ生産菌グラム陽性菌（た
とえばエシェリヒア属，エンテロバクター属，セラチア
属，プロテウス属など）に対しても高い活性を有してい
る。
また本発明化合物［Ｉ］またはその薬理学的に受容され
る塩，または代謝上不安定な無毒のエステルは優れた安
定性を有する、血中濃度が高い、効果の持続時間が長
い、組織移行性が顕著であるなどの特徴を有している。
本発明はさらに下記の参考例，実施例で詳しく説明され
るが、これらの例は単なる例であって本発明を限定する
ものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変
化させてもよい。
参考例，実施例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
はTLC（Thin Layer Chromatography,薄層クロマトグラ
フィ）による観察下に行なわれた。TLC観察において
は、TLCプイートとしてメルク（Merck）社製のBOF
254を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィで溶
出溶媒として用いられた溶媒を、検出法としてUV検出器
を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製の
キーゼルゲル60（230〜400メッシュ）を用いた。“セフ
ァデックス”はファルマシア・ファイン・ケミカルズ社
（Pharmacia Fine Chemicals）製である。XAD-II樹脂は
ローム・アンド・ハース社製（Rohm ＆ Haas Co.）製で
ある。NMRスペクトルは内部または外部基準としてテト
ラメチルシランを用いてXL-100A（100MHz）,EM360（60M
Hz）,EM390（90MHz）またはT60（60MHz）型スペクトロ
メーターで測定し、全δ値をppmで示した。混合溶媒に
おいて（ ）内に示した数値は各溶媒の定量混合比であ
る。また溶液における％は溶液100ml中のｇ数を表わ
す。また参考例，実施例中の記号は次のような意味であ
る。
s:シングレット（singlet） d:ダブレット（doublet） t:トリプレット（triplet） q:クワルテット（quartet） ABq:AB型クワルテット（AB type quartet） d.d:ダブル ダブレット（double doublet） m:マルチプレット（multiplet） br:ブロード（broad） J:カップリング定数（coupling constant） Hz:ヘルツ（Herz） DMSO:ジメチルスルホキシド（dimethylsulfoxide） 参考例１ ５−メルカプトイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン ５−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン3.5gを、2N−
硫化水素カリウム水溶液30ml中、室温で６時間,80℃で
３日間加温する。反応液を濃塩酸でpH2とし、酢酸エチ
ル200mlで２回抽出，硫酸マグネシウムで脱水後、減圧
下に溶媒を留去し、析出する粉末をろ取する。収率33
％。
元素分析値：C7H6N2S・H2Oとして、 計算値（％）:C,49.98;H,4.79,N,16.65。
実測値（％）:C,50.14;H,4.51;N,16.72。
1625,1480,1360,1350,1200,960,820,765,740。
NMRスペクトル（DMSO-d6）δ:6.8〜7.5（3H,m）,7.86と
8.35（2H,各d,j＝2Hz）。
参考例２ ５−メルカプト−７−メチルイミダゾ［1,2−ａ］ピリ
ミジン ５−クロロ−７−メチルイミダゾ［1,2−ａ］ピリミジ
ンと硫化水素カリウムを用いた参考例１と同様にして標
記化合物を得る。m.p.230-237（dec.） 実施例 実施例１ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（イミ
ダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオメチル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸1.0g,ヨウ化ナトリウム1.0g,5−メルカプトイミ
ダゾ［1,2−ａ］ピリジン336mgを水10ml,アセトニトリ
ル4mlの混合溶媒中、70℃,20分間攪拌する。
室温まで冷却したのち、炭酸水素ナトリウム500mgを加
え、有機溶媒の大半を留去し、ダイヤイオンCHP20P（三
菱化成社製，ハイポーラスポリマー,150〜300μ）のカ
ラムクロマトグラフィーに付し、水,10％アセトニトリ
ル水溶液,20％アセトニトリル水溶液で順次展開する。
該当分画を濃縮，凍結乾燥して標記化合物を得る。収率
40％。
元素分析値：C21H18N7O5S3Na・4.5H2Oとして， 計算値（％）:C,38.88;H,4.20;N,15.11。
実測値（％）:C,39.02;H,3.98;N,15.33。
1760,1665,1600,1530,1485,1380,1355,1290,1200。
NMRスペクトル（D2O）δ:3.30と3.69（2H,ABq,j＝18H
z）,4.01（3H,s）,3.73と4.80（2H,ABq,J＝14Hz）,5.03
（1H,d,J＝5Hz）,5.64（1H,d,J＝5Hz）,6.96（1H,s）,
7.0〜7.6（3H,m）,7.64（1H,br−ｓ）,7.97（1H,br−
ｓ）。
実施例２ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−３−［（イミ
ダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオメチル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と５−メルカプトイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン
とを用い実施例１と同様にして標記の化合物を得る。
1760,1660,1610,1525 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:1.23（3H,t,J＝7Hz）,4.1
0（2H,q,j＝7Hz）,4.27と4.42（2H,ABq,j＝12Hz）,5.01
（1H,d,J＝5H）,5.60（1H,d.d.,J＝5Hzとｊ＝8Hz）,6.7
0（1H,s）,6.9-7.3（4H,m）,7.36-7.6（1H,m）,7.64（1
H,s）,7.96（1H,s）,9.40（1H、d,j＝8Hz） 元素分析値：C22H20N7O5S3・Na・4H2Oとして 計算値（％）:C,40.42;H,4.32;N,15.00 実測値（％）:C,40.70;H,4.37;N,14.71 実施例３ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−プロパルギルオキシイミノアセトアミド］−３
−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオ
メチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−プロパルギルオキシイミノアセトアミド］−３
−（３−オキソブチリルオキシ）メチル−３−セフェム
−４−カルボン酸と５−メルカプトイミダゾ［1,2−
ａ］ピリジンとを用い実施例１と同様にして標記の化合
物を得る。
1760,1660,1605,1525 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:4.38（2H,d,J＝2Hz）,4,9
8（1H,d,j＝4.5Hz）,5.56（1H,d.d.,j＝4.5HzとＪ＝8H
z）,6.76（1H,s）,7.0〜7.35（4H,m）,7.4〜7.58（1H,
m）,7.64（1H,s）,7.94（1H,s）,9.49（1H、d,J＝8Hz） 元素分析値：C23H18N7O5S3・Na・4H2Oとして 計算値（％）:C,41.62;H,3.95;N,14.49 実測値（％）:C,42.03;H,3.86;N,14.08 実施例４ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−メトキシエトキシイミノ）アセトアミ
ド］−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）
チオメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウ
ム ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−メトキシエトキシイミノ）アセトトアミ
ド］−３−（３−オキソブチリルオキシ）メチル−３−
セフェム−４−カルボン酸と５−メルカプトイミダゾ
［1,2−ａ］ピリジンとを用い実施例１と同様にして標
記の化合物を得る。
1760,1560,1610,1520 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:3.30（3H,s）,3.58（2H,
t,j＝6Hz）,4.17（2H,t,j＝6Hz）,4.40（2H,br−ｓ）,
4.98（1H,d,J＝5Hz）,5.58（1H,d.d.,J＝5Hzと8Hz）,6.
73（1H,s）,6.9〜7.28（4H,m）,7.35〜7.6（1H,m）,7.6
4（1H,br−ｓ）,7.94（1H,s）,9.40（1H,d,J＝8Hz） 元素分析値：C23H22N7O6S3・Na・3.5H2Oとして 計算値（％）:C,40.94;H,4.33;N,14.53 実測値（％）:C,40.74;H,4.14;N,13.81 実施例５ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−ヒドロキシエトキシ）イミノアセトアミ
ド］−３−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イ
ル）チオメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ナト
リウム塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−ヒドロキシエトキシ）イミノアセトトア
ミド］−３−（３−オキソブチリルオキシ）メチル−３
−セフェム−４−カルボン酸と５−メルカプトイミダゾ
［1,2−ａ］ピリジンとを用い実施例１と同様にして標
記の化合物を得る。
1760,1660,1600,1530 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:3.54（2H×1/2,ABqの半
分,j＝18Hz）,3.50（2H,t,j＝6Hz）,4.09（2H,t,J＝8H
z）,4.24と4.40（2H,ABq,J＝12Hz）,5.04（1H,d,j＝5H
z）,5.64（1H,d.d.,j＝8Hzと5Hz）,6.74（1H,s）,7.0-
7.35（4H,m）,7.4-7.7（2H,m）,7.97（1H,s）,9.40（1
H,d,j＝8Hz） 元素分析値：C22H20N7O6S3・Na・2H2Oとして 計算値（％）:C,41.56;H,4.12;N,15.42 実測値（％）:C,41.64;H,4.16;N,15.33 実施例６ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−ジメチルアミノエトキシイミノ）アセト
アミド］−３−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５
−イル）チオメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−ジメチルアミノエトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−オキソブチリルオキシ）メチル−
３−セフェム−４−カルボン酸と５−メルカプトイミダ
ゾ［1,2−ａ］ピリジンとを用い実施例１と同様にして
標記の化合物を得る。
1760,1660,1600,1530 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:2.13（6H,s）,4.15（2H,
t,J＝6Hz）,4.15と4.43（2H,ABq,j＝13Hz）,4.99（1H,
d,J＝4.5Hz）,5.32（2H,t,J＝6Hz）,5.65（1H,d.d.,J＝
4.5Hzと8Hz）,6.67（1H,s）,6.95〜7.3（4H,m）,7.4〜
7.6（1H,m）,7.63（1H,s）,7.98（1H,s）,9.45（1H,d,J
＝8Hz） 元素分析値：C24H25N8O5S3・Na・4H2Oとして 計算値（％）:C,41.37;H,4.77;N,16.08 実測値（％）:C,41.27;H,4.13;N,15.79 実施例７ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（イミ
ダゾ［1,2−ａ］ピラジン−５−イル）チオメチル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と５−メルカプトイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン
とを用い実施例１と同様にして標記の化合物を得る。
1760,1670,1600,1520 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:3.53（）2H×1/2,ABqの半
分,j＝16.5Hz）,3.84（3H,s）,4.31（2H,br−ｓ）,4.94
（1H,d,J＝4.5Hz）,5.37〜5.74（1H,m）,6.70（1H,s）,
7.14（2H,br−ｓ）,7.87（1H,s）,8.07（1H,s）,8.23
（1H,s）,8.96（1H,s）,9.48（1H,d,J＝9Hz） 元素分析値：C20H17N8O5S3・Na・7/5H2Oとして 計算値（％）:C,38.03;H,3.83;N,17.74 実測値（％）:C,38.25;H,3.75;N,17.72 実施例８ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（７−
メチルイミダゾ［1,2−ａ］ピリミジン−５−イル）チ
オメチル］−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
塩 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と７−メチル−５−メルカプトイミダゾ［1,2−
ａ］ピリミジンとを用い実施例１と同様にして標記の化
合物を得る。
1760,1665,1605,1530 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:2.58（3H,s）,3.61（2H×
1/2,ABqの半分,j＝18Hz）3.83（3H,s）,4.28と4.65（2
H,ABq,J＝13Hz,2H）,5.01（1H,d,J＝5Hz）,5.59（1H,d.
d.,J＝4.5HzとＪ＝8Hz）,6.71（1H,s）,6.68（2H,br−
ｓ）,7.54（1H,d,j＝2Hz）,7.69（1H,d,J＝2Hz）,9.41
（1H,d,J＝8Hz） 元素分析値：C21H18N8O5S3・Na・5H2Oとして 計算値（％）:C,37.55;H,4.20;N,16.68 実測値（％）:C,37.34;H,3.96;N,16.63 実施例９ ピバロイルオキシメチル ７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−
５−イル）チオメチル］−３−セフェム−４−カルボキ
シラート ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（イミ
ダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム200mgをジメチ
ルホルムアミド2mlにけんだくし、氷冷下、ピバロイル
オキシメチルヨージド112mgを添加し、20分間攪拌す
る。
反応液に飽和食塩水100ml,酢酸エチル100mgを加え分配
する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去し、残留物と少量
のエーテルを加え粉末化後，ろ過、乾燥して標記化合物
160mgを得る。収率79％。
NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:1.14（9H,s）,4.00（3H,
s）,4.22（2H,br−ｓ）,5.20（1H,d,j＝5Hz）,5.77（1
H,m）,6.47（1H,s）,7.46（2H,br−ｓ）,7.6〜8.7（5H,
m）,9.34（1H,d,j＝8Hz） 実施例10 アセトキシメチル ７β−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イ
ル）チオメチル］−３−セフェム−４−カルボキシラー
ト ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（イミ
ダゾ［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオメチル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム塩とヨードメ
チルアセタートとを用い実施例９と同様にして標記の化
合物が得られる。
1780,1760,1660,1520 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:2.00（3H,s）,3.83（3H,
s）,4.00と4.27（2H,ABq,j＝13Hz）,5.15（1H,d,J＝4.5
Hz）,5.6〜5.9（3H,m）,6.73（1H,s）,6.95〜7.35（4H,
m）,7.5〜7.85（m,2H）,8.13（1H,s）,9.58（1H,d,J＝8
Hz） 元素分析値：C24H23N7O7S3・3/2H2Oとして 計算値（％）:C,44.71;H,4.06;N,15.21 実測値（％）:C,45.03;H,4.43;N,14.98 実施例11 １−アセトキシエチル ７β−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアミ
ド］−３−［（イミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−４−イ
ル）チオメチル］−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアミド］−３−［（イミダゾ
［1,2−ａ］ピリジン−５−イル）チオメチル］−３セ
フェム−４−カルボン酸ナトリウム塩と１−ヨードエチ
ルアセタートとを用い実施例９と同様にすると標記の化
合物が得られる。
1775,1760,1625,1520 NMRスペクトル（d6-DMSO）δ:1.45と1.47（2H,2つのd,j
＝6Hz）,2.01と2.03（3H,2つのｓ）,3.85（3H,s）,4.11
（2H,br−ｓ）,5.15と5.17（1H,2つのd,J＝4.5Hz）,5.5
〜6.0（1H,m）,6.60と6.62（1H,2つのd,J＝6Hz）,6.73
（1H,s）,6.95〜7.35（4H,m）,7.4〜7.8（1H,m）,7.60
（1H,s）,8.05（1H,s）,9.60（1H,d,J＝8Hz） 元素分析値：C25H25N7O7S3・・2H2Oとして 計算値（％）:C,44.97;H,4.38;N,14.68 実測値（％）:C,44.59;H,3.88;N,14.96

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 ［式中、R0は水素原子，含窒素複素環基，アシル基また
    はアミノ基の保護基を、ＺはＳまたはＳ→Ｏを、R4は水
    素原子，メトキシ基またはホルムアミド基を、R13は水
    素原子，メチル基，水酸基またはハロゲン原子を、Ａは
    置換されていてもよい,C−Ｎ結合を共有するイミダゾー
    ルまたはピラゾールと５または６員含窒素芳香族複素環
    との縮合環基を、それぞれ示す］で表わされる化合物ま
    たはその塩もしくはエステル。
  2. 【請求項２】 一般式 ［式中、ＺはＳまたはＳ→Ｏを、R4は水素原子，メトキ
    シ基またはホルムアミド基を、R13は水素原子，メチル
    基，水酸基またはハロゲン原子を、R5は水酸基，アシル
    オキシ基，カルバモイルオキシ基，置換カルバモイルオ
    キシ基またはハロゲン原子を、それぞれ示す］で表わさ
    れる化合物またはその塩もしくはエステルと一般式ASH
    ［式中、Ａは置換されていてもよい,C−Ｎ結合を共有す
    るイミダゾールまたはピラゾールと５または６員含窒素
    芳香族複素環との縮合環基を示す］で表わされるチオー
    ル化合物またはその塩とを反応させて一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造するか、 一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルと一般式 RaHal［式中、Raは含窒素複素環基,Halはハロゲン原子
    を、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその塩と
    を反応させるか、または 一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルと一般式ASH［式中、
    Ａは前記と同意義を示す］で表わされるチオール化合物
    またはその塩とを反応させて一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造するか、 一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルと一般式 RbOH［式中、Rbはアシル基を示す］で表わされるカルボ
    ン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させる
    か、または 一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルと一般式ASH［式中、
    Ａは前記と同意義を示す］で表わされるチオール化合物
    またはその塩とを反応させて一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造するか、 一般式 ［式中、R22′は置換されていてもよい複素環基を、そ
    の他の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合物
    またはその塩もしくはエステルと一般式R3″OH［式中、
    R3″は置換されていてもよい炭化水素残基を示す］で表
    わされる化合物またはその反応性誘導体とを反応させて
    一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造するか、 一般式 ［式中、Ｘはハロゲン原子を、R2は水素原子，ハロゲン
    原子またはニトロ基を、R3は水素原子または置換されて
    いてもよい炭化水素残基を、その他の記号は前記と同意
    義を示す］で表わされる化合物またはその塩もしくはエ
    ステルと一般式R1C(=S)NH2［式中、R1は保護されていて
    もよいアミノ基を示す］で表わされる化合物とを反応さ
    せて一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造するか、 一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルとアミノ基を保護する
    試薬とを反応させるか、または 一般式 ［式中、Rcはアミノ基の保護基を、その他の記号は前記
    と同意義を示す］で表わされる化合物またはその塩もし
    くはエステルと一般式ASH［式中、Ａは前記と同意義を
    示す］で表わされるチオール化合物またはその塩とを反
    応させて一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
    物またはその塩もしくはエステルを製造することを特徴
    とする一般式 ［式中、R0は水素原子，含窒素複素環基，アシル基また
    はアミノ基の保護基を、その他の記号は前記と同意義を
    示す］で表わされる化合物またはその塩もしくはエステ
    ルの製造法。
  3. 【請求項３】一般式 ［式中、R0は水素原子，含窒素複素環基，アシル基また
    はアミノ基の保護基を、ＺはＳまたはＳ→Ｏを、R4は水
    素原子，メトキシ基またはホルムアミド基を、R13は水
    素原子，メチル基，水酸基またはハロゲン原子を、Ａは
    置換されていてもよい,C−Ｎ結合を共有するイミダゾー
    ルまたはピラゾールと５または６員含窒素芳香族複素環
    との縮合環基を、それぞれ示す］で表わされる化合物ま
    たはその塩もしくはエステルの少くとも１種以上を含有
    する抗菌剤。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3803169A1 (de) * 1988-02-03 1989-08-17 Bayer Ag Ss-lactam-antibiotika, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als und in arzneimitteln
DE3939533A1 (de) * 1989-11-30 1991-06-06 Bayer Ag Neue cephalosporine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als arzneimittel
CA2048110C (en) * 1990-07-30 2002-06-25 Muneo Takatani Imidazopyridine derivatives and their use
JP3115455B2 (ja) * 1992-12-18 2000-12-04 明治製菓株式会社 新規セファロスポリン誘導体
US7894083B2 (en) 2001-09-14 2011-02-22 Canon Kabushiki Kaisha Print control with interfaces provided in correspondence with printing methods

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3814755A (en) * 1972-08-30 1974-06-04 Bristol Myers Co 7-(omikron-aminomethylphenylacetamido)-3-(tetrazolo(4,5-b)pyridazin-6-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid
US3813391A (en) * 1972-09-06 1974-05-28 Bristol Myers Co 7-(beta-(o-aminomethylphenyl)propion-amido)-3-(tetrazolo(4,5-b)pyridazin-6-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid
IT1075277B (it) * 1977-02-11 1985-04-22 Erba Carlo Spa Derivati insaturi e epossidici dell'acio 7-acilamido-3-cefem-4-carbossilico e procedimento per la loro preparazione
US3946000A (en) * 1973-10-31 1976-03-23 Bristol-Myers Company 7-[α-(2-Aminomethyl-1-cyclohexenyl)-acetamido]-3-heterocyclic thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acids
US3907786A (en) * 1973-09-04 1975-09-23 Bristol Myers Co 7-{8 {60 -(2-aminomethyl-1,4-cyclohexadienyl)acetamido{9 -3-heterocyclic-thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acids and salts
GB1565941A (en) * 1977-02-08 1980-04-23 Toyama Chemical Co Ltd Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl cephem carboxylic acids
GB1599469A (en) * 1978-04-21 1981-10-07 Cusi Lab Antibiotics of the group of cephalosporins
US4331666A (en) * 1979-05-11 1982-05-25 Farmitalia Carlo Erba S.P.A. 3-[(8-Carboxy-6-tetrazolo[1,5-b]pyridazinyl)-thiomethyl]-7-[2-(2-amino-4-thiazolyl)-2-methoxyimino-acetamido]-3-cephem-4-carboxylic acid
IL61458A0 (en) * 1979-12-07 1980-12-31 Erba Farmitalia N-substituted thiazolyl derivatives of oximino-substituted cephalosporins, their preparation and pharmalceutical compositions containing them
US4463003A (en) * 1982-12-22 1984-07-31 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds
DE150507T1 (de) * 1983-12-29 1987-02-26 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und pharmazeutishe praeparate.

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