JPH07101960A - セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 - Google Patents
セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物Info
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- JPH07101960A JPH07101960A JP5249350A JP24935093A JPH07101960A JP H07101960 A JPH07101960 A JP H07101960A JP 5249350 A JP5249350 A JP 5249350A JP 24935093 A JP24935093 A JP 24935093A JP H07101960 A JPH07101960 A JP H07101960A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】シュードモナス属の菌を含むグラム陰性菌及び
グラム陽性菌に対し優れた抗菌作用を有するセフェム化
合物の提供。 【構成】一般式〔Ｉ〕で表される化合物またはその塩、
その製造方法及び当該化合物を含有する抗菌組成物。 （式中、Ｂはヘテロ原子が１または２個の窒素原子であ
る６員芳香族複素環を示す）で表される基を示す〕
グラム陽性菌に対し優れた抗菌作用を有するセフェム化
合物の提供。 【構成】一般式〔Ｉ〕で表される化合物またはその塩、
その製造方法及び当該化合物を含有する抗菌組成物。 （式中、Ｂはヘテロ原子が１または２個の窒素原子であ
る６員芳香族複素環を示す）で表される基を示す〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はグラム陽性菌及びグラム
陰性菌、とりわけシュードモナス属の菌に優れた抗菌作
用を有する新規なセフェム化合物、その製造法および抗
菌組成物に関する。
陰性菌、とりわけシュードモナス属の菌に優れた抗菌作
用を有する新規なセフェム化合物、その製造法および抗
菌組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、セフェム環の３位に置換され
ていてもよい２，３−位または３，４−位で縮合環を形
成するイミダゾール−１−イルメチル基を、７位に２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２(Ｚ)−カルボ
キシ置換アルコキシイミノアセトアミド基または２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−カルボキシ置換アルコキシイミノアセト
アミド基を合わせ持つセフェム化合物は種々合成されて
いる（特開昭６０−２３１６８４号公報，特開昭６２−
１４９６８２号公報）。すなわち、特開昭６０−２３１
６８４号公報においては一般式
ていてもよい２，３−位または３，４−位で縮合環を形
成するイミダゾール−１−イルメチル基を、７位に２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２(Ｚ)−カルボ
キシ置換アルコキシイミノアセトアミド基または２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−カルボキシ置換アルコキシイミノアセト
アミド基を合わせ持つセフェム化合物は種々合成されて
いる（特開昭６０−２３１６８４号公報，特開昭６２−
１４９６８２号公報）。すなわち、特開昭６０−２３１
６８４号公報においては一般式
【化１１】 〔式中、Ｒ0は水素原子，含窒素複素環基，アシル基ま
たはエステル化されたカルボキシル基を、ＺはＳ，Ｓ→
Ｏ，ＯまたはＣＨ2を、Ｒ4は水素原子，メトキシ基また
はホルムアミド基を、Ｒ13は水素原子，メチル基，水酸
基またはハロゲン原子を、Ａは置換されていてもよい
２，３−位または３，４−位で縮合環を形成するイミダ
ゾール−１−イル基を、それぞれ示す〕で表される化合
物またはその生理学的または薬学的に受容される塩もし
くはエステルが記載されており、具体的に合成されてい
る化合物は７位に２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メチルエトキシ
イミノ）アセトアミド基を有するセフェム化合物である
が、７位に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−４−イル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メ
チルエトキシイミノ）アセトアミド基を有するセフェム
化合物については化合物名ならびに合成例が具体的に記
載されておらず、その具体的抗菌作用についても全く記
載されていない。
たはエステル化されたカルボキシル基を、ＺはＳ，Ｓ→
Ｏ，ＯまたはＣＨ2を、Ｒ4は水素原子，メトキシ基また
はホルムアミド基を、Ｒ13は水素原子，メチル基，水酸
基またはハロゲン原子を、Ａは置換されていてもよい
２，３−位または３，４−位で縮合環を形成するイミダ
ゾール−１−イル基を、それぞれ示す〕で表される化合
物またはその生理学的または薬学的に受容される塩もし
くはエステルが記載されており、具体的に合成されてい
る化合物は７位に２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メチルエトキシ
イミノ）アセトアミド基を有するセフェム化合物である
が、７位に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−４−イル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メ
チルエトキシイミノ）アセトアミド基を有するセフェム
化合物については化合物名ならびに合成例が具体的に記
載されておらず、その具体的抗菌作用についても全く記
載されていない。
【０００３】また、特開昭６２−１４９６８２号公報に
おいては一般式
おいては一般式
【化１２】 〔式中、Ｒ1は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ3は
水素原子または置換されていてもよい炭化水素残基を、
他の記号は前記と同意義を示す〕で表される化合物また
はその生理学的または薬学的に受容される塩もしくはエ
ステルが記載されており、具体的に合成されている化合
物は７位に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−４−イル）−２(Ｚ)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド基を有するセフェム化合物であるが、７位
に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−４
−イル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メチルエト
キシイミノ）アセトアミド基を有するセフェム化合物に
ついては化合物名ならびに合成例が具体的に記載されて
おらず、その具体的抗菌作用についても全く記載されて
いない。
水素原子または置換されていてもよい炭化水素残基を、
他の記号は前記と同意義を示す〕で表される化合物また
はその生理学的または薬学的に受容される塩もしくはエ
ステルが記載されており、具体的に合成されている化合
物は７位に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−４−イル）−２(Ｚ)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド基を有するセフェム化合物であるが、７位
に２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−４
−イル）−２(Ｚ)−（１−カルボキシ−１−メチルエト
キシイミノ）アセトアミド基を有するセフェム化合物に
ついては化合物名ならびに合成例が具体的に記載されて
おらず、その具体的抗菌作用についても全く記載されて
いない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現在迄に多種のセフェ
ム化合物がすでに市販されている。しかしそれらの抗菌
活性は範囲及び強さの点でまだ十分に満足できるもので
はなく、グラム陽性菌ならびにグラム陰性菌に対して幅
広く優れた抗菌作用を有し、とりわけ従来のセファロス
ポリン化合物に耐性を示すシュードモナス属の菌に対し
て優れた抗菌作用を有する化合物の出現が望まれてい
る。
ム化合物がすでに市販されている。しかしそれらの抗菌
活性は範囲及び強さの点でまだ十分に満足できるもので
はなく、グラム陽性菌ならびにグラム陰性菌に対して幅
広く優れた抗菌作用を有し、とりわけ従来のセファロス
ポリン化合物に耐性を示すシュードモナス属の菌に対し
て優れた抗菌作用を有する化合物の出現が望まれてい
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム環の３位
に式：
に鑑み、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム環の３位
に式：
【化１３】 （式中、Ｂはヘテロ原子が１または２個の窒素原子であ
る６員芳香族複素環を示す）で表される２，３−位また
は３，４−位で縮合環を形成するイミダゾリウム−１−
イル基を示す〕で表される基を、７位に式：
る６員芳香族複素環を示す）で表される２，３−位また
は３，４−位で縮合環を形成するイミダゾリウム−１−
イル基を示す〕で表される基を、７位に式：
【化１４】 〔式中、Ｒ1は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ3は
カルボン酸の保護基を示す〕で表される基を有するセフ
ェム化合物またはその塩もしくはエステルを初めて合成
し、さらに合成された化合物が予想外にもシュードモナ
ス属菌を含むグラム陰性菌に対して優れた抗菌作用を有
することを見い出し、これらに基づいて本発明を完成し
た。
カルボン酸の保護基を示す〕で表される基を有するセフ
ェム化合物またはその塩もしくはエステルを初めて合成
し、さらに合成された化合物が予想外にもシュードモナ
ス属菌を含むグラム陰性菌に対して優れた抗菌作用を有
することを見い出し、これらに基づいて本発明を完成し
た。
【０００６】すなわち、本発明は、（１）一般式
〔I〕：
〔I〕：
【化１５】 〔式中の記号は前記と同意義〕で表される化合物または
その塩もしくはエステル、（２）一般式〔II〕：
その塩もしくはエステル、（２）一般式〔II〕：
【化１６】 〔式中の記号は前記と同意義〕で表される化合物もしく
はそのエステルまたはその塩と一般式：
はそのエステルまたはその塩と一般式：
【化１７】 〔式中の記号は前記と同意義〕で表されるカルボン酸ま
たはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させることを
特徴とする前記（１）記載の化合物の製造法、
たはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させることを
特徴とする前記（１）記載の化合物の製造法、
【０００７】（３）一般式〔III〕：
【化１８】 〔式中、Ｒ5は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原
子を示し、他の記号は前記と同意義〕で表される化合物
もしくはそのエステルまたはその塩と置換されていても
よい一般式〔IV〕：
オキシ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原
子を示し、他の記号は前記と同意義〕で表される化合物
もしくはそのエステルまたはその塩と置換されていても
よい一般式〔IV〕：
【化１９】 〔式中の記号は前記と同意義〕で表される２，３−位ま
たは３，４−位で縮合環を形成するイミダゾール化合物
またはその塩とを反応させることを特徴とする前記
（１）記載の化合物の製造法、および（４）前記（１）
記載の化合物を含有する抗菌組成物に関する。
たは３，４−位で縮合環を形成するイミダゾール化合物
またはその塩とを反応させることを特徴とする前記
（１）記載の化合物の製造法、および（４）前記（１）
記載の化合物を含有する抗菌組成物に関する。
【０００８】本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ」第８４巻,３４００頁(１９６２年)に記載されて
いる「セファム」に基づいて命名された化合物群であり、
セフェム化合物はセファム化合物のうち３,４−位に二
重結合を有する化合物を意味する。なお、本発明の化合
物は遊離形を表している一般式〔I〕の化合物もしくは
そのエステルまたはその塩（化合物〔I〕の塩または化
合物〔I〕のエステルの塩）を含む。以下本願明細書に
おいては、特別の場合を除き、遊離形を表している一般
式〔I〕の化合物、その塩およびエステルを単に、化合
物〔I〕，抗菌化合物〔I〕あるいは一般式〔I〕で表さ
れる化合物とのみ略称する。従って本願明細書の化合物
〔I〕は通常、遊離形のみならずその塩およびエステル
を含むものとする。このことは、化合物〔I〕のみなら
ず、化合物〔II〕，〔III〕，〔V〕，〔VII〕，〔VII
I〕についても同様である。Ｒ1は保護されていてもよい
アミノ基を表わす。β−ラクタムおよびペプチドの分野
ではアミノ基の保護基は充分に研究されていてその保護
法はすでに確立されており、本発明においてもアミノ基
の保護基としてはそれら公知のものが適宜に採用されう
る。アミノ基の保護基としてはたとえば、Ｃ1-6アルカ
ノイル基,Ｃ3-5アルケノイル基,Ｃ6-10アリールカルボ
ニル基,フタロイル基,複素環カルボニル基,Ｃ1-6アルキ
ルスルホニル基,カンファースルホニル基,Ｃ6-10アリー
ルスルホニル基,置換オキシカルボニル基,置換されてい
てもよいカルバモイル基,置換されていてもよいチオカ
ルバモイル基,Ｃ6-10アリール−メチル基,ジＣ6-10アリ
ール−メチル基,トリＣ6-10アリール−メチル基,Ｃ6-10
アリール−メチレン基,Ｃ6-10アリールチオ基,置換シリ
ル基,２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルー１−メチル
ー１−エテニル基などが用いられる。
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ」第８４巻,３４００頁(１９６２年)に記載されて
いる「セファム」に基づいて命名された化合物群であり、
セフェム化合物はセファム化合物のうち３,４−位に二
重結合を有する化合物を意味する。なお、本発明の化合
物は遊離形を表している一般式〔I〕の化合物もしくは
そのエステルまたはその塩（化合物〔I〕の塩または化
合物〔I〕のエステルの塩）を含む。以下本願明細書に
おいては、特別の場合を除き、遊離形を表している一般
式〔I〕の化合物、その塩およびエステルを単に、化合
物〔I〕，抗菌化合物〔I〕あるいは一般式〔I〕で表さ
れる化合物とのみ略称する。従って本願明細書の化合物
〔I〕は通常、遊離形のみならずその塩およびエステル
を含むものとする。このことは、化合物〔I〕のみなら
ず、化合物〔II〕，〔III〕，〔V〕，〔VII〕，〔VII
I〕についても同様である。Ｒ1は保護されていてもよい
アミノ基を表わす。β−ラクタムおよびペプチドの分野
ではアミノ基の保護基は充分に研究されていてその保護
法はすでに確立されており、本発明においてもアミノ基
の保護基としてはそれら公知のものが適宜に採用されう
る。アミノ基の保護基としてはたとえば、Ｃ1-6アルカ
ノイル基,Ｃ3-5アルケノイル基,Ｃ6-10アリールカルボ
ニル基,フタロイル基,複素環カルボニル基,Ｃ1-6アルキ
ルスルホニル基,カンファースルホニル基,Ｃ6-10アリー
ルスルホニル基,置換オキシカルボニル基,置換されてい
てもよいカルバモイル基,置換されていてもよいチオカ
ルバモイル基,Ｃ6-10アリール−メチル基,ジＣ6-10アリ
ール−メチル基,トリＣ6-10アリール−メチル基,Ｃ6-10
アリール−メチレン基,Ｃ6-10アリールチオ基,置換シリ
ル基,２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルー１−メチル
ー１−エテニル基などが用いられる。
【０００９】「Ｃ1-6アルカノイル基」としてはここでは
たとえば、ホルミル,アセチル,プロピオニル,ブチリル,
バレリル,ピバロイル,サクシニル,グルタリル,モノクロ
ロアセチル,ジクロロアセチル,トリクロロアセチル,モ
ノブロモアセチル,モノフルオロアセチル,ジフルオロア
セチル,トリフルオロアセチル,モノヨードアセチル,３
−オキソブチリル,４−クロロー３−オキソブチリル,フ
ェニルアセチル,p−クロロフェニルアセチル,フェノキ
シアセチル,p−クロロフェノキシアセチルなどが用いら
れる。「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはここではたとえ
ば、アクリロイル,クロトノイル,マレオイル,シンナモイ
ル,p−クロロシンナモイル,β−フェニルシンナモイル
などが用いられる。「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」と
してはここではたとえば、ベンゾイル,ナフトイル,p−ト
ルオイル,p−tert−ブチルベンゾイル,p−ヒドロキシベ
ンゾイル,p−メトキシベンゾイル,p−tert−ブトキシベ
ンゾイル,p−クロロベンゾイル,p−ニトロベンゾイルな
どが用いられる。
たとえば、ホルミル,アセチル,プロピオニル,ブチリル,
バレリル,ピバロイル,サクシニル,グルタリル,モノクロ
ロアセチル,ジクロロアセチル,トリクロロアセチル,モ
ノブロモアセチル,モノフルオロアセチル,ジフルオロア
セチル,トリフルオロアセチル,モノヨードアセチル,３
−オキソブチリル,４−クロロー３−オキソブチリル,フ
ェニルアセチル,p−クロロフェニルアセチル,フェノキ
シアセチル,p−クロロフェノキシアセチルなどが用いら
れる。「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはここではたとえ
ば、アクリロイル,クロトノイル,マレオイル,シンナモイ
ル,p−クロロシンナモイル,β−フェニルシンナモイル
などが用いられる。「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」と
してはここではたとえば、ベンゾイル,ナフトイル,p−ト
ルオイル,p−tert−ブチルベンゾイル,p−ヒドロキシベ
ンゾイル,p−メトキシベンゾイル,p−tert−ブトキシベ
ンゾイル,p−クロロベンゾイル,p−ニトロベンゾイルな
どが用いられる。
【００１０】「複素環カルボニル基」における「複素環
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素
原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましく
は１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には２−または３−ピ
ロリル，３−，４−または５−ピラゾリル，２−，４−
または５−イミダゾリル，１，２，３−または１，２，
４−トリアゾリル，１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル，
２−または３−フリル，２−または３−チエニル，２
−，４−または５−オキサゾリル，３−，４−または５
−イソキサゾリル，１，２，３−オキサジアゾール−４
−または５−イル，１，２，４−オキサジアゾール−３
−または５−イル，１，２，５−または１，３，４−オ
キサジアゾリル，２−，４−または５−チアゾリル，３
−，４−または５−イソチアゾリル，１，２，３−チア
ジアゾール−４−または５−イル，１，２，４−チアジ
アゾール−３−または５−イル，１，２，５−または
１，３，４−チアジアゾル，２−または３−ピロリジニ
ル，２−，３−または４−ピリジル，２−，３−または
４−ピリジル−Ｎ−オキシド，３−または４−ピリダジ
ニル，３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド，２
−，４−または５−ピリミジニル，２−，４−または５
−ピリミジニル−Ｎ−オキシド，ピラジニル，２−，３
−または４−ピペリジニル，ピペラジニル，３Ｈ−イン
ドール−２−または３−イル，２−，３−または４−ピ
ラニル，２−，３−または４−チオピラニル，ベンゾピ
ラニル，キノリル，ピリド〔２，３−ｄ〕ピリミジル，
１，５−，１，６−，１，７−，１，８−，２，６−ま
たは２，７−ナフチリジル，チエノ〔２，３−ｄ〕ピリ
ジル，ピリミドピリジル，ピラジノキノリル，ベンゾピ
ラニルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルキルスルホニル
基」としてはたとえば、メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールスルホニル基」
としてはここではたとえば、ベンゼンスルホニル,ナフタ
レンスルホニル,p−トルエンスルホニル,p−tert−ブチ
ルベンゼンスルホニル,p−メトキシベンゼンスルホニ
ル,p−クロロベンゼンスルホニル,p−ニトロベンゼンス
ルホニルなどが用いられる。
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素
原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましく
は１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には２−または３−ピ
ロリル，３−，４−または５−ピラゾリル，２−，４−
または５−イミダゾリル，１，２，３−または１，２，
４−トリアゾリル，１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル，
２−または３−フリル，２−または３−チエニル，２
−，４−または５−オキサゾリル，３−，４−または５
−イソキサゾリル，１，２，３−オキサジアゾール−４
−または５−イル，１，２，４−オキサジアゾール−３
−または５−イル，１，２，５−または１，３，４−オ
キサジアゾリル，２−，４−または５−チアゾリル，３
−，４−または５−イソチアゾリル，１，２，３−チア
ジアゾール−４−または５−イル，１，２，４−チアジ
アゾール−３−または５−イル，１，２，５−または
１，３，４−チアジアゾル，２−または３−ピロリジニ
ル，２−，３−または４−ピリジル，２−，３−または
４−ピリジル−Ｎ−オキシド，３−または４−ピリダジ
ニル，３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド，２
−，４−または５−ピリミジニル，２−，４−または５
−ピリミジニル−Ｎ−オキシド，ピラジニル，２−，３
−または４−ピペリジニル，ピペラジニル，３Ｈ−イン
ドール−２−または３−イル，２−，３−または４−ピ
ラニル，２−，３−または４−チオピラニル，ベンゾピ
ラニル，キノリル，ピリド〔２，３−ｄ〕ピリミジル，
１，５−，１，６−，１，７−，１，８−，２，６−ま
たは２，７−ナフチリジル，チエノ〔２，３−ｄ〕ピリ
ジル，ピリミドピリジル，ピラジノキノリル，ベンゾピ
ラニルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルキルスルホニル
基」としてはたとえば、メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールスルホニル基」
としてはここではたとえば、ベンゼンスルホニル,ナフタ
レンスルホニル,p−トルエンスルホニル,p−tert−ブチ
ルベンゼンスルホニル,p−メトキシベンゼンスルホニ
ル,p−クロロベンゼンスルホニル,p−ニトロベンゼンス
ルホニルなどが用いられる。
【００１１】「置換オキシカルボニル基」としてはＣ1-10
アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,イソプ
ロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニル,tert−ブ
トキシカルボニル,シクロプロピルオキシカルボニル，
シクロペンチルオキシカルボニル，シクロヘキシルオキ
シカルボニル,ノルボルニルオキシカルボニル等）,Ｃ
6-10アリールオキシ−カルボニル基（例、フェノキシカ
ルボニル,ナフチルオキシカルボニル等）またはＣ7-19
アラルキルオキシ−カルボニル基（例、ベンジルオキシ
カルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボニル等）のほ
か、それらがさらにＣ1-4アルコキシ基（例、メトキ
シ，エトキシ等），Ｃ1-4アシル基（例、アセチル，プ
ロピオニル等），置換シリル基（後記する置換シリル
基、例、トリメチルシリル，tert−ブチルジメチルシリ
ル等），Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例、メタンスル
ホニル，エタンスルホニル等），ハロゲン（例、フッ
素，塩素，臭素等），シアノ，Ｃ1-4アルキル基（例、
メチル，エチル等），ニトロ等から選ばれる置換基を１
〜３個有しているものも含まれる。具体的には例えばメ
トキシメチルオキシカルボニル,アセチルメチルオキシ
カルボニル,２−トリメチルシリルエトキシカルボニル,
２−メタンスルホニルエトキシカルボニル,２,２,２−
トリクロロエトキシカルボニル,２−シアノエトキシカ
ルボニル,p−メチルフエノキシカルボニル,p−メトキシ
フエノキシカルボニル,p−クロロフエノキシカルボニ
ル,p−メチルベンジルオキシカルボニル,p−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル,p−クロロベンジルオキシカル
ボニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなどが用い
られる。「置換されていてもよいカルバモイル基」として
は、Ｃ1-4アルキル基（例、メチル，エチル等），フェ
ニル基，Ｃ1-7アシル基（例、アセチル，プロピオニ
ル，ベンゾイル等），Ｃ1-4アルコキシ−フェニル基
（例、メトキシフェニル等）等で１ないし２個置換され
ていてもよいカルバモイル基が用いられ、たとえば、N-メ
チルカルバモイル,Ｎ−エチルカルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル,Ｎ−フェニ
ルカルバモイル,Ｎ−アセチルカルバモイル,Ｎ−ベンゾ
イルカルバモイル,Ｎ−(p−メトキシフェニル)カルバモ
イルなどが用いられる。「置換されていてもよいチオカ
ルバモイル基」としては、Ｃ1-4アルキル基（例、メチ
ル，エチル等），フェニル基等で１ないし２個置換され
ていてもよいチオカルバモイル基が用いられ、たとえ
ば、チオカルバモイル,Ｎ−メチルチオカルバモイル,Ｎ
−フェニルチオカルバモイルなどが用いられる。
アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,イソプ
ロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニル,tert−ブ
トキシカルボニル,シクロプロピルオキシカルボニル，
シクロペンチルオキシカルボニル，シクロヘキシルオキ
シカルボニル,ノルボルニルオキシカルボニル等）,Ｃ
6-10アリールオキシ−カルボニル基（例、フェノキシカ
ルボニル,ナフチルオキシカルボニル等）またはＣ7-19
アラルキルオキシ−カルボニル基（例、ベンジルオキシ
カルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボニル等）のほ
か、それらがさらにＣ1-4アルコキシ基（例、メトキ
シ，エトキシ等），Ｃ1-4アシル基（例、アセチル，プ
ロピオニル等），置換シリル基（後記する置換シリル
基、例、トリメチルシリル，tert−ブチルジメチルシリ
ル等），Ｃ1-4アルキルスルホニル基（例、メタンスル
ホニル，エタンスルホニル等），ハロゲン（例、フッ
素，塩素，臭素等），シアノ，Ｃ1-4アルキル基（例、
メチル，エチル等），ニトロ等から選ばれる置換基を１
〜３個有しているものも含まれる。具体的には例えばメ
トキシメチルオキシカルボニル,アセチルメチルオキシ
カルボニル,２−トリメチルシリルエトキシカルボニル,
２−メタンスルホニルエトキシカルボニル,２,２,２−
トリクロロエトキシカルボニル,２−シアノエトキシカ
ルボニル,p−メチルフエノキシカルボニル,p−メトキシ
フエノキシカルボニル,p−クロロフエノキシカルボニ
ル,p−メチルベンジルオキシカルボニル,p−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル,p−クロロベンジルオキシカル
ボニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなどが用い
られる。「置換されていてもよいカルバモイル基」として
は、Ｃ1-4アルキル基（例、メチル，エチル等），フェ
ニル基，Ｃ1-7アシル基（例、アセチル，プロピオニ
ル，ベンゾイル等），Ｃ1-4アルコキシ−フェニル基
（例、メトキシフェニル等）等で１ないし２個置換され
ていてもよいカルバモイル基が用いられ、たとえば、N-メ
チルカルバモイル,Ｎ−エチルカルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル,Ｎ−フェニ
ルカルバモイル,Ｎ−アセチルカルバモイル,Ｎ−ベンゾ
イルカルバモイル,Ｎ−(p−メトキシフェニル)カルバモ
イルなどが用いられる。「置換されていてもよいチオカ
ルバモイル基」としては、Ｃ1-4アルキル基（例、メチ
ル，エチル等），フェニル基等で１ないし２個置換され
ていてもよいチオカルバモイル基が用いられ、たとえ
ば、チオカルバモイル,Ｎ−メチルチオカルバモイル,Ｎ
−フェニルチオカルバモイルなどが用いられる。
【００１２】「Ｃ6-10アリール−メチル基」としてはたと
えば、ベンジル,ナフチルメチル,p−メチルベンジル,p−
メトキシベンジル,p−クロロベンジル,p−ニトロベンジ
ルなどが用いられる。「ジＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ベンズヒドリル,ジ(p−トリル)メチル
などが用いられる。「トリＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、トリチル,トリ(p−トリル)メチルなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリール−メチレン基」としては
たとえば、ベンジリデン,p−メチルベンジリデン,p−ク
ロロベンジリデンなどが用いられる。「Ｃ6-10アリール
チオ基」としてはたとえば、o−ニトロフェニルチオなど
が用いられる。「置換シリル基」は保護されるアミノ基と
あわさって一般式Ｒ6Ｒ7Ｒ8ＳiＮＨ−,(Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｓi)2
Ｎ−または
えば、ベンジル,ナフチルメチル,p−メチルベンジル,p−
メトキシベンジル,p−クロロベンジル,p−ニトロベンジ
ルなどが用いられる。「ジＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ベンズヒドリル,ジ(p−トリル)メチル
などが用いられる。「トリＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、トリチル,トリ(p−トリル)メチルなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリール−メチレン基」としては
たとえば、ベンジリデン,p−メチルベンジリデン,p−ク
ロロベンジリデンなどが用いられる。「Ｃ6-10アリール
チオ基」としてはたとえば、o−ニトロフェニルチオなど
が用いられる。「置換シリル基」は保護されるアミノ基と
あわさって一般式Ｒ6Ｒ7Ｒ8ＳiＮＨ−,(Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｓi)2
Ｎ−または
【化２０】 〔式中、Ｒ6,Ｒ7,Ｒ8,Ｒ9,Ｒ10,Ｒ9′およびＲ10′はそ
れぞれＣ1-6アルキル基またはＣ6-10アリール基を、
Ｚ′はＣ1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような
基を形成する。「Ｃ1-6アルキル基」としては、メチ
ル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチ
ル，ｎ−ペンチルなど直鎖状または分枝状のＣ1-6アル
キル基が用いられる。「Ｃ6-10アリール基」としては、
フェニル，ナフチル等が用いられる。「Ｃ1-3アルキレ
ン基」としては、メチレン，エチレン，プロピレン等が
用いられる。置換シリル基として具体的にはトリメチル
シリル,tert−ブチルジメチルシリル,−Ｓi(ＣＨ3)2Ｃ
Ｈ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−などが用いられる。「２−Ｃ1-10
アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エテニル
基」のＣ1-10アルコキシ−カルボニル基は前記したもの
がよく、したがって２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル
−１−メチル−１−エテニル基としてはたとえば、２−
メトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,２−
エトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,２−t
ert−ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,
２−シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチル−１
−エテニル,２−ノルボルニルオキシカルボニル−１−
メチル−１−エテニルなどが用いられる。Ｒ1は抗菌活
性からみてアミノ基が好ましい。
れぞれＣ1-6アルキル基またはＣ6-10アリール基を、
Ｚ′はＣ1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような
基を形成する。「Ｃ1-6アルキル基」としては、メチ
ル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチ
ル，ｎ−ペンチルなど直鎖状または分枝状のＣ1-6アル
キル基が用いられる。「Ｃ6-10アリール基」としては、
フェニル，ナフチル等が用いられる。「Ｃ1-3アルキレ
ン基」としては、メチレン，エチレン，プロピレン等が
用いられる。置換シリル基として具体的にはトリメチル
シリル,tert−ブチルジメチルシリル,−Ｓi(ＣＨ3)2Ｃ
Ｈ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−などが用いられる。「２−Ｃ1-10
アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エテニル
基」のＣ1-10アルコキシ−カルボニル基は前記したもの
がよく、したがって２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル
−１−メチル−１−エテニル基としてはたとえば、２−
メトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,２−
エトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,２−t
ert−ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル,
２−シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチル−１
−エテニル,２−ノルボルニルオキシカルボニル−１−
メチル−１−エテニルなどが用いられる。Ｒ1は抗菌活
性からみてアミノ基が好ましい。
【００１３】
【化２１】 〔式中、Ｂはヘテロ原子が１または２個の窒素原子であ
る６員芳香族複素環を示す〕で表される２，３−位また
は３，４−位で縮合環を形成するイミダゾリウム−１−
イル基を表す。
る６員芳香族複素環を示す〕で表される２，３−位また
は３，４−位で縮合環を形成するイミダゾリウム−１−
イル基を表す。
【００１４】Ａ1としては具体的にはつぎのようなもの
が用いられる。
が用いられる。
【化２２】 Ａ2としては具体的にはつぎのようなものが用いられ
る。
る。
【化２３】
【化２４】
【００１５】前記の式〔Ａ1〕，〔Ａ2〕および具体的に
あげたＡ1，Ａ2基においては置換
あげたＡ1，Ａ2基においては置換
【化２５】 第４級窒素原子が１位の窒素原子にあてはめられる場合
もある。また１価の陽電荷がイミダゾール環に非局在化
している場合、さらに縮合環全体に非局在化している場
合もある。したがってたとえば上記の
もある。また１価の陽電荷がイミダゾール環に非局在化
している場合、さらに縮合環全体に非局在化している場
合もある。したがってたとえば上記の
【化２６】 などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物〔I〕の状態(固体か溶液中か),溶媒の種類・液性,温
度,置換基の種類などによって流動的に変化するので、
本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とイミダゾ
ール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべてを
包含するものとする。
物〔I〕の状態(固体か溶液中か),溶媒の種類・液性,温
度,置換基の種類などによって流動的に変化するので、
本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とイミダゾ
ール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべてを
包含するものとする。
【００１６】式〔Ａ1〕または〔Ａ2〕で表される基は、
そのイミダゾール環または／および環Ｂに好ましくは１
または２個置換基を有していてもよい。かかる置換基と
してはたとえば水酸基,ヒドロキシＣ1-6アルキル基,Ｃ
1-6アルキル基,Ｃ2-6アルケニル基,Ｃ2-6アルキニル基,
Ｃ3-10シクロアルキル基,Ｃ5-6シクロアルケニル基,Ｃ
3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基,Ｃ6-10アリール
基,Ｃ7-12アラルキル基,複素環基,Ｃ1-6アルコキシ基,
Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基,アミノＣ1-6アルコ
キシ基，Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基,Ｃ6-10アリー
ルオキシ基,Ｃ7-19アラルキルオキシ基,メルカプト基,
メルカプトＣ1-6アルキル基,スルホ基,スルホＣ1-6アル
キル基,Ｃ1-6アルキルチオ基,Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6
アルキル基,Ｃ3-10シクロアルキルチオ基,Ｃ6-10アリー
ルチオ基,Ｃ7-19アラルキルチオ基,アミノＣ1-6アルキ
ルチオ基，アミノ基,アミノＣ1-6アルキル基,モノＣ1-6
アルキルアミノ基,ジＣ1-6アルキルアミノ基,モノＣ1-6
アルキルアミノＣ1-6アルキル基,ジＣ1-6アルキルアミ
ノＣ1-6アルキル基,Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基,Ｃ
6-10アリールアミノ基,Ｃ7-19アラルキルアミノ基,環状
アミノ基,環状アミノＣ1-6アルキル基,環状アミノＣ1-6
アルキルアミノ基,アシルアミノ基，ウレイド基，Ｃ1-6
アルキルウレイド基，アジド基,ニトロ基,ハロゲン原
子,ハロゲノＣ1-6アルキル基,シアノ基,シアノＣ1-6ア
ルキル基,カルボキシル基,カルボキシＣ1-6アルキル基,
Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基,Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニルＣ1-6アルキル基,Ｃ6-10アリールオキシ−カ
ルボニル基,Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基,Ｃ
6-10アリール−アシル基,Ｃ1-6アルカノイル基,Ｃ2-6ア
ルカノイルＣ1-6アルキル基,Ｃ3-5アルケノイル基,Ｃ
6-10アリール−アシルオキシ基,Ｃ2-6アルカノイルオキ
シ基,Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基,Ｃ3-5
アルケノイルオキシ基,カルバモイルＣ1-6アルキル基,
カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバモイルオキ
シ基,カルバモイルオキシＣ1-6アルキル基,Ｃ1-6アルカ
ノイルアミノ基,Ｃ6-10アリール−アシルアミノ基,スル
ホンアミド基,カルボキシアミノ基,Ｃ1-10アルコキシ−
カルボキサミド基,Ｃ6 -10アリールオキシ−カルボキサ
ミド基,Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミド基な
どが用いられる。
そのイミダゾール環または／および環Ｂに好ましくは１
または２個置換基を有していてもよい。かかる置換基と
してはたとえば水酸基,ヒドロキシＣ1-6アルキル基,Ｃ
1-6アルキル基,Ｃ2-6アルケニル基,Ｃ2-6アルキニル基,
Ｃ3-10シクロアルキル基,Ｃ5-6シクロアルケニル基,Ｃ
3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基,Ｃ6-10アリール
基,Ｃ7-12アラルキル基,複素環基,Ｃ1-6アルコキシ基,
Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基,アミノＣ1-6アルコ
キシ基，Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基,Ｃ6-10アリー
ルオキシ基,Ｃ7-19アラルキルオキシ基,メルカプト基,
メルカプトＣ1-6アルキル基,スルホ基,スルホＣ1-6アル
キル基,Ｃ1-6アルキルチオ基,Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6
アルキル基,Ｃ3-10シクロアルキルチオ基,Ｃ6-10アリー
ルチオ基,Ｃ7-19アラルキルチオ基,アミノＣ1-6アルキ
ルチオ基，アミノ基,アミノＣ1-6アルキル基,モノＣ1-6
アルキルアミノ基,ジＣ1-6アルキルアミノ基,モノＣ1-6
アルキルアミノＣ1-6アルキル基,ジＣ1-6アルキルアミ
ノＣ1-6アルキル基,Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基,Ｃ
6-10アリールアミノ基,Ｃ7-19アラルキルアミノ基,環状
アミノ基,環状アミノＣ1-6アルキル基,環状アミノＣ1-6
アルキルアミノ基,アシルアミノ基，ウレイド基，Ｃ1-6
アルキルウレイド基，アジド基,ニトロ基,ハロゲン原
子,ハロゲノＣ1-6アルキル基,シアノ基,シアノＣ1-6ア
ルキル基,カルボキシル基,カルボキシＣ1-6アルキル基,
Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基,Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニルＣ1-6アルキル基,Ｃ6-10アリールオキシ−カ
ルボニル基,Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基,Ｃ
6-10アリール−アシル基,Ｃ1-6アルカノイル基,Ｃ2-6ア
ルカノイルＣ1-6アルキル基,Ｃ3-5アルケノイル基,Ｃ
6-10アリール−アシルオキシ基,Ｃ2-6アルカノイルオキ
シ基,Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基,Ｃ3-5
アルケノイルオキシ基,カルバモイルＣ1-6アルキル基,
カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバモイルオキ
シ基,カルバモイルオキシＣ1-6アルキル基,Ｃ1-6アルカ
ノイルアミノ基,Ｃ6-10アリール−アシルアミノ基,スル
ホンアミド基,カルボキシアミノ基,Ｃ1-10アルコキシ−
カルボキサミド基,Ｃ6 -10アリールオキシ−カルボキサ
ミド基,Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミド基な
どが用いられる。
【００１７】ここにおいて、「Ｃ1-6アルキル基」として
は直鎖状または分枝状の炭素数１〜６のアルキル基が好
ましく、たとえばメチル,エチル,n−プロピル,イソプロ
ピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチ
ル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどが用いられる。「Ｃ2-6
アルケニル基」としては直鎖状または分枝状の炭素数２
〜６のアルケニル基が好ましく、たとえばビニル,アリ
ル,１−プロペニル,イソプロペニル,１−ブテニル,２−
ブテニル,３−ブテニル,メタリル,１,１−ジメチルアリ
ルなどが用いられる。「Ｃ2-6アルキニル基」としては直
鎖状または分枝状の炭素数２〜６のアルキニル基が好ま
しく、たとえばエチニル,１−プロピニル,プロパルギル
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキル基」は炭素数
３〜１０からなる３〜７員脂環状炭化水素基が好まし
く、たとえばシクロプロピル,シクロブチル,シクロペン
チル,シクロヘキシル,シクロヘプチル,ノルボルニル,ア
ダマンチルなどが用いられる。「Ｃ5-6シクロアルケニル
基」としては二重結合を有する５〜６員脂環状炭化水素
基が好ましく、たとえばシクロペンテニル,シクロペン
タジエニル,シクロヘキセニル,シクロヘキサジエニルな
どが用いられる。
は直鎖状または分枝状の炭素数１〜６のアルキル基が好
ましく、たとえばメチル,エチル,n−プロピル,イソプロ
ピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチ
ル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどが用いられる。「Ｃ2-6
アルケニル基」としては直鎖状または分枝状の炭素数２
〜６のアルケニル基が好ましく、たとえばビニル,アリ
ル,１−プロペニル,イソプロペニル,１−ブテニル,２−
ブテニル,３−ブテニル,メタリル,１,１−ジメチルアリ
ルなどが用いられる。「Ｃ2-6アルキニル基」としては直
鎖状または分枝状の炭素数２〜６のアルキニル基が好ま
しく、たとえばエチニル,１−プロピニル,プロパルギル
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキル基」は炭素数
３〜１０からなる３〜７員脂環状炭化水素基が好まし
く、たとえばシクロプロピル,シクロブチル,シクロペン
チル,シクロヘキシル,シクロヘプチル,ノルボルニル,ア
ダマンチルなどが用いられる。「Ｃ5-6シクロアルケニル
基」としては二重結合を有する５〜６員脂環状炭化水素
基が好ましく、たとえばシクロペンテニル,シクロペン
タジエニル,シクロヘキセニル,シクロヘキサジエニルな
どが用いられる。
【００１８】「Ｃ6-10アリール基」は炭素数６〜１０の芳
香族炭化水素基が好ましく、たとえばフェニル,α−ナ
フチル,β−ナフチル,ビフェニリルなどが用いられる。
「Ｃ7-12アラルキル基」は炭素数７〜１２の芳香族置換ア
ルキル基が好ましく、たとえばベンジル,１−フェニル
エチル,２−フェニルエチル,フェニルプロピル,ナフチ
ルメチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルコキシ基」のアル
キル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アル
コキシ基としてはたとえば、メトキシ,エトキシ,n−プ
ロポキシ,イソプロポキシ,n−ブトキシ,tert−ブトキ
シ,アシルオキシ,ヘキシルオキシなどが用いられる。
「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は
上記のＣ3-10シクロアルキル基が好ましく、Ｃ3-10シク
ロアルキルオキシ基としてはたとえば、シクロプロピル
オキシ,シクロペンチルオキシ,シクロヘキシルオキシ,
ノルボルニルオキシなどが用いられる。「アミノＣ1-6
アルコキシ基」のアルコキシ基は上記のＣ1-6アルコキ
シ基が好ましく、アミノＣ1-6アルコキシ基としてはた
とえば、アミノメトキシ，２−アミノエトキシ，３−ア
ミノプロポキシなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールオ
キシ基」のアリール基は上記のＣ6-10アリール基が好ま
しく、Ｃ6-10アリールオキシ基としてはたとえば、フェ
ノキシ,ナフチルオキシなどが用いられる。「Ｃ7-19アラ
ルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のＣ7-19アラル
キル基が好ましく、Ｃ7-19アラルキルオキシ基としては
たとえば、ベンジルオキシ,１−フェニルエチルオキシ,
２−フェニルエチルオキシ,ナフチルメチルオキシ,ベン
ズヒドリルオキシ,トリチルオキシなどが用いられる。
「Ｃ1-6アルキルチオ基」のアルキル基は上記のＣ1-6アル
キル基が好ましく、Ｃ1-6アルキルチオ基としてはたと
えば、メチルチオ,エチルチオ,n−プロピルチオ,n−ブ
チルチオなどが用いられる。
香族炭化水素基が好ましく、たとえばフェニル,α−ナ
フチル,β−ナフチル,ビフェニリルなどが用いられる。
「Ｃ7-12アラルキル基」は炭素数７〜１２の芳香族置換ア
ルキル基が好ましく、たとえばベンジル,１−フェニル
エチル,２−フェニルエチル,フェニルプロピル,ナフチ
ルメチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルコキシ基」のアル
キル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アル
コキシ基としてはたとえば、メトキシ,エトキシ,n−プ
ロポキシ,イソプロポキシ,n−ブトキシ,tert−ブトキ
シ,アシルオキシ,ヘキシルオキシなどが用いられる。
「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は
上記のＣ3-10シクロアルキル基が好ましく、Ｃ3-10シク
ロアルキルオキシ基としてはたとえば、シクロプロピル
オキシ,シクロペンチルオキシ,シクロヘキシルオキシ,
ノルボルニルオキシなどが用いられる。「アミノＣ1-6
アルコキシ基」のアルコキシ基は上記のＣ1-6アルコキ
シ基が好ましく、アミノＣ1-6アルコキシ基としてはた
とえば、アミノメトキシ，２−アミノエトキシ，３−ア
ミノプロポキシなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールオ
キシ基」のアリール基は上記のＣ6-10アリール基が好ま
しく、Ｃ6-10アリールオキシ基としてはたとえば、フェ
ノキシ,ナフチルオキシなどが用いられる。「Ｃ7-19アラ
ルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のＣ7-19アラル
キル基が好ましく、Ｃ7-19アラルキルオキシ基としては
たとえば、ベンジルオキシ,１−フェニルエチルオキシ,
２−フェニルエチルオキシ,ナフチルメチルオキシ,ベン
ズヒドリルオキシ,トリチルオキシなどが用いられる。
「Ｃ1-6アルキルチオ基」のアルキル基は上記のＣ1-6アル
キル基が好ましく、Ｃ1-6アルキルチオ基としてはたと
えば、メチルチオ,エチルチオ,n−プロピルチオ,n−ブ
チルチオなどが用いられる。
【００１９】「アミノＣ1-6アルキルチオ基」のアルキル
チオ基は上記のＣ1-6アルキルチオ基が好ましく、アミ
ノＣ1-6アルキルチオ基としてはたとえば、アミノメチ
ルチオ,２−アミノエチルチオ,３−アミノプロピルチオ
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」のシ
クロアルキル基は上記のＣ3-10シクロアルキル基が好ま
しく、Ｃ3-10シクロアルキルチオ基としてはたとえば、
シクロプロピルチオ,シクロヘキシルチオなどが用いら
れる。「Ｃ6-10アリールチオ基」のアリール基は上記のＣ
6-10アリール基が好ましく、Ｃ6-10アリールチオ基とし
てはたとえば、フェニルチオ,ナフチルチオなどが用い
られる。「Ｃ7-19アラルキルチオ基」のアラルキル基は上
記のＣ7-19アラルキル基が好ましく、Ｃ7-19アラルキル
チオ基としてはたとえば、ベンジルチオ,フェニルエチ
ルチオ,ベンズヒドリルチオ,トリチルチオなどが用いら
れる。「ヒドロキシＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上
記のＣ1-6アルキル基が好ましく、ヒドロキシＣ1-6アル
キル基としてはたとえば、ヒドロキシメチル,１−ヒド
ロキシエチル,２−ヒドロキシエチル,３−ヒドロキシプ
ロピルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルＣ
1-6アルキル基」のシクロアルキル基は上記のＣ3-10シ
クロアルキル基が好ましく、アルキル基は上記のＣ1-6
アルキル基が好ましく、Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6ア
ルキル基としてはたとえば、シクロプロピルメチル，シ
クロプロピルエチル，シクロブチルメチルなどが用いら
れる。「メルカプトＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上
記のＣ1-6アルキル基が好ましく、メルカプトＣ1-6アル
キル基としてはたとえばメルカプトメチル,１−メルカ
プトエチル,２−メルカプトエチルなどが用いられる。
チオ基は上記のＣ1-6アルキルチオ基が好ましく、アミ
ノＣ1-6アルキルチオ基としてはたとえば、アミノメチ
ルチオ,２−アミノエチルチオ,３−アミノプロピルチオ
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」のシ
クロアルキル基は上記のＣ3-10シクロアルキル基が好ま
しく、Ｃ3-10シクロアルキルチオ基としてはたとえば、
シクロプロピルチオ,シクロヘキシルチオなどが用いら
れる。「Ｃ6-10アリールチオ基」のアリール基は上記のＣ
6-10アリール基が好ましく、Ｃ6-10アリールチオ基とし
てはたとえば、フェニルチオ,ナフチルチオなどが用い
られる。「Ｃ7-19アラルキルチオ基」のアラルキル基は上
記のＣ7-19アラルキル基が好ましく、Ｃ7-19アラルキル
チオ基としてはたとえば、ベンジルチオ,フェニルエチ
ルチオ,ベンズヒドリルチオ,トリチルチオなどが用いら
れる。「ヒドロキシＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上
記のＣ1-6アルキル基が好ましく、ヒドロキシＣ1-6アル
キル基としてはたとえば、ヒドロキシメチル,１−ヒド
ロキシエチル,２−ヒドロキシエチル,３−ヒドロキシプ
ロピルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルＣ
1-6アルキル基」のシクロアルキル基は上記のＣ3-10シ
クロアルキル基が好ましく、アルキル基は上記のＣ1-6
アルキル基が好ましく、Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6ア
ルキル基としてはたとえば、シクロプロピルメチル，シ
クロプロピルエチル，シクロブチルメチルなどが用いら
れる。「メルカプトＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上
記のＣ1-6アルキル基が好ましく、メルカプトＣ1-6アル
キル基としてはたとえばメルカプトメチル,１−メルカ
プトエチル,２−メルカプトエチルなどが用いられる。
【００２０】「Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基」のア
ルコキシ基は上記のＣ1-6アルコキシ基が、アルキル基
は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アルコキシ
Ｃ1-6アルキル基としてはたとえば、メトキシメチル,エ
トキシメチル,２−メトキシエチルなどが用いられる。
「Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基」のアルキルチオ基
は上記のＣ1-6アルキルチオ基が、アルキル基は上記の
Ｃ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6
アルキル基としてはたとえば、メチルチオメチル,２−
メチルチオエチルなどが用いられる。「アミノＣ1-6アル
キル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、アミノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、アミノ
メチル,２−アミノエチル,３−アミノプロピルなどが用
いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基」
としては、たとえばメチルアミノメチル,エチルアミノ
メチル,２−(Ｎ−メチルアミノ)エチル,３−(Ｎ−メチ
ルアミノ)プロピルなどが用いられる。「ジＣ1-6アルキ
ルアミノＣ1-6アルキル基」としては、たとえば、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアミノメチル,Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチ
ル,２−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)エチル,２−(Ｎ,Ｎ−
ジエチルアミノ)エチル,３−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)
プロピルなどが用いられる。「環状アミノＣ1-6アルキル
基」の環状アミノ基は後記する環状アミノ基が好まし
く、またアルキル基は上記のＣ1-6アミノ基が好まし
い。環状アミノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、ピ
ロリジノメチル,ピペリジノメチル,ピペラジノメチル,
モルホリノメチル,２−(モルホリノ)エチルなどが用い
られる。
ルコキシ基は上記のＣ1-6アルコキシ基が、アルキル基
は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アルコキシ
Ｃ1-6アルキル基としてはたとえば、メトキシメチル,エ
トキシメチル,２−メトキシエチルなどが用いられる。
「Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基」のアルキルチオ基
は上記のＣ1-6アルキルチオ基が、アルキル基は上記の
Ｃ1-6アルキル基が好ましく、Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6
アルキル基としてはたとえば、メチルチオメチル,２−
メチルチオエチルなどが用いられる。「アミノＣ1-6アル
キル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、アミノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、アミノ
メチル,２−アミノエチル,３−アミノプロピルなどが用
いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基」
としては、たとえばメチルアミノメチル,エチルアミノ
メチル,２−(Ｎ−メチルアミノ)エチル,３−(Ｎ−メチ
ルアミノ)プロピルなどが用いられる。「ジＣ1-6アルキ
ルアミノＣ1-6アルキル基」としては、たとえば、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアミノメチル,Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチ
ル,２−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)エチル,２−(Ｎ,Ｎ−
ジエチルアミノ)エチル,３−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)
プロピルなどが用いられる。「環状アミノＣ1-6アルキル
基」の環状アミノ基は後記する環状アミノ基が好まし
く、またアルキル基は上記のＣ1-6アミノ基が好まし
い。環状アミノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、ピ
ロリジノメチル,ピペリジノメチル,ピペラジノメチル,
モルホリノメチル,２−(モルホリノ)エチルなどが用い
られる。
【００２１】「環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基」の環
状アミノＣ1-6アルキル基は上記の環状アミノＣ1-6アル
キル基が好ましく、環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基
としてはたとえば、ピロリジノエチルアミノ,ピペリジ
ノエチルアミノ,ピペラジノエチルアミノ,モルホリノエ
チルアミノなどが用いられる。「ハロゲノＣ1-6アルキル
基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、
ハロゲノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、フルオロ
メチル,ジフルオロメチル,トリフルオロメチル,クロロ
メチル,ジクロロメチル,トリクロロメチル,２−フルオ
ロエチル,２,２−ジフルオロエチル,２,２,２−トリフ
ルオロエチル,２−クロロエチル,２,２−ジクロロエチ
ル,２,２,２−トリクロロエチル,２−ブロモエチル,２
−ヨードエチルなどが用いられる。「シアノＣ1-6アルキ
ル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、シアノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、シアノ
メチル,２−シアノエチルなどが用いられる。「カルボキ
シＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキ
ル基が好ましく、カルボキシＣ1-6アルキル基としては
たとえば、カルボキシメチル,１−カルボキシエチル,２
−カルボキシエチルなどが用いられる。「スルホＣ1-6ア
ルキル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ま
しく、スルホＣ1-6アルキル基としてはたとえば、スル
ホメチル,２−スルホエチルなどが用いられる。「Ｃ2-6
アルカノイルＣ1-6アルキル基」のアルカノイル基は後記
するＣ1-6アルカノイル基が好ましく、またアルキル基
は上記のＣ1-6アルキル基が好ましい。Ｃ2-6アルカノイ
ルＣ1-6アルキル基としてはたとえば、アセチルメチル,
１−アセチルエチル,２−アセチルエチルなどが用いら
れる。「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基」のア
ルカノイルオキシ基は後記するＣ2-6アルカノイルオキ
シ基が好ましく、またアルキル基は上記のＣ1-6アルキ
ル基が好ましい。Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキ
ル基としてはたとえば、アセトキシメチル,１−アセト
キシエチル,２−アセトキシエチルなどが用いられる。
状アミノＣ1-6アルキル基は上記の環状アミノＣ1-6アル
キル基が好ましく、環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基
としてはたとえば、ピロリジノエチルアミノ,ピペリジ
ノエチルアミノ,ピペラジノエチルアミノ,モルホリノエ
チルアミノなどが用いられる。「ハロゲノＣ1-6アルキル
基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、
ハロゲノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、フルオロ
メチル,ジフルオロメチル,トリフルオロメチル,クロロ
メチル,ジクロロメチル,トリクロロメチル,２−フルオ
ロエチル,２,２−ジフルオロエチル,２,２,２−トリフ
ルオロエチル,２−クロロエチル,２,２−ジクロロエチ
ル,２,２,２−トリクロロエチル,２−ブロモエチル,２
−ヨードエチルなどが用いられる。「シアノＣ1-6アルキ
ル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、シアノＣ1-6アルキル基としてはたとえば、シアノ
メチル,２−シアノエチルなどが用いられる。「カルボキ
シＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキ
ル基が好ましく、カルボキシＣ1-6アルキル基としては
たとえば、カルボキシメチル,１−カルボキシエチル,２
−カルボキシエチルなどが用いられる。「スルホＣ1-6ア
ルキル基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ま
しく、スルホＣ1-6アルキル基としてはたとえば、スル
ホメチル,２−スルホエチルなどが用いられる。「Ｃ2-6
アルカノイルＣ1-6アルキル基」のアルカノイル基は後記
するＣ1-6アルカノイル基が好ましく、またアルキル基
は上記のＣ1-6アルキル基が好ましい。Ｃ2-6アルカノイ
ルＣ1-6アルキル基としてはたとえば、アセチルメチル,
１−アセチルエチル,２−アセチルエチルなどが用いら
れる。「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基」のア
ルカノイルオキシ基は後記するＣ2-6アルカノイルオキ
シ基が好ましく、またアルキル基は上記のＣ1-6アルキ
ル基が好ましい。Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキ
ル基としてはたとえば、アセトキシメチル,１−アセト
キシエチル,２−アセトキシエチルなどが用いられる。
【００２２】「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルＣ1-6アル
キル基」のアルコキシカルボニル基は後記するＣ1-10ア
ルコキシ−カルボニル基が好ましく、またアルキル基は
上記のＣ1-6アルキル基が好ましい。Ｃ1-10アルコキシ
−カルボニルＣ1-6アルキル基としてはたとえば、メトキ
シカルボニルメチル,エトキシカルボニルメチル,tert−
ブトキシカルボニルメチルなどが用いられる。「カルバ
モイルオキシＣ1-6アルキル基」のアルキル基はＣ1-6ア
ルキル基が好ましく、カルバモイルオキシＣ1-6アルキ
ル基としてはたとえば、カルバモイルオキシメチルなど
が用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノ基」のアルキ
ル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、モノＣ1-6ア
ルキルアミノ基としてはたとえば、メチルアミノ,エチ
ルアミノ,n−プロピルアミノ,n−ブチルアミノ,tert−
ブチルアミノ,n−ペンチルアミノ,n−ヘキシルアミノな
どが用いられる。「ジＣ1-6アルキルアミノ基」のアルキ
ル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、ジＣ1-6アル
キルアミノ基としてはたとえば、ジメチルアミノ,ジエ
チルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ−(n−プロピル)ア
ミノ,ジ−(n−ブチル)アミノなどが用いられる。「Ｃ
3-10シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上
記のＣ3-10シクロアルキル基が好ましく、Ｃ3-10シクロ
アルキルアミノ基としてはたとえば、シクロプロピルア
ミノ,シクロペンチルアミノ,シクロヘキシルアミノなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリールアミノ基」のアリール基
は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、Ｃ6-10アリール
アミノ基としてはたとえば、アニリノ,Ｎ−メチルアニ
リノなどが用いられる。「Ｃ7-19アラルキルアミノ基」の
アラルキル基は上記のＣ7-19アラルキル基が好ましく、
Ｃ7-19アラルキルアミノ基としてはたとえば、ベンジル
アミノ,１−フェニルエチルアミノ,２−フェニルエチル
アミノ,ベンズヒドリルアミノ,トリチルアミノなどが用
いられる。「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素
環またはその二重結合を飽和したものの環形成窒素原子
に結合している水素原子を１個とりのぞいてできる基を
いい、たとえば１Ｈ−テトラゾール−１−イル,１Ｈ−
ピロール−１−イル,ピロリノ,ピロリジノ,１Ｈ−イミ
ダゾール−１−イル,イミダゾリノ,イミダゾリジノ,１
Ｈ−ピラゾール−１−イル,ピラゾリノ,ピラゾリジノ,
ピペリジノ,ピペラジノ,モルホリノなどが用いられる。
キル基」のアルコキシカルボニル基は後記するＣ1-10ア
ルコキシ−カルボニル基が好ましく、またアルキル基は
上記のＣ1-6アルキル基が好ましい。Ｃ1-10アルコキシ
−カルボニルＣ1-6アルキル基としてはたとえば、メトキ
シカルボニルメチル,エトキシカルボニルメチル,tert−
ブトキシカルボニルメチルなどが用いられる。「カルバ
モイルオキシＣ1-6アルキル基」のアルキル基はＣ1-6ア
ルキル基が好ましく、カルバモイルオキシＣ1-6アルキ
ル基としてはたとえば、カルバモイルオキシメチルなど
が用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノ基」のアルキ
ル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、モノＣ1-6ア
ルキルアミノ基としてはたとえば、メチルアミノ,エチ
ルアミノ,n−プロピルアミノ,n−ブチルアミノ,tert−
ブチルアミノ,n−ペンチルアミノ,n−ヘキシルアミノな
どが用いられる。「ジＣ1-6アルキルアミノ基」のアルキ
ル基は上記のＣ1-6アルキル基が好ましく、ジＣ1-6アル
キルアミノ基としてはたとえば、ジメチルアミノ,ジエ
チルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ−(n−プロピル)ア
ミノ,ジ−(n−ブチル)アミノなどが用いられる。「Ｃ
3-10シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上
記のＣ3-10シクロアルキル基が好ましく、Ｃ3-10シクロ
アルキルアミノ基としてはたとえば、シクロプロピルア
ミノ,シクロペンチルアミノ,シクロヘキシルアミノなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリールアミノ基」のアリール基
は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、Ｃ6-10アリール
アミノ基としてはたとえば、アニリノ,Ｎ−メチルアニ
リノなどが用いられる。「Ｃ7-19アラルキルアミノ基」の
アラルキル基は上記のＣ7-19アラルキル基が好ましく、
Ｃ7-19アラルキルアミノ基としてはたとえば、ベンジル
アミノ,１−フェニルエチルアミノ,２−フェニルエチル
アミノ,ベンズヒドリルアミノ,トリチルアミノなどが用
いられる。「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素
環またはその二重結合を飽和したものの環形成窒素原子
に結合している水素原子を１個とりのぞいてできる基を
いい、たとえば１Ｈ−テトラゾール−１−イル,１Ｈ−
ピロール−１−イル,ピロリノ,ピロリジノ,１Ｈ−イミ
ダゾール−１−イル,イミダゾリノ,イミダゾリジノ,１
Ｈ−ピラゾール−１−イル,ピラゾリノ,ピラゾリジノ,
ピペリジノ,ピペラジノ,モルホリノなどが用いられる。
【００２３】「アシルアミノ基」におけるアシル基とし
ては、アルカノイル基（たとえばホルミル,アセチル,プ
ロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,イソバレ
リル,ピバロイルなどのＣ1-6アルカノイル基等），アル
ケノイル基（たとえばアクリロイル,クロトノイル,マレ
オイルなどのＣ3-5アルケノイル基等），シクロアルキ
ルカルボニル基（たとえば、シクロプロピルカルボニ
ル,シクロブチルカルボニル,シクロペンチルカルボニ
ル,シクロヘキシルカルボニル,シクロヘプチルカルボニ
ル,アダマンチルカルボニルなどのＣ3-10シクロアルキ
ル−カルボニル基等），シクロアルケニルカルボニル基
（たとえば、シクロペンテニルカルボニル,シクロペン
タジエニルカルボニル,シクロヘキセニルカルボニル,シ
クロヘキサジエニルカルボニルなどのＣ5-6シクロアル
ケニル−カルボニル基等），アリールカルボニル基（た
とえば、ベンゾイル,ナフトイルなどのＣ6-10アリール
−カルボニル基等），アラルキルカルボニル基（たとえ
ば、フェニルアセチル,フェニルプロピオニル,α,α−
ジフェニルアセチル,α,α,α−トリフェニルアセチル
などのＣ7-19アラルキル−カルボニル基等），アミノ酸
残基（アミノ酸のカルボキシル基の水酸基をとりのぞい
てできるアシル基、具体的にはたとえば、グリシル，ザ
ルコシル，アラニル，バリル，ロイシル，イソロイシ
ル，セリル，スレオニル，システィニル，シスチニル，
メチオニル，アスパラギル，グルタミル，リジル，アル
ギニル，フェニルグリシル，フェニルアラニル，チロシ
ル，ヒスチジル，トリプトファニル，プロリルなど），
アミノアルキルカルボニル基（例、２−アミノエチルカ
ルボニル，３−アミノプロピルカルボニルなどのアミノ
Ｃ1-6アルキル−カルボニル基等），モノアルキルアミ
ノアルキルカルボニル基（例、メチルアミノメチルカル
ボニル，２−エチルアミノエチルカルボニルなどのモノ
Ｃ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−カルボニル基
等），ジアルキルアミノアルキルカルボニル基（例、ジ
メチルアミノメチルカルボニル，ジエチルアミノメチル
カルボニルなどのジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル
−カルボニル基等），環状アミノアルキルカルボニル基
（環状アミノ基としては前記のものが用いられ、例え
ば、イミダゾリノメチル，ピラゾリノエチルなど）など
が用いられる。
ては、アルカノイル基（たとえばホルミル,アセチル,プ
ロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,イソバレ
リル,ピバロイルなどのＣ1-6アルカノイル基等），アル
ケノイル基（たとえばアクリロイル,クロトノイル,マレ
オイルなどのＣ3-5アルケノイル基等），シクロアルキ
ルカルボニル基（たとえば、シクロプロピルカルボニ
ル,シクロブチルカルボニル,シクロペンチルカルボニ
ル,シクロヘキシルカルボニル,シクロヘプチルカルボニ
ル,アダマンチルカルボニルなどのＣ3-10シクロアルキ
ル−カルボニル基等），シクロアルケニルカルボニル基
（たとえば、シクロペンテニルカルボニル,シクロペン
タジエニルカルボニル,シクロヘキセニルカルボニル,シ
クロヘキサジエニルカルボニルなどのＣ5-6シクロアル
ケニル−カルボニル基等），アリールカルボニル基（た
とえば、ベンゾイル,ナフトイルなどのＣ6-10アリール
−カルボニル基等），アラルキルカルボニル基（たとえ
ば、フェニルアセチル,フェニルプロピオニル,α,α−
ジフェニルアセチル,α,α,α−トリフェニルアセチル
などのＣ7-19アラルキル−カルボニル基等），アミノ酸
残基（アミノ酸のカルボキシル基の水酸基をとりのぞい
てできるアシル基、具体的にはたとえば、グリシル，ザ
ルコシル，アラニル，バリル，ロイシル，イソロイシ
ル，セリル，スレオニル，システィニル，シスチニル，
メチオニル，アスパラギル，グルタミル，リジル，アル
ギニル，フェニルグリシル，フェニルアラニル，チロシ
ル，ヒスチジル，トリプトファニル，プロリルなど），
アミノアルキルカルボニル基（例、２−アミノエチルカ
ルボニル，３−アミノプロピルカルボニルなどのアミノ
Ｃ1-6アルキル−カルボニル基等），モノアルキルアミ
ノアルキルカルボニル基（例、メチルアミノメチルカル
ボニル，２−エチルアミノエチルカルボニルなどのモノ
Ｃ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−カルボニル基
等），ジアルキルアミノアルキルカルボニル基（例、ジ
メチルアミノメチルカルボニル，ジエチルアミノメチル
カルボニルなどのジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル
−カルボニル基等），環状アミノアルキルカルボニル基
（環状アミノ基としては前記のものが用いられ、例え
ば、イミダゾリノメチル，ピラゾリノエチルなど）など
が用いられる。
【００２４】「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基」のアル
キル基はここでは炭素数１〜８の低級アルキル基のほ
か、上記のＣ3-10シクロアルキル基も含む。Ｃ1-10アル
コキシ−カルボニル基としてはたとえば、メトキシカル
ボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,
イソプロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニル,イ
ソブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニル,シク
ロペンチルオキシカルボニル,シクロヘキシルオキシカ
ルボニル,ノルボルニルオキシカルボニルなどが用いら
れる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基」のアリー
ルオキシ基は上記のＣ6-10アリールオキシ基が好まし
く、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基としてはたと
えば、フェノキシカルボニル,ナフチルオキシカルボニ
ルなどが用いられる。「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カル
ボニル基」のアラルキルオキシ基は上記のＣ7-19アラル
キルオキシ基が好ましく、たとえばベンジルオキシカル
ボニル,ベンズヒドリルオキシカルボニル,トリチルオキ
シカルボニルなどが用いられる。スルホンアミド基の置
換スルホニル基としては、「アルキルスルホニル基」が
好ましく、そのアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が
好ましく、たとえば、メタンスルホニル，エタンスルホ
ニルなどが用いられる。
キル基はここでは炭素数１〜８の低級アルキル基のほ
か、上記のＣ3-10シクロアルキル基も含む。Ｃ1-10アル
コキシ−カルボニル基としてはたとえば、メトキシカル
ボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,
イソプロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニル,イ
ソブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニル,シク
ロペンチルオキシカルボニル,シクロヘキシルオキシカ
ルボニル,ノルボルニルオキシカルボニルなどが用いら
れる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基」のアリー
ルオキシ基は上記のＣ6-10アリールオキシ基が好まし
く、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基としてはたと
えば、フェノキシカルボニル,ナフチルオキシカルボニ
ルなどが用いられる。「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カル
ボニル基」のアラルキルオキシ基は上記のＣ7-19アラル
キルオキシ基が好ましく、たとえばベンジルオキシカル
ボニル,ベンズヒドリルオキシカルボニル,トリチルオキ
シカルボニルなどが用いられる。スルホンアミド基の置
換スルホニル基としては、「アルキルスルホニル基」が
好ましく、そのアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が
好ましく、たとえば、メタンスルホニル，エタンスルホ
ニルなどが用いられる。
【００２５】ハロゲン原子としてはここではフッ素，塩
素，臭素などが用いられる。「Ｃ1-6アルキルウレイド
基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、Ｃ1-6アルキルウレイド基としてはたとえば、メチ
ルウレイド，エチルウレイド，ｎ−プロピルウレイドな
どが用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシル基」のアリ
ール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシル基
は上記の「アシルアミノ基」のアシル基が好ましい。Ｃ
6-10アリール−アシル基としてはたとえば、フェニルア
セチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルカノイル基」と
してはたとえば、アセチル，プロピオニル，ブチリル，
イソブチリル，バレリル，イソバレリル，ピバロイルな
どが用いられる。「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはた
とえば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイルなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシルオキシ基」の
アリール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシ
ル基は上記の「アシルアミノ基」のアシル基が好まし
い。Ｃ6-10アリール−アシルオキシ基としてはたとえ
ば、フェニルアセチルオキシなどが用いられる。「Ｃ
3-5アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記の
Ｃ3-5アルケノイル基が好ましく、Ｃ3-5アルケノイルオ
キシ基としてはたとえば、アクリロイルオキシ，クロト
ノイルオキシ，マレオイルオキシなどが用いられる。
「カルバモイルＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上記
のＣ1-6アルキル基が好ましく、カルバモイルＣ1-6アル
キル基としてはたとえば、カルバモイルメチル，２−カ
ルバモイルエチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルカノ
イルアミノ基」のアルカノイル基は上記のＣ1-6アルカ
ノイル基が好ましく、Ｃ1-6アルカノイルアミノ基とし
てはたとえば、ホルミルアミノ，アセチルアミノなどが
用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシルアミノ基」のア
リール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシル
基は上記のアシル基が好ましい。Ｃ6-10アリール−アシ
ルアミノ基としてはたとえば、フェニルアセチルアミノ
などが用いられる。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミ
ド基」のアルコキシ基は上記のＣ1-10アルコキシ基が好
ましく、Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミド基としては
たとえば、メトキシカルボキサミド，エトキシカルボキ
サミドなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カ
ルボキサミド基」のアリール基は上記のＣ6-10アリール
基が好ましく、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド
としてはたとえば、フェニルオキシカルボキサミドなど
が用いられる。
素，臭素などが用いられる。「Ｃ1-6アルキルウレイド
基」のアルキル基は上記のＣ1-6アルキル基が好まし
く、Ｃ1-6アルキルウレイド基としてはたとえば、メチ
ルウレイド，エチルウレイド，ｎ−プロピルウレイドな
どが用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシル基」のアリ
ール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシル基
は上記の「アシルアミノ基」のアシル基が好ましい。Ｃ
6-10アリール−アシル基としてはたとえば、フェニルア
セチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルカノイル基」と
してはたとえば、アセチル，プロピオニル，ブチリル，
イソブチリル，バレリル，イソバレリル，ピバロイルな
どが用いられる。「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはた
とえば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイルなど
が用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシルオキシ基」の
アリール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシ
ル基は上記の「アシルアミノ基」のアシル基が好まし
い。Ｃ6-10アリール−アシルオキシ基としてはたとえ
ば、フェニルアセチルオキシなどが用いられる。「Ｃ
3-5アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記の
Ｃ3-5アルケノイル基が好ましく、Ｃ3-5アルケノイルオ
キシ基としてはたとえば、アクリロイルオキシ，クロト
ノイルオキシ，マレオイルオキシなどが用いられる。
「カルバモイルＣ1-6アルキル基」のアルキル基は上記
のＣ1-6アルキル基が好ましく、カルバモイルＣ1-6アル
キル基としてはたとえば、カルバモイルメチル，２−カ
ルバモイルエチルなどが用いられる。「Ｃ1-6アルカノ
イルアミノ基」のアルカノイル基は上記のＣ1-6アルカ
ノイル基が好ましく、Ｃ1-6アルカノイルアミノ基とし
てはたとえば、ホルミルアミノ，アセチルアミノなどが
用いられる。「Ｃ6-10アリール−アシルアミノ基」のア
リール基は上記のＣ6-10アリール基が好ましく、アシル
基は上記のアシル基が好ましい。Ｃ6-10アリール−アシ
ルアミノ基としてはたとえば、フェニルアセチルアミノ
などが用いられる。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミ
ド基」のアルコキシ基は上記のＣ1-10アルコキシ基が好
ましく、Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミド基としては
たとえば、メトキシカルボキサミド，エトキシカルボキ
サミドなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カ
ルボキサミド基」のアリール基は上記のＣ6-10アリール
基が好ましく、Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド
としてはたとえば、フェニルオキシカルボキサミドなど
が用いられる。
【００２６】「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミ
ド基」のアラルキル基は上記のＣ7-19アラルキル基が好
ましく、Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミドとし
てはたとえば、ベンジルオキシカルボキサミドなどが用
いられる。「複素環基」は複素環の炭素原子に結合して
いる水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、その
ような複素環はたとえば、窒素原子（オキシド化されて
いてもよい），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を
１〜数個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはそ
の縮合環をいう。このような複素環基としては具体的に
は２−または３−ピロリル，３−，４−または５−ピラ
ゾリル，２−，４−または５−イミダゾリル，１，２，
３−または１，２，４−トリアゾリル，１Ｈ−または２
Ｈ−テトラゾリル，２−または３−フリル，２−または
３−チエニル，２−，４−または５−オキサゾリル，３
−，４−または５−イソキサゾリル，１，２，３−オキ
サジアゾール−４−または５−イル，１，２，４−オキ
サジアゾール−３−または５−イル，１，２，５−また
は１，３，４−オキサジアゾリル，２−，４−または５
−チアゾリル，３−，４−または５−イソチアゾリル，
１，２，３−チアジアゾール−４−または５−イル，
１，２，４−チアジアゾール−３−または５−イル，
１，２，５−または１，３，４−チアジアゾル，２−ま
たは３−ピロリジニル，２−，３−または４−ピリジ
ル，２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド，３
−または４−ピリダジニル，３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド，２−，４−または５−ピリミジニ
ル，２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド，ピラジニル，２−，３−または４−ピペリジニル，
ピペラジニル，３Ｈ−インドール−２−または３−イ
ル，２−，３−または４−ピラニル，２−，３−または
４−チオピラニル，ベンゾピラニル，キノリル，ピリド
〔２，３−ｄ〕ピリミジル，１，５−，１，６−，１，
７−，１，８−，２，６−または２，７−ナフチリジ
ル，チエノ〔２，３−ｄ〕ピリジル，ピリミドピリジ
ル，ピラジノキノリル，ベンゾピラニルなどが用いられ
る。
ド基」のアラルキル基は上記のＣ7-19アラルキル基が好
ましく、Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミドとし
てはたとえば、ベンジルオキシカルボキサミドなどが用
いられる。「複素環基」は複素環の炭素原子に結合して
いる水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、その
ような複素環はたとえば、窒素原子（オキシド化されて
いてもよい），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を
１〜数個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはそ
の縮合環をいう。このような複素環基としては具体的に
は２−または３−ピロリル，３−，４−または５−ピラ
ゾリル，２−，４−または５−イミダゾリル，１，２，
３−または１，２，４−トリアゾリル，１Ｈ−または２
Ｈ−テトラゾリル，２−または３−フリル，２−または
３−チエニル，２−，４−または５−オキサゾリル，３
−，４−または５−イソキサゾリル，１，２，３−オキ
サジアゾール−４−または５−イル，１，２，４−オキ
サジアゾール−３−または５−イル，１，２，５−また
は１，３，４−オキサジアゾリル，２−，４−または５
−チアゾリル，３−，４−または５−イソチアゾリル，
１，２，３−チアジアゾール−４−または５−イル，
１，２，４−チアジアゾール−３−または５−イル，
１，２，５−または１，３，４−チアジアゾル，２−ま
たは３−ピロリジニル，２−，３−または４−ピリジ
ル，２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド，３
−または４−ピリダジニル，３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド，２−，４−または５−ピリミジニ
ル，２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド，ピラジニル，２−，３−または４−ピペリジニル，
ピペラジニル，３Ｈ−インドール−２−または３−イ
ル，２−，３−または４−ピラニル，２−，３−または
４−チオピラニル，ベンゾピラニル，キノリル，ピリド
〔２，３−ｄ〕ピリミジル，１，５−，１，６−，１，
７−，１，８−，２，６−または２，７−ナフチリジ
ル，チエノ〔２，３−ｄ〕ピリジル，ピリミドピリジ
ル，ピラジノキノリル，ベンゾピラニルなどが用いられ
る。
【化２７】 または、アミノ基，カルバモイル基，ウレイド基，グリ
シルアミノ基もしくはホルミルアミノ基で１個置換され
ているものが好ましい。
シルアミノ基もしくはホルミルアミノ基で１個置換され
ているものが好ましい。
【００２７】
【化２８】 シル基がカルボキシレートアニオンであって、置換基Ａ
上の陽電荷と一対になって分子内塩を形成していること
を示す。一方、化合物〔I〕は薬理学的に受容される塩
もしくはエステルであってもよい。薬理学的に受容され
る塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩，塩基性アミノ酸塩な
どが用いられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基と
してはアルカリ金属（たとえばナトリウム，カリウムな
ど），アルカリ土類金属（たとえばカルシウムなど）な
どが、有機塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたと
えばプロカイン，２−フェニルエチルベンジルアミン，
ジベンジルエチレンジアミン，エタノールアミン，ジエ
タノールアミン，トリスヒドロキシメチルアミノメタ
ン，ポリヒドロキシアルキルアミン，Ｎ−メチルグルコ
サミンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸とし
てはたとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸な
どが、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたと
えばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホン酸，ギ
酸，トリフルオロ酢酸，マレイン酸などが、塩基性アミ
ノ酸塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえば
リジン，アルギニン，オルニチン，ヒスチジンなどが用
いられる。これらの塩のうち塩基塩（すなわち無機塩基
塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）
は化合
上の陽電荷と一対になって分子内塩を形成していること
を示す。一方、化合物〔I〕は薬理学的に受容される塩
もしくはエステルであってもよい。薬理学的に受容され
る塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩，塩基性アミノ酸塩な
どが用いられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基と
してはアルカリ金属（たとえばナトリウム，カリウムな
ど），アルカリ土類金属（たとえばカルシウムなど）な
どが、有機塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたと
えばプロカイン，２−フェニルエチルベンジルアミン，
ジベンジルエチレンジアミン，エタノールアミン，ジエ
タノールアミン，トリスヒドロキシメチルアミノメタ
ン，ポリヒドロキシアルキルアミン，Ｎ−メチルグルコ
サミンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸とし
てはたとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸な
どが、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたと
えばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホン酸，ギ
酸，トリフルオロ酢酸，マレイン酸などが、塩基性アミ
ノ酸塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえば
リジン，アルギニン，オルニチン，ヒスチジンなどが用
いられる。これらの塩のうち塩基塩（すなわち無機塩基
塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）
は化合
【化２９】 基，ジアルキルアミノ基，シクロアルキルアミノ基，ア
リールアミノ基，アラルキルアミノ基，環状アミノ基，
含窒素複素環基などの塩基性基が存在する場合に形成し
うる酸付加塩を意味する。また酸付加塩としては化合物
〔I〕の分子内塩
リールアミノ基，アラルキルアミノ基，環状アミノ基，
含窒素複素環基などの塩基性基が存在する場合に形成し
うる酸付加塩を意味する。また酸付加塩としては化合物
〔I〕の分子内塩
【化３０】 たとえばクロライドイオン，ブロマイドイオン,スルフ
ェートイオン,p−トルエンスルホネートイオン,メタン
スルホネートイオン,トリフルオロアセテートイオンな
ど〕となった塩も含まれる。化合物〔I〕のエステル誘
導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化す
ることにより生成されうるエステルを意味し、合成中間
体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無毒
のエステルである。合成中間体として利用できるエステ
ルとしては置換されていてもよいＣ1-6アルキルエステ
ル,Ｃ2-6アルケニルエステル,Ｃ3-10シクロアルキルエ
ステル,Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエステル,
置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル,置換さ
れていてもよいＣ7-12アラルキルエステル,ジＣ6-10ア
リール−メチルエステル,トリＣ6-10アリール−メチル
エステル,置換シリルエステルなどが用いられる。
ェートイオン,p−トルエンスルホネートイオン,メタン
スルホネートイオン,トリフルオロアセテートイオンな
ど〕となった塩も含まれる。化合物〔I〕のエステル誘
導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化す
ることにより生成されうるエステルを意味し、合成中間
体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無毒
のエステルである。合成中間体として利用できるエステ
ルとしては置換されていてもよいＣ1-6アルキルエステ
ル,Ｃ2-6アルケニルエステル,Ｃ3-10シクロアルキルエ
ステル,Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエステル,
置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル,置換さ
れていてもよいＣ7-12アラルキルエステル,ジＣ6-10ア
リール−メチルエステル,トリＣ6-10アリール−メチル
エステル,置換シリルエステルなどが用いられる。
【００２８】置換されていてもよいＣ1-6アルキルエス
テルとしてはたとえば、メチル,エチル,n−プロピル,イ
ソプロピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−
ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシル等が用いられ、それら
は例えば、ベンジルオキシ，Ｃ1-4アルキルスルホニル
（例、メチルスルホニル等），トリメチルシリル，ハロ
ゲン（例、フッ素．塩素，臭素等），アセチル，ニトロ
ベンゾイル，メシルベンゾイル，フタルイミド，サクシ
ンイミド，ベンゼンスルホニル，フェニルチオ，ジＣ
1-4アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ等），ピリジ
ル，Ｃ1-4アルキルスルフィニル（例、メチルスルフィ
ニル等），シアノ等で１〜３個置換されていてもよく、
そのような基としては具体的には例えば、ベンジルオキ
シメチル,２ーメチルスルホニルエチル,２−トリメチル
シリルエチル,２,２,２−トリクロロエチル,２−ヨード
エチル,アセチルメチル,p−ニトロベンゾイルメチル,p
−メシルベンゾイルメチル,フタルイミドメチル,サクシ
ンイミドメチル,ベンゼンスルホニルメチル,フェニルチ
オメチル,ジメチルアミノエチル,ピリジン−１−オキシ
ド−２−メチル,メチルスルフィニルメチル,２−シアノ
−１,１−ジメチルエチルなどが用いられる。Ｃ2-6アル
ケニルエステルを形成するＣ2-6アルケニル基としては
ビニル,アリル,１−プロペニル,イソプロペニル,１−ブ
テニル,２−ブテニル,３−ブテニル,メタリル,１,１−
ジメチルアリル,３−メチル−３−ブテニルなどが用い
られる。Ｃ3-10シクロアルキルエステルを形成するＣ
3-10シクロアルキル基としてはシクロプロピル,シクロ
ブチル,シクロペンチル,シクロヘキシル,シクロヘプチ
ル,ノルボルニル,アダマンチルなどが用いられる。Ｃ
3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエステルを形成する
Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基としてはシクロ
プロピルメチル,シクロペンチルメチル,シクロヘキシル
メチルなどが用いられる。置換されていてもよいＣ6-10
アリールエステルを形成する「Ｃ6-10アリール基」として
はたとえばフェニル,α−ナフチル,β−ナフチル,ビフ
ェニリル等が用いられ、それらは例えば、ニトロ，ハロ
ゲン（例、フッ素，塩素，臭素等）等で１〜３個置換さ
れていてもよく、そのような基として具体的には例え
ば、p−ニトロフェニル,p−クロロフェニルなどが用い
られる。
テルとしてはたとえば、メチル,エチル,n−プロピル,イ
ソプロピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−
ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシル等が用いられ、それら
は例えば、ベンジルオキシ，Ｃ1-4アルキルスルホニル
（例、メチルスルホニル等），トリメチルシリル，ハロ
ゲン（例、フッ素．塩素，臭素等），アセチル，ニトロ
ベンゾイル，メシルベンゾイル，フタルイミド，サクシ
ンイミド，ベンゼンスルホニル，フェニルチオ，ジＣ
1-4アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ等），ピリジ
ル，Ｃ1-4アルキルスルフィニル（例、メチルスルフィ
ニル等），シアノ等で１〜３個置換されていてもよく、
そのような基としては具体的には例えば、ベンジルオキ
シメチル,２ーメチルスルホニルエチル,２−トリメチル
シリルエチル,２,２,２−トリクロロエチル,２−ヨード
エチル,アセチルメチル,p−ニトロベンゾイルメチル,p
−メシルベンゾイルメチル,フタルイミドメチル,サクシ
ンイミドメチル,ベンゼンスルホニルメチル,フェニルチ
オメチル,ジメチルアミノエチル,ピリジン−１−オキシ
ド−２−メチル,メチルスルフィニルメチル,２−シアノ
−１,１−ジメチルエチルなどが用いられる。Ｃ2-6アル
ケニルエステルを形成するＣ2-6アルケニル基としては
ビニル,アリル,１−プロペニル,イソプロペニル,１−ブ
テニル,２−ブテニル,３−ブテニル,メタリル,１,１−
ジメチルアリル,３−メチル−３−ブテニルなどが用い
られる。Ｃ3-10シクロアルキルエステルを形成するＣ
3-10シクロアルキル基としてはシクロプロピル,シクロ
ブチル,シクロペンチル,シクロヘキシル,シクロヘプチ
ル,ノルボルニル,アダマンチルなどが用いられる。Ｃ
3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエステルを形成する
Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基としてはシクロ
プロピルメチル,シクロペンチルメチル,シクロヘキシル
メチルなどが用いられる。置換されていてもよいＣ6-10
アリールエステルを形成する「Ｃ6-10アリール基」として
はたとえばフェニル,α−ナフチル,β−ナフチル,ビフ
ェニリル等が用いられ、それらは例えば、ニトロ，ハロ
ゲン（例、フッ素，塩素，臭素等）等で１〜３個置換さ
れていてもよく、そのような基として具体的には例え
ば、p−ニトロフェニル,p−クロロフェニルなどが用い
られる。
【００２９】置換されていてもよいＣ7-12アラルキルエ
ステルを形成する「Ｃ7-12アラルキル基」としてはたとえ
ば、ベンジル,１−フェニルエチル,２−フェニルエチル,
フェニルプロピル,ナフチルメチル等が用いられ、それ
らは例えば、ニトロ，Ｃ1-4アルコキシ（例、メトキシ
等），Ｃ1-4アルキル（例、メチル，エチル等），ヒド
ロキシで１〜３個置換されていてもよく、そのような基
として具体的には例えば、p−ニトロベンジル,p−メト
キシベンジル,３,５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルなどが用いられる。ジＣ6-10アリール−メチル
エステルを形成するジＣ6-10アリール−メチル基として
はベンズヒドリルなどが、トリＣ6-10アリール−メチル
エステルを形成するトリＣ6-10アリール−メチル基とし
てはトリチルなどが、置換シリルエステルを形成する置
換シリル基としてはトリメチルシリル,tert−ブチルジ
メチルシリル,−Ｓi(ＣＨ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−
などが用いられる。上記したエステルには４位のエステ
ルも含まれる。このように４位が上記のエステル基であ
るもの
ステルを形成する「Ｃ7-12アラルキル基」としてはたとえ
ば、ベンジル,１−フェニルエチル,２−フェニルエチル,
フェニルプロピル,ナフチルメチル等が用いられ、それ
らは例えば、ニトロ，Ｃ1-4アルコキシ（例、メトキシ
等），Ｃ1-4アルキル（例、メチル，エチル等），ヒド
ロキシで１〜３個置換されていてもよく、そのような基
として具体的には例えば、p−ニトロベンジル,p−メト
キシベンジル,３,５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルなどが用いられる。ジＣ6-10アリール−メチル
エステルを形成するジＣ6-10アリール−メチル基として
はベンズヒドリルなどが、トリＣ6-10アリール−メチル
エステルを形成するトリＣ6-10アリール−メチル基とし
てはトリチルなどが、置換シリルエステルを形成する置
換シリル基としてはトリメチルシリル,tert−ブチルジ
メチルシリル,−Ｓi(ＣＨ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−
などが用いられる。上記したエステルには４位のエステ
ルも含まれる。このように４位が上記のエステル基であ
るもの
【化３１】 を形成している。
【００３０】本発明は上記エステル誘導体のほかに、生
体内において化合物〔I〕に変換される薬理学的に受容
しうる化合物も包含する。
体内において化合物〔I〕に変換される薬理学的に受容
しうる化合物も包含する。
【化３２】 てアミノ基を有する場合、そのアミノ基は保護されてい
てもよい。このようなアミノ基の保護基としては、Ｒ1
で示される保護されていてもよいアミノ基における保護
基がここでもそのまま用いられる。本発明の化合物
〔Ｉ〕もしくはそのエステルまたはその塩の製造法を以
下に詳しく述べる。
てもよい。このようなアミノ基の保護基としては、Ｒ1
で示される保護されていてもよいアミノ基における保護
基がここでもそのまま用いられる。本発明の化合物
〔Ｉ〕もしくはそのエステルまたはその塩の製造法を以
下に詳しく述べる。
【００３１】製造法(１)：たとえば、一般式〔II〕
【化３３】 〔式中の記号は前記と同意義〕（以下ＲbＯＨと略す）
で表されるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導
体とを反応させることにより化合物〔I〕を合成するこ
とができる。
で表されるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導
体とを反応させることにより化合物〔I〕を合成するこ
とができる。
【００３２】本法は７−アミノ化合物〔II〕をカルボン
酸ＲbＯＨまたはその塩もしくは反応性誘導体でアシル
化する方法である。この方法においてカルボン酸ＲbＯ
Ｈは遊離のままあるいはその塩もしくは反応性誘導体が
７−アミノ化合物〔II〕の７位アミノ基のアシル化剤と
して用いられる。すなわち遊離酸 ＲbＯＨあるいは遊離
酸 ＲbＯＨの無機塩基塩,有機塩基塩,酸ハライド,酸ア
ジド,酸無水物,混合酸無水物,活性アミド,活性エステ
ル,活性チオエステルなどの反応性誘導体がアシル化反
応に供される。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩(た
とえばナトリウム塩,カリウム塩など),アルカリ土類金
属塩(たとえばカルシウム塩など)などが,有機塩基塩と
してはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチルアミン
塩,tert−ブチルジメチルアミン塩,ジベンジルメチルア
ミン塩,ベンジルジメチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが,酸ハライドと
してはたとえば酸クロライド,酸ブロマイドなどが,混合
酸無水物としてはモノＣ1-6アルキル炭酸混合酸無水物
(たとえば遊離酸ＲbＯＨとモノメチル炭酸,モノエチル
炭酸,モノイソプロピル炭酸,モノイソブチル炭酸,モノt
ert−ブチル炭酸,モノベンジル炭酸,モノ(p−ニトロベ
ンジル)炭酸,モノアリル炭酸などとの混合酸無水物),Ｃ
1-6脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸Ｒb
ＯＨと酢酸,トリクロロ酢酸,シアノ酢酸,プロピオン酸,
酪酸,イソ酪酸,吉草酸,イソ吉草酸,ピバル酸,トリフル
オロ酢酸,トリクロロ酢酸,アセト酢酸などとの混合酸無
水物),Ｃ7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物(たとえば
遊離酸ＲbＯＨと安息香酸,p−トルイル酸,p−クロロ安
息香酸などとの混合酸無水物),有機スルホン酸混合酸無
水物(たとえば遊離酸ＲbＯＨとメタンスルホン酸,エタ
ンスルホン酸,ベンゼンスルホン酸,p−トルエンスルホ
ン酸などとの混合酸無水物)などが,活性アミドとしては
含窒素複素環化合物とのアミド(たとえば遊離酸ＲbＯＨ
とピラゾール,イミダゾール,ベンゾトリアゾールなどと
の酸アミドで,これらの含窒素複素環化合物はＣ1-6アル
キル基（例、メチル，エチル等）,Ｃ1-6アルコキシ基
（例、メトキシ，エトキシ等）,ハロゲン原子（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）,オキソ基,チオキソ基,Ｃ1-6アル
キルチオ基（例、メチルチオ，エチルチオ等）などで置
換されていてもよい)などがあげられる。活性エステル
としてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこの
目的に用いられるものはすべて利用でき,たとえば有機
リン酸エステル(たとえばジエトキシリン酸エステル,ジ
フェノキシリン酸エステルなど)のほかp−ニトロフェニ
ルエステル,２,４−ジニトロフェニルエステル,シアノ
メチルエステル,ペンタクロロフェニルエステル,Ｎ−ヒ
ドロキシサクシンイミドエステル,Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル,１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
エステル,６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル,１−ヒドロキシ−１Ｈ−２−ピリドンエ
ステルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳
香族複素環チオール化合物とのエステル(たとえば２−
ピリジルチオールエステル,２−ベンゾチアゾリルチオ
ールエステルなどで,これらの複素環はＣ１−６アルキ
ル基（例、メチル，エチル等），Ｃ1-6アルコキシ基
（例、メトキシ，エトキシ等）,ハロゲン原子（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）,Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチ
ルチオ，エチルチオ等）などで置換されていてもよい)
があげられる。一方,７−アミノ化合物〔II〕は遊離の
まま,その塩あるいはエステルとして用いられる。７−
アミノ化合物〔II〕の塩としては無機塩基塩,アンモニ
ウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩などが
あげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩(たと
えばナトリウム塩,カリウム塩など),アルカリ土類金属
塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有機塩基塩とし
てはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチルアミン塩,
tert−ブチルジメチルアミン塩, ジベンジルメチルアミ
ン塩,ベンジルジメチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニ
リン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが、無機酸付加塩と
してはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩,リ
ン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ酸塩,酢酸塩,ト
リフルオロ酢酸塩,メタンスルホン酸塩, p−トルエンス
ルホン酸塩などがあげられる。７−アミノ化合物〔II〕
のエステルとしては化合物〔I〕のエステル誘導体とし
てすでに述べたエステルがここでもそのままあげられ
る。すなわちＣ1-6アルキルエステル, Ｃ2-6アルケニル
エステル, Ｃ3-10シクロアルキルエステル, Ｃ3-6シク
ロアルキルＣ1-6アルキルエステル, Ｃ6-10アリールエ
ステル, Ｃ7-12アラルキルエステル,ジＣ6-10アリール
メチルエステル,トリＣ6-10アリールメチルエステル,Ｃ
2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキルエステルなどがあ
げられる。原料物質ＲbＯＨおよびその塩・反応性誘導体
は公知の方法（例えば、特開昭６０−２３１６８４号，
特開昭６２−１４９６８２号等に記載の方法）またはそ
れに準ずる方法によって容易に製造できる。化合物Ｒb
ＯＨの反応性誘導体は反応混合物から単離された物質と
して７−アミノ化合物〔II〕と反応させてもよいし、ま
たは単離前の化合物ＲbＯＨの反応性誘導体を含有する
反応混合物をそのまま７−アミノ化合物〔II〕と反応さ
せることもできる。カルボン酸ＲbＯＨを遊離酸または
塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤を用いる。縮合
剤としてはたとえばＮ,Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのＮ,Ｎ′−ジ置換カルボジイミド類,たと
えばＮ,Ｎ′−カルボニルジイミダゾール,Ｎ,Ｎ′−チ
オカルボニルジイミダゾールなどのアゾライド類,たと
えばＮ−エトキシカルボニル−２−エトキシ−１,２−
ジヒドロキノリン,オキシ塩化リン,アルコキシアセチレ
ンなどの脱水剤,たとえば２−クロロピリジニウムメチ
ルアイオダイド,２−フルオロピリジニウムメチルアイ
オダイドなどの２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用
いられる。これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボ
ン酸ＲbＯＨの反応性誘導体を経て進行すると考えられ
る。反応は一般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない
溶媒が適宜に選択される。このような溶媒としてはたと
えばジオキサン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテ
ル,tert−ブチルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテ
ル,エチレングリコール−ジメチルエーテルなどのエー
テル類,たとえばギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸n−ブチル
などのエステル類,たとえばジクロロメタン,クロロホル
ム,四塩化炭素,トリクレン,１,２−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼ
ン,トルエンなどの炭化水素類,たとえばホルムアミド,
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類,たとえばアセトン,メチルエチル
ケトン,メチルイソブチルケトンなどのケトン類,たとえ
ばアセトニトリル,プロピオニトリルなどのニトリル類
などのほか,ジメチルスルホキシド,スルホラン,ヘキサ
メチルホスホルアミド,水なとが単独または混合溶媒と
して用いられる。アシル化剤(ＲbＯＨ)の使用量は７−
アミノ化合物〔II〕１モルに対して通常約１〜５モル,
好ましくは約１〜２モルである。反応は約−80〜80℃,
好ましくは約−40〜50℃,最も好ましくは約−30〜30℃
の温度範囲で行われる。反応時間は７−アミノ化合物
〔II〕およびカルボン酸ＲbＯＨの種類,溶媒の種類(混
合溶媒の場合はその混合比も),反応温度などに依存し、
通常約１分〜72時間,好ましくは約15分〜３時間であ
る。アシル化剤として酸ハライドを用いた場合は放出さ
れるハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤
の存在下に反応を行うことができる。このような脱酸剤
としてはたとえば炭酸ナトリウム,炭酸カリウム,炭酸カ
ルシウム,炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基,たとえば
トリエチルアミン,トリ(n−プロピル)アミン,トリ(n−
ブチル)アミン,ジイソプロピルエチルアミン,シクロヘ
キシルジメチルアミン,ピリジン,ルチジン,γ−コリジ
ン,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン,Ｎ−メチルピペジリン,Ｎ
−メチルピロリジン,Ｎ−メチルモルホリンなどの第３
級アミン,たとえばプロピレンオキシド,エピクロルヒド
リンなどのアルキレンオキシドなとがあげられる。
酸ＲbＯＨまたはその塩もしくは反応性誘導体でアシル
化する方法である。この方法においてカルボン酸ＲbＯ
Ｈは遊離のままあるいはその塩もしくは反応性誘導体が
７−アミノ化合物〔II〕の７位アミノ基のアシル化剤と
して用いられる。すなわち遊離酸 ＲbＯＨあるいは遊離
酸 ＲbＯＨの無機塩基塩,有機塩基塩,酸ハライド,酸ア
ジド,酸無水物,混合酸無水物,活性アミド,活性エステ
ル,活性チオエステルなどの反応性誘導体がアシル化反
応に供される。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩(た
とえばナトリウム塩,カリウム塩など),アルカリ土類金
属塩(たとえばカルシウム塩など)などが,有機塩基塩と
してはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチルアミン
塩,tert−ブチルジメチルアミン塩,ジベンジルメチルア
ミン塩,ベンジルジメチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが,酸ハライドと
してはたとえば酸クロライド,酸ブロマイドなどが,混合
酸無水物としてはモノＣ1-6アルキル炭酸混合酸無水物
(たとえば遊離酸ＲbＯＨとモノメチル炭酸,モノエチル
炭酸,モノイソプロピル炭酸,モノイソブチル炭酸,モノt
ert−ブチル炭酸,モノベンジル炭酸,モノ(p−ニトロベ
ンジル)炭酸,モノアリル炭酸などとの混合酸無水物),Ｃ
1-6脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸Ｒb
ＯＨと酢酸,トリクロロ酢酸,シアノ酢酸,プロピオン酸,
酪酸,イソ酪酸,吉草酸,イソ吉草酸,ピバル酸,トリフル
オロ酢酸,トリクロロ酢酸,アセト酢酸などとの混合酸無
水物),Ｃ7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物(たとえば
遊離酸ＲbＯＨと安息香酸,p−トルイル酸,p−クロロ安
息香酸などとの混合酸無水物),有機スルホン酸混合酸無
水物(たとえば遊離酸ＲbＯＨとメタンスルホン酸,エタ
ンスルホン酸,ベンゼンスルホン酸,p−トルエンスルホ
ン酸などとの混合酸無水物)などが,活性アミドとしては
含窒素複素環化合物とのアミド(たとえば遊離酸ＲbＯＨ
とピラゾール,イミダゾール,ベンゾトリアゾールなどと
の酸アミドで,これらの含窒素複素環化合物はＣ1-6アル
キル基（例、メチル，エチル等）,Ｃ1-6アルコキシ基
（例、メトキシ，エトキシ等）,ハロゲン原子（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）,オキソ基,チオキソ基,Ｃ1-6アル
キルチオ基（例、メチルチオ，エチルチオ等）などで置
換されていてもよい)などがあげられる。活性エステル
としてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこの
目的に用いられるものはすべて利用でき,たとえば有機
リン酸エステル(たとえばジエトキシリン酸エステル,ジ
フェノキシリン酸エステルなど)のほかp−ニトロフェニ
ルエステル,２,４−ジニトロフェニルエステル,シアノ
メチルエステル,ペンタクロロフェニルエステル,Ｎ−ヒ
ドロキシサクシンイミドエステル,Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミドエステル,１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
エステル,６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル,１−ヒドロキシ−１Ｈ−２−ピリドンエ
ステルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳
香族複素環チオール化合物とのエステル(たとえば２−
ピリジルチオールエステル,２−ベンゾチアゾリルチオ
ールエステルなどで,これらの複素環はＣ１−６アルキ
ル基（例、メチル，エチル等），Ｃ1-6アルコキシ基
（例、メトキシ，エトキシ等）,ハロゲン原子（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）,Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチ
ルチオ，エチルチオ等）などで置換されていてもよい)
があげられる。一方,７−アミノ化合物〔II〕は遊離の
まま,その塩あるいはエステルとして用いられる。７−
アミノ化合物〔II〕の塩としては無機塩基塩,アンモニ
ウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩などが
あげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩(たと
えばナトリウム塩,カリウム塩など),アルカリ土類金属
塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有機塩基塩とし
てはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチルアミン塩,
tert−ブチルジメチルアミン塩, ジベンジルメチルアミ
ン塩,ベンジルジメチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニ
リン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが、無機酸付加塩と
してはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩,リ
ン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ酸塩,酢酸塩,ト
リフルオロ酢酸塩,メタンスルホン酸塩, p−トルエンス
ルホン酸塩などがあげられる。７−アミノ化合物〔II〕
のエステルとしては化合物〔I〕のエステル誘導体とし
てすでに述べたエステルがここでもそのままあげられ
る。すなわちＣ1-6アルキルエステル, Ｃ2-6アルケニル
エステル, Ｃ3-10シクロアルキルエステル, Ｃ3-6シク
ロアルキルＣ1-6アルキルエステル, Ｃ6-10アリールエ
ステル, Ｃ7-12アラルキルエステル,ジＣ6-10アリール
メチルエステル,トリＣ6-10アリールメチルエステル,Ｃ
2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキルエステルなどがあ
げられる。原料物質ＲbＯＨおよびその塩・反応性誘導体
は公知の方法（例えば、特開昭６０−２３１６８４号，
特開昭６２−１４９６８２号等に記載の方法）またはそ
れに準ずる方法によって容易に製造できる。化合物Ｒb
ＯＨの反応性誘導体は反応混合物から単離された物質と
して７−アミノ化合物〔II〕と反応させてもよいし、ま
たは単離前の化合物ＲbＯＨの反応性誘導体を含有する
反応混合物をそのまま７−アミノ化合物〔II〕と反応さ
せることもできる。カルボン酸ＲbＯＨを遊離酸または
塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤を用いる。縮合
剤としてはたとえばＮ,Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのＮ,Ｎ′−ジ置換カルボジイミド類,たと
えばＮ,Ｎ′−カルボニルジイミダゾール,Ｎ,Ｎ′−チ
オカルボニルジイミダゾールなどのアゾライド類,たと
えばＮ−エトキシカルボニル−２−エトキシ−１,２−
ジヒドロキノリン,オキシ塩化リン,アルコキシアセチレ
ンなどの脱水剤,たとえば２−クロロピリジニウムメチ
ルアイオダイド,２−フルオロピリジニウムメチルアイ
オダイドなどの２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用
いられる。これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボ
ン酸ＲbＯＨの反応性誘導体を経て進行すると考えられ
る。反応は一般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない
溶媒が適宜に選択される。このような溶媒としてはたと
えばジオキサン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテ
ル,tert−ブチルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテ
ル,エチレングリコール−ジメチルエーテルなどのエー
テル類,たとえばギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸n−ブチル
などのエステル類,たとえばジクロロメタン,クロロホル
ム,四塩化炭素,トリクレン,１,２−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼ
ン,トルエンなどの炭化水素類,たとえばホルムアミド,
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類,たとえばアセトン,メチルエチル
ケトン,メチルイソブチルケトンなどのケトン類,たとえ
ばアセトニトリル,プロピオニトリルなどのニトリル類
などのほか,ジメチルスルホキシド,スルホラン,ヘキサ
メチルホスホルアミド,水なとが単独または混合溶媒と
して用いられる。アシル化剤(ＲbＯＨ)の使用量は７−
アミノ化合物〔II〕１モルに対して通常約１〜５モル,
好ましくは約１〜２モルである。反応は約−80〜80℃,
好ましくは約−40〜50℃,最も好ましくは約−30〜30℃
の温度範囲で行われる。反応時間は７−アミノ化合物
〔II〕およびカルボン酸ＲbＯＨの種類,溶媒の種類(混
合溶媒の場合はその混合比も),反応温度などに依存し、
通常約１分〜72時間,好ましくは約15分〜３時間であ
る。アシル化剤として酸ハライドを用いた場合は放出さ
れるハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤
の存在下に反応を行うことができる。このような脱酸剤
としてはたとえば炭酸ナトリウム,炭酸カリウム,炭酸カ
ルシウム,炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基,たとえば
トリエチルアミン,トリ(n−プロピル)アミン,トリ(n−
ブチル)アミン,ジイソプロピルエチルアミン,シクロヘ
キシルジメチルアミン,ピリジン,ルチジン,γ−コリジ
ン,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン,Ｎ−メチルピペジリン,Ｎ
−メチルピロリジン,Ｎ−メチルモルホリンなどの第３
級アミン,たとえばプロピレンオキシド,エピクロルヒド
リンなどのアルキレンオキシドなとがあげられる。
【００３３】本反応の原料の７−アミノ化合物〔II〕も
しくはそのエステルまたはその塩はたとえば、一般式
〔VII〕
しくはそのエステルまたはその塩はたとえば、一般式
〔VII〕
【化３４】 〔式中、Ｒ5は水酸基,アシルオキシ基,カルバモイルオ
キシ基,置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子
を示す〕で表わされる化合物もしくはそのエステルまた
はその塩と置換されていてもよい一般式〔IV〕
キシ基,置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子
を示す〕で表わされる化合物もしくはそのエステルまた
はその塩と置換されていてもよい一般式〔IV〕
【化３５】 〔式中の記号は前記と同意義〕で表される２,３−位ま
たは３,４−位で縮合環を形成するイミダゾール化合物
またはその塩とを反応させることにより合成することが
できる。ここで原料となる化合物〔VII〕またはその塩
もしくはエステルは公知の方法（例えば、特開昭６０−
２３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載
の方法）もしくはそれに準ずる方法を用いて容易に入手
しうる化合物である。化合物〔VII〕の塩,エステルにつ
いては化合物〔II〕の塩,エステルと同じ塩,エステルが
ここでも用いられる。
たは３,４−位で縮合環を形成するイミダゾール化合物
またはその塩とを反応させることにより合成することが
できる。ここで原料となる化合物〔VII〕またはその塩
もしくはエステルは公知の方法（例えば、特開昭６０−
２３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載
の方法）もしくはそれに準ずる方法を用いて容易に入手
しうる化合物である。化合物〔VII〕の塩,エステルにつ
いては化合物〔II〕の塩,エステルと同じ塩,エステルが
ここでも用いられる。
【００３４】前記Ｒ5で表わされるアシルオキシ基とし
てはアセトキシ,クロロアセトキシ,プロピオニルオキ
シ,ブチリルオキシ,ピバロイルオキシ,３−オキソブチ
リルオキシ,４−クロロ−３−オキソブチリルオキシ,３
−カルボキシプロピオニルオキシ,４−カルボキシブチ
リルオキシ,３−エトキシカルバモイルプロピオニルオ
キシ,ベンゾイルオキシ,o−カルボキシベンゾイルオキ
シ,o−(エトキシカルボニルカルバモイル)ベンゾイルオ
キシ,o−(エトキシカルボニルスルファモイル)ベンゾイ
ルオキシなどが好ましい。記号Ｒ5で表わされる置換カ
ルバモイルオキシ基としてはメチルカルバモイルオキ
シ,Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシなどが好まし
い。記号Ｒ5で表わされるハロゲン原子は塩素,臭素,ヨ
ウ素などが好ましい。またイミダゾール化合物〔IV〕と
その塩については後に詳記する。本反応は７位−アミノ
基が保護されていても上記と同様に反応が進行する。反
応後、要すれば保護基の脱離を行うことにより７−アミ
ノ化合物〔II〕に導くことができる。
てはアセトキシ,クロロアセトキシ,プロピオニルオキ
シ,ブチリルオキシ,ピバロイルオキシ,３−オキソブチ
リルオキシ,４−クロロ−３−オキソブチリルオキシ,３
−カルボキシプロピオニルオキシ,４−カルボキシブチ
リルオキシ,３−エトキシカルバモイルプロピオニルオ
キシ,ベンゾイルオキシ,o−カルボキシベンゾイルオキ
シ,o−(エトキシカルボニルカルバモイル)ベンゾイルオ
キシ,o−(エトキシカルボニルスルファモイル)ベンゾイ
ルオキシなどが好ましい。記号Ｒ5で表わされる置換カ
ルバモイルオキシ基としてはメチルカルバモイルオキ
シ,Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシなどが好まし
い。記号Ｒ5で表わされるハロゲン原子は塩素,臭素,ヨ
ウ素などが好ましい。またイミダゾール化合物〔IV〕と
その塩については後に詳記する。本反応は７位−アミノ
基が保護されていても上記と同様に反応が進行する。反
応後、要すれば保護基の脱離を行うことにより７−アミ
ノ化合物〔II〕に導くことができる。
【００３５】製造法(２)：一般式〔III〕
【化３６】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物もしくはそのエステルまたはその塩と一般式〔IV〕で
表わされるイミダゾール化合物またはその塩とを反応さ
せることにより化合物〔I〕合成することができる。
物もしくはそのエステルまたはその塩と一般式〔IV〕で
表わされるイミダゾール化合物またはその塩とを反応さ
せることにより化合物〔I〕合成することができる。
【００３６】この反応は化合物〔III〕もしくはそのエ
ステルまたはその塩（以下化合物〔III〕と略称するこ
ともある）に対してイミダゾール化合物〔IV〕またはそ
の塩を反応させ、求核置換反応により化合物 〔I〕を合
成する方法である。化合物〔III〕は遊離のまま、その
塩あるいはエステルとして用いられる。化合物〔III〕
の塩,エステルとしては前記製造法(１)において７−ア
ミノ化合物〔II〕の塩,エステルとしてあげたものがこ
こでもそのままあてはめられる。化合物〔III〕,その塩
およびエステルは公知の方法（例えば、特開昭６０−２
３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載の
方法）またはそれに準ずる方法によって容易に製造でき
る。一方イミダゾール化合物〔IV〕としては具体的には
ステルまたはその塩（以下化合物〔III〕と略称するこ
ともある）に対してイミダゾール化合物〔IV〕またはそ
の塩を反応させ、求核置換反応により化合物 〔I〕を合
成する方法である。化合物〔III〕は遊離のまま、その
塩あるいはエステルとして用いられる。化合物〔III〕
の塩,エステルとしては前記製造法(１)において７−ア
ミノ化合物〔II〕の塩,エステルとしてあげたものがこ
こでもそのままあてはめられる。化合物〔III〕,その塩
およびエステルは公知の方法（例えば、特開昭６０−２
３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載の
方法）またはそれに準ずる方法によって容易に製造でき
る。一方イミダゾール化合物〔IV〕としては具体的には
【化３７】 としてすでにあげたもの等がここでも用いられる。イミ
ダゾール化合物〔IV〕は塩としても用いられる。化合物
〔IV〕の塩としてはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸
塩,硝酸塩,リン酸塩などの無機酸付加塩,たとえばギ酸
塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩,メタンスルホン酸塩,p
−トルエンスルホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげ
られる。イミダゾール化合物〔IV〕およびその塩の一般
的合成法は既知であり、例えば、特開昭６０−２３１６
８４号，特開昭６２−１４９６８２号に記載の方法また
はそれに準ずる方法によって容易に製造できる。イミダ
ゾール化合物〔IV〕またはその塩による化合物〔III〕
への本求核置換反応は、通常溶媒中で行なわれる。この
反応に用いられる溶媒としては前記製造法(１)で使用さ
れるエーテル類,エステル類,ハロゲン化炭化水素類,炭
化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリル類,水などの溶媒
がそのままあてはめられるが、これらのほかにたとえば
メタノール,エタノール,n−プロパノール,イソプロパノ
ール,エチレングリコール,２−メトキシエタノールなど
のアルコ−ル類等も用いられる。またイミダゾール化合
物〔IV〕が液体の場合、この化合物〔IV〕を化合物〔II
I〕に対して大過剰(たとえば10〜200倍モル)使用して溶
媒をも兼ねさせる場合がある。この場合、上記の溶媒を
使用しなくてもよいし、または上記の溶媒と〔IV〕とを
混合溶媒としてもよい。
ダゾール化合物〔IV〕は塩としても用いられる。化合物
〔IV〕の塩としてはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸
塩,硝酸塩,リン酸塩などの無機酸付加塩,たとえばギ酸
塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩,メタンスルホン酸塩,p
−トルエンスルホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげ
られる。イミダゾール化合物〔IV〕およびその塩の一般
的合成法は既知であり、例えば、特開昭６０−２３１６
８４号，特開昭６２−１４９６８２号に記載の方法また
はそれに準ずる方法によって容易に製造できる。イミダ
ゾール化合物〔IV〕またはその塩による化合物〔III〕
への本求核置換反応は、通常溶媒中で行なわれる。この
反応に用いられる溶媒としては前記製造法(１)で使用さ
れるエーテル類,エステル類,ハロゲン化炭化水素類,炭
化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリル類,水などの溶媒
がそのままあてはめられるが、これらのほかにたとえば
メタノール,エタノール,n−プロパノール,イソプロパノ
ール,エチレングリコール,２−メトキシエタノールなど
のアルコ−ル類等も用いられる。またイミダゾール化合
物〔IV〕が液体の場合、この化合物〔IV〕を化合物〔II
I〕に対して大過剰(たとえば10〜200倍モル)使用して溶
媒をも兼ねさせる場合がある。この場合、上記の溶媒を
使用しなくてもよいし、または上記の溶媒と〔IV〕とを
混合溶媒としてもよい。
【００３７】化合物〔III〕においてＲ5がアシルオキシ
基,カルバモイルオキシ基,置換カルバモイルオキシ基の
場合：より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有
機溶媒と水との混合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒の
うち、より好ましいものはアセトン,メチルエチルケト
ン,アセトニトリルなどである。求核試薬〔IV〕の使用
量は化合物〔III〕１モルに対して通常約１〜５モル,好
ましくは約１〜３モルである。反応は約10〜100℃,好ま
しくは約30〜80℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は
化合物〔III〕および化合物〔IV〕の種類,溶媒の種類
(混合溶媒の場合はその混合比),反応温度などに依存
し、通常約30分〜５日間, 好ましくは約１〜５時間であ
る。反応はpＨ２〜８,好ましくは中性付近すなわちpＨ
５〜８で行なうのが有利である。また本反応は通常２〜
30当量のヨウ化物またはチオシアン酸塩の存在下でより
容易に進行する。このような塩としてはヨウ化ナトリウ
ム,ヨウ化カリウム,チオシアン酸ナトリウム,チオシア
ン酸カリウムなどがあげられる。上記の塩のほか、たと
えばトリメチルベンジルアンモニウムブロマイド,トリ
エチルベンジルアンモニウムブロマイド,トリエチルベ
ンジルアンモニウムヒドロキサイドのような界面活性作
用を有する第４級アンモニウム塩を添加することによっ
て反応を円滑に進行させうる場合もある。
基,カルバモイルオキシ基,置換カルバモイルオキシ基の
場合：より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有
機溶媒と水との混合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒の
うち、より好ましいものはアセトン,メチルエチルケト
ン,アセトニトリルなどである。求核試薬〔IV〕の使用
量は化合物〔III〕１モルに対して通常約１〜５モル,好
ましくは約１〜３モルである。反応は約10〜100℃,好ま
しくは約30〜80℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は
化合物〔III〕および化合物〔IV〕の種類,溶媒の種類
(混合溶媒の場合はその混合比),反応温度などに依存
し、通常約30分〜５日間, 好ましくは約１〜５時間であ
る。反応はpＨ２〜８,好ましくは中性付近すなわちpＨ
５〜８で行なうのが有利である。また本反応は通常２〜
30当量のヨウ化物またはチオシアン酸塩の存在下でより
容易に進行する。このような塩としてはヨウ化ナトリウ
ム,ヨウ化カリウム,チオシアン酸ナトリウム,チオシア
ン酸カリウムなどがあげられる。上記の塩のほか、たと
えばトリメチルベンジルアンモニウムブロマイド,トリ
エチルベンジルアンモニウムブロマイド,トリエチルベ
ンジルアンモニウムヒドロキサイドのような界面活性作
用を有する第４級アンモニウム塩を添加することによっ
て反応を円滑に進行させうる場合もある。
【００３８】化合物〔III〕においてＲ5が水酸基の場
合：たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに記
載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に行
う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたとえば
o−フェニレンホスホロクロリデエイト、o−フェニレン
ホスホロフロリデイト、メチル o−フェニレンホスフ
ェイト、エチル o−フェニレンホスフェイト、 プロピ
ル o−フェニレンホスフェイト、イソプロピル o−フ
ェニレンホスフェイト、 ブチル o−フェニレンホスフ
ェイト、イソブチル o−フェニレンホスフェイト、 se
c−ブチル o−フェニレンホスフェイト、シクロヘキシ
ル o−フェニレンホスフェイト、フェニル o−フェニ
レンホスフェイト、p−クロロフェニル o−フェニレン
ホスフェイト、p−アセチル o−フェニレンホスフェイ
ト、２−クロロエチル o−フェニレンホスフェイト、
２,２,２−トリクロロエチル o−フェニレンホスフェ
イト、エトキシカルボニルメチル o−フェニレンホス
フェイト、カルバモイルメチル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−シアノエチル o−フェニレンホスフェイ
ト、２−メチルスルホニルエチル o−フェニレンホス
フェイト、ベンジル o−フェニレンホスフェイト、１,
１−ジメチル−２−プロペニル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−プロペニル o−フェニレンホスフェイ
ト、３−メチル−２−ブテニル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−チエニルメチル o−フェニレンホスフェ
イト、２−フルフリルメチル o−フェニレンホスフェ
イト、ビス−o−フェニレンピロホスフェイト、２−フ
ェニル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オ
キシド、２−(p−クロロフェニル)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール−２−オキシド、２−ブチル−１,
３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２
−アニリノ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２
−オキシド、２−フェニルチオ−１,３,２−ベンゾジオ
キサホスホール−２−オキシド、２−メトキシ−５−メ
チル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキ
シド、２−クロロ−５−エトキシカルボニル−１,３,２
−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２−メト
キシ−５−エトキシカルボニル−１,３,２−ベンゾジオ
キサホスホール−２−オキシド、５−エトキシカルボニ
ル−２−フェニル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホー
ル−２−オキシド、２,５−ジクロロ−１,３,２−ベン
ゾジオキサホスホール−２−オキシド、４−クロロ−２
−メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２
−オキシド、２−メトキシ−４−メチル−１,３,２−ベ
ンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２,３−ナフ
タレンメチルホスフェイト、５,６−ジメチル−２−メ
トキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オ
キシド、２,２−ジヒドロ−４,５,６,７−テトラクロロ
−２,２,２−トリメトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサ
ホスホール、２,２−ジヒドロ−４,５,６,７−テトラク
ロロ−２,２,２−トリフェノキシ−１,３,２−ベンゾジ
オキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２−エチレン
ジオキシ−２−メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホ
スホール、２,２−ジヒドロ−２−ベンジル−２,２−ジ
メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,
２−ジヒドロ−４,５−ベンゾ−２,２,２−トリメトキ
シ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２,２−トリフェノキシ−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２−(o−フ
ェニレンジオキシ)−２−フェノキシ−１,３,２−ベン
ゾジオキサホスホール、２−クロロ−２,２−ジヒドロ
−２,２−(o−フェニレンジオキシ)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２−メトキシ
−２,２−(o−フェニレンジオキシ)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−ト
リクロロ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、９,1
0,−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホラス、
o−フェニレンホスホロクロリダイト、o−フェニレンホ
スホロブロミダイト、o−フェニレンホスホロフロリダ
イト、メチル o−フェニレンホスファイト、ブチル o
−フェニレンホスファイト、メトキシカルボニルメチル
o−フェニレンホスファイト、フェニル o−フェニレ
ンホスファイト、p−クロロ(またはp−ニトロ)フェニル
o−フェニレンホスファイト、２−フェニル−１,３,
２−ベンゾジオキサホスホール、ビス−o−フェニレン
ピロホスファイト、２−メトキシ−５−メチル−１,３,
２−ベンゾジオキサホスホール、５−アセチル−２−フ
ェノキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、９,1
0,−フェナンスレンホスホロクロリダイト、２−クロロ
−４−メチル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、
５−エトキシカルボニル−２−フェニル−１,３,２−ベ
ンゾジオキサホスホール、２−クロロ−２−チオキソ−
１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２−フェノキシ
−２−オキソ−１,３,２−ベンゾジアザホスホール、２
−フェノキシ−１,３,２−ベンゾジオキサアザホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４,
５−ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２
−ジヒドロ−２−オキソ−２−クロロ−４,５−ジメチ
ル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ
−２−オキソ−２−(１−イミダゾリル)−４,５−ジメ
チル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒド
ロ−２,２−エチレンジオキシ−２−メトキシ−４,５−
ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２−ジメトキシ−２−フェノキシ−４,５−
ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−４,５−ジメチル−
１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,
２,２−トリフェノキシ−４,５−ジメチル−１,３,２−
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−ト
リエトキシ−４,５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサ
ホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキ
シ−４,５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４,
５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,
２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−１,３,２−ジ
オキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリ
メトキシ−４−フェニル−１,３,２−ジオキサホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−４−
メチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒ
ドロ−２,２,２−トリメトキシ−４−メチル−５−フェ
ニルカルバモイル−１,３,２−ジオキサホスホール、
２,２,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,２,２−トリメ
トキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,
２′−オキシビス(４,５−ジメチル−２,２−ジヒドロ
−１,３,２−ジオキサホスホール)、２,２′−オキシビ
ス(４,５−ジメチル−２,２−ジヒドロ−１,３,２−ジ
オキサホスホール−２−オキシド)などがあげられる。
反応に用いる溶媒は反応を阻害しないものであればよ
く、好ましくは前記したエーテル類,エステル類,ハロゲ
ン化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリ
ル類などが単独または混合溶媒として用いられる。とり
わけ、たとえばジクロロメタン,アセトニトリル,ホルム
アミド,ホルムアミドとアセトニトリルの混合溶媒,ジク
ロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒などを使用する
と好効果が得られる。求核試薬〔IV〕またはその塩およ
び有機リン化合物の使用量は化合物〔III〕１モルに対
してそれぞれ約１〜５モル,約１〜10モル,より好ましく
はそれぞれ約１〜３モル,約１〜６モルである。反応は
約−80〜50℃，好ましくは約−４０〜40℃の温度範囲で
行なわれる。反応時間は通常約３０分〜４８時間,好ま
しくは約１〜２４時間である。反応系に有機塩基を添加
してもよい。このような有機塩基としてはたとえばトリ
エチルアミン,トリ(n−ブチル)アミン,ジ(n−ブチル)ア
ミン,ジイソブチルアミン,ジシクロヘキシルアミン,２,
６−ルチジンなどのアミン類があげられる。塩基の添加
量は化合物〔III〕１モルに対して約１〜５モルがよ
い。
合：たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに記
載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に行
う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたとえば
o−フェニレンホスホロクロリデエイト、o−フェニレン
ホスホロフロリデイト、メチル o−フェニレンホスフ
ェイト、エチル o−フェニレンホスフェイト、 プロピ
ル o−フェニレンホスフェイト、イソプロピル o−フ
ェニレンホスフェイト、 ブチル o−フェニレンホスフ
ェイト、イソブチル o−フェニレンホスフェイト、 se
c−ブチル o−フェニレンホスフェイト、シクロヘキシ
ル o−フェニレンホスフェイト、フェニル o−フェニ
レンホスフェイト、p−クロロフェニル o−フェニレン
ホスフェイト、p−アセチル o−フェニレンホスフェイ
ト、２−クロロエチル o−フェニレンホスフェイト、
２,２,２−トリクロロエチル o−フェニレンホスフェ
イト、エトキシカルボニルメチル o−フェニレンホス
フェイト、カルバモイルメチル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−シアノエチル o−フェニレンホスフェイ
ト、２−メチルスルホニルエチル o−フェニレンホス
フェイト、ベンジル o−フェニレンホスフェイト、１,
１−ジメチル−２−プロペニル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−プロペニル o−フェニレンホスフェイ
ト、３−メチル−２−ブテニル o−フェニレンホスフ
ェイト、２−チエニルメチル o−フェニレンホスフェ
イト、２−フルフリルメチル o−フェニレンホスフェ
イト、ビス−o−フェニレンピロホスフェイト、２−フ
ェニル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オ
キシド、２−(p−クロロフェニル)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール−２−オキシド、２−ブチル−１,
３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２
−アニリノ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２
−オキシド、２−フェニルチオ−１,３,２−ベンゾジオ
キサホスホール−２−オキシド、２−メトキシ−５−メ
チル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキ
シド、２−クロロ−５−エトキシカルボニル−１,３,２
−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２−メト
キシ−５−エトキシカルボニル−１,３,２−ベンゾジオ
キサホスホール−２−オキシド、５−エトキシカルボニ
ル−２−フェニル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホー
ル−２−オキシド、２,５−ジクロロ−１,３,２−ベン
ゾジオキサホスホール−２−オキシド、４−クロロ−２
−メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２
−オキシド、２−メトキシ−４−メチル−１,３,２−ベ
ンゾジオキサホスホール−２−オキシド、２,３−ナフ
タレンメチルホスフェイト、５,６−ジメチル−２−メ
トキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール−２−オ
キシド、２,２−ジヒドロ−４,５,６,７−テトラクロロ
−２,２,２−トリメトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサ
ホスホール、２,２−ジヒドロ−４,５,６,７−テトラク
ロロ−２,２,２−トリフェノキシ−１,３,２−ベンゾジ
オキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２−エチレン
ジオキシ−２−メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホ
スホール、２,２−ジヒドロ−２−ベンジル−２,２−ジ
メトキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,
２−ジヒドロ−４,５−ベンゾ−２,２,２−トリメトキ
シ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２,２−トリフェノキシ−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２−(o−フ
ェニレンジオキシ)−２−フェノキシ−１,３,２−ベン
ゾジオキサホスホール、２−クロロ−２,２−ジヒドロ
−２,２−(o−フェニレンジオキシ)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２−メトキシ
−２,２−(o−フェニレンジオキシ)−１,３,２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−ト
リクロロ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、９,1
0,−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホラス、
o−フェニレンホスホロクロリダイト、o−フェニレンホ
スホロブロミダイト、o−フェニレンホスホロフロリダ
イト、メチル o−フェニレンホスファイト、ブチル o
−フェニレンホスファイト、メトキシカルボニルメチル
o−フェニレンホスファイト、フェニル o−フェニレ
ンホスファイト、p−クロロ(またはp−ニトロ)フェニル
o−フェニレンホスファイト、２−フェニル−１,３,
２−ベンゾジオキサホスホール、ビス−o−フェニレン
ピロホスファイト、２−メトキシ−５−メチル−１,３,
２−ベンゾジオキサホスホール、５−アセチル−２−フ
ェノキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、９,1
0,−フェナンスレンホスホロクロリダイト、２−クロロ
−４−メチル−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、
５−エトキシカルボニル−２−フェニル−１,３,２−ベ
ンゾジオキサホスホール、２−クロロ−２−チオキソ−
１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２−フェノキシ
−２−オキソ−１,３,２−ベンゾジアザホスホール、２
−フェノキシ−１,３,２−ベンゾジオキサアザホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４,
５−ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２
−ジヒドロ−２−オキソ−２−クロロ−４,５−ジメチ
ル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ
−２−オキソ−２−(１−イミダゾリル)−４,５−ジメ
チル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒド
ロ−２,２−エチレンジオキシ−２−メトキシ−４,５−
ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２−ジメトキシ−２−フェノキシ−４,５−
ジメチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジ
ヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−４,５−ジメチル−
１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,
２,２−トリフェノキシ−４,５−ジメチル−１,３,２−
ジオキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−ト
リエトキシ−４,５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサ
ホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキ
シ−４,５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４,
５−ジフェニル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,
２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−１,３,２−ジ
オキサホスホール、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリ
メトキシ−４−フェニル−１,３,２−ジオキサホスホー
ル、２,２−ジヒドロ−２,２,２−トリメトキシ−４−
メチル−１,３,２−ジオキサホスホール、２,２−ジヒ
ドロ−２,２,２−トリメトキシ−４−メチル−５−フェ
ニルカルバモイル−１,３,２−ジオキサホスホール、
２,２,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,２,２−トリメ
トキシ−１,３,２−ベンゾジオキサホスホール、２,
２′−オキシビス(４,５−ジメチル−２,２−ジヒドロ
−１,３,２−ジオキサホスホール)、２,２′−オキシビ
ス(４,５−ジメチル−２,２−ジヒドロ−１,３,２−ジ
オキサホスホール−２−オキシド)などがあげられる。
反応に用いる溶媒は反応を阻害しないものであればよ
く、好ましくは前記したエーテル類,エステル類,ハロゲ
ン化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリ
ル類などが単独または混合溶媒として用いられる。とり
わけ、たとえばジクロロメタン,アセトニトリル,ホルム
アミド,ホルムアミドとアセトニトリルの混合溶媒,ジク
ロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒などを使用する
と好効果が得られる。求核試薬〔IV〕またはその塩およ
び有機リン化合物の使用量は化合物〔III〕１モルに対
してそれぞれ約１〜５モル,約１〜10モル,より好ましく
はそれぞれ約１〜３モル,約１〜６モルである。反応は
約−80〜50℃，好ましくは約−４０〜40℃の温度範囲で
行なわれる。反応時間は通常約３０分〜４８時間,好ま
しくは約１〜２４時間である。反応系に有機塩基を添加
してもよい。このような有機塩基としてはたとえばトリ
エチルアミン,トリ(n−ブチル)アミン,ジ(n−ブチル)ア
ミン,ジイソブチルアミン,ジシクロヘキシルアミン,２,
６−ルチジンなどのアミン類があげられる。塩基の添加
量は化合物〔III〕１モルに対して約１〜５モルがよ
い。
【００３９】化合物〔III〕においてＲ5がハロゲン原子
の場合：好ましい溶媒は前記のエーテル類,エステル類,
ハロゲン化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,
ニトリル類,アルコ−ル類,水などである。求核試薬〔I
V〕の使用量は化合物〔III〕１モルに対して通常約１〜
５モル,好ましくは約１〜３モルである。反応は約０〜8
0℃,好ましくは約20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反
応時間は通常約30分〜15時間,好ましくは約１〜５時間
である。反応を促進するため脱ハロゲン剤の存在下に反
応を行うこともできる。このような脱ハロゲン剤として
は前記製造法(１)の項で述べた無機塩基,第３級アミン,
アルキレンオキシド類などの脱酸剤がここでもあげられ
るが、求核試薬〔IV〕自身を脱ハロゲン剤として働かせ
てもよい。この場合には化合物〔IV〕を化合物〔III〕
１モルに対して２モル以上使用する。Ｒ5で示されるハ
ロゲン原子は塩素,臭素,ヨウ素などであるが、好ましく
はヨウ素である。Ｒ5がヨウ素である化合物〔III〕はた
とえば日本国公開特許公報昭58−57390に記載の方法ま
たはそれに準ずる方法などを用いて容易に製造できる。
化合物〔III〕は公知の方法（例えば、特開昭６０−２
３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載の
方法）もしくはそれに準ずる方法により容易に製造する
ことができる。上記した製造法(１)〜(３)の反応のの
ち、要すれば保護基の除去および精製を行うことにより
本発明の目的化合物〔I〕を得ることができる。以下に
保護基の除去法および精製法について説明する。
の場合：好ましい溶媒は前記のエーテル類,エステル類,
ハロゲン化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,
ニトリル類,アルコ−ル類,水などである。求核試薬〔I
V〕の使用量は化合物〔III〕１モルに対して通常約１〜
５モル,好ましくは約１〜３モルである。反応は約０〜8
0℃,好ましくは約20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反
応時間は通常約30分〜15時間,好ましくは約１〜５時間
である。反応を促進するため脱ハロゲン剤の存在下に反
応を行うこともできる。このような脱ハロゲン剤として
は前記製造法(１)の項で述べた無機塩基,第３級アミン,
アルキレンオキシド類などの脱酸剤がここでもあげられ
るが、求核試薬〔IV〕自身を脱ハロゲン剤として働かせ
てもよい。この場合には化合物〔IV〕を化合物〔III〕
１モルに対して２モル以上使用する。Ｒ5で示されるハ
ロゲン原子は塩素,臭素,ヨウ素などであるが、好ましく
はヨウ素である。Ｒ5がヨウ素である化合物〔III〕はた
とえば日本国公開特許公報昭58−57390に記載の方法ま
たはそれに準ずる方法などを用いて容易に製造できる。
化合物〔III〕は公知の方法（例えば、特開昭６０−２
３１６８４号，特開昭６２−１４９６８２号等に記載の
方法）もしくはそれに準ずる方法により容易に製造する
ことができる。上記した製造法(１)〜(３)の反応のの
ち、要すれば保護基の除去および精製を行うことにより
本発明の目的化合物〔I〕を得ることができる。以下に
保護基の除去法および精製法について説明する。
【００４０】保護基除去法:前記した通りβ−ラクタム
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに確立
されている。本発明においても保護基の除去は従来の技
術をそのまま利用できる。たとえばモノハロゲノアセチ
ル基(クロロアセチル,ブロモアセチルなど)はチオ尿素
により,アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニルなど)は
酸(たとえば塩酸など)により,アラルキルオキシカルボ
ニル基(ベンジルオキシカルボニル,p−メチルベンジル
オキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニル
など)は接触還元により,２,２,２−トリクロロエトキシ
カルボニルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により除去す
ることができる。一方、合成中間体として化合物〔I〕
がエステル化されている場合もそれ自体公知の方法また
はそれに準ずる方法によってエステル残基を除去するこ
とができる。たとえば２−メチルスルホニルエチルエス
テルはアルカリにより,アラルキルエステル(ベンジルエ
ステル,p−メトキシベンジルエステル,p−ニトロベンジ
ルエステルなど)は酸(たとえばトリフルオロ酢酸など)
または接触還元により,２,２,２−トリクロロエチルエ
ステルは亜鉛と酸 (たとえば酢酸など)により,シリルエ
ステル(トリメチルシリルエステル,tert−ブチルジメチ
ルシリルエステルなど)は水のみにより除去することが
できる。化合物〔I〕の精製法 : 製造法(１)〜(２)に詳
記した各種製造法により、また要すれば上記の保護基除
去法をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した
化合物〔I〕は抽出法,カラムクロマトグラフィ−,沈澱
法,再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物〔I〕を公知
の方法により所望の生理学的に受容される塩へと変換す
ることもできる。
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに確立
されている。本発明においても保護基の除去は従来の技
術をそのまま利用できる。たとえばモノハロゲノアセチ
ル基(クロロアセチル,ブロモアセチルなど)はチオ尿素
により,アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニルなど)は
酸(たとえば塩酸など)により,アラルキルオキシカルボ
ニル基(ベンジルオキシカルボニル,p−メチルベンジル
オキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニル
など)は接触還元により,２,２,２−トリクロロエトキシ
カルボニルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により除去す
ることができる。一方、合成中間体として化合物〔I〕
がエステル化されている場合もそれ自体公知の方法また
はそれに準ずる方法によってエステル残基を除去するこ
とができる。たとえば２−メチルスルホニルエチルエス
テルはアルカリにより,アラルキルエステル(ベンジルエ
ステル,p−メトキシベンジルエステル,p−ニトロベンジ
ルエステルなど)は酸(たとえばトリフルオロ酢酸など)
または接触還元により,２,２,２−トリクロロエチルエ
ステルは亜鉛と酸 (たとえば酢酸など)により,シリルエ
ステル(トリメチルシリルエステル,tert−ブチルジメチ
ルシリルエステルなど)は水のみにより除去することが
できる。化合物〔I〕の精製法 : 製造法(１)〜(２)に詳
記した各種製造法により、また要すれば上記の保護基除
去法をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した
化合物〔I〕は抽出法,カラムクロマトグラフィ−,沈澱
法,再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物〔I〕を公知
の方法により所望の生理学的に受容される塩へと変換す
ることもできる。
【００４１】本発明の化合物〔I〕はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人および哺乳動物（例、マウス，ラッ
ト，ウサギ，犬，ネコ，牛，豚等）における病原性細菌
により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染,尿路感染
の予防ならびに治療のため安全に使用されうる。抗菌性
化合物〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのよう
な点が挙げられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。 (2) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュードモナス・エアルギノサに対して顕著
な効果を示す。 (3) 多くのβーラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシェリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属など)に対しても高い活性を有している。
特にシュードモナス属微生物に対しては従来からアミカ
シン，ゲンタマイシンなどのアミノグリコシド系抗生物
質が用いられてきたが、本発明の化合物〔I〕はこれら
のアミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばかりで
なく、人および動物に対する毒性がアミノグリコシド類
よりも格段に低いので、大きな利点を持っている。また
本発明の抗菌性化合物〔I〕は優れた安定性を有する、
血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、組織移行性が
顕著であるなどの特徴をも有している。
抗菌活性を有し、人および哺乳動物（例、マウス，ラッ
ト，ウサギ，犬，ネコ，牛，豚等）における病原性細菌
により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染,尿路感染
の予防ならびに治療のため安全に使用されうる。抗菌性
化合物〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのよう
な点が挙げられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。 (2) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュードモナス・エアルギノサに対して顕著
な効果を示す。 (3) 多くのβーラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシェリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属など)に対しても高い活性を有している。
特にシュードモナス属微生物に対しては従来からアミカ
シン，ゲンタマイシンなどのアミノグリコシド系抗生物
質が用いられてきたが、本発明の化合物〔I〕はこれら
のアミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばかりで
なく、人および動物に対する毒性がアミノグリコシド類
よりも格段に低いので、大きな利点を持っている。また
本発明の抗菌性化合物〔I〕は優れた安定性を有する、
血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、組織移行性が
顕著であるなどの特徴をも有している。
【００４２】上記したような特徴を有する本発明の化合
物〔I〕のうち、以下(1)−(4)に示す構造を有するもの
は最も優れた化合物群である。
物〔I〕のうち、以下(1)−(4)に示す構造を有するもの
は最も優れた化合物群である。
【化３８】 本発明の化合物〔I〕は公知のペニシリン剤,セフアロス
ポリン剤と同様に注射剤,カプセル剤,錠剤,顆粒剤とし
て非経口または経口的に投与できる。投与量は前記した
ような病原性細菌に感染した人および動物の体重１kgあ
たり０．５〜８０mg／日,より好ましくは１〜２０mg／
日を１日３〜４回に分割して経口投与すればよい。注射
剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水,生
理食塩水などが用いられ、カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠
剤として用いられる場合は、公知の薬理学的に許容され
る賦形剤(たとえばデンプン,乳糖,白糖,炭酸カルシウ
ム,リン酸カルシウムなど),結合剤(たとえばデンプン,
アラビアゴム,カルボキシメチルセルロ−ス,ヒドロキシ
プロピルセルロ−ス,結晶セルロ−スなど),滑沢剤(たと
えばステアリン酸マグネシウム,タルクなど),破壊剤(た
とえばカルボキシメチルカルシウム,タルクなど)と混合
して用いられる。
ポリン剤と同様に注射剤,カプセル剤,錠剤,顆粒剤とし
て非経口または経口的に投与できる。投与量は前記した
ような病原性細菌に感染した人および動物の体重１kgあ
たり０．５〜８０mg／日,より好ましくは１〜２０mg／
日を１日３〜４回に分割して経口投与すればよい。注射
剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水,生
理食塩水などが用いられ、カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠
剤として用いられる場合は、公知の薬理学的に許容され
る賦形剤(たとえばデンプン,乳糖,白糖,炭酸カルシウ
ム,リン酸カルシウムなど),結合剤(たとえばデンプン,
アラビアゴム,カルボキシメチルセルロ−ス,ヒドロキシ
プロピルセルロ−ス,結晶セルロ−スなど),滑沢剤(たと
えばステアリン酸マグネシウム,タルクなど),破壊剤(た
とえばカルボキシメチルカルシウム,タルクなど)と混合
して用いられる。
【００４３】
【実施例】本発明はさらに下記の参考例,実施例で詳し
く説明されるが、これらの例は単なる実例であって本発
明を限定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。参考例,実施例のカラム
クロマトグラフィーにおける溶出はＴＬＣ (Ｔhin Ｌa
yer Ｃhromatography, 薄層クロマトグラフィー)によ
る観察下に行なわれた。ＴＬＣ観察においては、ＴＬＣ
プレ−トとしてメルク(Ｍerck)社製の６０Ｆ254を、展
開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶媒と
して用いられた溶媒を、検出法としてＵＶ検出器を採用
した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキ−ゼ
ルゲル６０(７０〜２３０メッシュ)を用いた。“セファ
デックス"はファルマシア・ファイン・ケミカルズ社(Ｐ
harmacia Ｆine Ｃhemicals)製である。ＸＡＤ−２樹
脂はロ−ム・アンド・ハ−ス社製(Ｒohm ＆ Ｈaas
Ｃo．)製である。ダイアイオンＨＰ２０は三菱化成製で
ある。ＮＭＲスペクトルは内部または外部基準としてテ
トラメチルシランを用いてＧemini ２００型スペクトロ
メ−タ−で測定し、全δ値をppmで示した。混合溶媒に
おいて( )内に示した数値は各溶媒の容量混合比であ
る。また溶液における％は溶液１００ml中のg数を表わ
す。また参考例,実施例中の記号は次のような意味であ
る。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ＡＢq :ＡＢ型クワルテット(ＡＢ type quartet) d．d :ダブル ダブレット(double doublet) m :マルチプレット(multiplet) bs :ブロ−ド シングレット(broad singlet) Ｊ :カップリング定数(coupling constant) Ｈz :ヘルツ(Ｈerz) ＤＭＳＯ:ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide)
く説明されるが、これらの例は単なる実例であって本発
明を限定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。参考例,実施例のカラム
クロマトグラフィーにおける溶出はＴＬＣ (Ｔhin Ｌa
yer Ｃhromatography, 薄層クロマトグラフィー)によ
る観察下に行なわれた。ＴＬＣ観察においては、ＴＬＣ
プレ−トとしてメルク(Ｍerck)社製の６０Ｆ254を、展
開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶媒と
して用いられた溶媒を、検出法としてＵＶ検出器を採用
した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキ−ゼ
ルゲル６０(７０〜２３０メッシュ)を用いた。“セファ
デックス"はファルマシア・ファイン・ケミカルズ社(Ｐ
harmacia Ｆine Ｃhemicals)製である。ＸＡＤ−２樹
脂はロ−ム・アンド・ハ−ス社製(Ｒohm ＆ Ｈaas
Ｃo．)製である。ダイアイオンＨＰ２０は三菱化成製で
ある。ＮＭＲスペクトルは内部または外部基準としてテ
トラメチルシランを用いてＧemini ２００型スペクトロ
メ−タ−で測定し、全δ値をppmで示した。混合溶媒に
おいて( )内に示した数値は各溶媒の容量混合比であ
る。また溶液における％は溶液１００ml中のg数を表わ
す。また参考例,実施例中の記号は次のような意味であ
る。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ＡＢq :ＡＢ型クワルテット(ＡＢ type quartet) d．d :ダブル ダブレット(double doublet) m :マルチプレット(multiplet) bs :ブロ−ド シングレット(broad singlet) Ｊ :カップリング定数(coupling constant) Ｈz :ヘルツ(Ｈerz) ＤＭＳＯ:ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide)
【００４４】試験例１ 試験化合物の最小阻止濃度（ＭＩＣ：minimal inhibito
ry concentration）は寒天希釈法（agar dilution meth
od）により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液１．０mlをシャーレ（petri dish）に注ぎ、
次にトリプテイカーゼ ソイ アガー（Trypticase soy
agar）９．０mlを注いで混ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液（約１０6ＣＦＵ／ml）を塗沫
した。３７℃で一夜培養（incubation）した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度を、ＭＩ
Ｃとした。 試験菌： １) シュードモナス アエルギノサ Ｐ９ （Pseudomonas aeruginosa Ｐ９） ２) シュードモナス アエルギノサ Ｕ３１ （Pseudomonas aeruginosa Ｕ３１) ３) シュードモナス アエルギノサ ＯＦＵ１ （Pseudomonas aeruginosa ＯＦＵ１） 実施例２ ４ ６ ８ 12 ＣＡＺ 菌種 １ 0.78 0.78 1.56 0.78 1.56 1.56 ２ 3.13 3.13 3.13 3.13 6.25 12.5 ３ 6.25 12.5 12.5 12.5 25 ５０ 対照化合物：セフタジジム（ＣＡＺ） この結果より、本発明のセフェム化合物〔Ｉ〕またはそ
の塩もしくはエステルは臨床上重要視されている病原性
細菌の代表的な菌株に対してバランスよく優れた抗菌作
用を示すことが明らかである。
ry concentration）は寒天希釈法（agar dilution meth
od）により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液１．０mlをシャーレ（petri dish）に注ぎ、
次にトリプテイカーゼ ソイ アガー（Trypticase soy
agar）９．０mlを注いで混ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液（約１０6ＣＦＵ／ml）を塗沫
した。３７℃で一夜培養（incubation）した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度を、ＭＩ
Ｃとした。 試験菌： １) シュードモナス アエルギノサ Ｐ９ （Pseudomonas aeruginosa Ｐ９） ２) シュードモナス アエルギノサ Ｕ３１ （Pseudomonas aeruginosa Ｕ３１) ３) シュードモナス アエルギノサ ＯＦＵ１ （Pseudomonas aeruginosa ＯＦＵ１） 実施例２ ４ ６ ８ 12 ＣＡＺ 菌種 １ 0.78 0.78 1.56 0.78 1.56 1.56 ２ 3.13 3.13 3.13 3.13 6.25 12.5 ３ 6.25 12.5 12.5 12.5 25 ５０ 対照化合物：セフタジジム（ＣＡＺ） この結果より、本発明のセフェム化合物〔Ｉ〕またはそ
の塩もしくはエステルは臨床上重要視されている病原性
細菌の代表的な菌株に対してバランスよく優れた抗菌作
用を示すことが明らかである。
【００４５】参考例１ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン（２４．５ｇ）をエタノール２００mlに懸
濁し、これに１Ｎ−水酸化ナトリウム２００mlを加えて
５０℃で１．５時間撹拌し、均一溶液となったのち、氷
冷下クロロ炭酸エチル１０mlを加えて、１０分間撹拌し
た。次に、１Ｎ−塩酸１００mlと塩化メチレン４００ml
を加えて水層を除去した。有機層を−７０℃に冷却し、
オゾンを４．５時間通した後、ジメチルスルフィド２２
mlを加えた。反応液に酢酸ナトリウム９．８４ｇの水溶
液２００mlを加え、水層を分取し、１Ｎ−水酸化ナトリ
ウムでｐＨ４としたのち、反応液に１−ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル−１−メチルエチルヒドロキシ
ルアミン２４．７ｇのテトラヒドロフラン溶液１７５ml
を加え、室温で１４時間撹拌した。減圧下で約３００ml
まで濃縮後、エチルエーテル２００mlを加えて不溶物を
除去し、水層を１Ｎ−塩酸でｐＨ２とし、食塩を添加し
飽和した後、酢酸エチル−テトラヒドロフラン（１：
１）２００mlで４回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下で濃縮後、残渣をイソプロピルエー
テルで洗浄して標記化合物２７ｇを得た。 ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(6H,s), 3.73(3H,s),
5.08(2H,s), 6.83(2H,d,J=8.5Hz), 7.31(2H,d,J=8.5H
z), 8.00(2H,bs). 元素分析値：Ｃ16Ｈ18Ｎ4Ｏ6Ｓ・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４３.７３； Ｈ，５.２８； Ｎ，１２.７５ 実測値：Ｃ，４３.８０； Ｈ，５.４９； Ｎ，１２.８５
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン（２４．５ｇ）をエタノール２００mlに懸
濁し、これに１Ｎ−水酸化ナトリウム２００mlを加えて
５０℃で１．５時間撹拌し、均一溶液となったのち、氷
冷下クロロ炭酸エチル１０mlを加えて、１０分間撹拌し
た。次に、１Ｎ−塩酸１００mlと塩化メチレン４００ml
を加えて水層を除去した。有機層を−７０℃に冷却し、
オゾンを４．５時間通した後、ジメチルスルフィド２２
mlを加えた。反応液に酢酸ナトリウム９．８４ｇの水溶
液２００mlを加え、水層を分取し、１Ｎ−水酸化ナトリ
ウムでｐＨ４としたのち、反応液に１−ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル−１−メチルエチルヒドロキシ
ルアミン２４．７ｇのテトラヒドロフラン溶液１７５ml
を加え、室温で１４時間撹拌した。減圧下で約３００ml
まで濃縮後、エチルエーテル２００mlを加えて不溶物を
除去し、水層を１Ｎ−塩酸でｐＨ２とし、食塩を添加し
飽和した後、酢酸エチル−テトラヒドロフラン（１：
１）２００mlで４回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下で濃縮後、残渣をイソプロピルエー
テルで洗浄して標記化合物２７ｇを得た。 ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(6H,s), 3.73(3H,s),
5.08(2H,s), 6.83(2H,d,J=8.5Hz), 7.31(2H,d,J=8.5H
z), 8.00(2H,bs). 元素分析値：Ｃ16Ｈ18Ｎ4Ｏ6Ｓ・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４３.７３； Ｈ，５.２８； Ｎ，１２.７５ 実測値：Ｃ，４３.８０； Ｈ，５.４９； Ｎ，１２.８５
【００４６】参考例２ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸クロリド塩酸
塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸４．７３ｇを
塩化メチレン１６mlに懸濁し、−３０℃で五塩化リン
２．５ｇを加えた。反応温度を−２０〜−１０℃で１時
間撹拌した後、ヘキサン１５０mlを加え析出した結晶を
濾取し、減圧下で乾燥して標記化合物５．６１ｇを得
た。 ＩＲスペクトル（ＫＢｒ，cm-1）：3000, 1750, 1730,
1640, 1520, 1240, 1180, 1020.
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸クロリド塩酸
塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢酸４．７３ｇを
塩化メチレン１６mlに懸濁し、−３０℃で五塩化リン
２．５ｇを加えた。反応温度を−２０〜−１０℃で１時
間撹拌した後、ヘキサン１５０mlを加え析出した結晶を
濾取し、減圧下で乾燥して標記化合物５．６１ｇを得
た。 ＩＲスペクトル（ＫＢｒ，cm-1）：3000, 1750, 1730,
1640, 1520, 1240, 1180, 1020.
【００４７】参考例３ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム ７β−アミノ−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸２．２９ｇと炭酸水素ナトリウム５．７
６ｇを水１００mlとアセトン６０mlの混合液に溶解した
のち、氷冷下で２−（５−アミノ−１,２,４−チアジア
ゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢
酸クロリド塩酸塩５．６１ｇのテトラヒドロフラン４０
ml溶液を滴下して加えた。氷冷下で１５分間撹拌した
後、反応液を減圧下濃縮して残渣をＭＣＩゲルＣＨＰ−
２０Ｐカラムクロマトグラフィーに付し、４０％エタノ
ール水で溶出してくる分画を集め減圧下濃縮した。残渣
を凍結乾燥して標記化合物３．６６ｇを得た。 元素分析値：Ｃ24Ｈ25Ｎ6ＮaＯ9Ｓ2・２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４３.３７； Ｈ，４.４０； Ｎ，１２.６４ 実測値：Ｃ，４３.６１； Ｈ，４.６０； Ｎ，１２.７２ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.49(3H,s), 1.51(3H,s),
3.21(1H,d,J=17.6Hz),3.45(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(1H,
d,J=12.8Hz), 3.73(3H,s), 4.14(1H,d,J=12.8Hz), 4.93
(1H,d,J=4.8Hz), 5.07(1H,d,J=10Hz), 5.13(1H,d,J=10H
z), 5.59(1H,dd,J=8.6 and 4.8Hz), 6.30(1H,bs), 6.85
(2H,d,J=8.8Hz), 7.30(2H,d,J=8.8Hz), 8.21(2H,s), 9.
32(1H,d,J=8.6Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム ７β−アミノ−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸２．２９ｇと炭酸水素ナトリウム５．７
６ｇを水１００mlとアセトン６０mlの混合液に溶解した
のち、氷冷下で２−（５−アミノ−１,２,４−チアジア
ゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノ酢
酸クロリド塩酸塩５．６１ｇのテトラヒドロフラン４０
ml溶液を滴下して加えた。氷冷下で１５分間撹拌した
後、反応液を減圧下濃縮して残渣をＭＣＩゲルＣＨＰ−
２０Ｐカラムクロマトグラフィーに付し、４０％エタノ
ール水で溶出してくる分画を集め減圧下濃縮した。残渣
を凍結乾燥して標記化合物３．６６ｇを得た。 元素分析値：Ｃ24Ｈ25Ｎ6ＮaＯ9Ｓ2・２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４３.３７； Ｈ，４.４０； Ｎ，１２.６４ 実測値：Ｃ，４３.６１； Ｈ，４.６０； Ｎ，１２.７２ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.49(3H,s), 1.51(3H,s),
3.21(1H,d,J=17.6Hz),3.45(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(1H,
d,J=12.8Hz), 3.73(3H,s), 4.14(1H,d,J=12.8Hz), 4.93
(1H,d,J=4.8Hz), 5.07(1H,d,J=10Hz), 5.13(1H,d,J=10H
z), 5.59(1H,dd,J=8.6 and 4.8Hz), 6.30(1H,bs), 6.85
(2H,d,J=8.8Hz), 7.30(2H,d,J=8.8Hz), 8.21(2H,s), 9.
32(1H,d,J=8.6Hz).
【００４８】実施例１ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
【化３９】 ７β−アミノ−３−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジ
ニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボ
キシレート２塩酸塩２．３４ｇと炭酸水素ナトリウム
１．８９ｇをアセトン１５ml、水２５mlおよびテトラヒ
ドロフラン２０mlの混合液に溶解し、２−（５−アミノ
−１,２,４−チアジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−
（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−１−メ
チルエトキシ）イミノ酢酸クロリド塩酸塩１．１８ｇの
テトラヒドロフラン２ml溶液を氷冷下で加え、氷冷下で
１．５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、水−アセト
ン（１：４）混液により溶出してくる分画を集め減圧下
濃縮した。残渣をＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカラムクロ
マトグラフィーに付し、エタノール−水（１：１）の混
液により溶出してくる分画を集め減圧下濃縮し、残渣を
凍結乾燥して標記化合物０．２８７ｇを得た。 元素分析値：Ｃ30Ｈ29Ｎ9Ｏ8Ｓ2・３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４７.３０； Ｈ，４.６３； Ｎ，１６.５５ 実測値：Ｃ，４７.４９； Ｈ，４.５１； Ｎ，１６.４６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(3H,s), 1.44(3H,s),
3.04(1H,d,J=17.6Hz),3.41(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(3H,
s), 5.00(1H,d,J=4.8Hz), 5.06(2H,s), 5.25(1H,d,J=15
Hz), 5.48(1H,d,J=15Hz), 5.67(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8H
z), 6.82(2H,d,J=8.6Hz), 7.26(2H,d,J=8.6Hz), 7.94(1
H,dd,J=9.4Hz と 4.4Hz), 8.19(2H,s), 8.75(2H,m), 9.
04(1H,d,J=4.4Hz), 9.33(1H,d,J=9.6Hz), 9.41(1H,d,J=
8.4Hz).
ニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボ
キシレート２塩酸塩２．３４ｇと炭酸水素ナトリウム
１．８９ｇをアセトン１５ml、水２５mlおよびテトラヒ
ドロフラン２０mlの混合液に溶解し、２−（５−アミノ
−１,２,４−チアジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−
（１−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−１−メ
チルエトキシ）イミノ酢酸クロリド塩酸塩１．１８ｇの
テトラヒドロフラン２ml溶液を氷冷下で加え、氷冷下で
１．５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、水−アセト
ン（１：４）混液により溶出してくる分画を集め減圧下
濃縮した。残渣をＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカラムクロ
マトグラフィーに付し、エタノール−水（１：１）の混
液により溶出してくる分画を集め減圧下濃縮し、残渣を
凍結乾燥して標記化合物０．２８７ｇを得た。 元素分析値：Ｃ30Ｈ29Ｎ9Ｏ8Ｓ2・３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４７.３０； Ｈ，４.６３； Ｎ，１６.５５ 実測値：Ｃ，４７.４９； Ｈ，４.５１； Ｎ，１６.４６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(3H,s), 1.44(3H,s),
3.04(1H,d,J=17.6Hz),3.41(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(3H,
s), 5.00(1H,d,J=4.8Hz), 5.06(2H,s), 5.25(1H,d,J=15
Hz), 5.48(1H,d,J=15Hz), 5.67(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8H
z), 6.82(2H,d,J=8.6Hz), 7.26(2H,d,J=8.6Hz), 7.94(1
H,dd,J=9.4Hz と 4.4Hz), 8.19(2H,s), 8.75(2H,m), 9.
04(1H,d,J=4.4Hz), 9.33(1H,d,J=9.6Hz), 9.41(1H,d,J=
8.4Hz).
【００４９】実施例２ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム−１−イ
ル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム−１−イ
ル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４０】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート０．２６ｇにアニソール１．２mlを加え、氷冷下ト
リフルオロ酢酸６mlを加えて４５分間撹拌した。反応液
にエチルエーテル９０mlを加え、析出した結晶を濾取
し、これを水３mlに懸濁し、炭酸水素ナトリウム６６mg
を加えて、溶かしたのち、ＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカ
ラムクロマトグラフィーに付した。水で溶出してくる目
的分画を集め、減圧下に濃縮し、凍結乾燥して標記化合
物０．１２７ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ20Ｎ9ＮaＯ7Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３７.７７； Ｈ，４.３２； Ｎ，１８.０２ 実測値：Ｃ，３７.９１； Ｈ，４.６１； Ｎ，１７.９８ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.40(3H,s),
3.06(1H,d,J=16Hz), 3.48(1H,d,J=16Hz), 4.97(1H,d,J
=5.2Hz), 5.28(1H,d,J=16Hz), 5.51(1H,d,J=14Hz), 5.7
4(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 7.97(1H,dd,J=9.2Hz と
4.6Hz), 8.09(2H,s), 8.74(2H,m), 9.03(1H,d,J=4.6H
z), 9.29(1H,d,J=9.2Hz), 11.75(1H,d,J=8.8Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート０．２６ｇにアニソール１．２mlを加え、氷冷下ト
リフルオロ酢酸６mlを加えて４５分間撹拌した。反応液
にエチルエーテル９０mlを加え、析出した結晶を濾取
し、これを水３mlに懸濁し、炭酸水素ナトリウム６６mg
を加えて、溶かしたのち、ＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカ
ラムクロマトグラフィーに付した。水で溶出してくる目
的分画を集め、減圧下に濃縮し、凍結乾燥して標記化合
物０．１２７ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ20Ｎ9ＮaＯ7Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３７.７７； Ｈ，４.３２； Ｎ，１８.０２ 実測値：Ｃ，３７.９１； Ｈ，４.６１； Ｎ，１７.９８ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.40(3H,s),
3.06(1H,d,J=16Hz), 3.48(1H,d,J=16Hz), 4.97(1H,d,J
=5.2Hz), 5.28(1H,d,J=16Hz), 5.51(1H,d,J=14Hz), 5.7
4(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 7.97(1H,dd,J=9.2Hz と
4.6Hz), 8.09(2H,s), 8.74(2H,m), 9.03(1H,d,J=4.6H
z), 9.29(1H,d,J=9.2Hz), 11.75(1H,d,J=8.8Hz).
【００５０】実施例３ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリ
ダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリ
ダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート
【化４１】 ナトリウム ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇと６−アミノ
イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．３５４ｇをジメ
チルホルムアミド２７mlに溶解し、エチル ｏ−フェニ
レンホスフェート１．５ｇを加え、室温で３時間撹拌し
た。反応液にエチルエーテル１８０mlを加えて油状物を
析出させる。次いで溶媒をデカントレ、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、水−アセトン
（１：３）で溶出してくる分画を集め濃縮した。残渣を
ＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノール（１：１）の混液で溶出してくる
分画を集め、減圧下濃縮し、残渣を凍結乾燥して標記化
合物０．１３４ｇを得た。 元素分析値：Ｃ30Ｈ30Ｎ10Ｏ8Ｓ2・３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４６.３９； Ｈ，４.６７； Ｎ，１８.０３ 実測値：Ｃ，４６.５８； Ｈ，４.８０； Ｎ，１７.９７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.44(3H,s), 1.46(3H,s),
3.72(3H,s), 4.99(1H,d,J=5.0Hz), 5.08(2H,s), 5.11
(1H,d,J=14Hz), 5.31(1H,d,J=14Hz), 5.65(1H,dd,J=8.4
Hz と 5Hz), 6.83(2H,d,J=8.6Hz), 7.15(2H,s), 7.18(1
H,d,J=9.8Hz), 7.27(2H,d,J=8.6Hz), 8.16(1H,d,J=2H
z), 8.19(2H,s), 8.34(1H,d,J=2Hz), 8.78(1H,d,J=9.8H
z), 9.41(1H,d,J=8.4Hz).
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇと６−アミノ
イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．３５４ｇをジメ
チルホルムアミド２７mlに溶解し、エチル ｏ−フェニ
レンホスフェート１．５ｇを加え、室温で３時間撹拌し
た。反応液にエチルエーテル１８０mlを加えて油状物を
析出させる。次いで溶媒をデカントレ、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、水−アセトン
（１：３）で溶出してくる分画を集め濃縮した。残渣を
ＭＣＩゲルＣＨＰ−２０Ｐカラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノール（１：１）の混液で溶出してくる
分画を集め、減圧下濃縮し、残渣を凍結乾燥して標記化
合物０．１３４ｇを得た。 元素分析値：Ｃ30Ｈ30Ｎ10Ｏ8Ｓ2・３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４６.３９； Ｈ，４.６７； Ｎ，１８.０３ 実測値：Ｃ，４６.５８； Ｈ，４.８０； Ｎ，１７.９７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.44(3H,s), 1.46(3H,s),
3.72(3H,s), 4.99(1H,d,J=5.0Hz), 5.08(2H,s), 5.11
(1H,d,J=14Hz), 5.31(1H,d,J=14Hz), 5.65(1H,dd,J=8.4
Hz と 5Hz), 6.83(2H,d,J=8.6Hz), 7.15(2H,s), 7.18(1
H,d,J=9.8Hz), 7.27(2H,d,J=8.6Hz), 8.16(1H,d,J=2H
z), 8.19(2H,s), 8.34(1H,d,J=2Hz), 8.78(1H,d,J=9.8H
z), 9.41(1H,d,J=8.4Hz).
【００５１】実施例４ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
【化４２】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリ
ダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート０．１２ｇをアニソール０．７mlとトリ
フルオロ酢酸３．５mlを用いて、実施例２と同様に操作
して標記化合物０．０５８ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ10ＮaＯ5Ｓ2・６.５Ｈ2Ｏとし
て 計算値：Ｃ，３５.６３； Ｈ，４.６２； Ｎ，１８.８８ 実測値：Ｃ，３５.７３； Ｈ，４.５５； Ｎ，１８.７４ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.41(3H,s),
4.96(1H,d,J=5.2Hz), 5.14(1H,d,J=15Hz), 5.34(1H,d,
J=15Hz), 5.71(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 7.19((2H,
s), 7.21(1H,d,J=9.8Hz), 8.08(2H,s), 8.13(1H,d,J=2H
z), 8.32(1H,d,J=2Hz), 8.74(1H,d,J=9.8Hz), 11.80(1
H,d,J=8.8Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリ
ダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート０．１２ｇをアニソール０．７mlとトリ
フルオロ酢酸３．５mlを用いて、実施例２と同様に操作
して標記化合物０．０５８ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ10ＮaＯ5Ｓ2・６.５Ｈ2Ｏとし
て 計算値：Ｃ，３５.６３； Ｈ，４.６２； Ｎ，１８.８８ 実測値：Ｃ，３５.７３； Ｈ，４.５５； Ｎ，１８.７４ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.41(3H,s),
4.96(1H,d,J=5.2Hz), 5.14(1H,d,J=15Hz), 5.34(1H,d,
J=15Hz), 5.71(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 7.19((2H,
s), 7.21(1H,d,J=9.8Hz), 8.08(2H,s), 8.13(1H,d,J=2H
z), 8.32(1H,d,J=2Hz), 8.74(1H,d,J=9.8Hz), 11.80(1
H,d,J=8.8Hz).
【００５２】実施例５ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ホルミルアミノイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ホルミルアミノイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート
【化４３】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート０．９４３ｇ、３−ホルミルアミノイミ
ダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．２９２ｇ、エチル
ｏ−フェニレンホスフェート０．９ｇ、ジメチルホルム
アミド６ml、ジメチルスルホキシド６mlを用いて、実施
例３と同様にして標記化合物０．３６４ｇを得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ10Ｏ9Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４６.７９； Ｈ，４.３３； Ｎ，１７.６０ 実測値：Ｃ，４６.９０； Ｈ，４.３９； Ｎ，１７.６６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(6H,s), 3.04(1H,d,J
=17Hz), 3.40(1H,d,J=17Hz), 3.73(3H,s), 4.99(1H,d,J
=5.0Hz), 5.06(2H,s), 5.26(1H,d,J=14.8Hz), 5.55(1H,
d,J=14.8Hz), 5.68(1H,dd,J=8.0Hz と 5.0Hz), 6.82(2
H,d,J=8.8Hz), 7.26(1H,d,J=8.8Hz), 7.89(1H,dd,J=9.6
Hz と 4.4Hz), 8.21(2H,s), 8.49(1H,s), 8.81(1H,s),
9.07(1H,d,J=4.4Hz), 9.35(1H,d,J=9.6Hz), 9.46(1H,d,
J=8.0Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート０．９４３ｇ、３−ホルミルアミノイミ
ダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．２９２ｇ、エチル
ｏ−フェニレンホスフェート０．９ｇ、ジメチルホルム
アミド６ml、ジメチルスルホキシド６mlを用いて、実施
例３と同様にして標記化合物０．３６４ｇを得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ10Ｏ9Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４６.７９； Ｈ，４.３３； Ｎ，１７.６０ 実測値：Ｃ，４６.９０； Ｈ，４.３９； Ｎ，１７.６６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(6H,s), 3.04(1H,d,J
=17Hz), 3.40(1H,d,J=17Hz), 3.73(3H,s), 4.99(1H,d,J
=5.0Hz), 5.06(2H,s), 5.26(1H,d,J=14.8Hz), 5.55(1H,
d,J=14.8Hz), 5.68(1H,dd,J=8.0Hz と 5.0Hz), 6.82(2
H,d,J=8.8Hz), 7.26(1H,d,J=8.8Hz), 7.89(1H,dd,J=9.6
Hz と 4.4Hz), 8.21(2H,s), 8.49(1H,s), 8.81(1H,s),
9.07(1H,d,J=4.4Hz), 9.35(1H,d,J=9.6Hz), 9.46(1H,d,
J=8.0Hz).
【００５３】実施例６ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（３−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（３−アミノイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウム
−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
【化４４】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ホルミルアミノイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート０．３４３ｇ、アニソール２m
l、トリフルオロ酢酸１０mlを用いて実施例２と同様に
操作して標記化合物０．２０５ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ10ＮaＯ7Ｓ2・５.５Ｈ2Ｏとし
て 計算値：Ｃ，３６.５１； Ｈ，４.４６； Ｎ，１９.３５ 実測値：Ｃ，３６.６７； Ｈ，４.１７； Ｎ，１９.１８ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.33(3H,s), 1.41(3H,s),
3.01(1H,d,J=17.2Hz),3.38(1H,d,J=17.2Hz), 4.49(1H,
d,J=5.2Hz), 5.13(1H,d,J=13.6Hz), 5.34(1H,d,J=13.6H
z), 5.75(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 6.45((2H,bs), 7.
65(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8Hz), 7.92(1H,s), 8.10(2H,
s), 8.86(1H,d,J=8.6Hz), 8.89(1H,d,J=4.8Hz), 11.79
(1H,d,J=8.8Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ホルミルアミノイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート０．３４３ｇ、アニソール２m
l、トリフルオロ酢酸１０mlを用いて実施例２と同様に
操作して標記化合物０．２０５ｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ10ＮaＯ7Ｓ2・５.５Ｈ2Ｏとし
て 計算値：Ｃ，３６.５１； Ｈ，４.４６； Ｎ，１９.３５ 実測値：Ｃ，３６.６７； Ｈ，４.１７； Ｎ，１９.１８ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.33(3H,s), 1.41(3H,s),
3.01(1H,d,J=17.2Hz),3.38(1H,d,J=17.2Hz), 4.49(1H,
d,J=5.2Hz), 5.13(1H,d,J=13.6Hz), 5.34(1H,d,J=13.6H
z), 5.75(1H,dd,J=8.8Hz と 5.2Hz), 6.45((2H,bs), 7.
65(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8Hz), 7.92(1H,s), 8.10(2H,
s), 8.86(1H,d,J=8.6Hz), 8.89(1H,d,J=4.8Hz), 11.79
(1H,d,J=8.8Hz).
【００５４】実施例７ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピ
リダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピ
リダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート
【化４５】 ナトリウム ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、３−ウレイ
ドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．３１９ｇ、エ
チル ｏ−フェニレンホスフェート０．９ｇ、ジメチル
ホルムアミド６ml、ジメチルスルホキシド６mlを用い
て、実施例３と同様に操作して標記化合物０．２９ｇを
得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ31Ｎ11Ｏ9Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４５.９２； Ｈ，４.４８； Ｎ，１９.００ 実測値：Ｃ，４５.７２； Ｈ，４.５４； Ｎ，１８.６５ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.42(6H,s), 3.03(1H,d,J
=17.2Hz), 3.39(1H,d,J=17.7Hz), 3.72(3H,s), 4.99(1
H,d,J=4.8Hz), 5.07(2H,s), 5.29(1H,d,J=13.8Hz), 5.5
5(1H,d,J=13.8Hz), 5.66(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8Hz), 6.
68(2H,bs), 6.81(2H,d,J=15Hz), 7.26(2H,d,J=15Hz),
7.23(1H,dd,J=9.6Hz と 4.4Hz), 8.21(2H,s), 8.47(1H,
s), 9.03(1H,d,J=4.4Hz), 9.31(1H,d,J=9.6Hz), 9.46(1
H,d,J=8.6Hz), 9.84(1H,bs).
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、３−ウレイ
ドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．３１９ｇ、エ
チル ｏ−フェニレンホスフェート０．９ｇ、ジメチル
ホルムアミド６ml、ジメチルスルホキシド６mlを用い
て、実施例３と同様に操作して標記化合物０．２９ｇを
得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ31Ｎ11Ｏ9Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４５.９２； Ｈ，４.４８； Ｎ，１９.００ 実測値：Ｃ，４５.７２； Ｈ，４.５４； Ｎ，１８.６５ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.42(6H,s), 3.03(1H,d,J
=17.2Hz), 3.39(1H,d,J=17.7Hz), 3.72(3H,s), 4.99(1
H,d,J=4.8Hz), 5.07(2H,s), 5.29(1H,d,J=13.8Hz), 5.5
5(1H,d,J=13.8Hz), 5.66(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8Hz), 6.
68(2H,bs), 6.81(2H,d,J=15Hz), 7.26(2H,d,J=15Hz),
7.23(1H,dd,J=9.6Hz と 4.4Hz), 8.21(2H,s), 8.47(1H,
s), 9.03(1H,d,J=4.4Hz), 9.31(1H,d,J=9.6Hz), 9.46(1
H,d,J=8.6Hz), 9.84(1H,bs).
【００５５】実施例８ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウ
ム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニウ
ム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート
【化４６】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピ
リダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート０．２７ｇ、アニソール８ml、トリフ
ルオロ酢酸１８mlを用いて実施例２と同様に操作して標
記化合物０．１６１ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ22Ｎ11ＮaＯ8Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３６.０３； Ｈ，４.３４； Ｎ，２０.１０ 実測値：Ｃ，３６.１１； Ｈ，４.３０； Ｎ，１９.９３ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.39(3H,s), 1.40(3H,s),
3.00(1H,d,J=15.7Hz),3.41(1H,d,J=15.7Hz), 4.99(1H,
d,J=4.8Hz), 5.33(1H,d,J=14Hz), 5.52(1H,d,J=14Hz),
5.73(1H,dd,J=9.4Hz と 4.8Hz), 6.77((2H,bs), 7.76(1
H,dd,J=8.0Hz と3.6Hz), 8.19(2H,s), 8.40(1H,s), 8.9
2(1H,d,J=3.6Hz), 9.23(1H,d,J=8.0Hz),10.25(1H,bs),
11.47(1H,d,J=9.4Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（３−ウレイドイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピ
リダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート０．２７ｇ、アニソール８ml、トリフ
ルオロ酢酸１８mlを用いて実施例２と同様に操作して標
記化合物０．１６１ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ22Ｎ11ＮaＯ8Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３６.０３； Ｈ，４.３４； Ｎ，２０.１０ 実測値：Ｃ，３６.１１； Ｈ，４.３０； Ｎ，１９.９３ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.39(3H,s), 1.40(3H,s),
3.00(1H,d,J=15.7Hz),3.41(1H,d,J=15.7Hz), 4.99(1H,
d,J=4.8Hz), 5.33(1H,d,J=14Hz), 5.52(1H,d,J=14Hz),
5.73(1H,dd,J=9.4Hz と 4.8Hz), 6.77((2H,bs), 7.76(1
H,dd,J=8.0Hz と3.6Hz), 8.19(2H,s), 8.40(1H,s), 8.9
2(1H,d,J=3.6Hz), 9.23(1H,d,J=8.0Hz),10.25(1H,bs),
11.47(1H,d,J=9.4Hz).
【００５６】実施例９ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノイ
ミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノイ
ミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４７】 ナトリウム ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、５−tert−
ブトキシカルボニルアミノイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリ
ジン０．４６８ｇ、エチル ｏ−フェニレンホスフェー
ト０．９ｇ、ジメチルホルムアミド６ml、ジメチルスル
ホキシド６mlを用いて実施例３と同様にして標記化合物
０．３０２ｇを得た。 元素分析値：Ｃ35Ｈ39Ｎ9Ｏ10Ｓ2・２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４９.７０； Ｈ，５.１２； Ｎ，１４.９０ 実測値：Ｃ，４９.８１； Ｈ，５.２７； Ｎ，１４.６１ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(3H,s), 1.43(3H,s),
1.51(9H,s), 2.99(1H,d,J=16.8Hz), 3.47(1H,d,J=16.8
Hz), 3.72(3H,s), 5.01(1H,d,J=5.0Hz), 5.06(2H,s),
5.21(1H,d,J=15Hz), 5.33(1H,d,J=15Hz), 5.68(1H,dd,J
=8.4Hz と 5.0Hz),6.82(2H,d,J=8.6Hz), 7.26(2H,d,J=
8.6Hz), 7.59(1H,d,J=7.8Hz), 7.92(1H,t,J=7.8Hz), 8.
07(1H,d,J=7.4Hz), 8.21(2H,s), 8.35(1H,bs), 8.42(1
H,bs), 9.45(1H,d,J=8.4Hz).
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、５−tert−
ブトキシカルボニルアミノイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリ
ジン０．４６８ｇ、エチル ｏ−フェニレンホスフェー
ト０．９ｇ、ジメチルホルムアミド６ml、ジメチルスル
ホキシド６mlを用いて実施例３と同様にして標記化合物
０．３０２ｇを得た。 元素分析値：Ｃ35Ｈ39Ｎ9Ｏ10Ｓ2・２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４９.７０； Ｈ，５.１２； Ｎ，１４.９０ 実測値：Ｃ，４９.８１； Ｈ，５.２７； Ｎ，１４.６１ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(3H,s), 1.43(3H,s),
1.51(9H,s), 2.99(1H,d,J=16.8Hz), 3.47(1H,d,J=16.8
Hz), 3.72(3H,s), 5.01(1H,d,J=5.0Hz), 5.06(2H,s),
5.21(1H,d,J=15Hz), 5.33(1H,d,J=15Hz), 5.68(1H,dd,J
=8.4Hz と 5.0Hz),6.82(2H,d,J=8.6Hz), 7.26(2H,d,J=
8.6Hz), 7.59(1H,d,J=7.8Hz), 7.92(1H,t,J=7.8Hz), 8.
07(1H,d,J=7.4Hz), 8.21(2H,s), 8.35(1H,bs), 8.42(1
H,bs), 9.45(1H,d,J=8.4Hz).
【００５７】実施例１０ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（５−アミノイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（５−アミノイミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト
【化４８】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノイ
ミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート０．２８３ｇ、
アニソール１．６ml、トリフルオロ酢酸８mlを用いて実
施例２と同様に操作して標記化合物０．１０４ｇを得
た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ22Ｎ9ＮaＯ7Ｓ2・３.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３８.２３； Ｈ，４.６０； Ｎ，１７.４４ 実測値：Ｃ，３８.１７； Ｈ，４.３２； Ｎ，１７.３２ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：１．３９（３Ｈ，ｓ），
１．４３（３Ｈ，ｓ）， ２．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１７．２Ｈｚ），２．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈ
ｚ）， ４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．２３（２Ｈ，ｓ）， ５．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
９．２Ｈｚと ４．８Ｈｚ）， ６．５１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ）， ７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
８．００（２Ｈ，ｓ）， ８．１２（２Ｈ，ｓ），
８．２７（１Ｈ，ｂｓ）， ８．３２（１Ｈ，ｂｓ），
１１．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）．
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノイ
ミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート０．２８３ｇ、
アニソール１．６ml、トリフルオロ酢酸８mlを用いて実
施例２と同様に操作して標記化合物０．１０４ｇを得
た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ22Ｎ9ＮaＯ7Ｓ2・３.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３８.２３； Ｈ，４.６０； Ｎ，１７.４４ 実測値：Ｃ，３８.１７； Ｈ，４.３２； Ｎ，１７.３２ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：１．３９（３Ｈ，ｓ），
１．４３（３Ｈ，ｓ）， ２．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１７．２Ｈｚ），２．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈ
ｚ）， ４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．２３（２Ｈ，ｓ）， ５．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
９．２Ｈｚと ４．８Ｈｚ）， ６．５１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ）， ７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
８．００（２Ｈ，ｓ）， ８．１２（２Ｈ，ｓ），
８．２７（１Ｈ，ｂｓ）， ８．３２（１Ｈ，ｂｓ），
１１．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）．
【００５８】実施例１１ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト
【化４９】 ナトリウム ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．８ｇ、イミダゾ〔１，
２−ａ〕ピリジン０．３ｇ、エチル ｏ−フェニレンホ
スフェート１．２７ｇ、ジメチルホルムアミド１８mlを
用いて実施例３と同様にして標記化合物０．２２ｇを得
た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ8Ｏ8Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４９.５３； Ｈ，４.６９； Ｎ，１４.９０ 実測値：Ｃ，４９.２６； Ｈ，４.４４； Ｎ，１４.６６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(3H,s), 1.45(3H,s),
2.98(1H,d,J=17.6Hz),3.39(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(3H,
s), 4.99(1H,d,J=4.9Hz), 5.27(1H,d,J=15Hz),5.44(1H,
d,J=15Hz), 5.65(1H,dd,J=8.4Hz と 4.9Hz), 6.82(1H,
d,J=8.8Hz), 7.27(2H,d,J=8.8Hz), 7.51(1H,t,J=6.6H
z), 7.99(1H,t,J=8.3Hz), 8.19(2H,s), 8.36(1H,d,J=2.
1Hz), 8.52(1H,d,J=2.1Hz), 8.66(1H,d,J=9.2Hz), 8.91
(1H,d,J=6.6Hz), 9.40(1H,d,J=8.4Hz).
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．８ｇ、イミダゾ〔１，
２−ａ〕ピリジン０．３ｇ、エチル ｏ−フェニレンホ
スフェート１．２７ｇ、ジメチルホルムアミド１８mlを
用いて実施例３と同様にして標記化合物０．２２ｇを得
た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ8Ｏ8Ｓ2・２.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４９.５３； Ｈ，４.６９； Ｎ，１４.９０ 実測値：Ｃ，４９.２６； Ｈ，４.４４； Ｎ，１４.６６ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.43(3H,s), 1.45(3H,s),
2.98(1H,d,J=17.6Hz),3.39(1H,d,J=17.6Hz), 3.72(3H,
s), 4.99(1H,d,J=4.9Hz), 5.27(1H,d,J=15Hz),5.44(1H,
d,J=15Hz), 5.65(1H,dd,J=8.4Hz と 4.9Hz), 6.82(1H,
d,J=8.8Hz), 7.27(2H,d,J=8.8Hz), 7.51(1H,t,J=6.6H
z), 7.99(1H,t,J=8.3Hz), 8.19(2H,s), 8.36(1H,d,J=2.
1Hz), 8.52(1H,d,J=2.1Hz), 8.66(1H,d,J=9.2Hz), 8.91
(1H,d,J=6.6Hz), 9.40(1H,d,J=8.4Hz).
【００５９】実施例１２ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−１−イル）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
【化５０】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．２ｇ、アニソール１．２ml、トリフルオロ酢酸６
mlを用いて実施例２と同様に操作して標記化合物０．１
１２ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ21Ｎ8ＮaＯ7Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３９.５４； Ｈ，４.４７； Ｎ，１６.０４ 実測値：Ｃ，３９.７８； Ｈ，４.７３； Ｎ，１５.９７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.41(3H,s),
4.96(1H,d,J=5.2Hz), 5.30(1H,d,J=14.2Hz), 5.41(1H,
d,J=14.2Hz), 5.72(1H,dd,J=8.6Hz と 5.2Hz), 7.50(1
H,m), 7.99(1H,m), 8.08(1H,d,J=2Hz), 8.52(1H,d,J=2H
z), 8.60(1H,d,J=9Hz), 8.93(1H,d,J=6.8Hz), 11.73(1
H,d,J=8.6Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリジニウム−
１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．２ｇ、アニソール１．２ml、トリフルオロ酢酸６
mlを用いて実施例２と同様に操作して標記化合物０．１
１２ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ21Ｎ8ＮaＯ7Ｓ2・５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３９.５４； Ｈ，４.４７； Ｎ，１６.０４ 実測値：Ｃ，３９.７８； Ｈ，４.７３； Ｎ，１５.９７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.37(3H,s), 1.41(3H,s),
4.96(1H,d,J=5.2Hz), 5.30(1H,d,J=14.2Hz), 5.41(1H,
d,J=14.2Hz), 5.72(1H,dd,J=8.6Hz と 5.2Hz), 7.50(1
H,m), 7.99(1H,m), 8.08(1H,d,J=2Hz), 8.52(1H,d,J=2H
z), 8.60(1H,d,J=9Hz), 8.93(1H,d,J=6.8Hz), 11.73(1
H,d,J=8.6Hz).
【００６０】実施例１３ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート
【化５１】 ナトリウム ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、６−カルバ
モイルイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．４８６
ｇ、エチル ｏ−フェニレンホスフェート１．５ｇ、ジ
メチルホルムアミド２７mlを用いて実施例３と同様にし
て標記化合物０．１１ｇを得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ10Ｏ9Ｓ2・３.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４５.７５； Ｈ，４.５８； Ｎ，１７.２１ 実測値：Ｃ，４５.８８； Ｈ，４.６０； Ｎ，１７.２３ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(3H,s), 1.43(3H,s),
3.04(1H,d,J=16Hz), 3.43(1H,d,J=16Hz), 3.72(3H,s),
5.00(1H,d,J=5Hz), 5.06(2H,s), 5.26(1H,d,J=15Hz),
5.68(1H,dd,J=8.2Hz と 5Hz), 6.83(2H,d,J=8.6Hz), 7.
26(2H,d,J=8.6Hz), 8.19(3H,bs), 8.34(1H,d,J=9.8Hz),
8.53(1H,bs), 8.67(1H,d,J=2Hz), 8.93(1H,d,J=2Hz),
9.34(1H,d,J=9.8Hz), 9.41(1H,d,J=8.2Hz).
アジアゾール−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル−１−メチルエトキシ）イ
ミノアセトアミド〕−３−ヒドロキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート０．９４３ｇ、６−カルバ
モイルイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジン０．４８６
ｇ、エチル ｏ−フェニレンホスフェート１．５ｇ、ジ
メチルホルムアミド２７mlを用いて実施例３と同様にし
て標記化合物０．１１ｇを得た。 元素分析値：Ｃ31Ｈ30Ｎ10Ｏ9Ｓ2・３.５Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，４５.７５； Ｈ，４.５８； Ｎ，１７.２１ 実測値：Ｃ，４５.８８； Ｈ，４.６０； Ｎ，１７.２３ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.41(3H,s), 1.43(3H,s),
3.04(1H,d,J=16Hz), 3.43(1H,d,J=16Hz), 3.72(3H,s),
5.00(1H,d,J=5Hz), 5.06(2H,s), 5.26(1H,d,J=15Hz),
5.68(1H,dd,J=8.2Hz と 5Hz), 6.83(2H,d,J=8.6Hz), 7.
26(2H,d,J=8.6Hz), 8.19(3H,bs), 8.34(1H,d,J=9.8Hz),
8.53(1H,bs), 8.67(1H,d,J=2Hz), 8.93(1H,d,J=2Hz),
9.34(1H,d,J=9.8Hz), 9.41(1H,d,J=8.2Hz).
【００６１】実施例１４ ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジ
ニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボ
キシレート
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ナトリウムカルボキシレ
ート−１−メチルエトキシ）イミノアセトアミド〕−３
−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジ
ニウム−１−イル）メチル−３−セフェム−４−カルボ
キシレート
【化５２】 ７β−〔２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート０．１ｇ、アニソール０．６m
l、トリフルオロ酢酸３mlを用いて実施例２と同様に操
作して標記化合物０．０６８ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ21Ｎ10ＮaＯ8Ｓ2・６Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３６.３２； Ｈ，４.３７； Ｎ，１８.４１ 実測値：Ｃ，３６.２５； Ｈ，４.３８； Ｎ，１８.６７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.36(3H,s), 1.39(3H,s),
3.03(1H,d,J=17.4Hz),3.42(1H,d,J=17.4Hz), 4.99(1H,
d,J=5.2Hz), 5.25(1H,d,J=14Hz), 5.55(1H,d,J=14Hz),
5.75(1H,dd,J=9.0Hz と 5.2Hz), 8.08(2H,s), 8.15(1H,
s), 8.41(1H,d,J=9.6Hz), 8.65(1H,d,J=1.8Hz), 8.68(1
H,s), 8.91(1H,d,J=1.8Hz), 9.35(1H,d,J=9.6Hz), 11.7
9(1H,d,J=9Hz).
−３−イル）−２(Ｚ)−（１−ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル−１−メチルエトキシ）イミノアセトア
ミド〕−３−（６−カルバモイルイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピリダジニウム−１−イル）メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート０．１ｇ、アニソール０．６m
l、トリフルオロ酢酸３mlを用いて実施例２と同様に操
作して標記化合物０．０６８ｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ21Ｎ10ＮaＯ8Ｓ2・６Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，３６.３２； Ｈ，４.３７； Ｎ，１８.４１ 実測値：Ｃ，３６.２５； Ｈ，４.３８； Ｎ，１８.６７ ＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ：1.36(3H,s), 1.39(3H,s),
3.03(1H,d,J=17.4Hz),3.42(1H,d,J=17.4Hz), 4.99(1H,
d,J=5.2Hz), 5.25(1H,d,J=14Hz), 5.55(1H,d,J=14Hz),
5.75(1H,dd,J=9.0Hz と 5.2Hz), 8.08(2H,s), 8.15(1H,
s), 8.41(1H,d,J=9.6Hz), 8.65(1H,d,J=1.8Hz), 8.68(1
H,s), 8.91(1H,d,J=1.8Hz), 9.35(1H,d,J=9.6Hz), 11.7
9(1H,d,J=9Hz).
【００６２】
【発明の効果】本発明のセフェム化合物〔I〕またはそ
の塩もしくはエステルは、シュードモナス属の菌を含む
グラム陰性菌ならびにグラム陽性菌に対して広範囲の抗
菌スペクトルと優れた抗菌作用を有しており、これらの
菌に基づく感染症に対し有効な抗菌剤を提供することが
できる。
の塩もしくはエステルは、シュードモナス属の菌を含む
グラム陰性菌ならびにグラム陽性菌に対して広範囲の抗
菌スペクトルと優れた抗菌作用を有しており、これらの
菌に基づく感染症に対し有効な抗菌剤を提供することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ０７Ｄ 519/06 501:00） (Ｃ０７Ｄ 519/06 487:00 501:00） Ｃ０７Ｄ 501:00） (Ｃ０７Ｄ 519/00 ３８１ 487:00 501:00）
Claims (9)
- 【請求項１】一般式： 【化１】 （式中、Ｂはヘテロ原子が１または２個の窒素原子であ
る６員芳香族複素環を示す）で表される基を示す〕で表
される化合物もしくはそのエステルまたはその塩。 - 【請求項２】 【化２】 基である請求項１記載の化合物。
- 【請求項３】 【化３】 ル基である請求項１記載の化合物。
- 【請求項４】 【化４】 基である請求項１記載の化合物。
- 【請求項５】 【化５】 ミルアミノ基で置換されていてもよい請求項１記載の化
合物。 - 【請求項６】 【化６】 〔式中、Ｒ2およびＲ2'は一方が水素原子で、他方が水
素原子，アミノ基，カルバモイル基，ウレイド基，グリ
シルアミノ基またはホルミルアミノ基を示す〕で表され
る基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項７】一般式： 【化７】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義〕で表される化合
物またはその塩もしくはエステルと一般式： 【化８】 〔Ｒ1は請求項１記載と同意義、Ｒ3はカルボン酸の保護
基を示す〕で表されるカルボン酸またはその塩もしくは
反応性誘導体とを反応させることを特徴とする請求項１
記載の化合物の製造法。 - 【請求項８】一般式： 【化９】 〔式中、Ｒ5は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原
子を示し、Ｒ1は請求項１記載と同意義、Ｒ3は請求項１
記載と同意義を示す〕で表される化合物もしくはそのエ
ステルまたはその塩と置換されていてもよい一般式： 【化１０】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義〕で表される化合
物またはその塩とを反応させることを特徴とする請求項
１記載の化合物の製造法。 - 【請求項９】請求項１記載の化合物を含有する抗菌組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5249350A JPH07101960A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5249350A JPH07101960A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07101960A true JPH07101960A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17191724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5249350A Withdrawn JPH07101960A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101960A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6518263B1 (en) | 1998-11-27 | 2003-02-11 | Shionogi & Co., Ltd. | Imidazo[4,5-b]pyridiniummethyl-containing cephem compounds having broad antibacterial spectrum |
| WO2004026882A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Shionogi & Co., Ltd. | セフェム剤の製法 |
| WO2017042188A1 (en) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | Sandoz Ag | Process for preparing ceftolozane from 7-aminocephalosporanic acid (7-aca) |
-
1993
- 1993-10-05 JP JP5249350A patent/JPH07101960A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6518263B1 (en) | 1998-11-27 | 2003-02-11 | Shionogi & Co., Ltd. | Imidazo[4,5-b]pyridiniummethyl-containing cephem compounds having broad antibacterial spectrum |
| US6800621B2 (en) | 1998-11-27 | 2004-10-05 | Shionogi & Co., Ltd. | Imidazo[4,5-b]-pyridiniummethyl-containing cephem compounds having broad antibacterial spectrum activity |
| WO2004026882A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Shionogi & Co., Ltd. | セフェム剤の製法 |
| JPWO2004026882A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2006-01-19 | 塩野義製薬株式会社 | セフェム剤の製法 |
| WO2017042188A1 (en) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | Sandoz Ag | Process for preparing ceftolozane from 7-aminocephalosporanic acid (7-aca) |
| CN107922435A (zh) * | 2015-09-08 | 2018-04-17 | 桑多斯股份公司 | 由7‑氨基头孢烷酸(7‑aca)制备头孢洛扎的方法 |
| US10532058B2 (en) | 2015-09-08 | 2020-01-14 | Sandoz Ag | Process for preparing ceftolozane from 7-aminocephalosporanic acid (7-ACA) |
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