JPH07101748A - ガラス製パネル用基板 - Google Patents
ガラス製パネル用基板Info
- Publication number
- JPH07101748A JPH07101748A JP5247673A JP24767393A JPH07101748A JP H07101748 A JPH07101748 A JP H07101748A JP 5247673 A JP5247673 A JP 5247673A JP 24767393 A JP24767393 A JP 24767393A JP H07101748 A JPH07101748 A JP H07101748A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- weight
- composition ratio
- resistance
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 以下の組成割合を有するガラス製パネル用ガ
ラス基板。Ｌｉ2 Ｏ：０．３〜２．５重量％、Ｎａ
2 Ｏ：７．０〜１２．０ 重量％、Ｋ2 Ｏ：１．５〜
４．５重量％、ＭｇＯ：０〜５．０重量％、ＣａＯ：
６．０〜９．０重量％、ＳｒＯ：０〜５．０重量％、Ｂ
ａＯ：３．５〜１５．０重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：２．０〜
４．５重量％、ＳｉＯ2 ：５７．０〜６８．０重量％、
ＺｒＯ2 ：０〜５．０重量％、ＣｅＯ2 ：０〜０．５
重量％。但し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2Ｏの重量％の
合計は９．０〜１６．０重量％とする。 【効果】 ガラス製パネル用ガラス基板に要求される諸
特性を具備し、特に耐水性・耐候性にも優れたガラス基
板である。
ラス基板。Ｌｉ2 Ｏ：０．３〜２．５重量％、Ｎａ
2 Ｏ：７．０〜１２．０ 重量％、Ｋ2 Ｏ：１．５〜
４．５重量％、ＭｇＯ：０〜５．０重量％、ＣａＯ：
６．０〜９．０重量％、ＳｒＯ：０〜５．０重量％、Ｂ
ａＯ：３．５〜１５．０重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：２．０〜
４．５重量％、ＳｉＯ2 ：５７．０〜６８．０重量％、
ＺｒＯ2 ：０〜５．０重量％、ＣｅＯ2 ：０〜０．５
重量％。但し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2Ｏの重量％の
合計は９．０〜１６．０重量％とする。 【効果】 ガラス製パネル用ガラス基板に要求される諸
特性を具備し、特に耐水性・耐候性にも優れたガラス基
板である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管、プラズマデ
ィスプレイ等の電子線が照射される画像表示装置のガラ
ス製パネルに用いられるガラス基板に関する。
ィスプレイ等の電子線が照射される画像表示装置のガラ
ス製パネルに用いられるガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】フロート法等で得られた平滑な面を有す
るガラス基板をその平滑性を損なうことなく成形、加工
した表示装置用パネル（以下、「ガラス製パネル」とい
う。）については、ＣＲＴ等のガラス製パネルに使用さ
れる多量のＳｒＯ、ＢａＯ及びＫ2 Ｏを含有するガラス
組成は、ガラス製パネルの軽量化及びイオン交換処理に
よる機械的強度向上の必要性の観点から適していない。
また、一方では、ガラス製パネルの電気絶縁性確保のた
め、その体積抵抗を大きくする必要もある。
るガラス基板をその平滑性を損なうことなく成形、加工
した表示装置用パネル（以下、「ガラス製パネル」とい
う。）については、ＣＲＴ等のガラス製パネルに使用さ
れる多量のＳｒＯ、ＢａＯ及びＫ2 Ｏを含有するガラス
組成は、ガラス製パネルの軽量化及びイオン交換処理に
よる機械的強度向上の必要性の観点から適していない。
また、一方では、ガラス製パネルの電気絶縁性確保のた
め、その体積抵抗を大きくする必要もある。
【０００３】そこで、ガラス中のＬｉ2 ＯとＮａ2 Ｏと
Ｋ2 Ｏの含有量を調整することによって電気絶縁性を大
きくし、また、Ｎａ2 ＯとＫ2 Ｏのイオン交換による機
械的強度の向上、電子線照射によるブラウニング防止の
効果を発揮し易いガラス製パネルが開示されている（本
出願人による特開平３−２９０３３５）。
Ｋ2 Ｏの含有量を調整することによって電気絶縁性を大
きくし、また、Ｎａ2 ＯとＫ2 Ｏのイオン交換による機
械的強度の向上、電子線照射によるブラウニング防止の
効果を発揮し易いガラス製パネルが開示されている（本
出願人による特開平３−２９０３３５）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記ガラス製
パネルは、電気絶縁性等の特性は十分であるものの、耐
水性・耐候性が十分ではないという問題点があった。
パネルは、電気絶縁性等の特性は十分であるものの、耐
水性・耐候性が十分ではないという問題点があった。
【０００５】本発明は、ガラス製パネル用としての要求
される諸特性を維持しつつも、耐水性・耐候性に優れた
ガラス基板を提供することを目的とする。
される諸特性を維持しつつも、耐水性・耐候性に優れた
ガラス基板を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子線が照射
されるガラス製パネル用のガラス基板であって、以下の
組成割合からなることを特徴とするガラス基板である。 Ｌｉ2 Ｏ ： ０．３〜 ２．５ 重量％ Ｎａ2 Ｏ ： ７．０〜１２．０ 重量％ Ｋ2 Ｏ ： １．５〜 ４．５ 重量％ ＭｇＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣａＯ ： ６．０〜 ９．０ 重量％ ＳｒＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＢａＯ ： ３．５〜１５．０ 重量％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ２．０〜 ４．５ 重量％ ＳｉＯ2 ：５７．０〜６８．０ 重量％ ＺｒＯ2 ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣｅＯ2 ： ０〜 ０．５ 重量％ 但し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計は
９．０〜１６．０とする。
されるガラス製パネル用のガラス基板であって、以下の
組成割合からなることを特徴とするガラス基板である。 Ｌｉ2 Ｏ ： ０．３〜 ２．５ 重量％ Ｎａ2 Ｏ ： ７．０〜１２．０ 重量％ Ｋ2 Ｏ ： １．５〜 ４．５ 重量％ ＭｇＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣａＯ ： ６．０〜 ９．０ 重量％ ＳｒＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＢａＯ ： ３．５〜１５．０ 重量％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ２．０〜 ４．５ 重量％ ＳｉＯ2 ：５７．０〜６８．０ 重量％ ＺｒＯ2 ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣｅＯ2 ： ０〜 ０．５ 重量％ 但し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計は
９．０〜１６．０とする。
【０００７】また、Ｎａ2 Ｏの組成割合を８．０〜１
２．０重量％とし、Ｋ2 Ｏの組成割合を１．５〜４．０
重量％とし、ＭｇＯの組成割合を２．０〜５．０重量％
とし、ＢａＯの組成割合を３．５〜１１．０重量％と
し、ＳｉＯ2 の組成割合を５７．０〜６４．０重量％と
し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計を１
０．０〜１４．０とするとさらに好ましい。
２．０重量％とし、Ｋ2 Ｏの組成割合を１．５〜４．０
重量％とし、ＭｇＯの組成割合を２．０〜５．０重量％
とし、ＢａＯの組成割合を３．５〜１１．０重量％と
し、ＳｉＯ2 の組成割合を５７．０〜６４．０重量％と
し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計を１
０．０〜１４．０とするとさらに好ましい。
【０００８】以下に組成割合の限定理由を説明する。
【０００９】Ｌｉ2 Ｏは、ガラスの粘性を下げるために
有効であるばかりではなく、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2 Ｏとの混合
アルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるためにも
必須の成分である。従って、０．３重量％より少ないと
十分な体積抵抗が得られず、一方、２．５重量％を越え
ると耐水性・耐候性が悪化するとともに、原料代が上が
りコスト高を招く。
有効であるばかりではなく、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2 Ｏとの混合
アルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるためにも
必須の成分である。従って、０．３重量％より少ないと
十分な体積抵抗が得られず、一方、２．５重量％を越え
ると耐水性・耐候性が悪化するとともに、原料代が上が
りコスト高を招く。
【００１０】Ｎａ2 Ｏは、ガラスの粘性を下げ、混合ア
ルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるのに有効で
あるばかりではなく、イオン交換のための必須の成分で
ある。従って、７．０重量％より少ないと十分な機械的
強度が得られず、８．０重量％以上であればさらに好ま
しい。一方、１２．０重量％を越えると耐水性・耐候性
が悪化する。
ルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるのに有効で
あるばかりではなく、イオン交換のための必須の成分で
ある。従って、７．０重量％より少ないと十分な機械的
強度が得られず、８．０重量％以上であればさらに好ま
しい。一方、１２．０重量％を越えると耐水性・耐候性
が悪化する。
【００１１】Ｋ2 Ｏは、ガラスの粘性を下げるために有
効であるばかりではなく、Ｌｉ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏとの混合ア
ルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるためにも有
効である。従って、１．５重量より少ないと十分な体積
抵抗が得られず、一方、４．５重量％を越えるとイオン
交換により十分な機械的強度が得られず、４．０重量％
以下がさらに好ましい。
効であるばかりではなく、Ｌｉ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏとの混合ア
ルカリ効果によりガラスの体積抵抗を上げるためにも有
効である。従って、１．５重量より少ないと十分な体積
抵抗が得られず、一方、４．５重量％を越えるとイオン
交換により十分な機械的強度が得られず、４．０重量％
以下がさらに好ましい。
【００１２】ＭｇＯは、必須成分ではないが、ＣａＯと
ともに用いることにより、ガラスの粘性、液相温度を調
整するのに有効である。従って、必ずしも必要ではない
が、２．０重量％以上が好ましく、一方、５．０重量％
を越えると高温域での粘性が高くなりすぎて好ましくな
い。
ともに用いることにより、ガラスの粘性、液相温度を調
整するのに有効である。従って、必ずしも必要ではない
が、２．０重量％以上が好ましく、一方、５．０重量％
を越えると高温域での粘性が高くなりすぎて好ましくな
い。
【００１３】ＣａＯは、６．０重量％より少ないと体積
抵抗が小さくなりすぎ、一方、９．０重量％を越えると
液相温度が高くなり、フロート法による成形が困難にな
る。
抵抗が小さくなりすぎ、一方、９．０重量％を越えると
液相温度が高くなり、フロート法による成形が困難にな
る。
【００１４】ＳｒＯは、必須の成分ではないが、ＢａＯ
とともに用いることにより、体積抵抗を上げるのに有効
であるとともに、Ｘ線遮蔽能力の増加に有効である。し
かし、５．０重量％を越えると原料コスト高を招き好ま
しくない。
とともに用いることにより、体積抵抗を上げるのに有効
であるとともに、Ｘ線遮蔽能力の増加に有効である。し
かし、５．０重量％を越えると原料コスト高を招き好ま
しくない。
【００１５】ＢａＯは、３．５重量％より少ないと体積
抵抗が小さくなりすぎるが、一方、１５．０重量％を越
えるとガラスの比重が大きくなってガラス製パネルの重
量増を招くとともに、原料コスト高を招き好ましくな
く、１１．０重量％以下がさらに好ましい。
抵抗が小さくなりすぎるが、一方、１５．０重量％を越
えるとガラスの比重が大きくなってガラス製パネルの重
量増を招くとともに、原料コスト高を招き好ましくな
く、１１．０重量％以下がさらに好ましい。
【００１６】Ａｌ2 Ｏ3 は、２．０重量％より少ないと
耐水性・耐候性が悪化し、一方、４．５重量％を越える
とガラスの粘性が高くなり、溶融及びフロート成形が困
難になる。
耐水性・耐候性が悪化し、一方、４．５重量％を越える
とガラスの粘性が高くなり、溶融及びフロート成形が困
難になる。
【００１７】ＳｉＯ2 は、ガラス形成成分であり、５
７．０重量％より少ないとガラスの粘性が小さくなりす
ぎると同時に耐水性・耐候性が悪化する。一方、６８．
０重量％を越えると粘性が高くなってフロート法での粘
性が高くなりすぎ、６４．０重量％以下がさらに好まし
い。
７．０重量％より少ないとガラスの粘性が小さくなりす
ぎると同時に耐水性・耐候性が悪化する。一方、６８．
０重量％を越えると粘性が高くなってフロート法での粘
性が高くなりすぎ、６４．０重量％以下がさらに好まし
い。
【００１８】ＺｒＯ2 は、必須成分ではないが、Ｘ線遮
蔽能力を増すのに効果がある。しかし、５．０重量％を
越えると粘性が高くなり、溶融が困難になる。
蔽能力を増すのに効果がある。しかし、５．０重量％を
越えると粘性が高くなり、溶融が困難になる。
【００１９】ＣｅＯ2 は、必須成分ではないが、Ｘ線に
よる着色抑制に効果がある。しかし、０．５重量％を越
えるとガラスが着色し好ましくない。
よる着色抑制に効果がある。しかし、０．５重量％を越
えるとガラスが着色し好ましくない。
【００２０】Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合
計は、９．０重量％より少ないと粘性が高すぎて溶融、
フロート成形が困難になり、１０．０重量％以上であれ
ば、さらに望ましい。一方、１６．０重量％を越えると
体積抵抗が小さくなりすぎるとともに、耐水性・耐候性
が悪化し、１４．０重量％以下であればさらに好まし
い。
計は、９．０重量％より少ないと粘性が高すぎて溶融、
フロート成形が困難になり、１０．０重量％以上であれ
ば、さらに望ましい。一方、１６．０重量％を越えると
体積抵抗が小さくなりすぎるとともに、耐水性・耐候性
が悪化し、１４．０重量％以下であればさらに好まし
い。
【００２１】
【作用】本発明は、特に、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 の組成
割合を調整し、それに伴って他の成分の組成割合につい
ても調整を行うことによって、ガラス製パネル用のガラ
ス基板に要求される諸特性を維持しつつも耐水性・耐候
性を向上するものである。
割合を調整し、それに伴って他の成分の組成割合につい
ても調整を行うことによって、ガラス製パネル用のガラ
ス基板に要求される諸特性を維持しつつも耐水性・耐候
性を向上するものである。
【００２２】
【実施例】以下に、実施例及び比較例により本発明をよ
り具体的に説明する。まず、実施例の組成と得られたガ
ラスの特性測定結果を表１に示す。
り具体的に説明する。まず、実施例の組成と得られたガ
ラスの特性測定結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】表１の実施例１に示す組成となるように、
各ガラス原料を調合した。このガラス原料を白金坩堝に
入れ電気溶融炉を用いて１４５０℃に加熱溶融し、型枠
に鋳込み、徐冷して試料ガラスを得た。この試料ガラス
について、軟化点の測定、１５０℃での体積抵抗の測定
及び耐水性テストを行った。耐水性テストは、得られた
試料ガラスを５０ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍに研削・研
磨し、６０℃の純水中で１２０時間保持し、溶出したＬ
ｉ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ及びＫ2 Ｏの合計量を測定した。ま
た、別途、試料ガラスを同様に研削・研磨し、４６０℃
の硝酸カリウム溶融塩中で３時間イオン交換し、さらに
４５０℃で３時間熱処理した。このイオン交換後の試料
ガラスについても上述の耐水性テスト、表面相の圧縮応
力の測定及び電子線照射後の透過率の低下量（△Ｔ）の
測定を行った。電子線照射は、真空中で１０ｋＶ，４０
μＡ／ｃｍ2 の電子線を１００時間照射し、照射前後の
波長４００ｎｍでの透過率より低下量（△Ｔ）を求め
た。
各ガラス原料を調合した。このガラス原料を白金坩堝に
入れ電気溶融炉を用いて１４５０℃に加熱溶融し、型枠
に鋳込み、徐冷して試料ガラスを得た。この試料ガラス
について、軟化点の測定、１５０℃での体積抵抗の測定
及び耐水性テストを行った。耐水性テストは、得られた
試料ガラスを５０ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍに研削・研
磨し、６０℃の純水中で１２０時間保持し、溶出したＬ
ｉ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ及びＫ2 Ｏの合計量を測定した。ま
た、別途、試料ガラスを同様に研削・研磨し、４６０℃
の硝酸カリウム溶融塩中で３時間イオン交換し、さらに
４５０℃で３時間熱処理した。このイオン交換後の試料
ガラスについても上述の耐水性テスト、表面相の圧縮応
力の測定及び電子線照射後の透過率の低下量（△Ｔ）の
測定を行った。電子線照射は、真空中で１０ｋＶ，４０
μＡ／ｃｍ2 の電子線を１００時間照射し、照射前後の
波長４００ｎｍでの透過率より低下量（△Ｔ）を求め
た。
【００２５】表１の実施例２〜６についても、実施例１
と同様の方法で試料ガラスを作製し、各特性を測定し
た。
と同様の方法で試料ガラスを作製し、各特性を測定し
た。
【００２６】次に、比較例の組成と得られた測定結果に
ついて表２に示す。
ついて表２に示す。
【００２７】
【表２】
【００２８】比較例１は市販のソーダライムシリケート
（日本板硝子（株）製）であり、比較例２は組成割合を
本発明の範囲外としたガラスについての各特性について
実施例１と同様の方法で評価した結果である。実施例１
と比較し、比較例１は体積抵抗が小さく、耐水性も悪
く、電子線照射による透過率の低下量が大きい。また、
比較例２は体積抵抗が大きく、電子線照射による透過率
の低下量は小さいが、特にイオン交換後の耐水性が悪
い。
（日本板硝子（株）製）であり、比較例２は組成割合を
本発明の範囲外としたガラスについての各特性について
実施例１と同様の方法で評価した結果である。実施例１
と比較し、比較例１は体積抵抗が小さく、耐水性も悪
く、電子線照射による透過率の低下量が大きい。また、
比較例２は体積抵抗が大きく、電子線照射による透過率
の低下量は小さいが、特にイオン交換後の耐水性が悪
い。
【００２９】一方、本発明の実施例によれば、軟化点が
７２０℃以下で成形が容易であり、絶縁破壊が生じない
体積抵抗の目安となる１×１０10Ω・ｃｍより大きい体
積抵抗率を有していると同時に、イオン交換処理によ
り、圧縮応力が４５ｋｇ／ｃｍ2 以上で十分な機械的強
度が得られ、電子線照射による透過率の低下が少なく、
かつ、耐候性、特にイオン交換後の耐候性が大幅に向上
したことがわかる。
７２０℃以下で成形が容易であり、絶縁破壊が生じない
体積抵抗の目安となる１×１０10Ω・ｃｍより大きい体
積抵抗率を有していると同時に、イオン交換処理によ
り、圧縮応力が４５ｋｇ／ｃｍ2 以上で十分な機械的強
度が得られ、電子線照射による透過率の低下が少なく、
かつ、耐候性、特にイオン交換後の耐候性が大幅に向上
したことがわかる。
【００３０】
【発明の効果】本発明による組成範囲の限定によって、
フロート法での成形が可能であり、電子線照射によるブ
ラウニングが抑制され、ガラスの電気絶縁性が大きく、
イオン交換処理による機械的強度が確保され、しかも、
耐水性・耐候性が良好であるガラス製パネルに適したガ
ラス基板を製造することができる。
フロート法での成形が可能であり、電子線照射によるブ
ラウニングが抑制され、ガラスの電気絶縁性が大きく、
イオン交換処理による機械的強度が確保され、しかも、
耐水性・耐候性が良好であるガラス製パネルに適したガ
ラス基板を製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 電子線が照射されるガラス製パネル用の
ガラス基板であって、以下の組成割合からなることを特
徴とするガラス基板。 Ｌｉ2 Ｏ ： ０．３〜 ２．５ 重量％ Ｎａ2 Ｏ ： ７．０〜１２．０ 重量％ Ｋ2 Ｏ ： １．５〜 ４．５ 重量％ ＭｇＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣａＯ ： ６．０〜 ９．０ 重量％ ＳｒＯ ： ０〜 ５．０ 重量％ ＢａＯ ： ３．５〜１５．０ 重量％ Ａｌ2 Ｏ3 ： ２．０〜 ４．５ 重量％ ＳｉＯ2 ：５７．０〜６８．０ 重量％ ＺｒＯ2 ： ０〜 ５．０ 重量％ ＣｅＯ2 ： ０〜 ０．５ 重量％ 但し、Ｌｉ2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計は
９．０〜１６．０とする。 - 【請求項２】 Ｎａ2 Ｏの組成割合を８．０〜１２．０
重量％とし、Ｋ2 Ｏの組成割合を１．５〜４．０重量％
とし、ＭｇＯの組成割合を２．０〜５．０重量％とし、
ＢａＯの組成割合を３．５〜１１．０重量％とし、Ｓｉ
Ｏ2 の組成割合を５７．０〜６４．０重量％とし、Ｌｉ
2 ＯとＮａ2 ＯとＫ2 Ｏの重量％の合計を１０．０〜１
４．０とする請求項１記載のガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5247673A JPH07101748A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ガラス製パネル用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5247673A JPH07101748A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ガラス製パネル用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07101748A true JPH07101748A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17166960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5247673A Pending JPH07101748A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ガラス製パネル用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101748A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08133778A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-05-28 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 |
| DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
| US5858895A (en) * | 1996-03-13 | 1999-01-12 | Hoya Corporation | Heat-resistant glass |
| KR100394094B1 (ko) * | 1997-07-16 | 2003-09-19 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마 영상 표시판넬용 기판유리조성물 |
| KR100474779B1 (ko) * | 1996-03-15 | 2005-08-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 기판용유리조성물 |
| JP2011057547A (ja) * | 2010-09-17 | 2011-03-24 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
| WO2011035889A1 (de) | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Schott Ag | Alumosilikatgläser mit hoher thermischer beständigkeit und niedriger verarbeitungstemperatur |
| WO2011091961A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Schott Ag | Photovoltaic cell having a substrate glass made of aluminosilicate glass |
| JP2013234121A (ja) * | 2007-08-03 | 2013-11-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2014076945A (ja) * | 2008-01-18 | 2014-05-01 | Eurokera Snc | 強化ガラスセラミック物品およびそれらの被膜に好適なエナメル |
-
1993
- 1993-10-04 JP JP5247673A patent/JPH07101748A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08133778A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-05-28 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 |
| US5858895A (en) * | 1996-03-13 | 1999-01-12 | Hoya Corporation | Heat-resistant glass |
| KR100474779B1 (ko) * | 1996-03-15 | 2005-08-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 기판용유리조성물 |
| DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
| KR100394094B1 (ko) * | 1997-07-16 | 2003-09-19 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마 영상 표시판넬용 기판유리조성물 |
| JP2013234121A (ja) * | 2007-08-03 | 2013-11-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2014076945A (ja) * | 2008-01-18 | 2014-05-01 | Eurokera Snc | 強化ガラスセラミック物品およびそれらの被膜に好適なエナメル |
| EP2247545B1 (fr) * | 2008-01-18 | 2021-01-13 | Eurokera S.N.C. | Article vitroceramique renforce et email adapte pour son revetement |
| JP2013505889A (ja) * | 2009-09-25 | 2013-02-21 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 高い耐熱性と低い作業温度を有するアルミノケイ酸塩ガラス |
| WO2011035889A1 (de) | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Schott Ag | Alumosilikatgläser mit hoher thermischer beständigkeit und niedriger verarbeitungstemperatur |
| US8828897B2 (en) | 2009-09-25 | 2014-09-09 | Schott Ag | Alumino-silicate glass having high thermal stability and low processing temperature |
| WO2011091961A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Schott Ag | Photovoltaic cell having a substrate glass made of aluminosilicate glass |
| DE102010006331A1 (de) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Schott Ag, 55122 | Aluminosilikatgläser mit hoher thermischer Beständigkeit, niedriger Verarbeitungstemperatur und hoher Kristallisationsbeständigkeit |
| DE112011100358T5 (de) | 2010-01-29 | 2012-11-29 | Schott Ag | Photovoltaik-Zelle mit einem Substratglas aus Aluminosilikatglas |
| US9023745B2 (en) | 2010-01-29 | 2015-05-05 | Schott Ag | Photovoltaic cell having a substrate glass made of aluminosilicate glass |
| JP2011057547A (ja) * | 2010-09-17 | 2011-03-24 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4277286A (en) | Lead-free glasses of high x-ray absorption for cathode ray tubes | |
| EP1055646B1 (en) | Colored glass comprising iron and molybdenum oxides as colorants | |
| JP3666054B2 (ja) | 基板用ガラス | |
| JPH0867529A (ja) | ホウ酸低含有ホウケイ酸ガラス及びその応用 | |
| CA1144184A (en) | Cathode-ray tube face-plate | |
| JPH1129339A (ja) | フラットディスプレー機器用アルミノ珪酸塩ガラス | |
| JPH0640740A (ja) | 陰極線管前面板用ガラス | |
| JPH11180726A5 (ja) | ||
| JPH07108787B2 (ja) | 陰極線管フェースプレート用ガラス | |
| JPH08290939A (ja) | 基板用ガラス | |
| JP3741526B2 (ja) | ディスプレイ装置用基板ガラス | |
| JP2548423B2 (ja) | ガラス製パネル | |
| JP2525737B2 (ja) | 陰極線管パネルガラス | |
| JP3007653B2 (ja) | 陰極線管パネルガラス | |
| EP0131399B1 (en) | Glass for cathode ray tube faceplate | |
| JPS6344699B2 (ja) | ||
| JPS62288134A (ja) | 陰極線管パネルガラス | |
| US5468692A (en) | Non-browning cathode ray tube glasses | |
| JPH1025130A (ja) | 基板用ガラス | |
| JPH1025129A (ja) | 基板用ガラス | |
| JPH1025128A (ja) | 基板用ガラス | |
| JPS58120537A (ja) | 陰極線管パネルガラス | |
| US3627549A (en) | Barium silicate glass for television display cathode-ray tubes | |
| EP0156526B1 (en) | Low pbo - containing glass for electrical devices | |
| JPH01103933A (ja) | 陰極線管パネルガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20061030 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061108 |