JPH1025129A - 基板用ガラス - Google Patents
基板用ガラスInfo
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- JPH1025129A JPH1025129A JP20307396A JP20307396A JPH1025129A JP H1025129 A JPH1025129 A JP H1025129A JP 20307396 A JP20307396 A JP 20307396A JP 20307396 A JP20307396 A JP 20307396A JP H1025129 A JPH1025129 A JP H1025129A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 その目的とするところは、密度が2.75g
/cm3 以下と低く、570℃以上の温度で熱処理して
も熱収縮が小さく、また75〜95×10-7/℃の熱膨
張係数を有し、しかもソーダライムガラスに比べて体積
抵抗率が高く、化学的耐久性に優れた基板用ガラスを提
供することである。 【解決手段】 重量百分率で、SiO2 50〜65
%、Al2 O3 1〜15%、CaO 0〜2.9%、
CaO+MgO+SrO+BaO 17%未満、ZrO
2 1〜9%、Li2 O 0〜1%、Na2 O 2〜1
2%、K2 O 2〜13%、Li2 O+Na2 O+K2
O 8〜16%、TiO2 0〜5%の組成を有し、密
度が2.75g/cm3 以下であることを特徴とする。
/cm3 以下と低く、570℃以上の温度で熱処理して
も熱収縮が小さく、また75〜95×10-7/℃の熱膨
張係数を有し、しかもソーダライムガラスに比べて体積
抵抗率が高く、化学的耐久性に優れた基板用ガラスを提
供することである。 【解決手段】 重量百分率で、SiO2 50〜65
%、Al2 O3 1〜15%、CaO 0〜2.9%、
CaO+MgO+SrO+BaO 17%未満、ZrO
2 1〜9%、Li2 O 0〜1%、Na2 O 2〜1
2%、K2 O 2〜13%、Li2 O+Na2 O+K2
O 8〜16%、TiO2 0〜5%の組成を有し、密
度が2.75g/cm3 以下であることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板用ガラスに関し、
特にプラズマディスプレイパネルの基板材料として好適
な基板用ガラスに関するものである。
特にプラズマディスプレイパネルの基板材料として好適
な基板用ガラスに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりプラズマディスプレイパネルの
基板としては、建築窓用ソーダライムガラス板が使用さ
れており、この基板表面に、Al、Ni、Ag、IT
O、ネサ膜等からなる電極や絶縁ペーストを500〜6
00℃の温度で焼き付けることによって回路が形成され
る。その後、500〜600℃の温度でフリットシール
することによってプラズマディスプレイが作製される。
基板としては、建築窓用ソーダライムガラス板が使用さ
れており、この基板表面に、Al、Ni、Ag、IT
O、ネサ膜等からなる電極や絶縁ペーストを500〜6
00℃の温度で焼き付けることによって回路が形成され
る。その後、500〜600℃の温度でフリットシール
することによってプラズマディスプレイが作製される。
【0003】そのためこの種の基板用ガラスには、一般
に次のような特性を満足することが要求される。
に次のような特性を満足することが要求される。
【0004】500〜600℃、特に570℃以上の
温度で熱処理する際の熱収縮を小さくするため、歪点が
570℃以上であること。
温度で熱処理する際の熱収縮を小さくするため、歪点が
570℃以上であること。
【0005】熱膨張係数が、絶縁ペーストやシーリン
グフリットのそれと整合しているため反りが発生しない
こと。つまり75〜95×10-7/℃の熱膨張係数を有
すること。
グフリットのそれと整合しているため反りが発生しない
こと。つまり75〜95×10-7/℃の熱膨張係数を有
すること。
【0006】ネサ膜等の薄膜電極と、ガラス中のアル
カリ成分が反応すると、電極材料の電気抵抗値が変化し
てしまうため、ガラスの体積抵抗率が、150℃で10
10Ω・cm以上と高く、アルカリ成分が薄膜電極と反応
しないこと。
カリ成分が反応すると、電極材料の電気抵抗値が変化し
てしまうため、ガラスの体積抵抗率が、150℃で10
10Ω・cm以上と高く、アルカリ成分が薄膜電極と反応
しないこと。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】建築窓用ソーダライム
ガラスは、約89×10-7/℃の熱膨張係数を有してお
り、これをプラズマディスプレイパネルの基板として用
いても反りは発生しないが、歪点が500℃程度と低い
ため、570〜600℃の温度で熱処理する際の熱収縮
が大きいという欠点を有している。
ガラスは、約89×10-7/℃の熱膨張係数を有してお
り、これをプラズマディスプレイパネルの基板として用
いても反りは発生しないが、歪点が500℃程度と低い
ため、570〜600℃の温度で熱処理する際の熱収縮
が大きいという欠点を有している。
【0008】またソーダライムガラスは、体積抵抗率が
比較的低く、しかも化学的耐久性に乏しいため、長期間
の保管、使用によって表面に焼けが発生し、プラズマデ
ィスプレイの表示画面が見づらくなるという欠点も有し
ている。
比較的低く、しかも化学的耐久性に乏しいため、長期間
の保管、使用によって表面に焼けが発生し、プラズマデ
ィスプレイの表示画面が見づらくなるという欠点も有し
ている。
【0009】このような事情から特開平3−40933
号には、熱膨張係数が75〜90×10-7/℃程度で、
ソーダライムガラスに比べて、歪点と体積抵抗率の高い
プラズマディスプレイパネル用ガラス基板が提案されて
いる。
号には、熱膨張係数が75〜90×10-7/℃程度で、
ソーダライムガラスに比べて、歪点と体積抵抗率の高い
プラズマディスプレイパネル用ガラス基板が提案されて
いる。
【0010】しかしながら特開平3−40933号のガ
ラス基板は、ソーダライムガラスに比べて、かなり密度
が高いため、重量が大きくなるという問題がある。すな
わちプラズマディスプレイパネルは、30〜50インチ
程度の大画面で、しかも壁掛けテレビとなるため、これ
に用いられるガラス基板には、できるだけ軽量であるこ
とが要求される。ガラス基板を軽量化するためには、そ
の厚みを薄くすれば良いが、強度面を考慮すると、薄板
化については自ずと限界がある。そこでガラス基板の軽
量化を図るためには、ガラスの密度を低くする方法を採
らざるを得ないが、特開平3−40933号には、ガラ
スの密度について何ら配慮されていない。
ラス基板は、ソーダライムガラスに比べて、かなり密度
が高いため、重量が大きくなるという問題がある。すな
わちプラズマディスプレイパネルは、30〜50インチ
程度の大画面で、しかも壁掛けテレビとなるため、これ
に用いられるガラス基板には、できるだけ軽量であるこ
とが要求される。ガラス基板を軽量化するためには、そ
の厚みを薄くすれば良いが、強度面を考慮すると、薄板
化については自ずと限界がある。そこでガラス基板の軽
量化を図るためには、ガラスの密度を低くする方法を採
らざるを得ないが、特開平3−40933号には、ガラ
スの密度について何ら配慮されていない。
【0011】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、その目的とするところは、密度が2.75g/c
m3 以下と低く、570℃以上の温度で熱処理しても熱
収縮が小さく、また75〜95×10-7/℃の熱膨張係
数を有し、しかもソーダライムガラスに比べて体積抵抗
率が高く、化学的耐久性に優れた基板用ガラスを提供す
ることである。
あり、その目的とするところは、密度が2.75g/c
m3 以下と低く、570℃以上の温度で熱処理しても熱
収縮が小さく、また75〜95×10-7/℃の熱膨張係
数を有し、しかもソーダライムガラスに比べて体積抵抗
率が高く、化学的耐久性に優れた基板用ガラスを提供す
ることである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の基板用ガラス
は、重量百分率で、SiO2 50〜65%、Al2 O
3 1〜15%、CaO 0〜2.9%、CaO+Mg
O+SrO+BaO 17%未満、ZrO2 1〜9
%、Li2 O 0〜1%、Na2 O 2〜12%、K2
O 2〜13%、Li2 O+Na2 O+K2 O 8〜1
6%、TiO2 0〜5%の組成を有し、密度が2.7
5g/cm3 以下であることを特徴とする。
は、重量百分率で、SiO2 50〜65%、Al2 O
3 1〜15%、CaO 0〜2.9%、CaO+Mg
O+SrO+BaO 17%未満、ZrO2 1〜9
%、Li2 O 0〜1%、Na2 O 2〜12%、K2
O 2〜13%、Li2 O+Na2 O+K2 O 8〜1
6%、TiO2 0〜5%の組成を有し、密度が2.7
5g/cm3 以下であることを特徴とする。
【0013】
【作用】以下、本発明の基板用ガラスの各成分を上記の
ように限定した理由を説明する。
ように限定した理由を説明する。
【0014】SiO2 は、ガラスのネットワークフォー
マーである。その含有量は50〜65%である。50%
より少ないと、ガラスの歪点が低くなるため、熱収縮が
大きくなり、一方、65%より多いと、熱膨張係数が小
さくなりすぎる。
マーである。その含有量は50〜65%である。50%
より少ないと、ガラスの歪点が低くなるため、熱収縮が
大きくなり、一方、65%より多いと、熱膨張係数が小
さくなりすぎる。
【0015】Al2 O3 は、ガラスの歪点を高めるため
の成分であり、その含有量は1〜15%である。1%よ
り少ないと、上記効果が得られず、一方、15%より多
いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となる。すな
わちガラスが失透しやすいと、失透物の発生を抑えるた
め溶融温度を高くする必要があるが、溶融温度を高くす
ると、成形時のガラスが軟らかくなる。その結果、ガラ
ス板の表面にうねりが発生したり、寸法精度が低下しや
すくなり、高い表面精度や寸法精度が要求されるプラズ
マディスプレイパネルの基板として使用することが不可
能となる。
の成分であり、その含有量は1〜15%である。1%よ
り少ないと、上記効果が得られず、一方、15%より多
いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となる。すな
わちガラスが失透しやすいと、失透物の発生を抑えるた
め溶融温度を高くする必要があるが、溶融温度を高くす
ると、成形時のガラスが軟らかくなる。その結果、ガラ
ス板の表面にうねりが発生したり、寸法精度が低下しや
すくなり、高い表面精度や寸法精度が要求されるプラズ
マディスプレイパネルの基板として使用することが不可
能となる。
【0016】CaOは、ガラスを溶融しやすくすると共
に熱膨張係数を制御するための成分であり、その含有量
は、0〜2.9%である。2.9%より多いと、ガラス
が失透しやすく、成形が困難となる。
に熱膨張係数を制御するための成分であり、その含有量
は、0〜2.9%である。2.9%より多いと、ガラス
が失透しやすく、成形が困難となる。
【0017】またCaO、MgO、SrO及びBaOの
合量が、17%以上になると、ガラスの密度が高くな
り、軽量化を図ることが困難となるため好ましくない。
ただしこれらの成分が、少なくなりすぎると、75×1
0-7/℃以上の熱膨張係数が得られ難くなるため、合量
で10%以上含有させることが望ましい。
合量が、17%以上になると、ガラスの密度が高くな
り、軽量化を図ることが困難となるため好ましくない。
ただしこれらの成分が、少なくなりすぎると、75×1
0-7/℃以上の熱膨張係数が得られ難くなるため、合量
で10%以上含有させることが望ましい。
【0018】尚、MgO、SrO及びBaOも、CaO
と同様、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を
制御するという作用を有している。ただしMgOの含有
量が4%より多くなると、ガラスが失透しやすく、成形
が困難となるため好ましくない。またSrOは、上記し
た作用以外にも、失透性を改善し、且つ、歪点を高める
という作用も有するため、2%以上、好ましくは5.5
%以上含有させることが望ましい。ただしSrOとBa
Oの含有量が増加するほど、ガラスの密度の上昇が著し
くなるため、SrOは13%以下、BaOは5%以下、
好ましくは1.9%以下に抑えることが望ましい。
と同様、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を
制御するという作用を有している。ただしMgOの含有
量が4%より多くなると、ガラスが失透しやすく、成形
が困難となるため好ましくない。またSrOは、上記し
た作用以外にも、失透性を改善し、且つ、歪点を高める
という作用も有するため、2%以上、好ましくは5.5
%以上含有させることが望ましい。ただしSrOとBa
Oの含有量が増加するほど、ガラスの密度の上昇が著し
くなるため、SrOは13%以下、BaOは5%以下、
好ましくは1.9%以下に抑えることが望ましい。
【0019】ZrO2 は、ガラスの化学的耐久性を向上
させるのに効果のある成分であり、その含有量は、1〜
9%である。1%より少ないと、化学的耐久性を向上さ
せる効果に乏しくなると共に、歪点が低くなりすぎ、一
方、9%より多いと、熱膨張係数が小さくなりすぎると
共に、ガラスの溶融時に失透物が生成しやすく、成形が
困難となる。
させるのに効果のある成分であり、その含有量は、1〜
9%である。1%より少ないと、化学的耐久性を向上さ
せる効果に乏しくなると共に、歪点が低くなりすぎ、一
方、9%より多いと、熱膨張係数が小さくなりすぎると
共に、ガラスの溶融時に失透物が生成しやすく、成形が
困難となる。
【0020】Li2 O、Na2 O及びK2 Oは、いずれ
も熱膨張係数を制御するための成分であり、Li2 Oの
含有量は、0〜1%である。Li2 Oが1%より多い
と、歪点が低くなる。
も熱膨張係数を制御するための成分であり、Li2 Oの
含有量は、0〜1%である。Li2 Oが1%より多い
と、歪点が低くなる。
【0021】またNa2 Oの含有量は、2〜12%であ
る。2%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、
一方、12%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
る。2%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、
一方、12%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
【0022】K2 Oの含有量は、2〜13%である。2
%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、一方、
13%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、一方、
13%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
【0023】ただしLi2 O、Na2 O及びK2 Oの合
量が、8%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやす
く、一方、16%より多いと、歪点が低くなりやすいた
め好ましくない。この合量の好ましい範囲は、12.5
〜15.5%である。
量が、8%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやす
く、一方、16%より多いと、歪点が低くなりやすいた
め好ましくない。この合量の好ましい範囲は、12.5
〜15.5%である。
【0024】TiO2 は、ガラスの紫外線による着色を
防止するための成分であり、その含有量は0〜5%であ
る。プラズマディスプレイの場合、放電時に紫外線が発
生するが、基板が紫外線によって着色すると、長期間使
用している間に徐々に表示画面が見づらくなる。従って
本発明においては、TiO2 を0.1%以上含有させる
ことが望ましい。しかしながら5%より多くなると、ガ
ラスが失透しやすく、成形が困難となるため好ましくな
い。
防止するための成分であり、その含有量は0〜5%であ
る。プラズマディスプレイの場合、放電時に紫外線が発
生するが、基板が紫外線によって着色すると、長期間使
用している間に徐々に表示画面が見づらくなる。従って
本発明においては、TiO2 を0.1%以上含有させる
ことが望ましい。しかしながら5%より多くなると、ガ
ラスが失透しやすく、成形が困難となるため好ましくな
い。
【0025】また本発明においては、上記成分以外に
も、ガラスの溶融性を向上させ、熱膨張係数を調整する
目的で、ZnOを5%まで添加することが可能であり、
紫外線によってガラスが褐色に着色するのを防止する目
的で、Bi2 O3 を5%まで添加することが可能であ
る。さらに清澄剤として、As2 O3 、Sb2 O3 、S
O3 、Cl等の成分を1%まで添加することが可能であ
り、着色剤として、Fe2O3 、CoO、Cr2 O3 、
NiO、CeO2 等の成分を1%まで添加することが可
能である。
も、ガラスの溶融性を向上させ、熱膨張係数を調整する
目的で、ZnOを5%まで添加することが可能であり、
紫外線によってガラスが褐色に着色するのを防止する目
的で、Bi2 O3 を5%まで添加することが可能であ
る。さらに清澄剤として、As2 O3 、Sb2 O3 、S
O3 、Cl等の成分を1%まで添加することが可能であ
り、着色剤として、Fe2O3 、CoO、Cr2 O3 、
NiO、CeO2 等の成分を1%まで添加することが可
能である。
【0026】しかしながら本発明においては、B2 O3
を含有すると、歪点が低下しやすくなるため好ましくな
い。またPbOは、一般に融剤として作用するが、ガラ
スの化学的耐久性を低下させると共に、溶融時に融液の
表面から揮発し、環境を汚染する虞れもあるため好まし
くない。
を含有すると、歪点が低下しやすくなるため好ましくな
い。またPbOは、一般に融剤として作用するが、ガラ
スの化学的耐久性を低下させると共に、溶融時に融液の
表面から揮発し、環境を汚染する虞れもあるため好まし
くない。
【0027】
【実施例】以下、本発明の基板用ガラスを実施例に基づ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
【0028】表1は、実施例の基板用ガラス(試料N
o.1〜6)と、比較例の基板用ガラス(試料No.
7、8)を示すものである。因に試料No.8は、一般
の建築窓用ソーダライムガラスである。
o.1〜6)と、比較例の基板用ガラス(試料No.
7、8)を示すものである。因に試料No.8は、一般
の建築窓用ソーダライムガラスである。
【0029】
【表1】
【0030】表1の各試料は、次のようにして調製し
た。
た。
【0031】まず表中のガラス組成となるように原料を
調合し、これを白金坩堝に入れた後、電気炉中で145
0〜1550℃の温度で4時間溶融し、この溶融ガラス
をカーボン上に流し出して板状に成形した。次いで、こ
のガラス板の両面を光学研磨することによってガラス基
板を作製した。
調合し、これを白金坩堝に入れた後、電気炉中で145
0〜1550℃の温度で4時間溶融し、この溶融ガラス
をカーボン上に流し出して板状に成形した。次いで、こ
のガラス板の両面を光学研磨することによってガラス基
板を作製した。
【0032】こうして得られた各試料について、密度、
歪点、液相温度、熱膨張係数、体積抵抗率及び紫外線に
よる着色の度合いを調べた。
歪点、液相温度、熱膨張係数、体積抵抗率及び紫外線に
よる着色の度合いを調べた。
【0033】表1から明らかなように、実施例であるN
o.1〜6の各試料は、密度が2.68g/cm3 以下
であるため、軽量化を図ることが可能であり、歪点が5
76℃以上であるため、熱収縮が小さく、液相温度が1
020℃以下であるため、失透し難いことが明らかであ
る。またこれらの試料は、熱膨張係数が80〜89×1
0-7/℃であり、150℃における体積抵抗率が10
11.1Ω・cm以上と高く、しかも紫外線による着色度合
いが小さかった。
o.1〜6の各試料は、密度が2.68g/cm3 以下
であるため、軽量化を図ることが可能であり、歪点が5
76℃以上であるため、熱収縮が小さく、液相温度が1
020℃以下であるため、失透し難いことが明らかであ
る。またこれらの試料は、熱膨張係数が80〜89×1
0-7/℃であり、150℃における体積抵抗率が10
11.1Ω・cm以上と高く、しかも紫外線による着色度合
いが小さかった。
【0034】それに対し、比較例であるNo.7の試料
は、密度が2.87g/cm3 と高く、しかも液相温度
が1200℃と高いことから、失透しやすく、成形し難
いものと考えられる。またNo.8の試料は、歪点が5
00℃と低く、体積抵抗率が低いため、アルカリ成分が
薄膜電極と反応しやすいものと考えられ、しかも紫外線
による着色の度合いも大きかった。
は、密度が2.87g/cm3 と高く、しかも液相温度
が1200℃と高いことから、失透しやすく、成形し難
いものと考えられる。またNo.8の試料は、歪点が5
00℃と低く、体積抵抗率が低いため、アルカリ成分が
薄膜電極と反応しやすいものと考えられ、しかも紫外線
による着色の度合いも大きかった。
【0035】尚、表中の密度は、周知のアルキメデス法
によって測定し、歪点は、ASTMC336−71の方
法に基づいて測定し、液相温度は、白金ボートに297
〜500μmの粒径を有するガラス粉末を入れ、温度勾
配炉に48時間保持した後の失透観察によって求めたも
のである。
によって測定し、歪点は、ASTMC336−71の方
法に基づいて測定し、液相温度は、白金ボートに297
〜500μmの粒径を有するガラス粉末を入れ、温度勾
配炉に48時間保持した後の失透観察によって求めたも
のである。
【0036】また熱膨張係数は、ディラトメーターによ
って30〜380℃における平均熱膨張係数を測定した
ものであり、体積抵抗率は、ASTM C657−78
に基づいて150℃における値を測定したものである。
って30〜380℃における平均熱膨張係数を測定した
ものであり、体積抵抗率は、ASTM C657−78
に基づいて150℃における値を測定したものである。
【0037】さらに紫外線による着色の度合いは、各ガ
ラス基板を400Wの水銀ランプで48時間照射し、照
射前後の波長400nmにおける紫外線透過率を測定
し、その透過率の差を示したものである。この値が大き
いほど、紫外線によって着色しやすいということにな
る。
ラス基板を400Wの水銀ランプで48時間照射し、照
射前後の波長400nmにおける紫外線透過率を測定
し、その透過率の差を示したものである。この値が大き
いほど、紫外線によって着色しやすいということにな
る。
【0038】
【発明の効果】以上のように本発明の基板用ガラスは、
密度が2.75g/cm3 以下と低く、570℃以上の
温度で熱処理しても熱収縮が小さく、75〜95×10
-7/℃の熱膨張係数を有し、また体積抵抗率が高く、し
かも化学的耐久性に優れ、紫外線による着色も少ないた
め、プラズマディスプレイパネルの基板材料として好適
である。
密度が2.75g/cm3 以下と低く、570℃以上の
温度で熱処理しても熱収縮が小さく、75〜95×10
-7/℃の熱膨張係数を有し、また体積抵抗率が高く、し
かも化学的耐久性に優れ、紫外線による着色も少ないた
め、プラズマディスプレイパネルの基板材料として好適
である。
【0039】さらに本発明の基板用ガラスは、失透し難
いため、一般にガラス板の成形方法として知られている
フロート法、フュージョン法、ロールアウト法等のいず
れの方法によっても製造することが可能である。
いため、一般にガラス板の成形方法として知られている
フロート法、フュージョン法、ロールアウト法等のいず
れの方法によっても製造することが可能である。
Claims (1)
- 【請求項1】 重量百分率で、SiO2 50〜65
%、Al2 O3 1〜15%、CaO 0〜2.9%、
CaO+MgO+SrO+BaO 17%未満、ZrO
2 1〜9%、Li2 O 0〜1%、Na2 O 2〜1
2%、K2 O2〜13%、Li2 O+Na2 O+K2 O
8〜16%、TiO2 0〜5%の組成を有し、密度
が2.75g/cm3 以下であることを特徴とする基板
用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20307396A JPH1025129A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | 基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20307396A JPH1025129A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | 基板用ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1025129A true JPH1025129A (ja) | 1998-01-27 |
Family
ID=16467908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20307396A Withdrawn JPH1025129A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | 基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1025129A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0879800A1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-25 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigenvorrichtungen |
| US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
| US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
| US6303528B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-10-16 | Schott Glas | Glass for rigid disk substrates |
| JP2003054984A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| WO2004052799A1 (ja) * | 2002-12-06 | 2004-06-24 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | フラットパネルディスプレイ基板用ガラス及びフラットパネルディスプレイ基板 |
| JP2007246365A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ用ガラス基板 |
| CN102320742A (zh) * | 2007-03-23 | 2012-01-18 | 旭硝子株式会社 | 数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板 |
| US10683231B2 (en) | 2015-03-26 | 2020-06-16 | Pilkington Group Limited | Glasses |
-
1996
- 1996-07-12 JP JP20307396A patent/JPH1025129A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0879800A1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-25 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigenvorrichtungen |
| US6087284A (en) * | 1997-05-24 | 2000-07-11 | Schott Glas | Aluminosilicate glass for flat display devices |
| US6303528B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-10-16 | Schott Glas | Glass for rigid disk substrates |
| US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
| US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
| JP2003054984A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| WO2004052799A1 (ja) * | 2002-12-06 | 2004-06-24 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | フラットパネルディスプレイ基板用ガラス及びフラットパネルディスプレイ基板 |
| JP2007246365A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ用ガラス基板 |
| CN102320742A (zh) * | 2007-03-23 | 2012-01-18 | 旭硝子株式会社 | 数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板 |
| US10683231B2 (en) | 2015-03-26 | 2020-06-16 | Pilkington Group Limited | Glasses |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050706 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050803 |