JPH0761987A - セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 - Google Patents

セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物

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JPH0761987A
JPH0761987A JP5209373A JP20937393A JPH0761987A JP H0761987 A JPH0761987 A JP H0761987A JP 5209373 A JP5209373 A JP 5209373A JP 20937393 A JP20937393 A JP 20937393A JP H0761987 A JPH0761987 A JP H0761987A
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JP
Japan
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JP5209373A
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Inventor
Hiroyuki Tawada
紘之 多和田
Masafumi Nakao
雅文 中尾
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】グラム陽性菌およびグラム陰性菌に対して広範
囲の抗菌スペクトルと優れた抗菌作用を有するセフェム
化合物の提供。 【構成】一般式(I)で表されるセフェム化合物または
その塩もしくはエステル、およびそれらの製造方法。 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、Qは
窒素原子またはC−R2(R2は水素原子またはハロゲン
原子を示す)で表される基を、R3は水素原子または置
換されていてもよい炭化水素基を、Aは置換されていて
もよいトリアゾロチアジアゾリルまたはイミダゾチアジ
アゾリル基をそれぞれ示す〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は優れた抗菌作用を有する
新規なセフェム化合物およびその製造法ならびに抗菌組
成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】セフェム系抗生物質は人および動物の病
原性細菌により生ずる疾病の治療に広く使用されてお
り、たとえばペニシリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌
に起因する疾病の治療およびペニシリン感受性患者の治
療に特に有用である。その場合グラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌の両者に活性を示すセフェム系抗生物質を用い
ることが望ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを
持つセフェム系抗生物質の研究が盛んに行われてきた。
しかしそれらの抗菌活性は十分満足できるものではな
い。またかってペニシリンにおいて経験されたと同様に
セファロ化合物に抵抗性を示す耐性菌、いわゆるセファ
ロスポリン耐性菌に対して活性を示すセフェム系抗生物
質が求められている。一方、セフェム化合物としては、
セフェム骨格の3位に縮合複素環チオメチル基を有する
化合物が種々合成されている(特開昭53−3479
4,特開昭53−34795,特開昭54−9296
等)が、その3位における縮合複素環は5員環と6員環
が縮合した5−6系縮合複素環であった。そして3位縮
合複素環チオメチル基において、5−5系縮合複素環を
有するセフェム化合物はほとんど合成されておらず、チ
アゾール環とトリアゾール環の縮合複素環である3−チ
アゾロ〔2,3−c〕〔1,2,4〕トリアゾール及び
チアゾロ〔3,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾールを
有するセフェム化合物〔コーリアン ジャーナル・オブ
・メディシナル・ケミストリー 第1巻 8頁(199
1)〕が知られているにすぎない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】既知のセファロスポリ
ン類に耐性を示す一部のエシェリヒア・コリ菌、一部の
シトロバクター属およびインドール陽性のプロテウス
属、さらにエンテロバクター属、セラチア属あるいはシ
ュウドモナス属などに分類される病原性細菌に対して臨
床的に使用可能な抗菌活性を有する新規セフェム化合物
の開発が望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、3位縮合複素環チオメチル基の縮合複素環とし
て5−5系縮合複素環を有するセフェム化合物につい
て、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム環の3位縮合
複素環チオメチル基においてチアジアゾール環と5員環
の縮合複素環であるトリアゾロチアジアゾールまたはイ
ミダゾチアジアゾール環を有し、かつ7位に2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−,2−(2−アミノ−
5−ハロゲノチアゾール−4−イル)−または2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−ヒドロキシ(または置換ヒドロキシ)イミノアセト
アミド基を有することに化学構造上の特徴がある新規セ
フェム化合物またはその塩もしくはエステルを初めて合
成し、さらにこの合成された新規化合物が予想外にもセ
ファロ耐性菌を含む各種の細菌に対して強い抗菌作用を
有することを見出し、これらに基づいて本発明を完成し
た。
【0005】すなわち、本発明は、一般式〔I〕:
【化8】 〔式中、 R1は保護されていてもよいアミノ基を、Qは
窒素原子またはC−R2(R2は水素原子またはハロゲン
原子を示す)で表される基を、R3は水素原子または置
換されていてもよい炭化水素基を、Aは置換されていて
もよいトリアゾロチアジアゾリルまたはイミダゾチアジ
アゾリル基をそれぞれ示す〕で表されるセフェム化合物
またはその塩もしくはエステル、およびその製造法なら
びに抗菌組成物に関するものである。本明細書における
セフェム化合物は「ザ・ジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエティ」第84巻 3400頁
(1962)に記載されている「セフェム」に基づいて
命名された化合物群であり、セフェム化合物はセフェム
化合物のうち3,4−位に二重結合を有する化合物を意
味する。
【0006】上記セフェム化合物〔I〕において置換基
1は保護されていてもよいアミノ基、すなわちアミノ
基または保護されたアミノ基を表わす。β−ラクタムお
よびペプチド合成分野ではアミノ基の保護基は充分に研
究されていてその保護法はすでに確立されており、本発
明においてもアミノ基の保護基としてはそれら公知のも
のが適宜に採用されうる。アミノ基の保護基としては、
たとえばC6-10アリール−カルボニル基、C1-5アルカ
ノイル基、C3-5アルケノイル基、C6-10アリールスル
ホニル基、C1-10アルキルスルホニル基、置換オキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、C
6-10アリール−メチル基、C6-10アリール−メチレン
基、C6-10アリールチオ基、置換シリル基、2−C1-8
アルコキシカルボニル基、1−メチル−1−エテニル基
などがあげられる。
【0007】C6-10アリール−アシル基としては具体的
にはベンゾイル,ナフトイル,フタロイルなどがあげら
れ、これらの芳香環はC1-4アルキル,C1-6アルコキシ,
ハロゲン,ニトロなどで置換されていてもよい。 置換さ
れたアリール−カルボニル基としては具体的にはp−ト
ルオイル,p−tert−ブチルベンゾイル,p−メトキシベン
ゾイル,p−tert−ブトキシベンゾイル,p−クロロベンゾ
イル,p−ニトロベンゾイルなどがあげられる。C1-5
ルカノイル基としては具体的にはホルミル,アセチル,プ
ロピオニル,ブチリル,バレリル,ピバロイル,サクニシ
ル,グルタリルなどがあげられ、 これらのアルカノイル
基はさらにC1-6アルコキシ,ハロゲン,C6-10アリール,
6-10アリールオキシ,C6-10アリールチオなどで置換
されていてもよい。 置換されたアルカノイル基としては
具体的にはモノクロロアセチル,ジクロロアセチル,トリ
クロロアセチル,モノブロモアセチル,モノフルオロアセ
チル,ジフルオロアセチル,トリフルオロアセチル,モノ
ヨードアセチル,アセトアセチル,3−オキソブチリル,
4−クロロ−3−オキソブチリル,フェニルアセチル,p
−クロロフェニルアセチル,フェノキシアセチル,p−ク
ロロフェノキシアセチルなどがあげられる。C3-5アル
ケノイル基としては具体的にはアクリロイル,クロトノ
イル,マレオイルなどがあげられ、 これらのアルケノイ
ル基はさらにC6-10アリールなどで置換されていてもよ
い。 置換されたアルケノイル基としては具体的にはシン
ナモイルなどがあげられる。 C6-10アリールスルホニル
基としては具体的にはベンゼンスルホニル,ナフタレン
スルホニルなどがあげられ、 これらの芳香環はC1-4
ルキル,C1-6アルコキシ,ハロゲン,ニトロなどで置換さ
れていてもよい。 置換されたアリールスルホニル基とし
ては具体的にはp−トルエンスルホニル,p−tert−ブチ
ルベンゼンスルホニル,p−メトキシベンゼンスルホニ
ル,p−クロロベンゼンスルホニル,p−ニトロベンゼンス
ルホニルなどがあげられる。C1-10アルキルスルホニル
基としては具体的にはメタンスルホニル,エタンスルホ
ニル,カンファースルホニルなどがあげられ、 これらの
アルキルスルホニル基はC6-10アリール,C6-10アリー
ルオキシ,ハロゲンなどで置換されていてもよい。置換オ
キシカルボニル基としてはたとえばメトキシカルボニ
ル,エトキシカルボニル,イソプロポキシカルボニル,ter
t−ブトキシカルボニル,イソボルニルオキシカルボニル
などのC1-8アルコキシ−カルボニル基,たとえばフェノ
キシカルボニル,ナフチルオキシカルボニルなどのC
6-10アリールオキシ−カルボニル基,たとえばベンジル
オキシカルボニルなどのC7-12アラルキルオキシ−カル
ボニル基などがあげられる。C1-8アルコキシ−カルボ
ニル基はさらにC1-6アルコキシ,C2-5アルカノイル,置
換シリル,C1-4アルキルスルホニル,ハロゲン,シアノな
どで置換されていてもよい。 置換されたアルコキシ−カ
ルボニル基としてはたとえばメトキシメチルオキシカル
ボニル,アセチルメチルオキシカルボニル,2−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニル,2−メタンスルホニルエ
トキシカルボニル,2,2,2−トリクロロエトキシカル
ボニル,2−シアノエトキシカルボニルなどがあげられ
る。C6-10アリールオキシ−カルボニル基およびC7-10
アラルキルオキシ−カルボニル基の芳香環はC1-4アル
キル,C1-6アルコキシ,ハロゲン,ニトロなどで置換され
ていてもよい。 置換されたアリールオキシカルボニル基
としては具体的にはp−メチルフェノキシカルボニル,p
−メトキシフェノキシカルボニル,p−クロロフェノキシ
カルボニルなどがあげられる。置換されたアラルキルオ
キシカルボニル基としては具体的にはp−メチルベンジ
ルオキシカルボニル,p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル,p−クロロベンジルオキシカルボニル,p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルなどがあげられる。またC7-10
アラルキルオキシ−カルボニル基のアルキル基はC6-10
アリール,ハロゲンなどで置換されていてもよく、 具体
的にはベンズヒドリルオキシカルボニルなどがあげられ
る。 カルバモイル基は置換されていてもよい。 置換され
たカルバモイル基としては具体的にはN−メチルカルバ
モイル,N−エチルカルバモイル,N,N−ジメチルカル
バモイル,N−フェニルカルバモイル,N−(p−メトキシ
フェニル)カルバモイルなどがあげられる。チオカルバ
モイル基も同様に置換されていてもよい。置換されたチ
オカルバモイル基としては具体的にはN−メチルチオカ
ルバモイルなどがあげられる。C6-10アリール−メチル
基としては具体的にはベンジル,ナフチルメチルなどが
あげられ、これらの芳香環はC1-4アルキル,C1-6アル
コキシ,ハロゲン,ニトロなどで置換されていてもよい。
置換されたアリールメチル基としては具体的にはp−メ
チルベンジル,p−メトキシベンジル,p−クロロベンジ
ル,p−ニトロベンジルなどがあげられる。 またアリール
メチル基のメチル基はもう1〜2個のC6-10アリール基
で置換されていてもよく、 具体的にはベンズヒドリル,
トリチルなどがあげられる。 C6-10アリール−メチレン
基としては具体的にはベンジリデンなどがあげられ、こ
れらの芳香環はC1-4アルキル,C1-6アルコキシ,ハロゲ
ン,ニトロなどで置換されていてもよい。 置換されたア
リールメチレン基としては具体的にはp−メチルベンジ
リデン,p−クロロベンジリデンなどがあげられる。C
6-10アリールチオ基としては具体的にはo−ニトロフェ
ニルチオなどがあげられる。
【0008】置換シリル基は保護されるアミノ基とあわ
さって一般式R678SiNH,(R678Si)2Nまた
【化9】 〔式中、R6,R7,R8,R9,R10,R9′,R10′はそれぞ
れたとえばメチル,エチル,tert−ブチルなどのC1-4
ルキル基もしくはたとえばフェニルなどのC6-10アリー
ル基を示し、 それぞれ同一または異なっていてもよい。
またZ′はたとえばメチレン,エチレンなどのC1-3アル
キレン基を示す〕で表わされるようなシリル基を意味
し、 具体的にはトリメチルシリル,tert−ブチルジメチ
ルシリル,−Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2−など
があげられる。2−C1-8アルコキシ−カルボニル−1
−メチル−1−エテニル基のC1-8アルコキシ基として
はたとえばメトキシ,エトキシ,tert−ブトキシなどがあ
げられる。 上記セフェム化合物〔I〕において記号Qは窒素原子ま
たはC−R2で表わされる基を、置換基R2は水素原子ま
たはハロゲン原子を表わす。ハロゲン原子としてはフッ
素,塩素,臭素,ヨウ素などがあげられ、好ましくは塩素
である。
【0009】上記セフェム化合物〔I〕において置換基
3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基
を表わす。炭化水素基としてはたとえばC1-6アルキル
基,C2-6アルケニル基,C3-6シクロアルキル基などがあ
げられ、 C1-3アルキル基(たとえばメチル,エチル,プロ
ピルなど)または置換されたC1-3アルキル基が特に好ま
しい。 C1-6アルキル基としては具体的にはメチル,エチ
ル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,sec−ブ
チル,tert−ブチル,ペンチル,ヘキシルなどがあげられ
る。C2-6アルケニル基としては具体的にはビニル,アリ
ル,イソプロペニル,メタリル,1,1−ジメチルアリル,
2−ブテニル,3−ブテニルなどがあげられる。C3-6
クロアルキル基としては具体的にはシクロプロピル,シ
クロブチル,シクロペンチル,シクロヘキシルなどがあげ
られる。 これらの炭化水素基の置換基としてはたとえば
水酸基,C3-6シクロアルキル基,C1-6アルコキシ基,C
3-6シクロアルキルオキシ基,C6-10アリールオキシ基,
7-12アラルキルオキシ基,メルカプト基,C1-6アルキ
ルチオ基,C3-6シクロアルキルチオ基,C6-10アリール
チオ基,C7-12アラルキルチオ基,アミノ基,モノC1-4
ルキルアミノ基,ジC1-4アルキルアミノ基,C3-6シクロ
アルキルアミノ基,C6-10アリールアミノ基,C7-12アラ
ルキルアミノ基,環状アミノ基,アジド基,ニトロ基,ハロ
ゲン原子,シアノ基,カルボキシル基,C1-8アルコキシ−
カルボニル基,C6-10アリールオキシ−カルボニル基,C
3-6シクロアルキルオキシ−カルボニル基,C7-12アラル
キルオキシ−カルボニル基,C6-10アリール−アシル基,
1-5アルカノイル基,C3-5アルケノイル基,C6-10アリ
ール−アシルオキシ基,C2-5アルカノイルオキシ基,C
3-5アルケノイルオキシ基,カルバモイル基,置換カルバ
モイル基,チオカルバモイル基,置換チオカルバモイル
基,カルバモイルオキシ基,置換カルバモイルオキシ基,
フタルイミド基,C2-5アルカノイルアミド基,C6-10
リール−アシルアミド基,C1-4アルコキシ−カルボニル
アミノ基,C6-10アリールオキシ−カルボニルアミノ基,
7-12アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基,複素環
基などがあげられる。具体的にはC3-6シクロアルキル
基はシクロプロピル,シクロブチル,シクロペンチル,シ
クロヘキシルなどを、 C1-6アルコキシ基はメトキシ,エ
トキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,tert−ブ
トキシなどを、 C3-6シクロアルキルオキシ基はシクロ
プロピルオキシ,シクロヘキシルオキシなどを、 C6-10
アリールオキシ基はフェノキシ,ナフチルオキシなどを、
7-12アラルキルオキシ基はベンジルオキシ,2−フェ
ニルエチルオキシなどを、 C1-6アルキルチオ基はメチ
ルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,ブチルチオなどを、
3-6シクロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ,シク
ロヘキシルチオなどを、 C6-10アリールチオ基はフェニ
ルチオなどを、 C7-12アラルキルチオ基はベンジルチオ
などを、 モノC1-4アルキルアミノ基はメチルアミノ,エ
チルアミノ,プロピルアミノ,ブチルアミノなどを、 ジC
1-4アルキルアミノ基はジメチルアミノ,ジエチルアミ
ノ,メチルエチルアミノ,ジプロピルアミノ,ジブチルア
ミノなどを、 C3-6シクロアルキルアミノ基はシクロプ
ロピルアミノ,シクロヘキシルアミノなどを、 C6-10
リールアミノ基はアニリノなどを、 C7-12アラルキルア
ミノ基はベンジルアミノ,2−フェニルエチルアミノな
どを、 環状アミノ基はピロリジノ,ピペリジノ,ピペラジ
ノ,モルホリノ,1−ピロリル,1−イミダゾリル,1−ピ
ラゾリルなどを、 ハロゲン原子はフッ素,塩素,臭素など
を、 C1-8アルコキシ−カルボニル基はメトキシカルボ
ニル,エトキシカルボニル,プロポキシカルボニル,イソ
プロポキシカルボニル,ブトキシカルボニル,tert−ブト
キシカルボニル,イソボルニルオキシカルボニルなどを、
6-10アリールオキシ−カルボニル基はフェノキシカ
ルボニルなどを、 C3-6シクロアルキルオキシ−カルボ
ニル基はシクロプロピルオキシカルボニル,シクロヘキ
シルオキシカルボニルなどを、 C7-12アラルキルオキシ
−カルボニル基はベンジルオキシカルボニルなどを、 C
6-10アリール−アシル基はベンゾイル,フタロイル,フェ
ニルアセチルなどを、 C1-5アルカノイル基はホルミル,
アセチル,プロピオニル,ブチリル,バレリル,ピバロイル
などをC3-5アルケノイル基はアクリロイル,クロトノイ
ル,マレオイルなどを、 C6-10アリール−アシルオキシ
基はベンゾイルオキシなどを、C2-5アルカノイルオキシ
基はアセトキシ,プロピオニルオキシ,ブチリルオキシ,
ピバロイルオキシなどを、 C3-5アルケノイルオキシ基
はアクリロイルオキシなどを、 置換カルバモイル基はN
−メチルカルバモイル,N,N−ジメチルカルバモイル,
N−エチルカルバモイル,N−フェニルカルバモイル,ピ
ロリジノカルボニル,ピペリジノカルボニル,ピペラジノ
カルボニル,モルホリノカルボニルなどを、 置換チオカ
ルバモイル基はN−メチルチオカルバモイルなどを、 置
換カルバモイルオキシ基はN−メチルカルバモイルオキ
シ,N,N−ジメチルカルバモイルオキシ,N−エチルカ
ルバモイルオキシなどを、 C2-5アルカノイルアミド基
はアセトアミド,プロピオンアミドなどを、 C6-10アリ
ールアシルアミド基はベンズアミドなどを、 C1-4アル
コキシ−カルボニルアミノ基はメトキシカルボニルアミ
ノ,エトキシカルボニルアミノ,tert−ブトキシカルボニ
ルアミノなどを、 C6-10アリールオキシ−カルボニルア
ミノ基はフェノキシカルボニルアミノなどを、 C7-12
ラルキルオキシ−カルボニルアミノ基はベンジルオキシ
カルボニルアミノなどを、複素環基は2−ピリジル,3
−ピリジル,4−ピリジル,N−オキシド−2−ピリジ
ル,N−オキシド−3−ピリジル,N−オキシド−4−ピ
リジル,2−ピペリジニル,3−ピペリジニル,4−ピペ
リジニル,ピペラジニル,2−ピラジニル,2−ピリミジ
ニル,4−ピリミジニル,5−ピリミジニル,3−ピリダ
ジニル,4−ピリダジニル,2−ピラニル,3−ピラニル,
4−ピラニル,2−チオピラニル,3−チオピラニル,4
−チオピラニル,3H−インドール−2−イル,3H−イ
ンドール−3−イル,1,2,3−チアジアゾール−4−
イル,1,2,4−チアジアゾール−5−イル,1,2,4−
チアジアゾール−3−イル,1,3,4−チアジアゾリル,
1,2,5−チアジアゾリル,1,2,3−トリアゾリル,
1,2,4−トリアゾリル,1H−テトラゾリル,ベンゾピ
ラニル,2−フリル,3−フリル,2−チエニル,3−チエ
ニル,2−オキサゾリル,4−オキサゾリル,5−オキサ
ゾリル,2−チアゾリル,4−チアゾリル,5−チアゾリ
ル,3−イソキサゾリル,4−イソキサゾリル,5−イソ
キサゾリル,3−イソチアゾリル,4−イソチアゾリル,
5−イソチアゾリル,2−ピロリル,3−ピロリル,2−
ピロリジニル,3−ピロリジニル,2−イミダゾリル,4
−イミダゾリル,5−イミダゾリル,3−ピラゾリル,4
−ピラゾリル,5−ピラゾリルなどの窒素原子(オキシド
化されていてもよい),酸素原子,硫黄原子などのヘテロ
原子を1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環で炭素
原子に結合手を有するものを、それぞれ表わす。また上
記のアラルキルオキシ基,アラルキルチオ基,アラルキル
アミノ基,アラルキルオキシカルボニル基およびアラル
キルオキシカルボニルアミノ基のアラルキル基を構成す
るアルキル基はもう1個のC6-10アリール基で置換され
ていてもよく、 具体的にはベンズヒドリルオキシ,ベン
ズヒドリルチオ,ベンズヒドリルアミノ,ベンズヒドリル
オキシカルボニル,ベンズヒドリルオキシカルボニルア
ミノなどがあげられる。 上記した炭化水素基の置換基は
1個に限定されず、同一または異なって複数個(2ない
し4個)あってもよい。C1-6アルキル基のα位に置換し
た2個の置換基があわさって複素環を形成しているもの
も含まれる。置換された炭化水素基としてはハロゲン原
子,水酸基,アミノ基,C1-6アルコキシ基,カルボキシル
基,C1-6アルコキシ−カルボニル基,シアノ基などで置
換されたC1-3アルキル基がより好ましい。 置換された
炭化水素基を具体的にあげると、メトキシメチル,1−
メトキシエチル,1−エトキシエチル,2−ヒドロキシエ
チル,2−アミノエチル,2−フルオロエチル,2−クロ
ロエチル,2−ブロモエチル,カルボキシメチル,シアノ
メチル,1−カルボキシ−1−メチルエチル,1−カルボ
キシシクロプロピル,メトキシカルボニルメチル,エトキ
シカルボニルメチル,1−メトキシカルボニルシクロプ
ロピル,tert−ブトキシカルボニルメチル,1−メトキシ
カルボニル−1−メチルエチル,1−エトキシカルボニ
ル−1−メチルエチル,1−tert−ブトキシカルボニル
−1−メチルエチル,1−ベンジルオキシカルボニル−
1−メチルエチル,1−ピバロイルオキシカルボニル−
1−メチルエチル,2−(ピラゾリル)エチル,2−(イミ
ダゾリル)エチル,2−(2−オキソピロリジン−3−イ
ル)エチル,2−アミノ−4−または5−チアゾリルメチ
ル,5−アミノ−1,2,4−チアジアジアゾール−3−
イルメチル,1−カルボキシ−1−(2,3,4−トリヒド
ロキシフェニル)メチル,2−オキソ−3−ピロリジルな
どのほか多くのものがあげられる。R3としては、とり
わけ水素原子またはメチル、エチル等のC1-6アルキル
基が好ましい。また本明細書においてOR3基はすべて
シン配位(Z配位)である。
【0010】上記セフェム化合物〔I〕において置換基
Aは置換されていてもよいトリアゾロチアジアゾリル基
またはイミダゾチアジアゾリル基を表わす。トリアゾロ
チアジアゾリル基を構成するトリアゾロチアジアゾール
環は具体的には
【化10】 があげられる。イミダゾチアジアゾリル基を構成するイ
ミダゾチアジアゾール環は具体的には
【化11】 があげられる。置換基Aは上記の縮合環のいずれかの炭
素原子に結合手を有する基である。また上記縮合環基
(A)の結合手を有する炭素原子以外の炭素原子上の水
素原子は他の置換基で置換されていてもよい。
【0011】このような置換基としてはたとえば水酸
基,C1-4ヒドロキシアルキル基,C1-6アルキル基,C2-6
アルケニル基,C2-6アルキニル基,C4-6アルカジエニル
基,C3-6シクロアルキル基,C3-6シクロアルケニル基,
3-6シクロアルキル−C1-6アルキル基,C6-10アリー
ル基,C7-12アラルキル基,複素環基,C1-6アルコキシ
基,C1-6アルコキシ−C1-4アルキル基,C3-6シクロア
ルキルオキシ基,C6-10アリールオキシ基,C7-12アラル
キルオキシ基,メルカプト基,C1-4メルカプトアルキル
基,スルホ基,C1-4スルホアルキル基,C1-6アルキルチ
オ基,C1-6アルキルチオ−C1-4アルキル基,C3-6シク
ロアルキルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-12アラル
キルチオ基,C2-4シアノアルキルチオ基,アミノ基,C
1-4アミノアルキル基,モノC1-4アルキルアミノ基,ジC
1-4アルキルアミノ基,モノC1-4アルキルアミノ−C1-4
アルキル基,ジC1-4アルキルアミノ−C1-4アルキル基,
3-6シクロアルキルアミノ基,C6-10アリールアミノ
基,C7-12アラルキルアミノ基,環状アミノ基,環状アミ
ノ−C1-4アルキル基,環状アミノ−C1-4アルキルアミ
ノ基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,C1-4ハロゲノ
アルキル基,シアノ基,シアノ−C1-4アルキル基,カルボ
キシル基,カルボキシ−C1-4アルキル基,C1-8アルコキ
シ−カルボニル基,C1-8アルコキシ−カルボニル−C
1-4アルキル基,C6-10アリールオキシ−カルボニル基,
3-6シクロアルキルオキシ−カルボニル基,C7-12アラ
ルキルオキシ−カルボニル基,C6-10アリール−カルボ
ニル基,C1-5アルカノイル基,C2-5アルカノイル−C
1-4アルキル基,C3-5アルケノイル基,C6-10アリール−
アシルオキシ基,C2-5アルカノイルオキシ基,C2-5アル
カノイルオキシ−C1-4アルキル基,C3-5アルケノイル
オキシ基,カルバモイル基,カルバモイル−C1-4アルキ
ル基,置換カルバモイル基,チオカルバモイル基,置換チ
オカルバモイル基,カルバモイルオキシ基,カルバモイル
オキシ−C1-4アルキル基,置換カルバモイルオキシ基,
フタルイミド基,C2-5アルカノイルアミド基,C6-10
リール−アシルアミド基,スルホンアミド基,2−アミノ
−2−カルボキシエチル基,C1−4アルコキシ−カル
ボニルアミノ基,C6-10アリールオキシ−カルボニルア
ミノ基,C7-12アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基
などがあげられる。具体的にはC1-4ヒドロキシアルキ
ル基はヒドロキシメチル,2−ヒドロキシエチルなど
を、C1-6アルキル基はメチル,エチル,プロピル,イソプ
ロピル,ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,
ペンチル,ヘキシルなどを、C2-6アルケニル基はビニ
ル,アリル,イソプロペニル,メタリル,1,1−ジメチル
アリル,1−ブテニル,2−ブテニル,3−ブテニルなど
を、C2-6アルキニル基はエチニル,1−プロピニル,2
−プロピニル,プロパルギルなどを、C4-6アルカジエニ
ル基は1,3−ブタジエニルなどを、C3-6シクロアルキ
ル基はシクロプロピル,シクロブチル,シクロペンチル,
シクロヘキシルなどを、C3-6シクロアルケニル基は1
−シクロペンテニル,2−シクロペンテニル,3−シクロ
ペンテニル,1−シクロヘキセニル,2−シクロヘキセニ
ル,3−シクロヘキセニル,1,4−シクロヘキサジエニ
ルなどを、C3-6シクロアルキル−C1-6アルキル基はシ
クロペンチルメチル,シクロヘキシルメチルなどを、C
6-10アリール基はフェニル,ナフチルなどを、C7-12
ラルキル基はベンジル,フェネチルなどを、複素環基は
2−ピリジル,3−ピリジル,4−ピリジル,N−オキシ
ド−2−ピリジル,N−オキシド−3−ピリジル,N−オ
キシド−4−ピリジル,2−ピペリジニル,3−ピペリジ
ニル,4−ピペリジニル,ピペラジニル,2−ピラジニル,
2−ピリミジニル,4−ピリミジニル,5−ピリミジニ
ル,3−ピリダジニル,4−ピリダジニル,2−ピラニル,
3−ピラニル,4−ピラニル,2−チオピラニル,3−チ
オピラニル,4−チオピラニル,3H−インドール−2−
イル,3H−インドール−3−イル,1,2,3−チアジア
ゾール−4−イル,1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル,1,2,4−チアジアゾール−3−イル,1,3,4−チ
アジアゾリル,1,2,5−チアジアゾリル,1,2,3−ト
リアゾリル,1,2,4−トリアゾリル,1H−テトラゾリ
ル,ベンゾピラニル,2−フリル,3−フリル,2−チエニ
ル,3−チエニル,2−オキサゾリル,4−オキサゾリル,
5−オキサゾリル,2−チアゾリル,4−チアゾリル,5
−チアゾリル,3−イソキサゾリル,4−イソキサゾリ
ル,5−イソキサゾリル,3−イソチアゾリル,4−イソ
チアゾリル,5−イソチアゾリル,2−ピロリル,3−ピ
ロリル,2−ピロリジニル,3−ピロリジニル,1−イミ
ダゾリル,2−イミダゾリル,4−イミダゾリル,5−イ
ミダゾリル,1−ピラゾリル,3−ピラゾリル,4−ピラ
ゾリル,5−ピラゾリルなどの窒素原子(オキシド化され
ていてもよい),酸素原子,硫黄原子などのヘテロ原子を
1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環で炭素原子に
結合手を有するものを、C1-6アルコキシ基はメトキシ,
エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,tert−
ブトキシなどを、C1-6アルコキシ−C1-4アルキル基は
メトキシメチル,エトキシメチル,2−メトキシエチルな
どをC3-6シクロアルキルオキシ基はシクロプロピルオ
キシ,シクロヘキシルオキシなどを、C6-10アリールオ
キシ基はフェノキシ,ナフチルオキシなどを、C7-12
ラルキルオキシ基はベンジルオキシ,1−フェニルエチ
ルオキシ,2−フェニルエチルオキシなどを、C1-4メル
カプトアルキル基はメルカプトメチル,2−メルカプト
エチルなどを、C1-4スルホアルキル基はスルホメチル,
2−スルホエチルなどを、C1-6アルキルチオ基はメチ
ルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,イソプロピルチオ,ブ
チルチオなどを、C1-6アルキルチオ−C1-4アルキル基
はメチルチオメチル,2−メチルチオエチルなどを、C
3-6シクロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ,シクロ
ヘキシルチオなどを、C6-10アリールチオ基はフェニル
チオなどを、C7-12アラルキルチオ基はベンジルチオな
どを、C1-4シアノアルキルチオ基はシアノメチルチオ,
シアノエチルチオなどを、C1-4アミノアルキル基はア
ミノメチル,2−アミノエチルなどを、モノC1-4アルキ
ルアミノ基はメチルアミノ,エチルアミノ,プロピルアミ
ノ,ブチルアミノなどを、ジC1-4アルキルアミノ基はジ
メチルアミノ,ジエチルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ
プロピルアミノ,ジブチルアミノなどを、モノC1-4アル
キルアミノ−C1-4アルキル基はメチルアミノメチル,エ
チルアミノメチル,2−(N−メチルアミノ)エチル,3−
(N−メチルアミノ)プロピルなどを、ジC1-4アルキル
アミノ−C1-4アルキル基はN,N−ジメチルアミノメチ
ル,N,N−ジエチルアミノメチル,2−(N,N−ジメチ
ルアミノ)エチル,2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル,
3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルなどを、C3-6
クロアルキルアミノ基はシクロプロピルアミノ,シクロ
ヘキシルアミノなどを、C6-10アリールアミノ基はアニ
リノ,N−メチルアニリノなどを、C7-12アラルキルア
ミノ基はベンジルアミノ,1−フェニルエチルアミノ,2
−フェニルエチルアミノなどを、環状アミノ基はピロリ
ジノ,ピペリジノ,ピペラジノ,モルホリノ,1−ピロリルなど
を、環状アミノC1-4アルキル基はピロリジノメチル,ピ
ペリジノメチル,ピペラジノメチル,モルホリノメチル,
2−(モルホリノ)エチル,1−イミダゾリルメチル,1−
イミダゾリルエチルなどを、環状アミノC1-4アルキル
アミノ基はピロリジノメチルアミノ,ピペリジノメチル
アミノ,ピペラジノメチルアミノ,モルホリノメチルアミ
ノなどを、ハロゲン原子はフッ素,塩素,臭素などを、C
1-4ハロゲノアルキル基はモノフルオロメチル,ジフルオ
ロメチル,トリフルオロメチル,1−フルオロエチル,2
−フルオロエチル,モノクロロメチル,ジクロロメチル,
トリクロロメチル,1−クロロエチル,2−クロロエチ
ル,ブロモメチル,ヨードメチルなどを、シアノ−C1-4
アルキル基はシアノメチル,2−シアノエチルなどを、
カルボキシ−C1-4アルキル基はカルボキシメチル,1−
カルボキシエチル,2−カルボキシエチルなどを、C1-8
アルコキシ−カルボニル基はメトキシカルボニル,エト
キシカルボニル,プロポキシカルボニル,イソプロポキシ
カルボニル,ブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボ
ニル,イソボルニルオキシカルボニルなどを、C1-8アル
コキシ−カルボニル−C1-4アルキル基はメトキシカル
ボニルメチル,エトキシカルボニルメチル,tert−ブトキ
シカルボニルメチルなどを、C6-10アリールオキシ−カ
ルボニル基はフェノキシカルボニルなどを、C3-6シク
ロアルキルオキシ−カルボニル基はシクロプロピルオキ
シカルボニル,シクロヘキシルオキシカルボニルなど
を、C7-12アラルキルオキシ−カルボニル基はベンジル
オキシカルボニルなどを、C6-10アリール−カルボニル
基はベンゾイル,フタロイル,フェニルアセチルなどを、
1-5アルカノイル基はホルミル,アセチル,プロピオニ
ル,ブチリル,バレリル,ピバロイルなどを、C2-5アルカ
ノイル−C1-4アルキル基はアセチルメチル,1−アセチ
ルエチル,2−アセチルエチルなどを、C3-5アルケノイ
ル基はアクリロイル,クロトノイル,マレオイルなどを、
6-10アリール−アシルオキシ基はベンゾイルオキシな
どを、C2-5アルカノイルオキシ基はアセトキシ,プロピ
オニルオキシ,ブチリルオキシ,ピバロイルオキシなど
を、C2-5アルカノイルオキシ−C1-4アルキル基はアセ
トキシメチル,1−アセトキシエチル,2−アセトキシエ
チルなどを、C3-5アルケノイルオキシ基はアクリロイ
ルオキシなどを、カルバモイル−C1-4アルキル基はカ
ルバモイルメチルなどを、置換カルバモイル基はN−メ
チルカルバモイル,N,N−ジメチルカルバモイル,N−エ
チルカルバモイル,N,N−ジエチルカルバモイル,N−
フェニルカルバモイル,ピペリジノカルボニル,ピペラジ
ノカルボニル,モルホリノカルボニルなどを、カルバモ
イルオキシ−C1-4アルキル基はカルバモイルオキシメ
チルなどを、置換チオカルバモイル基はN−メチルチオ
カルバモイルなどを、置換カルバモイルオキシ基はN−
メチルカルバモイルオキシ,N,N−ジメチルカルバモイ
ルオキシ,N−エチルカルバモイルオキシなどを、C2-5
アルカノイルアミド基はアセトアミド,プロピオンアミ
ドなどを、C6-10アリール−アシルアミド基はベンズア
ミドなどを、C1-4アルコキシ−カルボニルアミノ基は
メトキシカルボニルアミノ,エトキシカルボニルアミノ,
tert−ブトキシカルボニルアミノなどを、C6-10アリー
ルオキシ−カルボニルアミノ基はフェノキシカルボニル
アミノなどを、C7-12アラルキルオキシ−カルボニルア
ミノ基はベンジルオキシカルボニルアミノなどを表わ
す。また上記のC7-12アラルキル基、C7-12アラルキル
オキシ基,C7-12アラルキルチオ基,C7-12アラルキルア
ミノ基,C7-12アラルキルオキシ−カルボニル基および
7-12アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基などのア
ラルキル基を構成するアルキル基はもう1個のC6-10
リール基で置換されていてもよく、具体的にはベンズヒ
ドリル,ベンズヒドリルオキシ,ベンズヒドリルチオ,ベ
ンズヒドリルアミノ,ベンズヒドリルオキシカルボニル,
ベンズヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあげられ
る。
【0012】上記の置換基は同一または異なって1〜2
個置換されていてもよい。Aとしては、低級アルキル基
(例、メチル,エチル等C1-6アルキル基等)、低級ア
ルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル,エト
キシカルボニル等C1-6アルコキシ−カルボニル基
等)、カルバモイル基またはカルバモイル−低級アルキ
ル基(例、カルバモイルメチル等カルバモイル−C1-6
アルキル基等)などで置換されていてもよいトリアゾロ
チアゾリル(とりわけ、s−トリアゾロ〔3,4−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−6−イルが好ましい)
またはイミダゾチアジアゾリル(とりわけ、イミダゾ
〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イ
ルが好ましい)基が好ましい。
【0013】セフェム化合物〔I〕は塩もしくはエステ
ルであってもよい化合物〔I〕の塩のうち、特に薬学的
に受容される塩は化合物〔I〕を抗菌剤として使用する
際に用いられる塩であり、その他の塩は合成中間体とし
て利用できる塩である。化合物〔I〕の塩としては無機
塩基塩,アンモニウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機
酸付加塩,塩基性アミノ酸塩などがあげられる。無機塩
基塩を生成させうる無機塩基としてはアルカリ金属(た
とえばナトリウム,カリウムなど),アルカリ土類金属(た
とえばカルシウムなど)などが、有機塩基塩を生成させ
うる有機塩基としてはたとえばプロカイン,2−フェニ
ルエチルベンジルアミン,ジベンジルエチレンジアミン,
エタノールアミン,ジエタノールアミン,トリスヒドロキ
シメチルアミノメタン,ポリヒドロキシアルキルアミン,
N−メチルグルコサミン,1,1,1−トリス(ヒドロキシ
メチル)メチルアミンなどが、無機酸付加塩を生成させ
うる無機酸としてはたとえば塩酸,臭化水素酸,硫酸,硝
酸,リン酸などが、有機酸付加塩を生成させうる有機酸
としてはたとえばp−トルエンスルホン酸,メタンスルホ
ン酸,ギ酸,トリフルオロ酢酸,マレイン酸,コハク酸,エ
チルコハク酸などが、塩基性アミノ酸塩を生成させうる
塩基性アミノ酸としてはたとえばリジン,アルギニン,オ
ルニチン,ヒスチジンなどがあげられる。これらの塩の
うち塩基塩(すなわち無機塩基塩,アンモニウム塩,有機
塩基塩,塩基性アミノ酸塩)は化合物〔I〕の4位のカル
ボキシル基において形成しうる塩基塩もしくは、化合物
〔I〕の置換基R3中もしくは置換基A上にカルボキシル
基,スルホ基などの酸性基が存在する場合に形成しうる
塩基塩を意味し、酸付加塩(すなわち無機酸付加塩,有機
酸付加塩)は化合物〔I〕の置換基R3中もしくは置換基
A上にアミノ基,モノアルキルアミノ基,ジアルキルアミ
ノ基,シクロアルキルアミノ基,アリールアミノ基,アラ
ルキルアミノ基,環状アミノ基,含窒素複素環基などの塩
基性基が存在する場合に形成しうる酸付加塩を意味す
る。
【0014】化合物〔I〕のエステル誘導体は分子中に
含まれるカルボキシル基,なかんづく、4位のカルボキ
シル基をエステル化することにより生成されうるエステ
ルを意味し、合成中間体として利用できるエステルおよ
び代謝上不安定な無毒のエステルである。合成中間体と
して利用できるエステルとしてはC1-4アルキルエステ
ル,C2-4アルケニルエステル,C3-6シクロアルキルエス
テル,C3-6シクロアルキル−C1-4アルキルエステル,C
6-10アリールエステル,C7-12アラルキルエステル,置換
シリルエステルなどがあげられ、これらはさらに置換さ
れていてもよい。C1-4アルキルエステルを形成するア
ルキルとしては具体的にはメチル,エチル,プロピル,ブ
チル,tert−ブチルなどを、C2-4アルケニルエステルを
形成するアルケニルとしては具体的にはビニル,アリル,
イソプロペニルなどを、C3-6シクロアルキルエステル
を形成するシクロアルキルとしては具体的にはシクロプ
ロピル,シクロブチル,シクロペンチル,シクロヘキシル
などを、C3-6シクロアルキル−C1-4アルキルエステル
を形成するアルキルとしては具体的にはシクロプロピル
メチル,シクロヘキシルメチルなどを、C6-10アリール
エステルを形成するアリールとしては具体的にはフェニ
ルなどを、C7-12アラルキルエステルを形成するアラル
キルとしては具体的にはベンジル,フェネチルなどを、
置換シリルエステルを形成する置換シリルとしては具体
的にはトリメチルシリル,tert−ブチルジメチルシリル
などをそれぞれ表わす。またアラルキルエステルを構成
するアルキルはもう1〜2個のC6-10アリールで置換さ
れていてもよく、具体的にはベンズヒドリルエステル,
トリチルエステルなどがあげられる。
【0015】代謝上不安定な無毒のエステルは経口投与
が可能なエステルを意味し、このようなエステルとして
はペニシリン,セファロスポリンの分野ですでに確立さ
れているものが本発明においても便宜に採用されうる。
このような代謝上不安定な無毒のエステルとしては、た
とえばC1-5アルカノイルオキシメチルエステル,C1-5
アルカノイルオキシエチルエステル,C1-6アルコキシ−
1-4アルキルエステル,C1-6アルキルチオ−C1-4アル
キルエステル,1−(C1-6アルコキシカルボニルオキシ)
1-6アルキルエステルなどがあげられ、具体的にはア
セトキシメチルエステル,1−アセトキシエチルエステ
ル,1−アセトキシブチルエステル,2−アセトキシエチ
ルエステル,ピバロイルオキシメチルエステル,メトキシ
メチルエステル,エトキシメチルエステル,イソプロポキ
シメチルエステル,1−メトキシエチルエステル,1−エ
トキシエチルエステル,メチルチオメチルエステル,エチ
ルチオメチルエステル,エトキシカルボニルオキシメチ
ルエステル,1−(エトキシカルボニルオキシ)エチルエ
ステル,tert−ブトキシカルボニルオキシメチルエステ
ル,1−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)エチルエス
テル,1−{(2−メチル−2−メトキシプロピオニルオ
キシ)カルボニルオキシ}エチルエステル,1−(シクロヘ
キシルオキシカルボニルオキシ)エチルエステルなどが
あげられる。本発明は上記エステル誘導体のほかに、生
体内において化合物〔I〕に変換されうる薬学的に受容
しうる化合物も包含する。
【0016】本発明の化合物〔I〕はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人および哺乳動物(例えば、マウス,
ラット,ウサギ,犬,ネコ,牛,豚など)における病原
性細菌により生ずる種々の疾病,たとえば気道感染,尿路
感染の予防ならびに治療のために使用されうる。化合物
〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてはつぎのような点
があげられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して高い活性を示す。 (2) グラム陽性菌(たとえばスタフィロコッカス・アウ
レウス,コリネバクテリウム・ジフテリアエなど)に対し
て高い活性を有している。 (3) 多くのβ−ラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシエリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属など)に対しても高い活性を有している。
また本発明の化合物〔I〕は優れた安定性を有する、血
中濃度が高い、効果の持続時間が長い、組織移行性が顕
著であるなどの特徴をも有している。
【0017】本発明のセフェム化合物〔I〕,その塩また
はエステルの製造法を以下に詳しく述べる。化合物
〔I〕はたとえば次の(1)〜(3)にあげた3通りの方法で
製造できる。すなわち (1) 一般式
【化12】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ
ェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
【化13】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるカル
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させ
るか、 (2) 一般式
【化14】 〔式中、 R11は水酸基,アシルオキシ基,カルバモイルオ
キシ基,置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子
を、その他の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる
セフェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
ASH〔式中、Aは前記と同意義を示す〕で表わされる
チオール化合物またはその塩とを反応させるか、または
【0018】(3) 一般式
【化15】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ
ェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
3′OH〔式中、R3′は置換されていてもよい炭化水
素基を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘導
体とを反応させるかしたのち要すれば保護基の除去を行
うことにより化合物〔I〕を製造することができる。 ま
た化合物〔I〕のうちQがC−R2基であるものは以下に
示す第(4)の製造法によっても製造することができる。 (4) 一般式
【化16】 〔式中、 Xはハロゲン原子またはR6SO2O(R6は低
級アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を
示す)で表わされる基を、その他の記号は前記と同意義
を示す〕で表わされるセフェム化合物またはその塩もし
くはエステルと一般式R1C(=S)NH2〔式中、R1
前記と同意義を示す〕で表わされる化合物とを反応させ
るかしたのち要すれば保護基の除去を行うことにより化
合物〔I〕を製造することができる。 製造法(1)〜(4)、
保護基除去法および化合物〔I〕の精製法について順次
説明を加える。
【0019】製造法(1):
【化17】 本法は7−アミノ化合物〔II〕をカルボン酸〔III〕
またはその反応性誘導体でアシル化する方法である。こ
の方法においてカルボン酸〔III〕は遊離のままあるい
はその塩もしくは反応性誘導体が7−アミノ化合物〔I
I〕の7位アミノ基のアシル化剤として用いられる。す
なわち遊離酸〔III〕あるいは遊離酸〔III〕の無機塩,
有機塩,酸ハライド,酸アジド,酸無水物,混合酸無水物,
活性アミド,活性エステル,活性チオエステルなどの反応
性誘導体がアシル化反応に供される。無機塩としてはア
ルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩,カリウム塩など),
アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)など
が、有機塩としてはたとえばトリメチルアミン塩,トリ
エチルアミン塩,tert−ブチルジメチルアミン塩,ジベン
ジルメチルアミン塩,ベンジルジメチルアミン塩,N,N
−ジメチルアニリン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが、
酸ハライドとしてはたとえば酸クロライド,酸ブロマイ
ドなどが、混合酸無水物としてはモノC1-4アルキル炭
酸混合酸無水物(たとえば遊離酸〔III〕とモノメチル炭
酸,モノエチル炭酸,モノイソプロピル炭酸,モノイソブ
チル炭酸,モノtert−ブチル炭酸,モノベンジル炭酸,モ
ノ(p−ニトロベンジル)炭酸,モノアリル炭酸などとの混
合酸無水物),C1-6脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たと
えば遊離酸〔III〕と酢酸,シアノ酢酸,プロピオン酸,酪
酸,イソ酪酸,吉草酸,イソ吉草酸,ピバル酸,トリフルオ
ロ酢酸,トリクロロ酢酸,アセト酢酸などとの混合酸無水
物),C7-11芳香族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊
離酸〔III〕と安息香酸,p−トルイル酸,p−クロロ安息
香酸などとの混合酸無水物),有機スルホン酸混合酸無水
物(たとえばメタンスルホン酸,エタンスルホン酸,ベン
ゼンスルホン酸,p−トルエンスルホン酸などとの混合酸
無水物)などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合
物とのアミド(たとえば遊離酸〔III〕とピラゾール,イ
ミダゾール,ベンゾトリアゾールなどとの酸アミドで、
これらの含窒素複素環化合物はC1-4アルキル,C1-6
ルコキシ,ハロゲン原子,オキソ,チオキソ,C1-6アルキ
ルチオなどで置換されていてもよい)などがあげられ
る。
【0020】活性エステルとしてはβ−ラクタムおよび
ペプチド合成の分野でこの目的に用いられるものはすべ
て利用でき、たとえば有機リン酸エステル(たとえばジ
エトキシリン酸エステル,ジフェノキシリン酸エステル
など)のほかp−ニトロフェニルエステル,2,4−ジニト
ロフェニルエステル,シアノメチルエステル,ペンタクロ
ロフェニルエステル,N−ヒドロキシサクシンイミドエ
ステル,N−ヒドロキシフタルイミドエステル,1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾールエステル,6−クロロ−1−
ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル,1−ヒドロキ
シ−1H−2−ピリドンエステルなどがあげられる。活
性チオエステルとしては芳香族複素環チオール化合物と
のエステル(たとえば2−ピリジルチオールエステル,2
−ベンゾチアゾリルチオールエステルなどで、これらの
複素環はC1-4アルキル,C1-6アルコキシ,ハロゲン原
子,C1-6アルキルチオなどで置換されていてもよい)が
あげられる。一方、7−アミノ化合物〔II〕は遊離のま
ま、その塩あるいはエステルとして用いられる。化合物
〔II〕の塩としては無機塩基塩,アンモニウム塩,有機塩
基塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩などがあげられる。無
機塩基塩としてはアルカリ金属塩(たとえばナトリウム
塩,カリウム塩など),アルカリ土類金属塩(たとえばカル
シウム塩など)などが、有機塩基塩としてはたとえばト
リメチルアミン塩,トリエチルアミン塩,tert−ブチルジ
メチルアミン塩,ジベンジルメチルアミン塩,ベンジルジ
メチルアミン塩,N,N−ジメチルアニリン塩,ピリジン
塩,キノリン塩などが、無機酸付加塩としてはたとえば
塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩,リン酸塩などが、
有機酸付加塩としてはギ酸塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸
塩,メタンスルホン酸塩,p−トルエンスルホン酸塩など
があげられる。化合物〔II〕のエステルとしては化合物
〔I〕のエステル誘導体としてすでに述べたエステルが
ここでもそのままあげられる。すなわちC1-4アルキル
エステル,C2-4アルケニルエステル,C3-6シクロアルキ
ルエステル,C3-6シクロアルキル−C1-4アルキルエス
テル,C6-10アリールエステル,C7-12アラルキルエステ
ル,C1-5アルカノイルオキシメチルエステル,C1-5アル
カノイルオキシエチルエステルおよびこれらがさらに水
酸基,C1-6アルコキシ基,ハロゲン原子,ニトロ基,シア
ノ基,メルカプト基,C1-6アルキルチオ基,オキソ基,チ
オキソ基などで置換されたものなどがあげられる。
【0021】原料物質〔II〕その塩およびエステル,原
料物質〔III〕およびその反応性誘導体はいずれも公知
の方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造でき
る。化合物〔III〕の反応性誘導体は反応混合物から単
離された物質として、または単離前の化合物〔III〕の
反応性誘導体を含有する反応混合物をそのまま化合物
〔II〕と反応させることができる。カルボン酸〔III〕
を遊離酸または塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤
を用いる。縮合剤としてはたとえばN,N′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドなどのN,N′−ジ置換カルボ
ジイミド類,たとえばN,N′−カルボニルジイミダゾー
ルなどのアゾライド類,たとえばN−エトキシカルボニ
ル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン,オキシ塩
化リン,アルコキシアセチレンなどの脱水剤,たとえば2
−クロロピリジニウムメチルアイオダイド,2−フルオ
ロピリジニウムメチルアイオダイドなどの2−ハロゲノ
ピリジニウム塩類などが用いられる。これらの縮合剤を
用いた場合、反応はカルボン酸〔III〕の反応性誘導体
を経て進行すると考えられる。
【0022】反応は一般に溶媒中で行われ、反応を阻害
しない溶媒が適宜に選択される。このような溶媒として
はたとえばジオキサン,テトラヒドロフラン,ジエチルエ
ーテル,tert−ブチルメチルエーテル,ジイソプロピルエ
ーテル,エチレングリコールジメチルエーテルなどのエ
ーテル類,たとえばギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸ブチル
などのエステル類,たとえばジクロロメタン,クロロホル
ム,四塩化炭素,トリクレン,1,2−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼ
ン,トルエンなどの炭化水素類,たとえばホルムアミド,
N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類,たとえばアセトン,メチルエチル
ケトン,メチルイソブチルケトンなどのケトン類,たとえ
ばアセトニトリル,プロピオニトリルなどのニトリル類
などのほか、ジメチルスルホキシド,スルホラン,ヘキサ
メチルホスホルアミド,水などが単独または混合溶媒と
して用いられる。アシル化剤〔III〕の使用量は化合物
〔II〕1モルに対して通常1〜5モル,好ましくは1〜
2モルである。反応は−80〜80℃,好ましくは−4
0〜50℃,最も好ましくは−30〜30℃の温度範囲
で行われる。反応時間は化合物〔II〕および〔III〕の
種類,溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合比も),反応
温度などに依存し、通常1分〜72時間,好ましくは1
5分〜3時間である。アシル化剤として酸ハライドを用
いた場合は放出されるハロゲン化水素を反応系から除去
する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うことができる。
このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナトリウム,炭
酸カリウム,炭酸カルシウム,炭酸水素ナトリウムなどの
無機塩基,たとえばトリエチルアミン,トリプロピルアミ
ン,トリブチルアミン,シクロヘキシルジメチルアミン,
ピリジン,ルチジン,γ−コリジン,N,N−ジメチルアニ
リン,N−メチルピペジリン,N−メチルピロリジン,N
−メチルモルホリンなどの第3級アミン,たとえばプロ
ピレンオキシド,エピクロルヒドリンなどのアルキレン
オキシド類などがあげられる。
【0023】製造法(2):
【化18】 本法はセフェム化合物〔IV〕に対してチオール化合物A
SHを反応させ、求核置換反応によりセフェム化合物
〔I〕を合成する方法である。化合物〔IV〕においてR
11は水酸基,アシルオキシ基,カルバモイルオキシ基,置
換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子を示す。こ
こでアシルオキシ基は置換されていてもよいC2-5アル
カノイルオキシ基,またはC6-10アリール−アシルオキ
シ基を表わし、置換されていてもよいC2-5アルカノイ
ルオキシ基としては具体的にはアセトキシ,クロロアセ
トキシ,プロピオニルオキシ,ブチリルオキシ,ピバロイ
ルオキシ,3−オキソブチリルオキシ,4−クロロ−3−
オキソブチリルオキシ,3−カルボキシプロピオニルオ
キシ,4−カルボキシブチリルオキシ,3−エトキシカル
バモイルプロピオニルオキシなどが、置換されていても
よいC6-10アリール−アシルオキシ基としては具体的に
はo−カルボキシベンゾイルオキシ,o−(エトキシカルボ
ニルカルバモイル)ベンゾイルオキシ,o−(エトキシカル
ボニルスルファモイル)ベンゾイルオキシなどがあげら
れる。置換カルバモイルオキシ基としては具体的にはメ
チルカルバモイルオキシ,N,N−ジメチルカルバモイル
オキシなどがあげられる。ハロゲン原子としては塩素,
臭素,ヨウ素などがあげられる。化合物〔IV〕は遊離の
まま、その塩あるいはエステルとして用いられる。化合
物〔IV〕の塩,エステルとしては製造法(1)において化合
物〔II〕の塩,エステルとしてあげたものがここでもそ
のままあてはめられる。 化合物〔IV〕、 その塩およびエ
ステルならびにチオール化合物ASHまたはその塩はそ
れ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によって容易
に製造できる。チオール化合物ASHは塩としても用い
られる。チオール化合物ASHの塩としてはたとえばア
ルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩,カリウム塩など),
アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)などが
あげられる。
【0024】チオール化合物ASHまたはその塩による
化合物〔IV〕への本求核置換反応はそれ自体よく知られ
た反応であって、通常溶媒中で行なわれる。この反応に
用いられる溶媒としては製造法(1)で使用されるエーテ
ル類,エステル類,ハロゲン化炭化水素類,炭化水素類,ア
ミド類,ケトン類,ニトリル類,水などの溶媒がそのまま
あてはめられるが、 これらのほかにたとえばメタノー
ル,エタノール,プロパノール,イソプロパノール,エチレ
ングリコール,2−メトキシエタノールなどのアルコー
ル類も用いられる。 (2−1):R11がアシルオキシ基,カルバモイルオキシ
基,置換カルバモイルオキシ基の場合 より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒
と水との混合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、
より好ましいものはアセトン,メチルエチルケトン,アセ
トニトリルなどである。チオール化合物ASHまたはそ
の塩の使用量は化合物〔IV〕1モルに対して通常1〜5
モル,好ましくは1〜3モルである。反応は10〜10
0℃,好ましくは30〜80℃の温度範囲で行なわれ
る。反応時間は化合物〔IV〕および化合物ASHの種
類,溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合比),反応温度
などに依存し、通常10分〜5日間,好ましくは15分
〜5時間である。反応はpH 2〜8,好ましくは中性付近
すなわちpH 5〜8で行なうのが有利である。
【0025】(2−2):R11が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに記載さ
れた方法と同様にして有機リン化合物の存在下に行う。
ここで用いられる有機リン化合物としてはたとえばo−
フェニレンホスホロクロリデエイト,o−フェニレンホス
ホロフロリデエイト,メチルo−フェニレンホスフェイ
ト,エチルo−フェニレンホスフェイト,プロピル o−フ
ェニレンホスフェイト,イソプロピル o−フェニレンホ
スフェイト,ブチル o−フェニレンホスフェイト,イソ
ブチル o−フェニレンホスフェイト,scc−ブチル o−
フェニレンホスフェイト,シクロヘキシル o−フェニレ
ンホスフェイト,フェニル o−フェニレンホスフェイ
ト,p−クロロフェニル o−フェニレンホスフェイト,p
−アセチルフェニル o−フェニレンホスフェイト,2−
クロロエチル o−フェニレンホスフェイト,2,2,2−
トリクロロエチル o−フェニレンホスフェイト,エトキ
シカルボニルメチル o−フェニレンホスフェイト,カル
バモイルメチル o−フェニレンホスフェイト,2−シア
ノエチル o−フェニレンホスフェイト,2−メチルスル
ホニルエチル o−フェニレンホスフェイト,ベンジル
o−フェニレンホスフェイト,1,1−ジメチル−2−プ
ロペニルo−フェニレンホスフェイト,2−プロペニル
o−フェニレンホスフェイト,3−メチル−2−ブテニル
o−フェニレンホスフェイト,2−チエニルメチル o
−フェニレンホスフェイト,2−フルフリルメチル o−
フェニレンホスフェイト,ビス−o−フェニレンピロホス
フェイト,2−フェニル−1,3,2−ベンゾジオキサホ
スホール−2−オキシド,2−(p−クロロフェニル)−
1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキシド,
2−ブチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−2
−オキシド,2−アニリノ−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホスホール−2−オキシド,2−フェニルチオ−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキシド,2−メ
トキシ−5−メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
ール−2−オキシド,2−クロロ−5−エトキシカルボ
ニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキ
シド,2−メトキシ−5−エトキシカルボニル−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキシド,5−エ
トキシカルボニル−2−フェニル−1,3,2−ベンゾジ
オキサホスホール−2−オキシド,2,5−ジクロロ−
1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキシド,
4−クロロ−2−メトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホスホール−2−オキシド,2−メトキシ−4−メチル
−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール−2−オキシ
ド,2,3−ナフタレンメチルホスフェイト,5,6−ジメ
チル−2−メトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
ール−2−オキシド,2,2−ジヒドロ−4,5,6,7−
テトラクロロ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−4,5,6,
7−テトラクロロ−2,2,2−トリフェノキシ−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,
2−エチレンジオキシ−2−メトキシ−1,3,2−ベン
ゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2−ベンジル
−2,2−ジメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホール,2,2−ジヒドロ−4,5−ベンゾ−2,2,2−
トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール,
2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリフェノキシ−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,
2−(o−フェニレンジオキシ)−2−フェノキシ−1,
3,2−ベンゾジオキサホスホール,2−クロロ−2,2
−ジヒドロ−2,2−(o−フェニレンジオキシ)−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2−
メトキシ−2,2−(o−フェニレンジオキシ)−1,3,2
−ベンゾジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,2,
2−トリクロロ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホー
ル,9,10−フェナンスレンジオキシトリメトキシホス
ホラス,o−フェニレンホスホロクロリダイド,o−フェニ
レンホスホロブロミダイド,o−フェニレンホスホロフロ
リダイド,メチル o−フェニレンホスファイト,ブチル
o−フェニレンホスファイト,メトキシカルボニルメチ
ル o−フェニレンホスファイト,フェニル o−フェニ
レンホスファイト,p−クロロ(またはp−ニトロ)フェニ
ル o−フェニレンホスファイト,2−フェニル−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホール,ビス−o−フェニレンピ
ロホスファイト,2−メトキシ−5−メチル−1,3,2
−ベンゾジオキサホスホール,5−アセチル−2−フェ
ノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール,9,10
−フェナンスレンホスホロクロリダイト,2−クロロ−
4−メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール,5
−エトキシカルボニル−2−フェニル−1,3,2−ベン
ゾジオキサホスホール,2−クロロ−2−チオキソ−1,
3,2−ベンゾジオキサホスホール,2−フェノキシ−2
−オキソ−1,3,2−ベンゾジアザホスホール,2−フ
ェノキシ−1,3,2−ベンゾオキサアザホスホール,2,
3−ジヒドロ−2−オキソ−2−メトキシ−4,5−ジ
メチル−1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−2−クロロ−4,5−ジメチル−1,
3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2−オ
キソ−2−(1−イミダゾリル)−4,5−ジメチル−1,
3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,2−
エチレンジオキシ−2−メトキシ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,
2−ジメトキシ−2−フェノキシ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,
2,2−トリメトキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジ
オキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリフ
ェノキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサホス
ホール,2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリエトキシ−
4,5−ジフェニル−1,3,2−ジオキサホスホール,
2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4,5−ジ
フェニル−1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−2−メトキシ−4,5−ジフェニル
−1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−
2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−ジオキサホスホー
ル,2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4−フ
ェニル−1,3,2−ジオキサホスホール,2,2−ジヒド
ロ−2,2,2−トリメトキシ−4−メチル−1,3,2−
ジオキサホスホール,2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリ
メトキシ−4−メチル−5−フェニルカルバモイル−
1,3,2−ジオキサホスホール,2,2,4,5,6,7−ヘ
キサヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−ベン
ゾジオキサホスホール,2,2′−オキシビス(4,5−ジ
メチル−2,2−ジヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホ
ール),2,2′−オキシビス(4,5−ジメチル−2,2−
ジヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホール−2−オキシ
ド)などがあげられる。
【0026】反応に用いる溶媒は反応を阻害しないもの
であればよく、好ましくは前記したエーテル類,エステ
ル類,ハロゲン化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケト
ン類,ニトリル類などが単独または混合溶媒として用い
られる。とりわけ、たとえばジクロロメタン,アセトニ
トリル,ホルムアミド,ホルムアミドとアセトニトリルの
混合溶媒,ジクロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒
などを使用すると好効果が得られる。チオール化合物A
SHまたはその塩,および有機リン化合物の使用量は化
合物〔IV〕1モルに対してそれぞれ1〜5モル,1〜1
0モル,より好ましくはそれぞれ1〜3モル,1〜6モル
である。反応は−80〜50℃,好ましくは−40〜4
0℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は通常30分〜
40時間,好ましくは1時間〜20時間である。反応系
に有機塩基を添加してもよい。このような有機塩基とし
てはたとえばトリエチルアミン,トリブチルアミン,ジブ
チルアミン,ジイソブチルアミン,ジシクロヘキシルアミ
ン,2,6−ルチジンなどのアミン類があげられる。塩基
の添加量は化合物〔IV〕1モルに対して1〜5モルがよ
い。
【0027】(2−3):R11がハロゲン原子の場合 好ましい溶媒は前記のエーテル類,エステル類,ハロゲン
化炭化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリル
類,アルコール類,水などである。チオール化合物ASH
またはその塩の使用量は化合物〔IV〕1モルに対して通
常1〜5モル,好ましくは1〜3モルである。反応は0
〜80℃,好ましくは20〜60℃の温度範囲で行なわ
れる。反応時間は通常30分〜15時間,好ましくは1
〜5時間である。反応を促進するため脱ハロゲン剤の存
在下に反応を行うこともできる。このような脱ハロゲン
剤としては製造法(1)の項で述べた無機塩基,第3級アミ
ン,アルキレンオキシド類などの脱酸剤がここでもあげ
られる。R11で示されるハロゲン原子は塩素,臭素,ヨウ
素などであるが、好ましくはヨウ素である。R11がヨウ
素である化合物〔IV〕はたとえば日本国公開特許公報昭
58−57390に記載の方法またはそれに準じる方法などを
用いて容易に製造できる。
【0028】製造法(3):
【化19】 本法はヒドロキシイミノ化合物〔V〕に対して一般式
3′OHで示される化合物またはその反応性誘導体を
反応させて化合物〔I〕を合成する方法であり、よく知
られたエーテル化反応である。R3′は置換されていて
もよい炭化水素基を示し、 このような炭化水素基として
はR3における置換されていてもよい炭化水素基として
すでにあげたものがここでもそのままあてはめられる。
3′OHはそのままあるいはその反応性誘導体として
用いられる。R3′OHの反応性誘導体は化合物〔V〕の
水素原子とともに離脱する基を有するR3′OHの誘導
体、すなわち一般式R3′Yで表わされる化合物を意味
する。ここで水素原子とともに離脱する基Yはハロゲン
原子,スルホ基,モノ置換スルホニルオキシ基などを示
す。ハロゲン原子としては塩素,臭素,ヨウ素などがあげ
られる。モノ置換スルホニルオキシ基としてはたとえば
メタンスルホニルオキシ,エタンスルホニルオキシ,ベン
ゼンスルホニルオキシ,p−トルエンスルホニルオキシな
どのC1-4アルキルスルホニルオキシ基,C6-10アリール
スルホニルオキシ基などがあげられる。 また特に化合物
〔V〕のC1-4アルキルエーテル体を製造する場合には上
記の反応性誘導体のほか、 たとえばジアゾメタン,ジア
ゾエタンなどのC1-4ジアゾアルカン,たとえばジメチル
硫酸,ジエチル硫酸などのジC1-4アルキル硫酸なども用
いられる。
【0029】(3−1):R3′OHを使用する場合 適当な脱水剤を用いて化合物〔V〕と反応させ化合物
〔I〕を合成する。このような目的に使用される脱水剤
としてはたとえばオキシ塩化リン,塩化チオニル,アゾジ
カルボン酸ジアルキル(通常、ホスフィンとの共存で使
用される),N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド
などがあげられ、好ましくはトリフェニルホスフィン共
存下のアゾジカルボン酸ジエチルである。トリフェニル
ホスフィン共存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる
反応は通常、無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル
類,炭化水素類などが使用される。化合物〔V〕1モルに
対してR3′OH,アゾジカルボン酸ジエチル,トリフェ
ニルホスフィンはいずれも1〜1.5モル用いられる。
0〜50℃の温度範囲で1時間〜4日間を要する。 (3−2):R3′Yを使用する場合 R3′Yと化合物〔V〕との反応は通常のエーテル化反応
であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製造法
(1)の項であげたエーテル類,エステル類,ハロゲン化炭
化水素類,炭化水素類,アミド類,ケトン類,ニトリル類,
アルコール類,水などの溶媒もしくは混合溶媒がここで
もあげられ、 好ましくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒(たとえば含水メタノール,含水エタノール,含水
アセトン,含水ジメチルスルホキシドなど)である。 本反
応は適当な塩基の存在下に円滑に進行させることもでき
る。 このような塩基としてはたとえば炭酸ナトリウム,
炭酸水素ナトリウム,炭酸カリウムなどのアルカリ金属
塩,たとえば水酸化ナトリウム,水酸化カリウムなどのア
ルカリ金属水酸化物などの無機塩基があげられる。 また
本反応をpH 7.5〜8.5の緩衝溶液中で行なってもよい。
原料化合物〔V〕1モルに対して使用する試薬R3′Yお
よび塩基のモル数はそれぞれ1〜5,1〜10,好ましく
はそれぞれ1〜3,1〜5である。反応温度は−30〜
100℃,好ましくは0〜80℃の範囲である。反応時
間は10分〜15時間,好ましくは30分〜5時間であ
る。
【0030】(3−3):C1-4ジアゾアルカンを使用する
場合 反応は通常溶媒中で行なわれる。溶媒としては前記のエ
ーテル類,炭化水素類などが用いられる。化合物〔V〕を
溶媒に溶解したのち、ジアゾアルカン化合物の溶液を加
えると反応は進行する。試薬は化合物〔V〕1モルに対
して1〜10モル,好ましくは1〜5モル使用する。反
応は−50〜80℃,好ましくは−30〜30℃の温度
範囲で行われる。反応時間は1分〜5時間,好ましくは
10分〜1時間である。 (3−4):ジC1-4アルキル硫酸を使用する場合 反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては(3−2)項で
あげた含水溶媒がここでもあげられる。この反応はたと
えば水酸化ナトリウム,水酸化カリウムなどのアルカリ
金属水酸化物の存在下に行なわれる。試薬は化合物
〔V〕1モルに対して0.5〜10モル,好ましくは1〜2
モル使用する。反応温度は20〜100℃,好ましくは50
〜100℃の範囲である。 反応時間は10分〜5時間,好ま
しくは30分〜3時間である。
【0031】製造法(4):
【化20】 本法はセフェム化合物〔VI〕と一般式R1C(=S)NH2
で表わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反応さ
せて目的化合物〔I〕(Q=C−R2)を合成する方法であ
る。化合物〔VI〕は遊離のまま、塩あるいはエステルと
して用いられる。化合物〔VI〕におけるXはハロゲン原
子またはR6SO2Oで表わされる基を示す。ここでハロ
ゲン原子はたとえば塩素,臭素,ヨウ素などを表わす。ま
たR6は低級アルキル基または置換されていてもよいフ
ェニル基を表わす。低級アルキル基としてはたとえばメ
チル,エチル,プロピルなどのC1-4アルキル基があげら
れる。置換されたフェニル基としてはたとえばp−メチ
ルフェニル,p−メトキシフェニル,p−クロロフェニル,p
−ニトロフェニルなどがあげられる。〔VI〕の塩として
は製造法(1)の項であげた化合物〔II〕の塩(無機塩基
塩,アンモニウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機酸付
加塩など)がここでもあてはめられる。 〔VI〕のエステ
ルとしては同じく製造法(1)の項であげた化合物〔II〕
のエステル(C1-4アルキルエステル,C2-4アルケニルエ
ステル,C3-6シクロアルキルエステル,C3-6シクロアル
キル−C1-4アルキルエステル,C6-10アリールエステ
ル,C7-12アラルキルエステル,C1-5アルカノイルオキ
シメチルエステル,C1-5アルカノイルオキシエチルエス
テルおよびこれらにさらに置換されたもの)がここでも
あてはめられる。原料化合物〔VI〕は一般式
【化21】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその反応性誘導体と前記の7−アミノ化合物
〔II〕またはその塩あるいはエステルとを、製造法(1)
で述べた方法と同様の方法を用いて製造することができ
る。一般式
【化22】 で表わされる化合物またはその反応性誘導体はそれ自体
公知の方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造
できる。化合物〔VI〕とR1C(=S)NH2との反応は通
常溶媒中で行なわれる。溶媒としてはたとえばジオキサ
ン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテルなどのエーテ
ル類,たとえばメタノール,エタノール,プロパノールな
どのアルコール類,ジメチルホルムアミド,ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類,などが用いられる。チオ尿素
またはその誘導体R1C(=S)NH2の使用量は化合物
〔VI〕に対して通常1〜5モル,好ましくは1〜3モル
である。反応は0〜100℃,好ましくは20〜60℃の温
度範囲で行なわれる。反応時間は通常30分〜15時
間,好ましくは1〜5時間である。上記した製造法(1)〜
(4)において化合物〔I〕がシン〔Z〕−,アンチ〔E〕
−異性体の混合物として得られる場合がある。混合物か
ら所望のシン異性体を分離するには自体公知の方法また
はそれに準ずる方法が適用される。それらの方法として
はたとえば溶解性,結晶性などの差を利用した分別法,ク
ロマトグラフィーによる分離,エステル誘導体の加水分
解速度の差を利用した分離法などがあげられる。
【0032】保護基除去法:前記した通りβ−ラクタム
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法はすでに確立されている。
また、アミノ保護基の除去法も同様に確立されており、
本発明においても保護基の除去は従来の技術をそのまま
利用できる。たとえばモノハロゲノアセチル基(クロロ
アセチル,ブロモアセチルなど)はチオ尿素により、アル
コキシカルボニル基(メトキシカルボニル,エトキシカル
ボニル,tert−ブトキシカルボニルなど)は酸(たとえば
塩酸など)により、アラルキルオキシカルボニル基(ベン
ジルオキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカルボ
ニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなど)は接触
還元により、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
は亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により除去することがで
きる。一方、合成中間体として化合物〔I〕がエステル
化されている場合もそれ自体公知の方法またはそれに準
ずる方法によってエステル残基を除去することができ
る。たとえば2−メチルスルホニルエチルエステルはア
ルカリにより、アラルキルエステル(ベンジルエステル,
p−メトキシベンジルエステル,p−ニトロベンジルエス
テルなど)は酸(たとえばトリフルオロ酢酸など)または
接触還元により、2,2,2−トリクロロエチルエステル
は亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により、シリルエステル
(トリメチルシリルエステル,tert−ブチルジメチルシリ
ルエステルなど)は水のみにより除去することができ
る。
【0033】化合物〔I〕の精製法:(1)〜(4)に詳記した
各種製造法により、 また要すれば上記の保護基除去法を
つづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合物
〔I〕は抽出法,カラムクロマトグラフィー,沈澱法,再結
晶法などの公知の処理手段によって単離精製することが
できる。 一方、 単離された化合物〔I〕を公知の方法に
より所望の薬学的に受容される塩または代謝上不安定な
無毒のエステルへと変換することもできる。セフェム化
合物〔I〕のスルホキシドは化合物〔I〕の酸化反応によ
り得られる。このような酸化反応はよく知られた反応で
ある。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化剤と
してはたとえば酸素,過酸,ヒドロパーオキシド,過酸化
水素などがあげられ、過酸はその場で酸と過酸化物の混
和によって製造することもできる。過酸としては過酢
酸,過安息香酸,p−クロル過安息香酸などが繁用され
る。反応は通常、溶媒中で行なわれる。この反応に用い
られる溶媒としてはたとえばジオキサン,テトラヒドロ
フランなどのエーテル類,たとえばジクロロメタン,クロ
ロホルム,クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類,
たとえばギ酸,酢酸,トリフルオロ酢酸などの有機酸類,
たとえばジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド
などのアミド類などがあげられる。反応温度は−20〜
80℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い温度,好ま
しくは−20〜20℃で行なわれる。式〔I〕の化合物
の酸化に際してはS−立体配位をもつスルホキシドが主
に生成することが一般に知られている。R−およびS−
スルホキシドはそれらの異なる溶解性およびクロマトグ
ラフィー分離に際しての異なる移動速度によって分離さ
れる。スルホキシドを得るための上記の酸化反応は前記
(1)〜(4)の反応の前に行なってもよいし、 また(1)〜(4)
の反応の後に行なってもよい。
【0034】
【作用】本発明の化合物〔I〕は公知のペニシリン剤,セ
ファロスポリン剤と同様に注射剤,カプセル剤,錠剤,顆
粒剤として非経口または経口的に投与できる。投与量は
前記したような病原性細菌に感染した人および動物の体
重1kgあたり0.5〜80mg/日,より好ましくは1〜20
mg/日を1日2〜4回に分割して投与すればよい。注射
剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水,生
理食塩水などが用いられ、カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠
剤として用いられる場合は、公知の薬学的に許容される
賦形剤(たとえばデンプン,乳糖,白糖,炭酸カルシウム,
リン酸カルシウムなど),結合剤(たとえばデンプン,アラ
ビアゴム,カルボキシメチルセルロース,ヒドロキシプロ
ピルセルロース,結晶セルロースなど),滑沢剤(たとえば
ステアリン酸マグネシウム,タルクなど),崩壊剤(たとえ
ばカルボキシメチルカルシウム,タルクなど)と混合して
用いられる。化合物〔I〕またはその塩・エステルを含
む医薬組成物は公知の方法により製造することができ
る。該組成物は通常化合物〔I〕またはその薬学的に受
容される塩もしくはエステルの少くとも1種以上と上記
の担体,賦形剤などとを混合することにより製造され
る。組成物全体に対する化合物〔I〕の配合割合は通常
5〜100重量%,好ましくはカプセル剤,錠剤,顆粒剤など
の固形製剤においては20〜100重量%,注射剤などの液
状製剤においては、 5〜30重量%である。化合物
〔I〕またはその塩・エステルはたとえば注射剤として
投与することによりエシェリヒア・コリ菌に起因する尿
路感染の治療に用いられる。この場合の投与量は人およ
び動物の体重1kgあたり0.5〜80mg/日,より好ましく
は1〜20mg/日で、1日2〜4回に分割して投与す
る。該注射剤はたとえば化合物〔I〕またはその塩,エス
テルを生理食塩水に溶解もしくは懸濁することにより容
易に製造することができる。
【0035】
【実施例】本発明はさらに下記の参考例,実施例で詳し
く説明されるが、これらの例は単なる実例であって本発
明を限定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。参考例,実施例のカラム
クロマトグラフィーにおける溶出はTLC(Thin LayerC
hromatography,薄層クロマトグラフィー)による観察下
に行なわれた。 TLC観察においては、TLCプレート
としてメルク(Merck)社製のキーゼルゲル60F254を、
展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶媒
として用いられた溶媒を、検出法としてはUV検出器を
採用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキ
ーゼルゲル60(230〜400メッシュ)を用いた。″
セファデックス″はファルマシア・ファイン・ケミカル
ズ社(Pharmacia Fine Chemicals)製である。 ハイポラス
ポリマーは三菱化成社製 ダイアイオンCHP−20P
を用いた。NMRスペクトルは内部または外部基準とし
てテトラメチルシランを用いてVarian EM−390
(200MHz)型スペクトロメーターで測定し、全δ
値をppmで示した。混合溶媒において( )内に示した数
値は各溶媒の容量混合比である。また溶液における%は
溶液100ml中のg数を表わす。 また参考例,実施例中の記
号は次のような意味である。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ABq:AB型クワルテット(AB type quartet) d.d :ダブル ダブレット(double doublet) m :マチルプレット(multiplet) br. :ブロード(broad) J :カップリング定数(coupling constant) Hz :ヘルツ(Herz) mg :ミリグラム(milligram) g :グラム(gram) ml :ミリリーター(milliliter) l :リーター(liter) % :パーセント(percent) DMSO:ジメチルスルホキシド(dimethylsulfoxide) D2O:重水 CDCl3:重クロロホルム 室温:25℃
【0036】試験例1 試験化合物最小阻止濃度(MIC:minimal inhibitory
cpncentration)は寒天希釈法(agar dilution metho
d)により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液1.0mlをシャーレ(petri dish)に注ぎ、
次にトリプティカーゼ ソイ アガー(Trypticase soy
agar)9.0mlを注いで混ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液(約106CFU/ml)を塗抹
した。37℃で一夜培養(incubation)した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度をMIC
とした。 試験菌 (1)スタフィロコッカス アウレウス 308 A-1 (Staphylococcus aureus 308 A-1) (2)エシェリヒア コリ NIHJ JC-2 (Escherichia coli NIHJ JC-2) (3)ヘモフィルス インフルエンザ NN-400 (Haemophilus influenzae NN-400) 結果
【表1】 以上の結果から、本発明のセフェム化合物〔I〕または
その塩もしくはエステルは臨床上重要視されている病原
性細菌の代表的な菌株に対してバランス良く優れた抗菌
作用を示すことが明らかである。
【0037】参考例1 イミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール
−2−チオール 1) ブロモアセトアルデヒドジメチルアセタール(2
5ml),48%臭化水素酸(15ml),H2O(15m
l)の混合物を100℃で2時間加熱した。冷後ジメト
キシエタン(100ml)を加え、炭酸水素ナトリウムで
中和した。不溶物をろ去しろ液に2−アミノ−5−メチ
ルチオ−1,3,4−チアジアゾール(12.5g),
ジメトキシエタン(200ml)を加え、4時間加熱還流
した。溶媒を留去し炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液は食塩飽和水溶液で
洗浄後乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去し、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン
−酢酸エチル(2:1)で溶出。該当分画を濃縮して2
−メチルチオイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チ
アジアゾールを結晶として得た(3.2g,22.0
%)。イソプロピルエーテルから再結晶して白色結晶を
得た。mp. 87−88℃。 NMR(CDCl3):2.74(3H,s), 7.26(1H,d,J=1.4Hz),
7.68(1H,d,J=1.4Hz). 元素分析値:C5532として 計算値(%):C,35.07; H,2.94; N,24.54 実測値(%):C,35.02; H,3.03; N,24.72 2) 2−メチルチオイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール(1.37g)の酢酸(24m
l)溶液に濃硫酸(1.6ml)を加えた。ついで30%
過酸化水素水(6.0ml)を氷冷下に加え、室温で16
時間かき混ぜた。反応液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液でpH3に調整後ジクロロメタンで抽出した。抽出液
はチオ硫酸ナトリウム水溶液,炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液,食塩飽和水溶液で順次洗浄後乾燥(MgSO4
した。溶媒を留去し、2−メチルスルホニルイミダゾ
〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾールを結晶と
して得た(1.34g,83%)。メタノールから再結
晶して無色結晶を得た。mp.133−137℃。 NMR(CDCl3):3.42(3H,s), 7.50(1H,s), 7.89(1H,
s). 元素分析値:C55322として 計算値(%):C,29.55; H,2.48; N,20.67 実測値(%):C,29.52; H,2.46: N,20.40 3) 3−メルカプトプロピオン酸メチル(1.1ml)
のメタノール(40ml)溶液に28%ナトリウムメチラ
ート(メタノール溶液3.1ml)を加え、ついで2−メ
チルスルホニルイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕
チアジアゾール(1.0g)を加え、室温で30分間か
き混ぜた。反応液を2NHClでpH4に調整後溶媒を
留去標題化合物を結晶として得た。ろ取しH2O,つい
でイソプロピルエーテルで洗浄(0.71g,91
%)。メタノールから再結晶して白色結晶を得た。m
p.260℃(分解)。 NMR(DMSO-d6):7.68(1H,d,J=2.2Hz), 8.01(1H,d,J
=2.2Hz). 元素分析値:C4332として 計算値(%):C,30.56; H,1.92; N,26.73 実測値(%):C,30.76; H,1.90: N,26.86
【0038】参考例2 6−メチルイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チア
ジアゾール−2−チオール 1) 2−アミノ−5−メチルチオ−1,3,4−チア
ジアゾール(1.73g),ブロモアセトン(1.01
ml),エタノール(25ml)の混合物を5時間加熱還流
した。溶媒を留去し、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を
加え6−メチル−2−メチルチオイミダゾ〔2,1−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾールを結晶として得た。
ろ取しH2Oで洗浄(1.20g,55%)。イソプロ
ピルエーテルから再結晶して白色結晶を得た。mp.7
2−73℃。 NMR(CDCl3):2.34(3H,d,J=1.0Hz), 2.72(3H,s),
7.41(1H,d,J=1.0Hz). 元素分析値:C6732として 計算値(%):C,38.90; H,3.81; N,22.68 実測値(%):C,39.08; H,3.74: N,22.70 2) 参考例1−2)と同様にして6−メチル−2−メ
チルチオイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジ
アゾールから6−メチル−2−メチルスルホニルイミダ
ゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾールを得
た。収率69%,mp.165−166℃(酢酸エチ
ル)。 NMR(CDCl3):2.42(3H,s), 3.39(3H,s), 7.62(1H,
s). 元素分析値:C67322として 計算値(%):C,33.17; H,3.25; N,19.34 実測値(%):C,33.02; H,3.42: N,19.13 3) 参考例1−3)と同様にして6−メチル−2−メ
チルスルホニルイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕
チアジアゾールから6−メチルイミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−2−チオールを得た。
収率87%,mp.255℃(分解,メタノール)。 NMR(DMSO-d6):2.31(3H,s), 7.7
6(1H,s). 元素分析値:C532として 計算値(%):C,35.07; H,2.94; N,24.54 実測値(%):C,35.38; H,3.20: N,24.54
【0039】参考例3 エチル 2−メルカプトイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−カルボキシレート 1) 5−アミノ−2−メチルチオ−1,3,4−チア
ジアゾール(14.7g),ブロモピルビン酸エチル
(25ml),エタノール(250ml)の混合物を40時
間加熱還流した。溶媒を留去し残留物に炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液
は食塩飽和水溶液で洗浄後乾燥(MgSO4)した。溶媒
を留去し残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、ジクロルメタン−メタノール(100:1)で
溶出した。該当分画を濃縮してエチル2−メチルチオイ
ミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−
6−カルボキシレートを結晶として得た。イソプロピル
エーテルから再結晶して白色結晶を得た(5.3g,2
2%)。mp.130℃。 NMR(CDCl3):1.42(3H,t,J=7.2Hz), 2.77(3H,s),
4.41(2H,q,J=7.2Hz), 8.25(1H,s). 元素分析値:C89322として 計算値(%):C,39.49; H,3.73; N,17.27 実測値(%):C,39.38; H,3.74: N,17.32
【0040】2) 参考例1−2)と同様にしてエチル
2−メチルチオイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,
4〕チアジアゾール−6−カルボキシレートからエチル
2−メチルスルホニルイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−カルボキシレートを白色
結晶として得た。収率82%,mp.130℃(メタノ
ール)。 NMR(CDCl3):1.44(3H,t,J=7.1H
z), 3.45(3H,s), 4.45(2H,
q,J=7.1Hz), 8.46(1H,s). 元素分析値:C9342として 計算値(%):C,34.90; H,3.30; N,15.26 実測値(%):C,34.70; H,3.00: N,15.35 3) エチル 2−メチルスルホニルイミダゾ〔2,1
−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−カルボキシ
レート(1.44g),水硫化ナトリウム(70%,
0.72g),テトラメチルアンモニウムクロリド
(1.0g),エタノール(35ml),テトラヒドロフ
ラン(35ml)の混合物を8時間加熱還流した後、水硫
化ナトリウム(70%,0.12g)を追加し、さらに
15時間加熱還流した。反応液を1NHClでpH3に
調整後溶媒を留去し、標題化合物を結晶として得た。ろ
取しH2O,エタノール,イソプロピルエーテルで順次
洗浄した(1.07g,89%)。メタノールから再結
晶して白色結晶を得た。mp.240℃(分解)。 NMR(DMSO-d6):1.30(3H,t,J=7.0Hz), 4.30(2H,q,J
=7.0Hz), 8.47(1H,s). 元素分析値:C77322として 計算値(%):C,36.67; H,3.08; N,18.33 実測値(%):C,36.71; H,2.95: N,18.55
【0041】参考例4 アンモニウム 6−カルバモイルイミダゾ〔2,1−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−チオラート エチル 2−メルカプトイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−カルボキシレート(30
0mg),25%アンモニア水(8ml)の混合物を封管中
60℃で1時間加熱した。溶媒を留去して標題化合物を
結晶として得た。ろ取しエタノールついでエーテルで洗
浄した(220mg,78%)。メタノールから再結晶し
て白色結晶を得た。mp.275℃(分解)。 NMR(DMSO-d6):7.09(5H,br), 7.30(1H,brs), 7.87
(1H,s). 元素分析値:C544OS2・NH3として 計算値(%):C,27.64; H,3.25; N,32.23 実測値(%):C,27.70; H,3.26: N,31.9
【0042】参考例5 2−メルカプトイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕
チアジアゾール−6−アセトアミド 1) 5−アミノ−2−メチルチオ−1,3,4−チア
ジアゾール(10.3g),4−ブロモアセト酢酸メチ
ル(19.5g),メタノール(100ml),ジメト
キシエタン(100ml)の混合物を37時間加熱還流し
た。溶媒を留去し炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液は食塩飽和水溶液で
洗浄後乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去し残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル
−ヘキサン(1:1)で溶出した。該当分画を濃縮して
メチル 2−メチルチオイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−アセテートを結晶として
得た。ついでイソプロピルエーテルから再結晶し、褐色
結晶を得た(6.6g,39%)。mp.85−88
℃。 NMR(CDCl3):2.73(3H,s), 3.74(5H,s), 7.64(1H,
s). 元素分析値:C89322として 計算値(%):C,39.49; H,3.73; N,17.27 実測値(%):C,39.55; H,3.96: N,17.26 2) メチル 2−メチルチオイミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−6−アセテート(4.
0g)のジクロルメタン(50ml)溶液にm−クロロ過
安息香酸(4.18g)を氷冷下に加えた。氷冷下に1
時間かき混ぜ不溶物をろ去し、ろ液をチオ硫酸ナトリウ
ム水溶液、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、食塩飽和水
溶液で順次洗浄後乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去
し、メチル2−メチルスルフィニルイミダゾ〔2,1−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−アセテートを
結晶として得た(3.97g,93%)。酢酸エチル−
イソプロピルエーテルから再結晶し白色結晶を得た。m
p.116−118℃。 NMR(CDCl3):3.10(3H,s), 3.76(3H,s), 3.80(2H,
s), 7.79(1H,s). 元素分析値:C89332として 計算値(%):C,37.06; H,3.50; N,16.20 実測値(%):C,37.11; H,3.61: N,16.0
【0043】3) 参考例3−3)と同様にしてメチル
2−メチルスルフィニルイミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−6−アセテートからメ
チル 2−メルカプトイミダゾ〔2,1−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−アセテートを淡褐色結晶
として得た。収率59%,mp.230℃(分解)。 NMR(DMSO−d):3.67(3H,s), 3.89(2H,s),
7.88(1H,s). 元素分析値:C77322として 計算値(%):C,36.67; H,3.08; N,18.33 実測値(%):C,36.33; H,3.16: N,18.39 4) メチル 2−メルカプトイミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−6−アセテート(57
2mg),25%アンモニア水(18ml)の混合物を封管
中60℃で1.5時間加熱した。溶媒を留去し残留物を
炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解し、1NHClでpH
2に調整し標題化合物を結晶として得た(494mg,9
2%)。mp.240℃(分解)。 NMR(DMSO-d6):3.58(2H,s), 7.23(1H,br), 7.59(1
H,br), 7.82(1H,s).
【0044】実施例1 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔イミダ
ゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−
イル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナト
リウム塩
【化23】 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
(435mg),イミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕
チアジアゾール−2−チオール(196mg)のジメチル
ホルムアミド(20ml)溶液に、エチルo−フェニレン
ホスフェート(EPPA,1.0g)を氷冷下に滴加し
た。室温で20時間かき混ぜた後、イソプロピルエーテ
ルを加えた。上澄み液を除き、さらに同様の操作をくり
返し、残留物を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解しダイ
アイオンCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付
し、20%エタノールで溶出した。目的分画を濃縮した
後、凍結乾燥して標題化合物を得た(265mg,46
%)。 IRmax KBr cm-1:3425, 1765, 1600. NMR(DMSO-d6):3.30(1H,d,J=17.6Hz), 3.63(1H,d,
J=17.6Hz), 3.84(3H,s),4.35(1H,d,J=12.8Hz), 4.51(1
H,d,J=12.8Hz), 5.02(1H,d,J=4.8Hz), 5.59(1H,dd,J=8.
0と4.8Hz), 6.74(1H,s), 7.23(2H,brs), 7.26(1H,d,J=
1.4Hz), 8.09(1H,d,J=1.4Hz), 9.57(1H,d,J=8.0Hz). 元素分析値:C1815854Na・2.5H2Oとして 計算値(%):C,34.89; H,3.25; N,18.08 実測値(%):C,35.29; H,3.49: N,17.87
【0045】実施例2 実施例1と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔6−メチルイミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イル〕チオメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得た。
【化24】 IRmax KBr cm-1:3420, 1760, 1605. NMR(DMSO-d6):2.23(3H,s), 3.34(1H,d,J=17.6H
z), 3.61(1H,d,J=17.6Hz),3.83(3H,s), 4.30(1H,d,J=1
2.8Hz), 4.48(1H,d,J=12.8Hz), 4.99(1H,d,J=4.8Hz),
5.57(1H,dd,J=8.0と4.8Hz), 6.73(1H,s), 7.22(2H,s),
7.80(1H,s), 9.54(1H,d,J=8.0Hz). 元素分析値:C1917854Na・2.0H2Oとして 計算値(%):C,36.53; H,3.39; N,17.94 実測値(%):C,36.85; H,3.61: N,17.91
【0046】実施例3 実施例1と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔6−カルバモイルイミダゾ〔2,1−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イル〕チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得
た。
【化25】 IR max KBr cm-1:3430, 1760, 1660. NMR(DMSO-d6):3.40(1H,d,J=17.2Hz), 3.65(1H,d,
J=17.2Hz), 3.84(3H,s),4.33(1H,d,J=12.8Hz), 4.53(1
H,d,J=12.8Hz), 5.03(1H,d,J=4.8Hz), 5.62(1H,dd,J=8.
0と4.8Hz), 6.74(1H,s), 7.23(1H,brs), 7.36(1H,brs),
7.53(1H,brs), 8.48(1H,s), 9.57(1H,d,J=8.0Hz). 元素分析値:C1916964Na・2.0H2Oとして 計算値(%):C,34.91; H,3.08; N,19.28 実測値(%):C,34.96; H,2.81: N,19.21
【0047】実施例4 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−〔イミ
ダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2
−イル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナ
トリウム塩
【化26】 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−トリフェニルメトキシイミノアセトアミド〕−
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム塩(663mg),イミダゾ〔2,1−b〕
〔1,3,4〕チアジアゾール−2−チオール(196
mg)のジメチルホルムアミド(DMF,8ml)溶液にE
PPA(1.0g)を氷冷下に滴加し、室温で18時間
かき混ぜた。反応液にイソプロピルエーテルを加えよく
かき混ぜ上澄液を除いた。同様の操作をさらにくり返
し、残留物に90%ギ酸(30ml)を加え室温で1時間
かき混ぜた後、溶媒を留去した。残留物に炭酸水素ナト
リウム水溶液を加え不溶物をろ去した。ろ液をダイアイ
オンCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し1
0%エタノールで溶出し濃縮後凍結乾燥した。得られた
粉末をH2Oにとかし、セファデックスLH−20カラ
ムクロマトグラフィーに付しH2Oで溶出後、凍結乾燥
して標題化合物を得た(210mg,38%)。 IRmax KBr cm-1:3430, 1765, 1620. NMR(DMSO-d6):3.37(1H,d,J=17.2Hz), 3.62(1H,d,
J=17.2Hz), 4.33(1H,d,J=12.4Hz), 4.53(1H,d,J=12.4H
z), 5.01(1H,d,J=4.8Hz), 5.61(1H,dd,J=8.0と4.8Hz),
6.64(1H,s), 7.14(2H,brs), 7.25(1H,d,J=1.4Hz), 8.09
(1H,d,J=1.4Hz), 9.45(1H,d,J=8.0Hz), 11.41(1H,s). 元素分析値:C1713854Na・2.5H2Oとして 計算値(%):C,33.71; H,3.00; N,18.50 実測値(%):C,33.97; H,2.94: N,18.68
【0048】実施例5 実施例4と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセト
アミド〕−3−〔6−エトキシカルボニルイミダゾ
〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イ
ル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリ
ウム塩を得た。
【化27】 NMR(DMSO-d6):1.29(3H,t,J=7.0Hz), 3.36(1H,d,J
=17.2Hz), 3.61(1H,d,J=17.2Hz), 4.27(2H,q,J=7.0Hz),
4.34(1H,d,J=13.0Hz), 4.55(1H,d,J=13.0Hz), 5.01(1
H,d,J=5.0Hz), 5.60(1H,dd,J=8.2と5.0Hz), 6.64(1H,
s), 7.13(2H,brs), 8.72(1H,s), 9.41(1H,d,J=8.2Hz),
11.33(1H,s). 元素分析値:C2017874Na・3.0H2Oとして 計算値(%):C,34.98; H,3.38; N,16.32 実測値(%):C,34.86; H,3.21: N,16.49
【0049】実施例6 実施例4と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセト
アミド〕−3−〔6−カルバモイルイミダゾ〔2,1−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イル〕チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得
た。
【化28】 IRmax KBr cm-1:3430, 1760, 1610. NMR(DMSO-d6):3.36(1H,d,J=18.0Hz), 3.61(1H,d,J=1
8.0Hz), 4.34(1H,d,J=12.6Hz), 4.54(1H,d,J=12.6Hz),
5.01(1H,d,J=4.8Hz), 5.61(1H,dd,J=8.3と4.8Hz), 6.67
(1H,s), 7.14(2H,brs), 7.36(1H,brs), 7.54(1H,brs),
8.48(1H,s), 8.40-8.90(1H,brs), 11.37(1H,br). 元素分析値:C1814964Na・4.0H2Oとして 計算値(%):C,32.00; H,3.28; N,18.66 実測値(%):C,31.86; H,2.93: N,18.72
【0050】実施例7 実施例4と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセト
アミド〕−3−〔6−カルバモイルメチルイミダゾ
〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−イ
ル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリ
ウム塩を得た。
【化29】 IRmax KBr cm-1:3420, 1765, 1665, 1600. NMR(DMSO-d6):3.35(1H,d,J=17.2Hz), 3.40(2H,
s), 3.61(1H,d,J=17.2Hz),4.32(1H,d,J=14.0Hz), 4.51
(1H,d,J=14.0Hz), 5.01(1H,d,J=4.8Hz), 5.61(1H,dd,J=
8.2と4.8Hz), 6.65(1H,s), 6.96(1H,brs), 7.14(2H,br
s), 7.34(1H,brs), 7.88(1H,s), 9.43(1H,d,J=8.2Hz),
11.38(1H,s). 元素分析値:C1916964Na・3.0H2Oとして 計算値(%):C,33.98; H,3.30; N,18.77 実測値(%):C,34.09; H,3.11: N,19.00
【0051】実施例8 実施例1と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔3−メチル−s−トリアゾロ〔3,4−
b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−イル〕チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得
た。
【化30】 IR max KBr cm-1:3400, 1760, 1665, 1600. NMR(DMSO-d6):2.59(3H,s), 3.35(1H,d,J=17.6H
z), 3.63(1H,d,J=17.6Hz),3.84(3H,s), 4.33(1H,d,J=1
2.4Hz), 4.56(1H,d,J=12.4Hz), 5.01(1H,d,J=4.8Hz),
5.59(1H,dd,J=8.0と4.8Hz), 6.73(1H,s), 7.20(2H,br
s), 9.54(1H,d,J=8.0Hz). 元素分析値:C181695SNa・2.5H2Oとして 計算値(%):C,34.06; H,3.31; N,19.86 実測値(%):C,34.39; H,3.08: N,19.55
【0052】実施例9 実施例1と同様にして7β−〔2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−〔3−メチル−s−ト
リアゾロ〔3,4−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール
−6−イル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム塩を得た。
【化31】 IRmax KBr cm-1:3400, 1760, 1670, 1600. NMR(DMSO-d6):2.60(3H,s), 3.35(1H,d,J=18.2H
z), 3.61(1H,d,J=18.2Hz),3.91(3H,s), 4.33(1H,d,J=1
2.4Hz), 4.55(1H,d,J=12.4Hz), 4.98(1H,d,J=4.8Hz),
5.60(1H,dd,J=8.0と4.8Hz), 8.11(2H,brs), 9.50(1H,d,
J=8.0Hz). 元素分析値:C17151054Na・4H2Oとして 計算値(%):C,30.81; H,3.50; N,21.14 実測値(%):C,30.42; H,3.55: N,21.06
【0053】実施例10 実施例1と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔s−トリアゾロ〔3,4−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−イル〕チオメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得た。
【化32】 IRmax KBr cm-1:3400, 1760, 1660, 1600. NMR(DMSO-d6):3.38(1H,d,J=18.0Hz), 3.64(1H,d,
J=18.0Hz), 4.36(1H,d,J=12.8Hz), 4.51(1H,d,J=12.8H
z), 5.02(1H,d,J=4.8Hz), 5.60(1H,dd,J=8.0と4.8Hz),
6.73(1H,s), 7.20(2H,bs), 9.42(1H,s), 9.55(1H,d,J=
8.0Hz). 元素分析値:C1714954Na・2.5H2Oとして 計算値(%):C,32.90; H,3.09; N,20.31 実測値(%):C,32.82; H,2.75: N,19.90
【0054】実施例11 実施例4と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセト
アミド〕−3−〔3−メチル−s−トリアゾロ〔3,4
−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−イル〕チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を
得た。
【化33】 IRmax KBr cm-1:3400, 1765, 1665, 1600. NMR(D2O):2.69(3H,s), 3.48(1H,d,J=17.6Hz), 3.
88(1H,d,J=17.6Hz), 4.05(1H,d,J=14.0Hz), 4.69(1H,d,
J=14.0Hz), 5.20(1H,d,J=2.6Hz), 5.80(1H,d,J=2.6Hz),
7.00(1H,s). 元素分析値:C1714954Na・2.5H2Oとして 計算値(%):C,32.90; H,3.09; N,20.31 実測値(%):C,33.11; H,3.08: N,20.02
【0055】実施例12 実施例4と同様にして7β−〔2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセト
アミド〕−3−〔s−トリアゾロ〔3,4−b〕〔1,
3,4〕チアジアゾール−6−イル〕チオメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得た。
【化34】 IRmax KBr cm-1:3400, 1765, 1660, 1600. NMR(DMSO-d6):3.38(1H,d,J=17.6Hz), 3.62(1H,d,
J=17.6Hz), 4.36(1H,d,J=12.2Hz), 4.51(1H,d,J=12.2H
z), 5.01(1H,d,J=4.8Hz), 5.62(1H,dd,J=8.2と4.8Hz),
6.64(1H,s), 7.08(2H,s), 9.37(1H,d,J=8.2Hz), 9.41(1
H,s). 元素分析値:C1612954Na・2H2Oとして 計算値(%):C,32.16; H,2.70; N,21.09 実測値(%):C,32.14; H,2.75: N,20.78
【0056】実施例13 実施例1と同様にして7β−〔2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−〔6−メチル−s−ト
リアゾロ〔3,4−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール
−3−イル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム塩を得た。
【化35】 IRmax KBr cm-1:3400, 1760, 1670, 1600. NMR(DMSO-d6):3.27(1H,d,J=17.0Hz), 3.57(1H,d,
J=17.0Hz), 4.22(1H,d,J=12.0Hz), 4.27(1H,d,J=12.0H
z), 4.94(1H,d,J=4.8Hz), 5.58(1H,dd,J=8.0と4.8Hz),
8.11(2H,s), 9.47(1H,d,J=8.0Hz). 元素分析値:C17151054Na・3.5H2Oとして 計算値(%):C,31.24; H,3.39; N,21.43 実測値(%):C,31.03; H,3.33: N,21.14
【0057】実施例14 ピバロイルオキシメチル 7β−〔2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセ
トアミド〕−3−〔3−メチル−s−トリアゾロ〔3,
4−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−イル〕チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
【化36】 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔3−メ
チル−s−トリアゾロ〔3,4−b〕〔1,3,4〕チ
アジアゾール−6−イル〕チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸ナトリウム塩(202mg)のDMF
(1.5ml)溶液にピバロイルオキシメチルヨージド
(97mg)のDMF(0.3ml)溶液を氷冷下に敵加し
た。30分間氷冷下にかき混ぜた後、H2Oを加え析出
した粉末をろ取した。本粉末をジクロルメタン(20m
l)に溶解し炭酸水素ナトリウム飽和水溶液,H2Oで順
次洗浄後乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去し標題化合
物を粉末として得た。ろ取しエーテルで洗浄した(10
0mg,44.1%)。 IRmax KBr cm-1:3425, 3325, 1780, 1740, 1675, 16
25. NMR(CDCl3):1.22(9H,s), 2.69(3H,s), 3.59(1H,
d,J=18.4Hz), 3.74(1H,d,J=18.4Hz), 4.06(3H,s), 4.37
(1H,d,J=13.6Hz), 4.44(1H,d,J=13.6Hz), 5.11(1H,d,J=
5.2Hz), 5.39(2H,brs), 5.86(1H,d,J=5.6Hz), 5.92(1H,
d,J=5.6Hz), 6.06(1H,dd,J=8.0と5.2Hz), 6.83(1H,s),
7.70(1H,brs).
【0058】実施例15 実施例14と同様にしてピバロイルオキシメチル 7β
−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−ヒドロキシイミノアセトアミド〕−3−〔3−
メチル−s−トリアゾロ〔3,4−b〕〔1,3,4〕
チアジアゾール−6−イル〕チオメチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートを得た。
【化37】 IRmax KBr cm-1:3400, 3325, 1780, 1745, 1670, 16
15. NMR(DMSO-d6):1.37(9H,s), 2.59(3H,s), 3.64(1
H,d,J=18.4Hz), 3.81(1H,d,J=18.4Hz), 4.25(1H,d,J=1
3.8Hz), 4.48(1H,d,J=13.8Hz), 5.20(1H,d,J=4.8Hz),
5.78-5.91(3H,m), 6.65(1H,s), 7.11(2H,brs), 9.49(1
H,d,J=8.4Hz).
【0059】実施例16 実施例14と同様にしてピバロイルオキシメチル 7β
−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔イミダ
ゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−2−
イル〕チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレー
【化38】 IRmax KBr cm-1:3420, 3340, 1790, 1745, 1680. NMR(CDCl3):1.23(9H,s), 3.59(1H,d,J=18.6Hz),
3.76(1H,d,J=18.6Hz), 4.03(3H,s), 4.19(1H,d,J=13.2H
z), 4.47(1H,d,J=13.2Hz), 5.10(1H,d,J=4.8Hz),5.31(2
H,brs), 5.88(1H,d,J=5.2Hz), 5.92(1H,d,J=5.2Hz), 6.
08(1H,dd,J=8.6と5.2Hz), 6.87(1H,s), 7.21(1H,d,J=1.
2Hz), 7.64(1H,d,J=1.2Hz), 8.60(1H,d,J=8.6Hz).
【0060】
【発明の効果】本発明のセフェム化合物〔I〕またはそ
の塩もしくはエステルは、グラム陽性菌,グラム陰性菌
に対して広範囲の抗菌スペクトルと優れた抗菌作用を有
しており、これらの菌に基づく感染症に対して有効な抗
菌剤を提供することができる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式: 【化1】 〔式中、 R1は保護されていてもよいアミノ基を、Qは
    窒素原子またはC−R2(R2は水素原子またはハロゲン
    原子を示す)で表される基を、R3は水素原子または置
    換されていてもよい炭化水素基を、Aは置換されていて
    もよいトリアゾロチアジアゾリルまたはイミダゾチアジ
    アゾリル基をそれぞれ示す〕で表されるセフェム化合物
    またはその塩もしくはエステル。
  2. 【請求項2】Aが低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基、カルバモイル基またはカルバモイル−低級ア
    ルキル基で置換されていてもよいトリアゾロチアジアゾ
    リルまたはイミダゾチアジアゾリル基である請求項1記
    載の化合物。
  3. 【請求項3】Aが低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基、カルバモイル基またはカルバモイル−低級ア
    ルキル基で置換されていてもよいs−トリアゾロ〔3,
    4−b〕〔1,3,4〕チアジアゾール−6−イルまた
    はイミダゾ〔2,1−b〕〔1,3,4〕チアジアゾー
    ル−2−イル基である請求項1記載の化合物。
  4. 【請求項4】R3が水素原子または低級アルキル基であ
    る請求項1記載の化合物。
  5. 【請求項5】一般式 【化2】 〔式中、Aは置換されていてもよいトリアゾロチアジア
    ゾリルまたはイミダゾチアジアゾリル基をそれぞれ示
    す〕で表されるセフェム化合物またはその塩もしくはエ
    ステルと一般式 【化3】 〔式中、 R1は保護されていてもよいアミノ基を、Qは
    窒素原子またはC−R2(R2は水素原子またはハロゲン
    原子を示す)で表わされる基を、R3は水素原子または
    置換されていてもよい炭化水素基を示す〕で表わされる
    カルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応
    させるか、 一般式 【化4】 〔式中、 R11は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイル
    オキシ基、置換カルバモイルオキシまたはハロゲン原子
    を、その他の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる
    セフェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
    A−SH〔式中、Aは前記と同意義を示す〕で表わされ
    るチオール化合物またはその塩とを反応させるか、 一般式 【化5】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ
    ェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
    3′−OH〔式中、R3′は置換されていてもよい炭化
    水素基を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘
    導体とを反応させるか、 または 一般式 【化6】 〔式中、 Xはハロゲン原子またはR6−SO2−O(R6
    は低級アルキル基または置換されていてもよいフェニル
    基を示す)で表わされる基を、その他の記号は前記と同
    意義を示す〕で表わされるセフェム化合物またはその塩
    もしくはエステルと一般式R1C(=S)NH2〔式中、R
    1は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物またはそ
    の塩とを反応させるかしたのち要すれば保護基の除去を
    行うことを特徴とする一般式 【化7】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表されるセフェ
    ム化合物またはその塩もしくはエステルの製造法。
  6. 【請求項6】請求項1記載の化合物を含有する抗菌組成
    物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001021622A1 (en) * 1999-09-20 2001-03-29 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Process for the preparation of 3-sulfonyloxy-3-cephem compounds
KR100449775B1 (ko) * 1995-11-28 2005-08-17 동아제약주식회사 신규세팔로스포린유도체및그중간체

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