JPH07104596B2 - 原版収納カセツト - Google Patents
原版収納カセツトInfo
- Publication number
- JPH07104596B2 JPH07104596B2 JP27685686A JP27685686A JPH07104596B2 JP H07104596 B2 JPH07104596 B2 JP H07104596B2 JP 27685686 A JP27685686 A JP 27685686A JP 27685686 A JP27685686 A JP 27685686A JP H07104596 B2 JPH07104596 B2 JP H07104596B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- original plate
- mask
- original
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、吸着用管路を介して原版をカセット内で固定
することが可能な原版収納カセットに関する。
することが可能な原版収納カセットに関する。
［従来技術］ 半導体露光装置に用いられる原版（マスクまたはレチク
ル、以下マスクと総称する）は、露光装置に取り付けら
れているマスク自動交換装置内に複数枚収納されてお
り、露光等に際しては、所望のマスクが選択され所定の
位置へセットされる。
ル、以下マスクと総称する）は、露光装置に取り付けら
れているマスク自動交換装置内に複数枚収納されてお
り、露光等に際しては、所望のマスクが選択され所定の
位置へセットされる。
上記複数枚のマスクは、各々独立した収納カセット（以
後マスクカセットと称する）に保管され塵埃や汚染から
保護されている。
後マスクカセットと称する）に保管され塵埃や汚染から
保護されている。
第３図は従来のマスクカセットの一例を示す。同図にお
いて、マスクカセットは上皿10と下皿11に分かれてお
り、マスクは下皿11の上に置かれた状態で収納される。
いて、マスクカセットは上皿10と下皿11に分かれてお
り、マスクは下皿11の上に置かれた状態で収納される。
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながらこのような従来例においては、マスクを下
皿に固定する手段がないがために、搬送する場合は細心
の注意が必要であった。具体的には、カセット内のマス
クが揺動しないようにゆっくりした速度で移動させなけ
ればならなかった。
皿に固定する手段がないがために、搬送する場合は細心
の注意が必要であった。具体的には、カセット内のマス
クが揺動しないようにゆっくりした速度で移動させなけ
ればならなかった。
また、マスクは、半導体露光装置で転写される原版とな
るものであるから、塵埃の付着やパターン面の汚染に対
して十分管理されなければならない。ところが、搬送中
にカセット中で揺動されるようなことが起これば、カセ
ットとマスクが摺動し、その揺動面から微細なゴミが発
生する可能性がある。このことは、マスクを取り扱う上
では絶対避けなければならないことである。以上の理由
により、マスクカセットは、発塵性がなく、密閉性が良
く、取出しやすく、そして洗浄しやすい構造のものが求
められている。
るものであるから、塵埃の付着やパターン面の汚染に対
して十分管理されなければならない。ところが、搬送中
にカセット中で揺動されるようなことが起これば、カセ
ットとマスクが摺動し、その揺動面から微細なゴミが発
生する可能性がある。このことは、マスクを取り扱う上
では絶対避けなければならないことである。以上の理由
により、マスクカセットは、発塵性がなく、密閉性が良
く、取出しやすく、そして洗浄しやすい構造のものが求
められている。
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み、カセットケース
の構造を複雑にすることなく洗浄性や密閉性を損わず
に、搬送中カセットに原版を固定する手段を設けること
によって摺動をなくし、発塵を防止するとともに原版交
換等のための搬送をスピードアップすることを目的とす
る。
の構造を複雑にすることなく洗浄性や密閉性を損わず
に、搬送中カセットに原版を固定する手段を設けること
によって摺動をなくし、発塵を防止するとともに原版交
換等のための搬送をスピードアップすることを目的とす
る。
［問題点を解決するための手段および作用］ この目的を達成するため本発明では、半導体露光装置内
でパターン転写を行う際に利用される原版を収納し、前
記原版をその内部に収納した状態で原版交換装置の保持
部に保持され、前記原版を前記原版交換装置によっで前
記半導体露光装置の所定位置にセットする際、前記原版
交換装置の保持部から前記原版交換装置の搬送ハンドに
よって前記原版と共に少なくともその一部が取り出され
る原版収納カセットにおいて、前記搬送ハンドによって
前記原版と共に取り出されるカセット部分は前記搬送ハ
ンド上で前記搬送ハンドに設けられている吸着用パッド
を介して真空吸着保持されると共に、前記カセット部分
には前記カセット部分が前記搬送ハンド上で真空吸着保
持されている際に前記原版を前記カセット部分に真空吸
着保持させるための真空を前記吸着用パッドを介して供
給する管路が設けられていることを特徴とする。
でパターン転写を行う際に利用される原版を収納し、前
記原版をその内部に収納した状態で原版交換装置の保持
部に保持され、前記原版を前記原版交換装置によっで前
記半導体露光装置の所定位置にセットする際、前記原版
交換装置の保持部から前記原版交換装置の搬送ハンドに
よって前記原版と共に少なくともその一部が取り出され
る原版収納カセットにおいて、前記搬送ハンドによって
前記原版と共に取り出されるカセット部分は前記搬送ハ
ンド上で前記搬送ハンドに設けられている吸着用パッド
を介して真空吸着保持されると共に、前記カセット部分
には前記カセット部分が前記搬送ハンド上で真空吸着保
持されている際に前記原版を前記カセット部分に真空吸
着保持させるための真空を前記吸着用パッドを介して供
給する管路が設けられていることを特徴とする。
これによれば、原版交換装置の保持部から取り出された
原版と原版収納カセットの少なくとも一部であるカセッ
ト部分は搬送ハンド上でそれぞれ真空吸着保持された状
態で搬送されることになるため、半導体露光装置内での
原版の交換が発塵のおそれなく行なわれる。また、その
ための構成は、単にカセット部分に管路を設けるという
極めて簡単なものである。
原版と原版収納カセットの少なくとも一部であるカセッ
ト部分は搬送ハンド上でそれぞれ真空吸着保持された状
態で搬送されることになるため、半導体露光装置内での
原版の交換が発塵のおそれなく行なわれる。また、その
ための構成は、単にカセット部分に管路を設けるという
極めて簡単なものである。
［実施例］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの断
面図である。このマスクカセットは、下皿に吸着固定用
の吸着管路を付加したものである。同図において、１は
カセット下皿、２はマスク、３は吸着用の管路、５はカ
セット上皿である。従来のカセットは、管路３がなく、
マスク２は下皿１の上に乗せただけであった。
面図である。このマスクカセットは、下皿に吸着固定用
の吸着管路を付加したものである。同図において、１は
カセット下皿、２はマスク、３は吸着用の管路、５はカ
セット上皿である。従来のカセットは、管路３がなく、
マスク２は下皿１の上に乗せただけであった。
第２図は、フォークハンドが下皿をつかんだところを示
す断面図である。同図において、６はフォークハンド、
７はフォークハンド６に固定された吸着用パッドであ
る。吸着用パッド７は真空ポンプに管路を介して接続さ
れている。８はソレノイドバルブ、９は真空度を検出す
るバキュームスイッチである。
す断面図である。同図において、６はフォークハンド、
７はフォークハンド６に固定された吸着用パッドであ
る。吸着用パッド７は真空ポンプに管路を介して接続さ
れている。８はソレノイドバルブ、９は真空度を検出す
るバキュームスイッチである。
マスク２を取り出すためには、第２図に示すように、フ
ォークハンド６で下皿１を支持し、矢印Ａ方向へ引出
す。この引出し速度が速いと、従来はマスクを下皿へ固
定していなかったためにマスクは揺動してしまった。そ
こで、本実施例では、下皿１に、一端が下皿１のマスク
支持面に開口し、他端が下皿１の外側面に開口する吸着
用管路３を設け、吸着用パッド７を、フォークハンド６
が下皿１の下へ到達し下皿１を支持した時に下皿１の管
路３の外側面への開口部をおおうように位置させてい
る。したがって、本実施例においては、フォーク６が下
皿１を固定した時に吸着用パッド７を介して管路３を真
空にするとマスク２が下皿１へ吸着され固定する。この
マスク吸着を確認した後フォークハンド６を引出す。こ
れにより、マスク２は、下皿１に吸着固定された状態で
搬送されマスクのみを取り出す位置まで移動する。
ォークハンド６で下皿１を支持し、矢印Ａ方向へ引出
す。この引出し速度が速いと、従来はマスクを下皿へ固
定していなかったためにマスクは揺動してしまった。そ
こで、本実施例では、下皿１に、一端が下皿１のマスク
支持面に開口し、他端が下皿１の外側面に開口する吸着
用管路３を設け、吸着用パッド７を、フォークハンド６
が下皿１の下へ到達し下皿１を支持した時に下皿１の管
路３の外側面への開口部をおおうように位置させてい
る。したがって、本実施例においては、フォーク６が下
皿１を固定した時に吸着用パッド７を介して管路３を真
空にするとマスク２が下皿１へ吸着され固定する。この
マスク吸着を確認した後フォークハンド６を引出す。こ
れにより、マスク２は、下皿１に吸着固定された状態で
搬送されマスクのみを取り出す位置まで移動する。
以上、マスク交換機内だけの搬送時について述べた。
現在は、前に述べたように交換機内へマスクを複数枚収
納しており、そこからのみ自動選択している。したがっ
て、該当するマスクが交換機内に収納されていない場合
は、人間が該当するマスクと交換機内の不用のマスクと
を入れ換えてやらなければならない。このようなとき
等、半導体製造工場内のマスク保管収納場所から各装置
（マスク自動交換機）へのマスクの運搬は人間によって
いる。将来この運搬も機械化自動化されればこの運搬中
にもマスクとカセットの摺動が心配される。この場合に
も本実施例のようにしてマスクを吸着固定することで対
処することが可能となる。
納しており、そこからのみ自動選択している。したがっ
て、該当するマスクが交換機内に収納されていない場合
は、人間が該当するマスクと交換機内の不用のマスクと
を入れ換えてやらなければならない。このようなとき
等、半導体製造工場内のマスク保管収納場所から各装置
（マスク自動交換機）へのマスクの運搬は人間によって
いる。将来この運搬も機械化自動化されればこの運搬中
にもマスクとカセットの摺動が心配される。この場合に
も本実施例のようにしてマスクを吸着固定することで対
処することが可能となる。
また、本実施例においては、フォークハンド６で下皿を
固定し吸着した時、バキュームスイッチ９等で管路内の
圧力変化を検出し、カセット内のマスクの有無を確認す
ることも可能である。
固定し吸着した時、バキュームスイッチ９等で管路内の
圧力変化を検出し、カセット内のマスクの有無を確認す
ることも可能である。
なお、このマスクカセットを使用してマスクを工場内で
保管しておく場合、吸着用管路３の他に第１図に示した
管路４を設けておけば、それを介して窒素ガス等を流し
込むことによりマスクカセット内を外側周辺よりも正圧
に保つことができるため、もしカセットに隙間等があっ
ても塵埃の進入が防止できる。
保管しておく場合、吸着用管路３の他に第１図に示した
管路４を設けておけば、それを介して窒素ガス等を流し
込むことによりマスクカセット内を外側周辺よりも正圧
に保つことができるため、もしカセットに隙間等があっ
ても塵埃の進入が防止できる。
［発明の効果］ カセット内での原版の固定手段を機械的なものにした場
合、カセットの構造は複雑になり、洗浄しても塵埃が取
り除きにくいものになる。しかし、以上説明したように
本発明によれば、吸着用管路を付加しただけという簡単
な構造で、原版を吸着固定して原版の揺動をなくし塵埃
の発生を抑えることを実現している。しかも、洗浄しや
すい構造となる。
合、カセットの構造は複雑になり、洗浄しても塵埃が取
り除きにくいものになる。しかし、以上説明したように
本発明によれば、吸着用管路を付加しただけという簡単
な構造で、原版を吸着固定して原版の揺動をなくし塵埃
の発生を抑えることを実現している。しかも、洗浄しや
すい構造となる。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの断
面図、 第２図は、フォークハンド６が下皿をつかんだところを
示す断面図、 第３図は、上皿と下皿の２部分から構成されているマス
クカセットの従来例を示す図である。 1:カセット下皿、2:マスク、3:マスクを吸着固定する管
路、4:窒素がスパージする管路、5:マスクカセット上
皿、7:吸着用パッド、8:管路３を真空状態にさせるソレ
ノイドバルブ、9:管路内の真空度を検出するバキューム
スイッチ。
面図、 第２図は、フォークハンド６が下皿をつかんだところを
示す断面図、 第３図は、上皿と下皿の２部分から構成されているマス
クカセットの従来例を示す図である。 1:カセット下皿、2:マスク、3:マスクを吸着固定する管
路、4:窒素がスパージする管路、5:マスクカセット上
皿、7:吸着用パッド、8:管路３を真空状態にさせるソレ
ノイドバルブ、9:管路内の真空度を検出するバキューム
スイッチ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｕ
Claims (1)
- 【請求項１】半導体露光装置内でパターン転写を行う際
に利用される原版を収納し、前記原版をその内部に収納
した状態で原版交換装置の保持部に保持され、前記原版
を前記原版交換装置によって前記半導体露光装置の所定
位置にセットする際、前記原版交換装置の保持部から前
記原版交換装置の搬送ハンドによって前記原版と共に少
なくともその一部が取り出される原版収納カセットにお
いて、前記搬送ハンドによって前記原版と共に取り出さ
れるカセット部分は前記搬送ハンド上で前記搬送ハンド
に設けられている吸着用パッドを介して真空吸着保持さ
れると共に、前記カセット部分には前記カセット部分が
前記搬送ハンド上で真空吸着保持されている際に前記原
版を前記カセット部分に真空吸着保持させるための真空
を前記吸着用パッドを介して供給する管路が設けられて
いることを特徴とする原版収納カセット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27685686A JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27685686A JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63131144A JPS63131144A (ja) | 1988-06-03 |
| JPH07104596B2 true JPH07104596B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=17575361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27685686A Expired - Fee Related JPH07104596B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 原版収納カセツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104596B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101055640B1 (ko) * | 2003-05-14 | 2011-08-09 | 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 | 임프린트 리소그래피 공정 중의 주형 전사 방법, 시스템,홀더 및 어셈블리 |
| JP2011035281A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク収納機構および研削装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5525495B2 (ja) * | 1972-06-05 | 1980-07-07 | ||
| JPS5224335A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A gas burner |
| US4248508A (en) * | 1979-08-03 | 1981-02-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Projection mask storage and carrier system |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP27685686A patent/JPH07104596B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63131144A (ja) | 1988-06-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |