JPH07105838A - レジスト膜の塗布ムラ検出方法 - Google Patents
レジスト膜の塗布ムラ検出方法Info
- Publication number
- JPH07105838A JPH07105838A JP24776493A JP24776493A JPH07105838A JP H07105838 A JPH07105838 A JP H07105838A JP 24776493 A JP24776493 A JP 24776493A JP 24776493 A JP24776493 A JP 24776493A JP H07105838 A JPH07105838 A JP H07105838A
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- metal plate
- detecting
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】シャドウマスクの製造において、金属板に第二
のレジスト膜を形成した後に、塗布ムラ（膜の厚さム
ラ）を検出するレジスト膜の塗布ムラ検出方法を提供す
る。 【構成】金属板１０の片面に第二のレジスト膜１３を形
成した後に、水１４によりレジスト膜の塗布ムラを検出
する工程と、エッチング後の水洗を利用して、第二のレ
ジスト膜の塗布ムラを検出する工程とからなるレジスト
膜の塗布ムラ検出方法である。また、レジスト膜の吸水
性を利用することにより、金属板に傷を付ける事なく検
出する事が出来る。更に、吸水したレジスト膜の変色濃
度差を利用して、目視およびカメラ（検出器）１５によ
り容易に塗布ムラを検出することが出来る。
のレジスト膜を形成した後に、塗布ムラ（膜の厚さム
ラ）を検出するレジスト膜の塗布ムラ検出方法を提供す
る。 【構成】金属板１０の片面に第二のレジスト膜１３を形
成した後に、水１４によりレジスト膜の塗布ムラを検出
する工程と、エッチング後の水洗を利用して、第二のレ
ジスト膜の塗布ムラを検出する工程とからなるレジスト
膜の塗布ムラ検出方法である。また、レジスト膜の吸水
性を利用することにより、金属板に傷を付ける事なく検
出する事が出来る。更に、吸水したレジスト膜の変色濃
度差を利用して、目視およびカメラ（検出器）１５によ
り容易に塗布ムラを検出することが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、テレビジョンのブラウ
ン管、特にカラーテレビジョンのブラウン管内に装填し
て使用される金属板状のシャドウマスク製造におけるレ
ジスト膜の塗布ムラの検出方法に関する。
ン管、特にカラーテレビジョンのブラウン管内に装填し
て使用される金属板状のシャドウマスク製造におけるレ
ジスト膜の塗布ムラの検出方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーテレビジョンのブラウン管に用い
られるシャドウマスクの製造方法について述べると、一
般的にブラウン管は、電子銃、シャドウマスク、及び赤
（Ｒｅｄ）、緑（Ｇｒｅｅｎ）、青（Ｂｌｕｅ）からな
る三色のドット状パターンの蛍光面から構成されてい
る。
られるシャドウマスクの製造方法について述べると、一
般的にブラウン管は、電子銃、シャドウマスク、及び赤
（Ｒｅｄ）、緑（Ｇｒｅｅｎ）、青（Ｂｌｕｅ）からな
る三色のドット状パターンの蛍光面から構成されてい
る。
【０００３】このシャドウマスクは、蛍光面の手前に或
る距離をもって取付けられた薄い鉄系材料で形成された
金属の薄板であり、電子ビームが通過する細孔が規則的
に多数配列されている。
る距離をもって取付けられた薄い鉄系材料で形成された
金属の薄板であり、電子ビームが通過する細孔が規則的
に多数配列されている。
【０００４】この一つの細孔が、赤、緑、青の蛍光体ド
ットの１組３個に対応しており、シャドウマスクは、電
子銃から放出された３本の電子ビームを、それぞれの蛍
光体ドットに導く役目を果たしている。
ットの１組３個に対応しており、シャドウマスクは、電
子銃から放出された３本の電子ビームを、それぞれの蛍
光体ドットに導く役目を果たしている。
【０００５】このシャドウマスクの孔径は、高精細度と
称されるものでは、およそ０．１０ｍｍ〜０．１５ｍｍ
（ピッチ０．３ｍｍ）であり、さらに超高精細度のもの
では、およそ０．０７ｍｍ〜０．０９ｍｍ（ピッチ０．
２ｍｍ）となる。また、シャドウマスクの板厚は、マス
ク強度と熱膨張を抑制するため、０．０１ｍｍ〜０．２
０ｍｍ程度のものが使用されている。
称されるものでは、およそ０．１０ｍｍ〜０．１５ｍｍ
（ピッチ０．３ｍｍ）であり、さらに超高精細度のもの
では、およそ０．０７ｍｍ〜０．０９ｍｍ（ピッチ０．
２ｍｍ）となる。また、シャドウマスクの板厚は、マス
ク強度と熱膨張を抑制するため、０．０１ｍｍ〜０．２
０ｍｍ程度のものが使用されている。
【０００６】従来のシャドウマスクの製造方法として
は、例えば、図２（ａ）〜（ｄ）に示すように、エッチ
ング液を用いて金属板１０に細孔（小孔）を形成する場
合、先ず、金属板１０の両面に位置決めした所望の細孔
パターンのレジスト膜１２，１２を設け、その両面から
エッチング液Ｅ（エッチャント）を用いてエッチングを
行う。
は、例えば、図２（ａ）〜（ｄ）に示すように、エッチ
ング液を用いて金属板１０に細孔（小孔）を形成する場
合、先ず、金属板１０の両面に位置決めした所望の細孔
パターンのレジスト膜１２，１２を設け、その両面から
エッチング液Ｅ（エッチャント）を用いてエッチングを
行う。
【０００７】しかし、このようなエッチング液を用いた
ウエットエッチングでは等方向的、すなわち垂直方向と
同程度に横方向にもエッチングが進行して、サイドエッ
チングを生じるため、前述した超高精細度シャドウマス
クのように微細な孔径の細孔を精度よく開けることは非
常に困難であった。
ウエットエッチングでは等方向的、すなわち垂直方向と
同程度に横方向にもエッチングが進行して、サイドエッ
チングを生じるため、前述した超高精細度シャドウマス
クのように微細な孔径の細孔を精度よく開けることは非
常に困難であった。
【０００８】このため、通常の場合は、上記のサイドエ
ッチングを防止或いは抑制するために、図３（ａ）〜
（ｅ）の側断面図に示すように、まず金属板１０の表裏
面に第一のレジスト膜１２で所望の規則的な細孔パター
ンを形成後、エッチング液Ｅを吹き付けるか（図３
（ａ）を参照）、若しくは浸漬方式にてエッチング液を
付着させて、金属板１０表裏両面よりエッチングを行い
（図３（ｂ）を参照）、その途中で該金属板１０の片面
にレジスト材１９を用いてスプレー方式等によりコーテ
ィングし、その後乾燥させて、第二のレジスト膜１３を
形成する（図３（ｃ）を参照）。
ッチングを防止或いは抑制するために、図３（ａ）〜
（ｅ）の側断面図に示すように、まず金属板１０の表裏
面に第一のレジスト膜１２で所望の規則的な細孔パター
ンを形成後、エッチング液Ｅを吹き付けるか（図３
（ａ）を参照）、若しくは浸漬方式にてエッチング液を
付着させて、金属板１０表裏両面よりエッチングを行い
（図３（ｂ）を参照）、その途中で該金属板１０の片面
にレジスト材１９を用いてスプレー方式等によりコーテ
ィングし、その後乾燥させて、第二のレジスト膜１３を
形成する（図３（ｃ）を参照）。
【０００９】次に、図３（ｃ）に示すように、前記金属
板１０を第二のレジスト膜１３の反対側よりエッチング
液Ｅにてエッチングを開始して、図３（ｄ）に示すよう
に、金属板１０を貫通させて微細な細孔１８を形成し
て、その後に、前記第二のレジスト膜１３及び表裏面の
第一のレジスト膜１２を除去して、図３（ｅ）に示すよ
うに、金属板１０に細孔１８が規則的に多数孔設された
シャドウマスクを製造することができる。
板１０を第二のレジスト膜１３の反対側よりエッチング
液Ｅにてエッチングを開始して、図３（ｄ）に示すよう
に、金属板１０を貫通させて微細な細孔１８を形成し
て、その後に、前記第二のレジスト膜１３及び表裏面の
第一のレジスト膜１２を除去して、図３（ｅ）に示すよ
うに、金属板１０に細孔１８が規則的に多数孔設された
シャドウマスクを製造することができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
シャドウマスクの製造方法において、図３（ｂ）〜
（ｃ）の側断面図に示すように、金属板１０の片面にレ
ジスト材１９をスプレー方式等にてコーティングして、
第二のレジスト膜１３を形成するが、そのスプレーの際
に塗布ムラが発生して、エッチングの際の、孔径に影響
したり（膜が薄いと孔径が大きくなり、厚いと孔径が小
さくなる）、また、このムラの部分からエッチング液が
滲み込み金属板表面にエッチングムラ（スジムラ等）を
しばしば発生させていた。
シャドウマスクの製造方法において、図３（ｂ）〜
（ｃ）の側断面図に示すように、金属板１０の片面にレ
ジスト材１９をスプレー方式等にてコーティングして、
第二のレジスト膜１３を形成するが、そのスプレーの際
に塗布ムラが発生して、エッチングの際の、孔径に影響
したり（膜が薄いと孔径が大きくなり、厚いと孔径が小
さくなる）、また、このムラの部分からエッチング液が
滲み込み金属板表面にエッチングムラ（スジムラ等）を
しばしば発生させていた。
【００１１】更に、第二のレジスト膜に塗布ムラがある
場合には、第一のレジスト膜、第二のレジスト膜を剥膜
する時にレジスト膜残渣が生じ易くなる。
場合には、第一のレジスト膜、第二のレジスト膜を剥膜
する時にレジスト膜残渣が生じ易くなる。
【００１２】更に、第二のレジスト材塗布後の塗布ムラ
の検出方法が無く、エッチング後に金属板を検査する方
法のみであった。
の検出方法が無く、エッチング後に金属板を検査する方
法のみであった。
【００１３】そこで本発明は、シャドウマスクの製造に
おいて、金属板に第二のレジスト膜を形成した後に、塗
布ムラ（膜の厚さムラ）を検出するレジスト膜の塗布ム
ラ検出方法を提供するものである。
おいて、金属板に第二のレジスト膜を形成した後に、塗
布ムラ（膜の厚さムラ）を検出するレジスト膜の塗布ム
ラ検出方法を提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、シャドウマス
クの製造において、金属板の片面に第二のレジスト膜を
形成した後に、水によりレジスト膜の塗布ムラを検出す
る工程と、エッチング後の水洗を利用して第一、第二の
レジスト膜の塗布ムラを検出する工程とからなるレジス
ト膜の塗布ムラ検出方法である。また、レジスト膜の吸
水性を利用することにより、金属板に傷を付ける事なく
検出する事が出来る。更に、吸水したレジスト膜の変色
濃度差を利用して、目視およびカメラ（検出器）により
容易に塗布ムラを検出することが出来る検出方法であ
る。
クの製造において、金属板の片面に第二のレジスト膜を
形成した後に、水によりレジスト膜の塗布ムラを検出す
る工程と、エッチング後の水洗を利用して第一、第二の
レジスト膜の塗布ムラを検出する工程とからなるレジス
ト膜の塗布ムラ検出方法である。また、レジスト膜の吸
水性を利用することにより、金属板に傷を付ける事なく
検出する事が出来る。更に、吸水したレジスト膜の変色
濃度差を利用して、目視およびカメラ（検出器）により
容易に塗布ムラを検出することが出来る検出方法であ
る。
【００１５】
【作用】本発明方法によれば、レジスト膜の吸水性を利
用し、水を使用して金属板に傷を付けずに、且つ、レジ
スト膜に悪影響を与えずに繰り返しムラや不均一部分等
の欠陥部分を未然に検出しておくことができる。
用し、水を使用して金属板に傷を付けずに、且つ、レジ
スト膜に悪影響を与えずに繰り返しムラや不均一部分等
の欠陥部分を未然に検出しておくことができる。
【００１６】このレジスト材（例：メタクリル酸と（メ
タ）アクリル酸エステルの共重合体とアセチルアルコー
ルの混合液）において、アクリル系樹脂を使用すること
により成膜とした際に吸水性が得られる。これにより、
レジスト膜に水を与えると膜のムラや不均一部分につい
ては、レジスト膜の厚みが厚いほど吸水量が高いために
他の部分より濃色（濃い白色）に変色するので、その変
色濃度差を測定することで膜の塗布（厚さ）ムラを検出
することができる。
タ）アクリル酸エステルの共重合体とアセチルアルコー
ルの混合液）において、アクリル系樹脂を使用すること
により成膜とした際に吸水性が得られる。これにより、
レジスト膜に水を与えると膜のムラや不均一部分につい
ては、レジスト膜の厚みが厚いほど吸水量が高いために
他の部分より濃色（濃い白色）に変色するので、その変
色濃度差を測定することで膜の塗布（厚さ）ムラを検出
することができる。
【００１７】
【実施例】以上、図面を参照して本発明のレジスト膜の
塗布ムラ検出方法を詳細に説明する。図１（ａ）〜
（ｊ）は、本発明の実施例におけるレジスト膜の塗布ム
ラ検出方法の工程手順を示す側断面図である。
塗布ムラ検出方法を詳細に説明する。図１（ａ）〜
（ｊ）は、本発明の実施例におけるレジスト膜の塗布ム
ラ検出方法の工程手順を示す側断面図である。
【００１８】先ず、金属板１０の両面に所望の形状のシ
ャドウマスクパターンを、レジスト膜１２，１２により
形成し、その両面からエッチング液Ｅを用いてエッチン
グを行う。その途中において、金属板１０の片面にレジ
スト材１９｛例：アクリル系樹脂（メタクリル酸と（メ
タ）アクリル酸エステルの共重合体とアセチルアルコー
ルの混合液）｝をスプレーコーティングし、その後乾燥
させて第二のレジスト膜１３を形成する。
ャドウマスクパターンを、レジスト膜１２，１２により
形成し、その両面からエッチング液Ｅを用いてエッチン
グを行う。その途中において、金属板１０の片面にレジ
スト材１９｛例：アクリル系樹脂（メタクリル酸と（メ
タ）アクリル酸エステルの共重合体とアセチルアルコー
ルの混合液）｝をスプレーコーティングし、その後乾燥
させて第二のレジスト膜１３を形成する。
【００１９】この第二のレジスト膜１３を形成した後
に、スプレー等により水１４をレジスト膜上に吹き付け
することで、レジスト膜が水を吸水して、レジスト膜表
面が白色に変色してくる。その際、レジスト膜全体は薄
い白色に変色し、ムラ（膜の厚い部分）の部分は他の部
分より濃い白色に変色してくる。その濃く変色した部分
を、目視およびカメラ１５により確認する。
に、スプレー等により水１４をレジスト膜上に吹き付け
することで、レジスト膜が水を吸水して、レジスト膜表
面が白色に変色してくる。その際、レジスト膜全体は薄
い白色に変色し、ムラ（膜の厚い部分）の部分は他の部
分より濃い白色に変色してくる。その濃く変色した部分
を、目視およびカメラ１５により確認する。
【００２０】更に、エッチング終了後に水洗をするが、
この水洗１４を利用して、再度第二レジスト膜表面を変
色させる。この場合も前記同様に、再度膜全体が薄い白
色に変色し、ムラの部分、エッチングの不均一部分が濃
く変色する。その濃く変色した部分は、目視およびカメ
ラ５により確認する。
この水洗１４を利用して、再度第二レジスト膜表面を変
色させる。この場合も前記同様に、再度膜全体が薄い白
色に変色し、ムラの部分、エッチングの不均一部分が濃
く変色する。その濃く変色した部分は、目視およびカメ
ラ５により確認する。
【００２１】また、これら塗布ムラの検出後の修正塗工
は、連続工程のため不可能であるので、レジスト塗布条
件の再セット等の処置をする。
は、連続工程のため不可能であるので、レジスト塗布条
件の再セット等の処置をする。
【００２２】検出後、温風（常温±５℃）を吹き付け乾
燥させることにより、変色部分は消え、検出前のレジス
ト膜状態にもどすことが出来る。
燥させることにより、変色部分は消え、検出前のレジス
ト膜状態にもどすことが出来る。
【００２３】
【発明の効果】本発明のレジスト膜の塗布ムラ検出方法
は、水によりレジスト膜の塗布ムラ（膜の厚さムラ）の
欠陥部分を容易に検出することが出来る。更に、レジス
ト膜の吸水性を利用してこの検出方法を行うので、レジ
スト膜の諸成分や耐性等を変えることなく、更に金属板
に傷を付けたり、薬品による影響を与えずに塗布（厚
さ）ムラ、スジムラ（第二レジスト膜に関する欠陥）を
検出する効果がある。
は、水によりレジスト膜の塗布ムラ（膜の厚さムラ）の
欠陥部分を容易に検出することが出来る。更に、レジス
ト膜の吸水性を利用してこの検出方法を行うので、レジ
スト膜の諸成分や耐性等を変えることなく、更に金属板
に傷を付けたり、薬品による影響を与えずに塗布（厚
さ）ムラ、スジムラ（第二レジスト膜に関する欠陥）を
検出する効果がある。
【図１】（ａ）〜（ｊ）は本発明の実施例におけるレジ
スト膜の塗布ムラ検出方法の工程手順を示す側断面図で
ある。
スト膜の塗布ムラ検出方法の工程手順を示す側断面図で
ある。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は従来のシャドウマスクの製造
工程の一例を示す側断面図である。
工程の一例を示す側断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｅ）は従来のシャドウマスクの製造
工程の一例を示す側断面図である。
工程の一例を示す側断面図である。
１０ …金属板 １２ …第一のレジスト膜 １３ …第二のレジスト膜 １４ …水（水洗） １５ …目視及びカメラ（検出器） Ｅ …エッチング液 １８ …細孔 １９ …第二のレジスト膜用のレジスト材
Claims (4)
- 【請求項１】金属板の両面に第一のレジスト膜を設け、
該レジスト膜に所望の細孔パターンを形成してエッチン
グを進行し、該エッチング進行途中で、前記金属板の片
面に第二のレジスト膜を形成して、再びエッチングを行
って所望の規則的な細孔を形成するシャドウマスクの製
造において、前記金属板の片面に第二のレジスト膜を形
成した後に、水によるレジスト膜の塗布ムラ、スジムラ
を検出する工程と、前記金属板のエッチング後の水洗に
より、第二のレジスト膜の塗布ムラを検出する工程とか
らなることを特徴とするシャドウマスク製造におけるレ
ジスト膜の塗布ムラ検出方法。 - 【請求項２】前記レジスト膜が、吸水することで変色
し、この変色濃度差でムラを検出することを特徴とする
請求項１記載のシャドウマスク製造におけるレジスト膜
の塗布ムラ検出方法。 - 【請求項３】前記レジスト膜の変色濃度差を、目視或い
はカメラ（ムラ検出器）により検出することを特徴とす
る請求項１記載のシャドウマスク製造におけるレジスト
膜の塗布ムラ検出方法。 - 【請求項４】前記吸水したレジスト膜は、乾燥させるこ
とでレジスト膜に影響を与えずに、繰り返し検出するこ
とができることを特徴とする請求項１から請求項３に記
載のシャドウマスク製造におけるレジスト膜の塗布ムラ
検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24776493A JPH07105838A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | レジスト膜の塗布ムラ検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24776493A JPH07105838A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | レジスト膜の塗布ムラ検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07105838A true JPH07105838A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17168313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24776493A Pending JPH07105838A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | レジスト膜の塗布ムラ検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105838A (ja) |
-
1993
- 1993-10-04 JP JP24776493A patent/JPH07105838A/ja active Pending
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