JPH0430133B2 - - Google Patents

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JPH0430133B2
JPH0430133B2 JP57182168A JP18216882A JPH0430133B2 JP H0430133 B2 JPH0430133 B2 JP H0430133B2 JP 57182168 A JP57182168 A JP 57182168A JP 18216882 A JP18216882 A JP 18216882A JP H0430133 B2 JPH0430133 B2 JP H0430133B2
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shadow mask
hole
etching
film
mask material
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明はカラーブラウン管に使用されるシヤド
ウマスクの製造方法に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
カラーブラウン管は一般家庭用、モニター用、
航空機に積載するデイスプレイ用など、その用途
が多岐にわたつており、このうち一般家庭用を別
として、モニター用、デイスプレイ用のものは極
めて微細な画質が要求されているため、これらカ
ラーブラウン管に装着されるシヤドウマスクの電
子ビーム通過孔部は高精度かつ微細なものが要求
されている。
このようなシヤドウマスクの電子ビーム通過孔
部の形状を説明すると、第1図に示すようにシヤ
ドウマスク素材1にブリツジ2を介して長手方向
に矩形状電子ビーム通過孔部3が連設されてい
る。その各矩形状電子ビーム通過孔部3は電子ビ
ーム4の入射する面が小孔31、蛍光面側の面が
大孔32である形状に形成され、かつ矩形状電子
ビーム通過孔部3の内面での電子ビーム4の反射
を防止するため、素材板厚Tに対して小孔31
深さtを微小とするほぼナイフエツジ状に形成さ
れている。また他の例として第2図に示すように
シヤドウマスク素材11に、三角形の各頂点に設
けられた円形状電子ビーム通過孔部13が同じく
電子ビーム14の入射する面が小孔131、蛍光
面側の面が大孔132である形状に形成され、こ
の円形状電子ビーム通過孔部13の内面での電子
ビーム14の反射を防止するため、素材板厚Tに
対して小側孔部131の深さtを微小とするほぼ
ナイフエツジ状に形成されている。このような電
子ビーム通過孔部はエツチングにより形成される
が、成形されたフラツトマスクはジヤドウマスク
に成形プレスする際とか、カラーブラウン管に装
着された場合に適切な機械的強度が必要である。
前述の如くエツチングにより微細かつ高精度の
電子ビーム通過孔部を穿設するには、鉄などのシ
ヤドウマスク素材の板厚が薄い時は有利である
が、板厚が薄いものは機械的強度の点で劣る。こ
のため、ある程度の機械的強度が満足されるよう
に板厚を厚くしなければならない。しかし板厚の
厚いシヤドウマスク素材に微細かつ高精度の孔部
を穿設しようとすると、エツチング時間が長くな
り、そのためにエツチングによる寸法、形状のく
ずれが生じ易く、エツチングの安定性に欠ける。
即ち、エツチングを両主面から行なうエツチン
グ方法では過度にエツチングしたり、不規則にエ
ツチングしたりする。またシヤドウマスク素材を
垂直にエツチングするに伴い、横方向のエツチン
グが進行するため、この両主面からエツチングす
る方法では微細な電子ビーム通過孔部の形成が困
難である。更にこの両主面からエツチングする方
法を連続的に帯状のシヤドウマスク素材に適用す
る場合には微細な電子ビーム通過孔部の形成が一
層困難となる。
このような両主面からエツチングする方法の諸
問題を解決する方法として、片面エツチング方法
と称し、エツチングを2段階に分け、エツチング
の前半でシヤドウマスク素材の例えば表側より一
度エツチングを行ない、洗浄乾燥したのち、ニス
やレンジなどで一時的にエツチングを行なつた面
を被覆し、エツチングの後半において裏面からエ
ツチングして電子ビーム通過孔部を形成する方法
とか、マイラーベースとかポリプロフイルムなど
を利用して部分的に遮蔽しながらエツチングする
方法などがあるが、これらはいずれも処理方法が
複雑であり、かつ手間がかかり、量産性には向か
ないという問題点がある。
この片面エツチングの改良方法として、本発明
者らは先に次のようなシヤドウマスクの製造方法
を提案した。
まず長尺のシヤドウマスク素材の両主面に感光
膜を塗布形成し、一枚のシヤドウマスクに相当す
るよう一定間隔をおいて第1図及び第2図に示し
た所定の微細孔部に対応するパターン、即ち、エ
ツチング終了時点で両主面の開孔サイズが異なる
ように設定された小孔形成部、大孔形成部を光露
光法により形成する。次いでシヤドウマスクの一
方の面、例えば第1図の電子銃側の小側孔部31
に対応する面に接着剤により有機フイルムを圧着
する。その接着剤としてはアクリル樹脂を用い、
有機フイルムとしては0.1mmのポリエチレンフイ
ルムを用いる。
この有機スイルムの圧着は第3図に示すよう
に、適用するシヤドウマスク素材21に対応する
幅の有機フイルム15に予め接着剤を塗布してお
き、これを剥離紙16で被覆し、ロール状のドラ
ムから供給する。有機フイルム15はローラ17
により張力をかけながら同時にローラ18によつ
て剥離紙16が分離される。次いで有機フイルム
15は接着剤塗布面がシヤドウマスク素材21に
対接するようにローラ19及び20によつて加圧
されながら圧着される。この時の加圧力は約2
Kg/cm2で、有機フイルム15の粘着力は200〜400
(g/25mm幅)が好ましいとしている。
しかるにこのような粘着力で有機フイルム15
をシヤドウマスク素材21に圧着すると、有機フ
イルム15とシヤドウマスク素材21との間に腐
蝕液が浸透することは阻止出来るが、後工程で有
機フイルム15を剥離しても、接着剤がシヤドウ
マスク素材21の特に孔形成部に残存し易く、こ
の接着剤が腐蝕工程における孔部の形成を妨害
し、最終的に電子ビーム通過孔部の孔ずまりとか
孔径不良などを起すという問題点があることがわ
かつた。
〔発明の目的〕
本発明は前述した諸問題に鑑みなされたもので
あり、片面エツチング方法によりシヤドウマスク
素材に高精細な電子ビーム通過孔を穿設すること
が可能なシヤドウマスクの製造方法を提供するこ
とを目的としている。
〔発明の概要〕
即ち、本発明は長尺のシヤドウマスク素材の両
主面にそれぞれ大孔及び小孔形成部を除き感光膜
を残存させる工程と、シヤドウマスク素材のいず
れか一方の主面の幅方向両端部近傍の有効面外に
接着剤を介して、この一方の主面を覆う耐エツチ
ング液性のフイルムを圧着する工程と、前述シヤ
ドウマスク素材の他方の主面の前記大孔または小
孔形成部を介してエツチングにより第1の孔部を
形成する第1のエツチング工程と、第1の孔部内
にエツチング液の遮蔽剤を充填する工程と、フイ
ルムを剥離する工程と、シヤドウマスク素材の一
方の主面から大孔または小孔形成部を介して遮蔽
剤を露出し、所望径の電子ビーム通過孔部を形成
し得るまで第2の孔部を形成する第2のエツチン
グ工程と、遮蔽剤及び感光膜を除去する工程とを
具備することを特徴とするシヤドウマスクの製造
方法である。
〔発明の実施例〕
次に本発明の一実施例を第4図乃至第9図によ
り説明する。
先ずエツチングに先立つて長尺のシヤドウマス
ク素材としての鉄を主成分とする金属板やアンバ
ー板の両主面を清浄にしたのち、このシヤドウマ
スク素材に牛乳カゼインを主成分とした感光液、
即ち増光剤として重クロム酸アンモニウムを牛乳
カゼインに対して重量%で約1%添加し、比重
1.028に調整した感光液をデイツプ法による垂直
引上げ方法で塗布し、約100℃の雰囲気中で約10
分間乾燥して両主面に感光膜を形成する。
次に露光工程において、この両主面の感光膜上
に小孔用ネガパターン、大孔用ネガパターンから
なるネガ原板を密接して水銀ランプで露光を行な
う。次に約40℃の温純水にて現像したのち150℃
の雰囲気で乾燥し、次に200℃の雰囲気でバーニ
ングすることにより第4図に示すように両主面に
それぞれ孔径d1の小孔形成部34及び孔径d2の大
孔形成部35を除いて感光膜32,33が残存し
てなるシヤドウマスク部材31を形成する。
次に第8図及び第9図に示すように、例えば小
孔形成部34が形成されたシヤドウマスク部材3
1の幅方向の両端部にアクリル樹脂などからなる
接着剤36を使用してシヤドウマスク部材31の
小孔形成部34の形成された一方の主面を覆うよ
うに例えばポリエチレンなどからなる耐エツチン
グ液性を有するフイルム37を圧着する。
この圧着方法は第3図と同様なので特に図示し
ないが、シヤドウマスク素材に対応する幅のフイ
ルムに予め接着剤36が塗布され剥離紙で被覆さ
れてロール状に巻かれたドラムから供給され、フ
イルム37はローラにより張力をかけながら同時
に他のローラにより剥離紙を分離し、次いでフイ
ルム37を接着剤36の塗布面がシヤドウマスク
部材31の一方の主面に対接するようにローラに
よつて加圧しながら圧着する。この時の圧力は約
2Kg/cm2でフイルム37の粘着力は200〜400
(g/25cm幅)であることが好ましい。この場合、
注意することは接着剤36が鎖線38で示すフラ
ツトマスクとなる有効面内に入らないようにする
ことである。
次に第5図に示すように大孔形成部35側から
スプレイエツチングにより所定の第1の孔部とし
て大孔39を所定深さに形成する。
次いで水洗し、ホツトエアにより乾燥した後、
第6図に示すように少なくとも大孔39部内にパ
ラフインなどのエツチング液の遮蔽剤40を充填
する。
次にフイルム37を剥離し、小孔形成部34側
からスプレイエツチングにより遮蔽剤40を露出
して所望径の電子ビーム通過孔部を形成し得るま
で第2の孔部としての小孔41を形成する。
次に第7図に示すように遮蔽剤40を除去し、
径D1の開口部を有する小孔41と径D2の開口部
を有する大孔39からなる電子ビーム通過孔部4
2を得る。
次に感光膜32,33を除去することによりフ
ラツトマスクを完成する。
前記実施例ではフイルムを小孔形成部のあるシ
ヤドウマスク部材側に設けたが、これは大孔形成
部のあるシヤドウマスク部材側に設けてもよい。
また小孔及び大孔形成部は円形の他に矩形にして
もよいことは説明するまでもない。
〔発明の効果〕
上述のように本発明によれば、片面エツチング
方法で一方の主面のエツチング防止をフイルムに
より行ない、かつこのフイルムの接着剤を使用し
たシヤドウマスク部材への圧着をフラツトマスク
となる有効部外で行なうので、フイルムの剥離時
にフラツトマスク形成部内、特に小孔や大孔形成
部にフイルムが残存することがなく、極めて品位
の良好なシヤドウマスクを得ることが可能であ
り、この工業的価値は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図はシヤドウマスク素材に矩形状孔部を穿
設した状態を示す図であり、a図は平面図、b図
はaのA−A′に沿う断面図、第2図はシヤドウ
マスク素材に円形状孔部を穿設した状態を示す図
であり、a図は平面図、b図はa図のB−B′線
に沿う断面図、第3図は先願の一工程に使用する
フイルム圧着装置を示す概略図、第4図乃至第9
図は本発明のシヤドウマスクの製造方法を示す図
であり、第4図はシヤドウマスク素材の両主面に
小孔及び大孔形成部を除いて感光膜を残存させた
状態を示す断面図、第5図はシヤドウマスク部材
の小孔形成部側にフイルムを設け、大孔形成部側
から第1の孔部を穿設した状態を示す断面図、第
6図は第1の孔部にエツチング液の遮蔽剤を充填
し、フイルムを除去し、小孔形成部側から第2の
孔部を穿設した状態を示す断面図、第7図は遮蔽
剤を除去した状態を示す断面図、第8図はフイル
ムを接着剤を介してシヤドウマスク部材の小孔形
成部側に圧着した状態を示す斜視図、第9図は第
8図のA部拡大図である。 1,11,31……シヤドウマスク素材、3,
13,42……電子ビーム通過孔部、15,37
……フイルム、32,33……感光膜、34……
小孔形成部、35……大孔形成部、36……接着
剤、39……第1の孔部、40……遮蔽剤、41
……第2の孔部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 長尺のシヤドウマスク素材の両主面にそれぞ
    れ大孔及び小孔形成部を除き感光膜を残存させる
    工程と、前記シヤドウマスク素材のいずれか一方
    の主面の幅方向両端部近傍の有効面外に接着剤を
    介して、この一方の主面を覆う耐エツチング液性
    のフイルムを圧着する工程と、前記シヤドウマス
    ク素材の他方の主面の前記大孔または小孔形成部
    を介してエツチングにより第1の孔部を形成する
    第1のエツチング工程と、前記第1の孔部内にエ
    ツチング液の遮蔽剤を充填する工程と、前記フイ
    ルムを剥離する工程と、前記シヤドウマスク素材
    の一方の主面から前記大孔または小孔形成部を介
    して前記遮蔽剤を露出し、所望径の電子ビーム通
    過孔部を形成し得るまで第2の孔部を形成する第
    2のエツチング工程と、前記遮蔽剤及び前記感光
    膜を除去する工程とを具備することを特徴とする
    シヤドウマスクの製造方法。
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