JPH0710588A - ケーン・アセンブリを保持する装置およびケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる方法 - Google Patents
ケーン・アセンブリを保持する装置およびケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる方法Info
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- JPH0710588A JPH0710588A JP6160759A JP16075994A JPH0710588A JP H0710588 A JPH0710588 A JP H0710588A JP 6160759 A JP6160759 A JP 6160759A JP 16075994 A JP16075994 A JP 16075994A JP H0710588 A JPH0710588 A JP H0710588A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01486—Means for supporting, rotating or translating the preforms being formed, e.g. lathes
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的はファイバの同心度を改善する
光ファイバプリフォ−ムを作成することである。 【構成】 光ファイバ・プリフォ−ムを作成するために
ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させる間にそのケ
−ン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って引張り力を
加える装置および方法であって、このようなプリフォ−
ムから線引きされたファイバが改善されたコア／クラッ
ド同心度を呈示するようになされている。上記引張り力
はケ−ン・アセンブリの一端部または両端部に印加され
うるが、両端部に印加されるほうが好ましい。この引張
り力はス−トの沈積時に変化されうる。ケ−ン・アセン
ブリはその上にス−トが沈積され始める前にアニ−ルさ
れうる。
光ファイバプリフォ−ムを作成することである。 【構成】 光ファイバ・プリフォ−ムを作成するために
ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させる間にそのケ
−ン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って引張り力を
加える装置および方法であって、このようなプリフォ−
ムから線引きされたファイバが改善されたコア／クラッ
ド同心度を呈示するようになされている。上記引張り力
はケ−ン・アセンブリの一端部または両端部に印加され
うるが、両端部に印加されるほうが好ましい。この引張
り力はス−トの沈積時に変化されうる。ケ−ン・アセン
ブリはその上にス−トが沈積され始める前にアニ−ルさ
れうる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は延伸して改良されたコア
／クラッド同心度を有するファイバとなされ得る光ファ
イバ・プリフォ−ムを製造する装置に関する。
／クラッド同心度を有するファイバとなされ得る光ファ
イバ・プリフォ−ムを製造する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバの製造においては、通常外付
け法（ＯＶＤ）、軸付け法（ＶＡＤ）または修正された
化学蒸気沈積法（ＭＣＶＤ）のいずれかを用いて作成さ
れる。外付け法および軸付け法のプリフォ−ムは中実の
ガラス母材を形成するために脱水されそしてコンソリデ
−ト(consolidate）され、他方、ＭＣＶＤプリフォ−ム
は中実のガラス母材を形成するためにコアプス（collap
se）される。あるいは、それらのガラス母材が延伸され
コア・ケ−ンとなされ、それがＯＶＤまたはロッド・イ
ン・チュ−ブ法を用いてオ−バ−クラッドされてオ−バ
−クラッド・プリフォ−ムを形成することができる。そ
のオ−バ−クラッド・プリフォ−ムは続いて脱水されそ
してコンソリデ−トされてオ−バ−クラッド・ガラウ母
材を形成し、この母材が延伸されてファイバとなされ
る。
け法（ＯＶＤ）、軸付け法（ＶＡＤ）または修正された
化学蒸気沈積法（ＭＣＶＤ）のいずれかを用いて作成さ
れる。外付け法および軸付け法のプリフォ−ムは中実の
ガラス母材を形成するために脱水されそしてコンソリデ
−ト(consolidate）され、他方、ＭＣＶＤプリフォ−ム
は中実のガラス母材を形成するためにコアプス（collap
se）される。あるいは、それらのガラス母材が延伸され
コア・ケ−ンとなされ、それがＯＶＤまたはロッド・イ
ン・チュ−ブ法を用いてオ−バ−クラッドされてオ−バ
−クラッド・プリフォ−ムを形成することができる。そ
のオ−バ−クラッド・プリフォ−ムは続いて脱水されそ
してコンソリデ−トされてオ−バ−クラッド・ガラウ母
材を形成し、この母材が延伸されてファイバとなされ
る。
【０００３】延伸されたファイバにおける関心のある１
つのパラメ−タはコア／クラッド同心度（以下同心度と
呼ぶ）である。同心度はファイバのコアがいかに良くフ
ァイバの全体中心に対して中心に位置付けられているか
の目安である。
つのパラメ−タはコア／クラッド同心度（以下同心度と
呼ぶ）である。同心度はファイバのコアがいかに良くフ
ァイバの全体中心に対して中心に位置付けられているか
の目安である。
【０００４】オ−バ−クラッド・プリフォ−ムの場合に
は、同心度はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積工程時に決
定される。例えば、ケ−ン・アセンブリでは、上方のケ
−ン・ハンドルと下方のケ−ン・ハンドルにロッドが付
着されうる。ケ−ン・アセンブリが完全に真っ直ぐに作
成されていない場合には、ス−ト沈積処理時に回転され
る場合に同様して、ス−ト流に対するケ−ン・アセンブ
リの相対移動によりケ−ンのまわりにス−トの不均一な
沈積を生ずることになるであろう。たとえケ−ン・アセ
ンブリが完全に真っ直ぐなされたとしても、、特に光フ
ァイバ・アセンブリの強度と直径の両方が近年増大して
いるので、ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加
熱することによって生ずるケ−ン・アセンブリにおける
応力の変化に基因してウォッブル（wobble）が発生しや
すい。ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加熱す
ることによってケ−ン内の応力パタ−ンが変化しそして
それによってもウォッブルを発生することになるので、
ケ−ン・アセンブリを保持しているチャックを調節する
必要があるが、これが厄介かつ時間のかかる作業であ
り、しかもその作業が繰返し行われなければならない。
は、同心度はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積工程時に決
定される。例えば、ケ−ン・アセンブリでは、上方のケ
−ン・ハンドルと下方のケ−ン・ハンドルにロッドが付
着されうる。ケ−ン・アセンブリが完全に真っ直ぐに作
成されていない場合には、ス−ト沈積処理時に回転され
る場合に同様して、ス−ト流に対するケ−ン・アセンブ
リの相対移動によりケ−ンのまわりにス−トの不均一な
沈積を生ずることになるであろう。たとえケ−ン・アセ
ンブリが完全に真っ直ぐなされたとしても、、特に光フ
ァイバ・アセンブリの強度と直径の両方が近年増大して
いるので、ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加
熱することによって生ずるケ−ン・アセンブリにおける
応力の変化に基因してウォッブル（wobble）が発生しや
すい。ス−ト沈積処理時にケ−ン・アセンブリを加熱す
ることによってケ−ン内の応力パタ−ンが変化しそして
それによってもウォッブルを発生することになるので、
ケ−ン・アセンブリを保持しているチャックを調節する
必要があるが、これが厄介かつ時間のかかる作業であ
り、しかもその作業が繰返し行われなければならない。
【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積時にウォッブルを軽減
することによって光ファイバのコア／クラッド同心度を
改善することである。本発明の他の目的はオ−バ−クラ
ッド・ス−ト沈積のために用いられる装置の利用を改善
することである。
はオ−バ−クラッド・ス−ト沈積時にウォッブルを軽減
することによって光ファイバのコア／クラッド同心度を
改善することである。本発明の他の目的はオ−バ−クラ
ッド・ス−ト沈積のために用いられる装置の利用を改善
することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の１つの態様によ
れば、ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させるため
の装置にそのケ−ン・アセンブリを装填するために要す
る時間を実質的に短縮しかつケ−ン・アセンブリの端部
に対する精密でかつ堅固な把持を与えるケ−ン・アセン
ブリ把持装置が提供される。
れば、ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させるため
の装置にそのケ−ン・アセンブリを装填するために要す
る時間を実質的に短縮しかつケ−ン・アセンブリの端部
に対する精密でかつ堅固な把持を与えるケ−ン・アセン
ブリ把持装置が提供される。
【０００７】本発明の他の態様によれば、装填されたケ
−ン・アセンブリにテンションを与えるケ−ン・アセン
ブリが提供され、この場合、そのテンションがス−ト沈
積処理時に生ずる加熱によって発生する応力の変化によ
って誘起されるウォッブルを軽減する作用をする。
−ン・アセンブリにテンションを与えるケ−ン・アセン
ブリが提供され、この場合、そのテンションがス−ト沈
積処理時に生ずる加熱によって発生する応力の変化によ
って誘起されるウォッブルを軽減する作用をする。
【０００８】
【実施例】図３は本発明の１つの態様による上方ケ−ン
把持アセンブリ３０を示している。図３の上方ケ−ン把
持アセンブリ３０は図２の上方チャック１１と同様に位
置決めされる。上方ケ−ン・ハンドル３１（図１の上方
ケ−ン・ハンドル３と同様のものである）はカップ３２
によって垂直に支持されている。カップ３２は上方ケ−
ン・ハンドル３１の軸線と直交関係にある平面内を移動
することができるようになされちえる。シェル・クラン
プ３３は上方ケ−ン・ハンドルの軸線に対して直交関係
にある平面内に上方ケ−ン・ハンドル３１を堅固に位置
決めする。ノブ３４はシェル・クランプ３３を開閉する
ために用いられる。上方ケ−ン・ハンドル３１の直径は
シェル・クランプ３３の内径に合致しており、上方ケ−
ン・ハンドル３１が精密にかつ堅固に保持されるように
なされている。図３の上方スピンドル３５は図２の上方
スピンドル１３と同様に位置決めされる。
把持アセンブリ３０を示している。図３の上方ケ−ン把
持アセンブリ３０は図２の上方チャック１１と同様に位
置決めされる。上方ケ−ン・ハンドル３１（図１の上方
ケ−ン・ハンドル３と同様のものである）はカップ３２
によって垂直に支持されている。カップ３２は上方ケ−
ン・ハンドル３１の軸線と直交関係にある平面内を移動
することができるようになされちえる。シェル・クラン
プ３３は上方ケ−ン・ハンドルの軸線に対して直交関係
にある平面内に上方ケ−ン・ハンドル３１を堅固に位置
決めする。ノブ３４はシェル・クランプ３３を開閉する
ために用いられる。上方ケ−ン・ハンドル３１の直径は
シェル・クランプ３３の内径に合致しており、上方ケ−
ン・ハンドル３１が精密にかつ堅固に保持されるように
なされている。図３の上方スピンドル３５は図２の上方
スピンドル１３と同様に位置決めされる。
【０００９】下方ケ−ン把持アセンブリ４０は図４に示
されておりかつ図２における下方チャック１２と同様に
にス−ト沈積装置上に配置される。下方ケ−ン・ハンド
ル４１は下方ケ−ン把持アセンブリ４０に挿入される。
シェル・クランプ４２は下方ケ−ン・ハンドル４１の軸
線に対して直交関係にある平面内に下方ケ−ン・ハンド
ル４１を堅固に位置決めする。ノブ４３はシェル・クラ
ンプ４２を開閉するために用いられる。下方ケ−ン・ハ
ンドル３１の直径はシェル・クランプ４２の内径に合致
していおり、下方ケ−ン・ハンドル３１が精密にかつ堅
固に保持されるようになされている。下方スピンドル４
４は図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めされ
る。上方および下方ケ−ン・ハンドルを形成するために
心なし研削法を用いることによって、精密な直径を有し
かつ断面が非常に丸い、すなわち長手方向の軸線に関し
てほとんど偏心度を有しないハンドルが設けられる。こ
のことはケ−ン・ハンドルと把持アセンブリの内径との
間に非常に厳密な裕度を見込んでおり、ハンドルが把持
アセンブリによって精密にかつ堅固に把持されるように
なされている。
されておりかつ図２における下方チャック１２と同様に
にス−ト沈積装置上に配置される。下方ケ−ン・ハンド
ル４１は下方ケ−ン把持アセンブリ４０に挿入される。
シェル・クランプ４２は下方ケ−ン・ハンドル４１の軸
線に対して直交関係にある平面内に下方ケ−ン・ハンド
ル４１を堅固に位置決めする。ノブ４３はシェル・クラ
ンプ４２を開閉するために用いられる。下方ケ−ン・ハ
ンドル３１の直径はシェル・クランプ４２の内径に合致
していおり、下方ケ−ン・ハンドル３１が精密にかつ堅
固に保持されるようになされている。下方スピンドル４
４は図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めされ
る。上方および下方ケ−ン・ハンドルを形成するために
心なし研削法を用いることによって、精密な直径を有し
かつ断面が非常に丸い、すなわち長手方向の軸線に関し
てほとんど偏心度を有しないハンドルが設けられる。こ
のことはケ−ン・ハンドルと把持アセンブリの内径との
間に非常に厳密な裕度を見込んでおり、ハンドルが把持
アセンブリによって精密にかつ堅固に把持されるように
なされている。
【００１０】上方および下方ケ−ン把持アセンブリを図
３および４に示されているように保持することによっ
て、ケ−ン・アセンブリが両端部において実質的に垂直
となる。上方および下方ケ−ン把持アセンブリが互いに
対して適切に心合されている場合には、そこに保持され
たケ−ン・アセンブリのウォッブルが、４倍まで実質的
に軽減される。
３および４に示されているように保持することによっ
て、ケ−ン・アセンブリが両端部において実質的に垂直
となる。上方および下方ケ−ン把持アセンブリが互いに
対して適切に心合されている場合には、そこに保持され
たケ−ン・アセンブリのウォッブルが、４倍まで実質的
に軽減される。
【００１１】図２に示された空気軸受１７、１８、１９
および２０はケ−ン・アセンブリの軸線の方向に本質的
に摩擦なしであるから、ケ−ン・アセンブリは下方ケ−
ン把持アセンブリの重量によって緊張状態に置かれる。
ケ−ン・アセンブリに対する付加的な引張り力は、ス−
ト沈積時にケ−ン・アセンブリに生ずる応力で発生する
ウォッブルを軽減するために好ましい。しかし、装置の
信頼性のために、下方チャックに重量を付加することな
しにケ−ン・アセンブリに対する引張り力を増大させる
ことが好ましい。この付加される重量は上方スピンドル
１３より上の駆動部品に対する応力を増大させ、それら
の部品の故障の可能性を増大させることになる。また、
その付加される重量は駆動部品、把持アセンブリ、ケ−
ン・アセンブリおよびその上に沈積されるオ−バ−クラ
ッド・ス−トの全体の重量が計量装置１５の容量を超過
することになるおそれがある。もちろん、この最後の限
界は計量装置１５をそれより容量の大きい装置と交換す
ることによって克服づることが可能であるが、容量の大
きい装置は重量測定の精度を低下させることになるであ
ろうから、そのようにすることは好ましくない。
および２０はケ−ン・アセンブリの軸線の方向に本質的
に摩擦なしであるから、ケ−ン・アセンブリは下方ケ−
ン把持アセンブリの重量によって緊張状態に置かれる。
ケ−ン・アセンブリに対する付加的な引張り力は、ス−
ト沈積時にケ−ン・アセンブリに生ずる応力で発生する
ウォッブルを軽減するために好ましい。しかし、装置の
信頼性のために、下方チャックに重量を付加することな
しにケ−ン・アセンブリに対する引張り力を増大させる
ことが好ましい。この付加される重量は上方スピンドル
１３より上の駆動部品に対する応力を増大させ、それら
の部品の故障の可能性を増大させることになる。また、
その付加される重量は駆動部品、把持アセンブリ、ケ−
ン・アセンブリおよびその上に沈積されるオ−バ−クラ
ッド・ス−トの全体の重量が計量装置１５の容量を超過
することになるおそれがある。もちろん、この最後の限
界は計量装置１５をそれより容量の大きい装置と交換す
ることによって克服づることが可能であるが、容量の大
きい装置は重量測定の精度を低下させることになるであ
ろうから、そのようにすることは好ましくない。
【００１２】駆動部品に対する応力を増大させることな
しにケ−ン・アセンブリに付加的な引張り力を与えるた
めに、図５に示された空気軸受アセンブリが設けられ
る。図５に示されているように、空気軸受アセンブリ５
０はケ−ン・アセンブリの下端部で使用するためのもの
である。図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めさ
れる下方スピンドル５１は段付き直径のシャフトであ
る。スピンドル５１の上方部分５２は下方部分５３より
小さい直径を有している。上方の空気軸受５４は上方部
分５２に対する寸法となされており、そして下方の空気
軸受５５は下方部分５３に対する寸法となされている。
軸受ブロック５６は空気供給ポ−ト５７ａおよび５７ｂ
を具備しており、それらの空気供給口は空気軸受の動作
のために十分な圧力で空気供給源（図示せず）に連結さ
れている。軸受ブロック５６には上方空気軸受５４と下
方空気軸受５５との間に空洞５８が位置決めされてい
る。圧力レギュレ−タ５９が空洞５８に連結されてい
る。
しにケ−ン・アセンブリに付加的な引張り力を与えるた
めに、図５に示された空気軸受アセンブリが設けられ
る。図５に示されているように、空気軸受アセンブリ５
０はケ−ン・アセンブリの下端部で使用するためのもの
である。図２の下方スピンドル１６と同様に位置決めさ
れる下方スピンドル５１は段付き直径のシャフトであ
る。スピンドル５１の上方部分５２は下方部分５３より
小さい直径を有している。上方の空気軸受５４は上方部
分５２に対する寸法となされており、そして下方の空気
軸受５５は下方部分５３に対する寸法となされている。
軸受ブロック５６は空気供給ポ−ト５７ａおよび５７ｂ
を具備しており、それらの空気供給口は空気軸受の動作
のために十分な圧力で空気供給源（図示せず）に連結さ
れている。軸受ブロック５６には上方空気軸受５４と下
方空気軸受５５との間に空洞５８が位置決めされてい
る。圧力レギュレ−タ５９が空洞５８に連結されてい
る。
【００１３】空気軸受アセンブリ５０の動作は下記の通
りである。空気軸受を通って流れる空気はスピンドルに
沿って軸線方向に送られる。この空気の一部分がそのス
ピンドルに沿って上方に送られ、そしてその空気の残部
はシャフトに沿って下方に送られる。図５に示されてい
るように、上方空気軸受５４を通じて下方に送られる空
気と、下方空気軸受を通じて上方に送られる空気が空洞
５８に流入する。空洞５８は圧力レギュレ−タ５９の出
口側に連結されている。圧力レギュレ−タ５９の取入れ
口６０は、ポ−ト５７ａおよび５７ｂを通じて軸受ブロ
ック５６に入るのと同じ空気供給源に連結されている。
りである。空気軸受を通って流れる空気はスピンドルに
沿って軸線方向に送られる。この空気の一部分がそのス
ピンドルに沿って上方に送られ、そしてその空気の残部
はシャフトに沿って下方に送られる。図５に示されてい
るように、上方空気軸受５４を通じて下方に送られる空
気と、下方空気軸受を通じて上方に送られる空気が空洞
５８に流入する。空洞５８は圧力レギュレ−タ５９の出
口側に連結されている。圧力レギュレ−タ５９の取入れ
口６０は、ポ−ト５７ａおよび５７ｂを通じて軸受ブロ
ック５６に入るのと同じ空気供給源に連結されている。
【００１４】空洞５８内の圧力は圧力レギュレ−タ５９
を調節することによって制御され得る。レギュレ−タ５
９を通じて空洞５８内に空気が入らないことが好まし
い。と言うより、圧力レギュレ−タ５９は空気軸受を通
じて空洞に入る空気を流出させることによって空洞５８
内の圧力を制御する。
を調節することによって制御され得る。レギュレ−タ５
９を通じて空洞５８内に空気が入らないことが好まし
い。と言うより、圧力レギュレ−タ５９は空気軸受を通
じて空洞に入る空気を流出させることによって空洞５８
内の圧力を制御する。
【００１５】空洞５８を加圧することによって、空気ピ
ストンが形成され、この場合、空気軸受が本質的に摩擦
の無いシ−ルとして機能する。スピンドルの上方および
下方部分の断面積の差によって、下方部分に下向きの力
が加えられることになる。この下向きの力は下方スピン
ドルに装着されたケ−ン・アセンブリに加えられるであ
ろう。その下向きの力の大きさは断面積の差を変更する
ことによってまたは空洞５８内の圧力を変化させること
によって調節することができる。
ストンが形成され、この場合、空気軸受が本質的に摩擦
の無いシ−ルとして機能する。スピンドルの上方および
下方部分の断面積の差によって、下方部分に下向きの力
が加えられることになる。この下向きの力は下方スピン
ドルに装着されたケ−ン・アセンブリに加えられるであ
ろう。その下向きの力の大きさは断面積の差を変更する
ことによってまたは空洞５８内の圧力を変化させること
によって調節することができる。
【００１６】空気軸受アセンブリ５０を反転することに
よって、その空気軸受アセンブリはス−ト沈積装置の上
方端部で使用できる。ケ−ン・アセンブリの頂部と底部
の両方に空気軸受アセンブリを配置することによって、
ス−ト沈積装置の頂部における駆動部品に対する応力を
増大させることなしに、ケ−ン・アセンブリに対するテ
ンションを増大させることができる。
よって、その空気軸受アセンブリはス−ト沈積装置の上
方端部で使用できる。ケ−ン・アセンブリの頂部と底部
の両方に空気軸受アセンブリを配置することによって、
ス−ト沈積装置の頂部における駆動部品に対する応力を
増大させることなしに、ケ−ン・アセンブリに対するテ
ンションを増大させることができる。
【００１７】図６は図５に示されかつ上述したものと同
様の上方および下方軸受アセンブリを有するス−ト沈積
装置を示している。ケ−ン・アセンブリ１００が上方チ
ャック１０１および下方チャック１０２によって保持さ
れる。上方チャック１０１は段付き直径シャフトである
上方スピンドル１０３に装着される。上方スピンドル１
０３は、上方軸受アセンブリ１０４によって、それの軸
線に対して直交する方向には移動しないように拘束され
る。上方軸受アセンブリ１０４は空気軸受１０５および
１０６、空気供給ポ−ト１０７ａおよび１０７ｂ、空洞
１０８および圧力レギュレ−タ・ポ−ト１０９を具備し
ている。上方スピンドル１０３は、図示されてはいない
が図２に示されたものと同様の回転および計量装置に装
着される。上方スピンドル１０３および上方軸受アセン
ブリ１０４の設計によって上向きの力がケ−ン・アセン
ブリに発生される。
様の上方および下方軸受アセンブリを有するス−ト沈積
装置を示している。ケ−ン・アセンブリ１００が上方チ
ャック１０１および下方チャック１０２によって保持さ
れる。上方チャック１０１は段付き直径シャフトである
上方スピンドル１０３に装着される。上方スピンドル１
０３は、上方軸受アセンブリ１０４によって、それの軸
線に対して直交する方向には移動しないように拘束され
る。上方軸受アセンブリ１０４は空気軸受１０５および
１０６、空気供給ポ−ト１０７ａおよび１０７ｂ、空洞
１０８および圧力レギュレ−タ・ポ−ト１０９を具備し
ている。上方スピンドル１０３は、図示されてはいない
が図２に示されたものと同様の回転および計量装置に装
着される。上方スピンドル１０３および上方軸受アセン
ブリ１０４の設計によって上向きの力がケ−ン・アセン
ブリに発生される。
【００１８】下方チャック１０２は下方スピンドル１１
０に装着される。下方スピンドル１１０は、下方軸受ア
センブリ１１１によって、それの軸線に対して垂直方向
に移動しないように拘束される。下方軸受アセンブリ１
１１は空気軸受１１２および１１３、空気供給ポ−ト１
１４ａおよび１１４ｂ、空洞１１５および圧力レギュレ
−タ・ポ−ト１１６を具備している。下方スピンドル１
１０および下方軸受アセンブリ１１１の設計によって、
下向きの力がケ−ン・アセンブリ１００に発生される。
０に装着される。下方スピンドル１１０は、下方軸受ア
センブリ１１１によって、それの軸線に対して垂直方向
に移動しないように拘束される。下方軸受アセンブリ１
１１は空気軸受１１２および１１３、空気供給ポ−ト１
１４ａおよび１１４ｂ、空洞１１５および圧力レギュレ
−タ・ポ−ト１１６を具備している。下方スピンドル１
１０および下方軸受アセンブリ１１１の設計によって、
下向きの力がケ−ン・アセンブリ１００に発生される。
【００１９】圧力レギュレ−タ・ポ−ト１０９および１
１６がテンション制御圧力ライン１１８によって１つの
圧力レギュレ−タ１１７に連結されて図６に示されてい
る。これは空洞１０８および１１５に同じ圧力が存在す
るようにする。圧力が空洞１０８および１５５内で等し
くかつスピンドル１０３および１１０の上方および下方
部分の断面積の差が等しい場合には、ケ−ン・アセンブ
リに対する本発明によって生ずる上向きおよび下向きの
力が等しくなるであろう。したがって、上方スピンドル
より上の駆動部品に付加的な応力を加えることなしに、
ケ−ン・アセンブリがテンション状態に置かれるであろ
う。空洞のそれぞれに対して独別の圧力レギュレ−タを
配置して、空洞内に異なる圧力を加えることができるよ
うにすることが可能であるが、これは上方スピンドルよ
り上の駆動部品に付加的な応力を誘起することになるで
あろう。また、図６に示されているように、単一の圧力
レギュレ−タを使用すると、装置の加熱によって生ずる
圧力変化から生じ得るス−ト沈積処理時における誤った
重量の読みを回避することができる。
１６がテンション制御圧力ライン１１８によって１つの
圧力レギュレ−タ１１７に連結されて図６に示されてい
る。これは空洞１０８および１１５に同じ圧力が存在す
るようにする。圧力が空洞１０８および１５５内で等し
くかつスピンドル１０３および１１０の上方および下方
部分の断面積の差が等しい場合には、ケ−ン・アセンブ
リに対する本発明によって生ずる上向きおよび下向きの
力が等しくなるであろう。したがって、上方スピンドル
より上の駆動部品に付加的な応力を加えることなしに、
ケ−ン・アセンブリがテンション状態に置かれるであろ
う。空洞のそれぞれに対して独別の圧力レギュレ−タを
配置して、空洞内に異なる圧力を加えることができるよ
うにすることが可能であるが、これは上方スピンドルよ
り上の駆動部品に付加的な応力を誘起することになるで
あろう。また、図６に示されているように、単一の圧力
レギュレ−タを使用すると、装置の加熱によって生ずる
圧力変化から生じ得るス−ト沈積処理時における誤った
重量の読みを回避することができる。
【００２０】ケ−ン・アセンブリが保持されるテンショ
ンはそのケ−ン・アセンブリを上方および下方把持アセ
ンブリによって確立された中心線に向って移動させるよ
うに作用する。この作用や、ス−ト沈積処理時における
加熱の結果としてケ−ン・アセンブリにおける応力がた
とえ変化しても生ずる。したがって、ケ−ン・アセンブ
リにおける応力の変化によって生ずるウォッブルが実質
的に軽減されるであろう。この設計によれば、ロ−ディ
ング（loading）およびアンロ−ディング（unloading）
作業時に空洞に圧力が存在しないように圧力レギュレ−
タを設定することによってケ−ン・アセンブリのオ−デ
ィングおよびス−ト・プリフォ−ムのアンロ−ディング
を容易に行うことができる。
ンはそのケ−ン・アセンブリを上方および下方把持アセ
ンブリによって確立された中心線に向って移動させるよ
うに作用する。この作用や、ス−ト沈積処理時における
加熱の結果としてケ−ン・アセンブリにおける応力がた
とえ変化しても生ずる。したがって、ケ−ン・アセンブ
リにおける応力の変化によって生ずるウォッブルが実質
的に軽減されるであろう。この設計によれば、ロ−ディ
ング（loading）およびアンロ−ディング（unloading）
作業時に空洞に圧力が存在しないように圧力レギュレ−
タを設定することによってケ−ン・アセンブリのオ−デ
ィングおよびス−ト・プリフォ−ムのアンロ−ディング
を容易に行うことができる。
【００２１】ケ−ン・アセンブリに加えられるテンショ
ンはス−ト沈積処理時に変化されうる。この変化は圧力
レギュレ−タの手動調節によってまたは空洞内の圧力の
自動測定、調節および制御のための部品を設けることに
よって行なわれうる。ケ−ン・アセンブリ把持機構によ
って生ずるプリフォ−ムの破壊のおそれを軽減するよう
にケ−ン・アセンブリに加えられるテンションを調節す
ることが望ましいであろう。このような破壊の一例はケ
−ン・アセンブリ上での下方チャックの滑りであり、こ
れは下端部が下方チャックから自由になった場合にプリ
フォ−ムに対する物理的損傷によるプリフォ−ム全体の
損失を生ずることになる。
ンはス−ト沈積処理時に変化されうる。この変化は圧力
レギュレ−タの手動調節によってまたは空洞内の圧力の
自動測定、調節および制御のための部品を設けることに
よって行なわれうる。ケ−ン・アセンブリ把持機構によ
って生ずるプリフォ−ムの破壊のおそれを軽減するよう
にケ−ン・アセンブリに加えられるテンションを調節す
ることが望ましいであろう。このような破壊の一例はケ
−ン・アセンブリ上での下方チャックの滑りであり、こ
れは下端部が下方チャックから自由になった場合にプリ
フォ−ムに対する物理的損傷によるプリフォ−ム全体の
損失を生ずることになる。
【００２２】本発明の方法の一例について図６に示され
たものを参照して説明しよう。この実施例は空気圧シス
テムを用いてケ−ン・アセンブリ１００に引張り力を印
加する。レギュレ−タ１１７は空洞１０８および１１５
内に通常の大気圧が存在するように調節される。これは
上方チャック１０１または下方チャック１０２の何れに
も力を発生せず、かつ装置に対するケ−ン・アセンブリ
のロ−ディングを容易にする。ケ−ン・アセンブリ１０
０が上方チャック内１０１に配置されそしてそこに保持
される。その後でケ−ン・アセンブリ１００は下方チャ
ック１０２内に配置され、そこに保持される。好ましい
実施例では、上方チャック１０１および下方チャック１
０２は図３および４に示されたシェル・クランプ・チャ
ックである。
たものを参照して説明しよう。この実施例は空気圧シス
テムを用いてケ−ン・アセンブリ１００に引張り力を印
加する。レギュレ−タ１１７は空洞１０８および１１５
内に通常の大気圧が存在するように調節される。これは
上方チャック１０１または下方チャック１０２の何れに
も力を発生せず、かつ装置に対するケ−ン・アセンブリ
のロ−ディングを容易にする。ケ−ン・アセンブリ１０
０が上方チャック内１０１に配置されそしてそこに保持
される。その後でケ−ン・アセンブリ１００は下方チャ
ック１０２内に配置され、そこに保持される。好ましい
実施例では、上方チャック１０１および下方チャック１
０２は図３および４に示されたシェル・クランプ・チャ
ックである。
【００２３】ケ−ン・アセンブリ１００をチャックに配
置した後で、空洞１０８および１１５に約40psi（約2.7
6×105Pa）の圧力を与えるようにレギュレ−タ１１７が
調節される。その後でケ−ン・アセンブリが約100rpmで
回転される。光ファイバがそれから線引きされるプリフ
ォ−ムを作成するために、米国特許第５０６７９７５号
に開示されているのと同様のＯＶＤオ−バ−クラッド・
ス−ト沈積法が用いられる。
置した後で、空洞１０８および１１５に約40psi（約2.7
6×105Pa）の圧力を与えるようにレギュレ−タ１１７が
調節される。その後でケ−ン・アセンブリが約100rpmで
回転される。光ファイバがそれから線引きされるプリフ
ォ−ムを作成するために、米国特許第５０６７９７５号
に開示されているのと同様のＯＶＤオ−バ−クラッド・
ス−ト沈積法が用いられる。
【００２４】ケ−ン・アセンブリ上にス−トを沈積させ
る前に任意のアニ−リング工程が用いられ得る。上記米
国特許第５０６７９７５号に開示されているもののよう
な少なくとも１つのス−ト沈積用バ−ナが、それにガス
と酸素だけを流しSiCl4のようなス−ト前駆体蒸気をと
もなわないで、着火される。このバ−ナがその後でケ−
ン・アセンブリ１００をアニ−ルするために、そのケ−
ン・アセンブリの長さの少なくとも一部分に沿って振動
される。このアニ−リング工程はケ−ン・アセンブリ上
にス−トが沈積される前にこのケ−ン・アセンブリにお
ける応力を緩和させそしてこの方法を用いて作成された
母材から線引きされるファイバのコア／クラッド同心度
を改善する。
る前に任意のアニ−リング工程が用いられ得る。上記米
国特許第５０６７９７５号に開示されているもののよう
な少なくとも１つのス−ト沈積用バ−ナが、それにガス
と酸素だけを流しSiCl4のようなス−ト前駆体蒸気をと
もなわないで、着火される。このバ−ナがその後でケ−
ン・アセンブリ１００をアニ−ルするために、そのケ−
ン・アセンブリの長さの少なくとも一部分に沿って振動
される。このアニ−リング工程はケ−ン・アセンブリ上
にス−トが沈積される前にこのケ−ン・アセンブリにお
ける応力を緩和させそしてこの方法を用いて作成された
母材から線引きされるファイバのコア／クラッド同心度
を改善する。
【００２５】本発明の１つの実施例では、図６に示され
たものと同様のス−ト沈積装置が用いられる。スピンド
ル・シャフトの小径は1インチ（2.54cm）であり、大径
は1.5インチ（3.81cm）である。これによって0.982平方
インチ（6.33cm2）の断面積の差を生じた。圧力レギュ
レ−タが空洞内に約40psi（2.76×105）の圧力を与える
ようにセットされた。この断面積の差と空洞内の圧力と
の組合せにより、ケ−ン・アセンブリの各端部に約40ポ
ンド（約178N）の力を生じた。この実施例では、６箇の
沈積用バ−ナでもってアニ−ル処理が行なわれ、それら
６箇のバ−ナのすべてに対する全体の流れは120slpmCH4
および100slpmO2であり、それらのバ−ナはケ−ン・ア
センブリの長さの約60％の中間部分に沿って振動され
た。これらのバ−ナは約２０分間、ケ−ン・アセンブリ
のその部分に沿って振動された。
たものと同様のス−ト沈積装置が用いられる。スピンド
ル・シャフトの小径は1インチ（2.54cm）であり、大径
は1.5インチ（3.81cm）である。これによって0.982平方
インチ（6.33cm2）の断面積の差を生じた。圧力レギュ
レ−タが空洞内に約40psi（2.76×105）の圧力を与える
ようにセットされた。この断面積の差と空洞内の圧力と
の組合せにより、ケ−ン・アセンブリの各端部に約40ポ
ンド（約178N）の力を生じた。この実施例では、６箇の
沈積用バ−ナでもってアニ−ル処理が行なわれ、それら
６箇のバ−ナのすべてに対する全体の流れは120slpmCH4
および100slpmO2であり、それらのバ−ナはケ−ン・ア
センブリの長さの約60％の中間部分に沿って振動され
た。これらのバ−ナは約２０分間、ケ−ン・アセンブリ
のその部分に沿って振動された。
【００２６】上述した実施例で作成されたプリフォ−ム
から線引きされたファイバのコア／クラッド同心度が標
準のテスト装置を用いて測定された。0.228μmの平均コ
ア／クラッド同心度と0.112μmのシグマを有する約4000
kmのファイバが作成された。上記の実施例より前に同じ
ス−ト沈積装置で作成された約15,000kmのファイバの場
合には、平均コア／クラッド同心度は0.255μmであり、
0.13μmのシグマを有していた。したがって、この実施
例では、本発明は平均コア／クラッド同心度において約
10.5％の改善が得られた。非対称正規分布に基づく公知
の統計学的分析を用いて、本発明は、本発明の利益と伴
わない場合の薬80ppmと比較して約90ppmの同心度に対す
る損失率を生ずることが予測される。
から線引きされたファイバのコア／クラッド同心度が標
準のテスト装置を用いて測定された。0.228μmの平均コ
ア／クラッド同心度と0.112μmのシグマを有する約4000
kmのファイバが作成された。上記の実施例より前に同じ
ス−ト沈積装置で作成された約15,000kmのファイバの場
合には、平均コア／クラッド同心度は0.255μmであり、
0.13μmのシグマを有していた。したがって、この実施
例では、本発明は平均コア／クラッド同心度において約
10.5％の改善が得られた。非対称正規分布に基づく公知
の統計学的分析を用いて、本発明は、本発明の利益と伴
わない場合の薬80ppmと比較して約90ppmの同心度に対す
る損失率を生ずることが予測される。
【００２７】本発明の装置および方法の他の実施例を図
８を参照して説明する。この実施例では、ウエイト８１
を用いてケ−ン・アセンブリ８０に引張り力が印加され
る。ケ−ン・アセンブリ８０は上方チャック・アセンブ
リ８２に配置され、そして好ましくは図３を参照して前
述したクランプ手段によって、そこに保持される。ウエ
イト８１と下方チャック・アセンブリ８３が、例えばピ
ストン８７の作用で取入れ口８８を通じて与えられる空
気のような流体によって発生される力によってペデスタ
ル８４から引上げられる。ケ−ン・アセンブリ８０が下
方チャック・アセンブリ８３に配置され、そして好まし
くは図４を参照して説明したクランプ手段によってそこ
に保持っされる。
８を参照して説明する。この実施例では、ウエイト８１
を用いてケ−ン・アセンブリ８０に引張り力が印加され
る。ケ−ン・アセンブリ８０は上方チャック・アセンブ
リ８２に配置され、そして好ましくは図３を参照して前
述したクランプ手段によって、そこに保持される。ウエ
イト８１と下方チャック・アセンブリ８３が、例えばピ
ストン８７の作用で取入れ口８８を通じて与えられる空
気のような流体によって発生される力によってペデスタ
ル８４から引上げられる。ケ−ン・アセンブリ８０が下
方チャック・アセンブリ８３に配置され、そして好まし
くは図４を参照して説明したクランプ手段によってそこ
に保持っされる。
【００２８】ケ−ン・アセンブリ８０を上方チャック・
アセンブリ８２および下方チャック・アセンブリ８３に
固着した後で、ピストン８７の下方の圧力が釈放され
る。この圧力釈放はウエイト８１の重力によってケ−ン
・アセンブリ８０に引張り力を印加させる。ス−ト沈積
時に、上方チャック・アセンブリ８２に装着された駆動
手段（図示せず）によってケ−ン・アセンブリ８０が回
転される。下方チャック・アセンブリ８３はケ−ン・ア
センブリ８０と一緒に回転する。下方チャック・アセン
ブリ８３の下端部は軸受８５に装着されており、この軸
受はウエイト８１に付着されていて、下方チャック・ア
センブリ８３がウエイト８１とは独立に回転する。ウエ
イト８１はそれとペデスタル８４の両方に挿入されたピ
ン８６によって回転しないように拘束されている。軸受
８５とピン８６の組合せがス−ト沈積時にケ−ン・アセ
ンブリ８０に印加される捩り応力を最小限に抑える。
アセンブリ８２および下方チャック・アセンブリ８３に
固着した後で、ピストン８７の下方の圧力が釈放され
る。この圧力釈放はウエイト８１の重力によってケ−ン
・アセンブリ８０に引張り力を印加させる。ス−ト沈積
時に、上方チャック・アセンブリ８２に装着された駆動
手段（図示せず）によってケ−ン・アセンブリ８０が回
転される。下方チャック・アセンブリ８３はケ−ン・ア
センブリ８０と一緒に回転する。下方チャック・アセン
ブリ８３の下端部は軸受８５に装着されており、この軸
受はウエイト８１に付着されていて、下方チャック・ア
センブリ８３がウエイト８１とは独立に回転する。ウエ
イト８１はそれとペデスタル８４の両方に挿入されたピ
ン８６によって回転しないように拘束されている。軸受
８５とピン８６の組合せがス−ト沈積時にケ−ン・アセ
ンブリ８０に印加される捩り応力を最小限に抑える。
【００２９】本発明をス−ト沈積時に垂直方向の配向状
態に保持されたケ−ン・アセンブリについて説明した
が、本発明はス−ト沈積時に水平方向の掃こう状態に保
持されたケ−ン・アセンブリにも適用できる。本発明は
上述した少なくとも１つの空気軸受アセンブリを用いて
水平方向のケ−ン・アセンブリの軸線に沿って引張り力
を印加する。また、本発明をオ−バ−クラッド・プリフ
ォ−ムを作成することに関して説明したが、本発明はコ
ア・ケ−ンがそれから延伸されうるコア・プリフォ−ム
の作成にも等しく適用することができる。コア・プリフ
ォ−ムを作成する場合には、コア・ス−ト沈積処理の後
で除去されることが好ましいベイト・ロッドがケ−ン・
アセンブリの代りに用いられる。
態に保持されたケ−ン・アセンブリについて説明した
が、本発明はス−ト沈積時に水平方向の掃こう状態に保
持されたケ−ン・アセンブリにも適用できる。本発明は
上述した少なくとも１つの空気軸受アセンブリを用いて
水平方向のケ−ン・アセンブリの軸線に沿って引張り力
を印加する。また、本発明をオ−バ−クラッド・プリフ
ォ−ムを作成することに関して説明したが、本発明はコ
ア・ケ−ンがそれから延伸されうるコア・プリフォ−ム
の作成にも等しく適用することができる。コア・プリフ
ォ−ムを作成する場合には、コア・ス−ト沈積処理の後
で除去されることが好ましいベイト・ロッドがケ−ン・
アセンブリの代りに用いられる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、オ−バ−クラッド・ス
−ト沈積時にウォッブルを軽減することによって光ファ
イバのコア／クラッド同心度を改善することができる。
また、本発明によれば、オ−バ−クラッド・ス−ト沈積
のために用いられる装置の利用を改善することができ
る。
−ト沈積時にウォッブルを軽減することによって光ファ
イバのコア／クラッド同心度を改善することができる。
また、本発明によれば、オ−バ−クラッド・ス−ト沈積
のために用いられる装置の利用を改善することができ
る。
【図１】光導波通路ス−ト・プリフォ−ムを形成するた
めのス−ト沈積処理において通常使用される上下のケ−
ン・ハンドルに装着されたロッド２を有するケ−ン・ア
センブリ１を示している。
めのス−ト沈積処理において通常使用される上下のケ−
ン・ハンドルに装着されたロッド２を有するケ−ン・ア
センブリ１を示している。
【図２】ス−ト沈積処理で使用される典型的な装置の概
略図である。
略図である。
【図３】本発明の１つの態様による上方ケ−ン把持アセ
ンブリである。
ンブリである。
【図４】本発明の１つの態様による下方ケ−ン把持アセ
ンブリである。
ンブリである。
【図５】本発明の１つの態様によるベアリング・アセン
ブリである。
ブリである。
【図６】本発明の他の態様によるベアリング・アセンブ
リである。
リである。
【図７】コア／クラッド同心度の図である。
【図８】引張り力を与えるためのウエイトを使用した本
発明の他の態様によるケ−ン・アセンブリにテンション
を与える装置である。
発明の他の態様によるケ−ン・アセンブリにテンション
を与える装置である。
１１ 上方チャック １２ 下方チャック １３ 上方スピンドル １６ 下方スピンドル １７、１８、１９、２０ 空気軸受 ３０ 上方ケ−ン把持アセンブリ ３１ 上方ケ−ン・ハンドル ３２ カップ ３３ シェル・クランプ ３５ 上方スピンドル ４０ 下方ケ−ン把持アセンブリ ４２ シェル・クランプ ４４ 下方スピンドル ５０ 空気軸受アセンブリ ５１ スピンドル ５４ 上方の空気軸受 ５５ 下方の空気軸受 ５６ 軸受ブロック ５７ａ、５７ｂ 空気供給ポ−ト ５８ 空洞 ５９ 圧力レギュレ−タ １００ ケ−ン・アセンブリ １０１ 上方チャック １０２ 下方チャック １０３ 上方スピンドル １０４ 上方軸受アセンブリ １０５、１０６ 空気軸受 １０７ａ、１０７ｂ 空気供給ポ−ト １０８ 空洞 １０９ 圧力レギュレ−タ・ポ−ト １１０ 下方スピンドル １１１ 下方軸受アセンブリ １１２、１１３ 空気軸受 １１４ａ、１１４ｂ 空気供給ポ−ト １１５ 空洞 １１６ 圧力レギュレ−タ・ポ−ト １１７ 圧力レギュレ−タ ８０ ケ−ン・アセンブリ ８１ ウエイト ８２ 上方チャック・アセンブリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイビッド アンドルー タッカー アメリカ合衆国ノースカロライナ州28405、 ウィルミントン、キャンドルウッド ドラ イブ 243 (72)発明者 ジョニー エドワード ワトソン アメリカ合衆国ノースカロライナ州28443、 ハンプステッド、ブリック ヤード ロー ド 101 (72)発明者 ジョン ガイヤ ウィリアムズ アメリカ合衆国ノースカロライナ州28409、 ウィルミントン、ドーバー ロード 201
Claims (12)
- 【請求項１】 光導波通路プリフォ−ムを作成するため
のス−ト沈積時に長手方向の軸線を有するケ−ン・アセ
ンブリを保持する装置において、 ａ．前記ケ−ン・アセンブリの第１の端部を保持する第
１の保持手段と、 ｂ．前記ケ−ン・アセンブリの第２の端部を保持する第
２の保持手段と、 ｃ．前記第１の保持手段に関連していて前記ケ−ン・ア
センブリの長手方向の軸線に沿って第１の引張り力を発
生する第１の手段を具備したケ−ン・アセンブリを保持
する装置。 - 【請求項２】 前記第２の保持手段に関連していて前記
ケ−ン・アセンブリの長手方向の軸線に沿って第２の引
張り力を発生する第２の手段をさらに具備した請求項１
の装置。 - 【請求項３】 前記第１および第２の引張り力は前記ケ
−ン・アセンブリに対して反対方向に加えられかつ／ま
たは大きさが等しい請求項２の装置。 - 【請求項４】 前記第１の手段が、 ａ．前記第１の保持手段に付着されたウエイトと、 ｂ．前記ケ−ン・アセンブリと前記ウエイトに付着され
ていて前記ケ−ン・アセンブリが前記ウエイトとは実質
的に独立に前記ケ−ン・アセンブリの長手方向の軸線の
まわりで回転するようにする軸受けと、 ｃ．前記ウエイトが回転するのを阻止して前記ウエイト
が前記ケ−ン・アセンブリに捩り応力を実質的に与えな
いようにする手段よりなる請求項１、２または３の装
置。 - 【請求項５】 第１のスピンドルによって前記第１の保
持手段に連結された第１の軸受手段をさらに具備してお
り、前記第１の軸受手段は前記第１のスピンドルが挿通
された第１および第２の空気軸受よりなり、前記第１お
よび第２の空気軸受は、周囲圧力より高い第１の圧力に
加圧され得る第１の空洞によって分離されており、 前記第１のスピンドルは第１の直径を有する第１の部分
と、前記第１の部分とは異なる第２の直径を有する第２
の部分を有しており、前記第１の直径から前記第２の直
径への遷移が前記第１の空洞内に位置決めされており、 前記第１のスピンドルおよび前記第１の空洞内の第１の
圧力が前記ケ−ン・アセンブリの長手方向の軸線に沿っ
て前記ケ−ン・アセンブリに加えられる第１の力を発生
するようになされた請求項１、２、３または４の装置。 - 【請求項６】 ａ．第２のスピンドルによって前記第２
の保持手段に連結された第２の軸受手段をさらに具備し
ており、前記第２の軸受手段は前記第２のスピンドルが
挿通された第３および第４の空気軸受よりなり、前記第
３および第４の空気軸受は周囲圧力より高い第２の圧力
に加圧され得る第２の空洞によって分離されており、 前記第２のスピンドルおよび前記第２の空洞内の第２の
圧力は前記ケ−ン・アセンブリの長手方向の軸線に沿っ
て前記ケ−ン・アセンブリに加えられる第２の力を発生
し、前記第２の力は前記第１のスピンドルから離れる方
向に向けられる請求項５の装置。 - 【請求項７】 前記ケ−ン・アセンブリが垂直配向また
は水平配向で保持される請求項５または６の装置。 - 【請求項８】 前記第１および第２の保持手段は前記ケ
−ン・アセンブリを堅固に保持して、前記ケ−ン・アセ
ンブリの長手方向の軸線に対して直交する方向における
前記ケ−ン・アセンブリの移動が拘束されるようになさ
れており、前記第１および第２の保持手段は心合されて
前記ケ−ン・アセンブリの前記第１および第２の端部の
長手方向の軸線が互いに実質的に心合されるようになさ
れている請求項５、６または７の装置。 - 【請求項９】 前記第１および第２の引張り力または圧
力が等しい請求項１〜８のうちの１つによる装置。 - 【請求項１０】 長手方向の軸線を有する回転するケ−
ン・アセンブリ上にス−トを沈積させる方法において、 ａ．前記回転するケ−ン・アセンブリ上にス−トが沈積
されている間に前記回転するケ−ン・アセンブリの長手
方向の軸線に沿って引張り力を加え、そして ｂ．前記回転するケ−ン・アセンブリに加えられる前記
引張り力を制御することによって前記ケ−ン・アセンブ
リ上に沈積されるス−トの半径方向の均一性を制御する
ことよりなる回転するケ−ン・アセンブリ上にス−トを
沈積させる方法。 - 【請求項１１】 前記引張り力を加える工程は、前記回
転するケ−ン・アセンブリ上にス−トが沈積されている
間に前記引張り力を変化させる工程をされに含む請求項
１０の方法。 - 【請求項１２】 前記回転するケ−ン・アセンブリ上に
ス−トを沈積させる前に前記回転するケ−ン・アセンブ
リをアニ−ルする工程さらに含む請求項１０または１１
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US8548093A | 1993-06-21 | 1993-06-21 | |
| US85480 | 1993-06-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0710588A true JPH0710588A (ja) | 1995-01-13 |
| JP3855174B2 JP3855174B2 (ja) | 2006-12-06 |
Family
ID=22191887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16075994A Expired - Fee Related JP3855174B2 (ja) | 1993-06-21 | 1994-06-21 | ケーン・アセンブリを保持する装置およびケーン・アセンブリ上にスートを沈積させる方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5658365A (ja) |
| EP (1) | EP0630866B1 (ja) |
| JP (1) | JP3855174B2 (ja) |
| AU (1) | AU681392B2 (ja) |
| CA (1) | CA2121704A1 (ja) |
| DE (1) | DE69419460T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12479754B2 (en) | 2019-04-12 | 2025-11-25 | AGC Inc. | Alkali-free glass and glass plate |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA994432B (en) * | 1998-08-12 | 2000-01-13 | Corning Inc | Method of making a fiber preform using cooled spindle. |
| AU7421600A (en) * | 1999-09-29 | 2001-04-30 | Fibre Ottiche Sud F.O.S. S.P.A. | Device and method for vapour deposition on an elongated substrate |
| US7574875B2 (en) | 1999-09-29 | 2009-08-18 | Fibre Ottiche Sud - F.O.S. S.P.A. | Method for vapour deposition on an elongated substrate |
| KR100615545B1 (ko) * | 1999-12-01 | 2006-08-25 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 광 파이버용 모재의 제조방법 및 장치 |
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| US7797966B2 (en) | 2000-12-29 | 2010-09-21 | Single Crystal Technologies, Inc. | Hot substrate deposition of fused silica |
| US8733131B2 (en) | 2001-11-29 | 2014-05-27 | Prysmian Cavi E Sistemi Energia S.R.L. | Apparatus and method for chemical deposition on a rod member in an optical fibre manufacturing process |
| EP1867870A1 (en) | 2005-01-17 | 2007-12-19 | Kwang Yang Motor Co., Ltd. | Ignition control method and apparatus for a carburetor engine |
| DE102016100923A1 (de) * | 2016-01-20 | 2017-07-20 | Schott Ag | Spannfutter zur Halterung von Glasprodukten bei der Heißformgebung und Verfahren zum Heißformen eines Glaskörpers |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2188121A (en) * | 1936-12-11 | 1940-01-23 | Corning Glass Works | Making articles of fused silica |
| US3384567A (en) * | 1965-10-22 | 1968-05-21 | Gen Electric | Electrolyte guide member |
| US3656925A (en) * | 1970-05-28 | 1972-04-18 | Owens Illinois Inc | Method and apparatus for joining two glass parts or articles |
| JPS6117435A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-25 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| JPS63151640A (ja) * | 1986-12-13 | 1988-06-24 | Hitachi Cable Ltd | ガラスロツド延伸装置 |
| JPH01197339A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-08-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法 |
| JPH01242433A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-27 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造装置 |
| JPH03228844A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-09 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の加工方法 |
| JPH0597458A (ja) * | 1991-10-09 | 1993-04-20 | Fujikura Ltd | 光フアイバ母材の加工方法 |
| AU659020B2 (en) * | 1992-07-09 | 1995-05-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method and apparatus for drawing glass preform for optical fiber |
-
1994
- 1994-04-20 CA CA002121704A patent/CA2121704A1/en not_active Abandoned
- 1994-05-24 EP EP94107925A patent/EP0630866B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-24 DE DE69419460T patent/DE69419460T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-14 AU AU64670/94A patent/AU681392B2/en not_active Ceased
- 1994-06-21 JP JP16075994A patent/JP3855174B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-14 US US08/355,507 patent/US5658365A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12479754B2 (en) | 2019-04-12 | 2025-11-25 | AGC Inc. | Alkali-free glass and glass plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5658365A (en) | 1997-08-19 |
| EP0630866B1 (en) | 1999-07-14 |
| CA2121704A1 (en) | 1994-12-22 |
| AU681392B2 (en) | 1997-08-28 |
| DE69419460D1 (de) | 1999-08-19 |
| EP0630866A1 (en) | 1994-12-28 |
| AU6467094A (en) | 1994-12-22 |
| JP3855174B2 (ja) | 2006-12-06 |
| DE69419460T2 (de) | 1999-11-04 |
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040511 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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