JPH07106236A - レジスト除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レジスト除去速度を高めることが可能なレジ
スト除去装置を提供することにある。また、レジスト除
去処理を均一に行うことが可能なレジスト除去装置を提
供することにある。 【構成】 オゾン発生器とウエーハ加熱手段を有するレ
ジスト除去装置において、ウエーハに供給されるオゾン
ガスをウエーハ供給前に予備加熱する手段とウエーハに
オゾンガスを均一に供給する手段を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＬＳＩ等の製造過程に
おけるパターン作成に用いられるレジスト材の除去装置
に適用して有効な技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のオゾンガスを用いたレジスト除去
装置は、レジスト除去処理を行う処理室にオゾン発生器
により発生されたオゾンガスを常温のまま供給管を通じ
て供給し、処理室ではウエーハを高温に加熱し、ウエー
ハの有機レジスト材と供給されたオゾンガスとを反応さ
せ、その反応ガスを排気するものであった。

【０００３】また、前述の処理室にＵＶランプを設け、
オゾンガスを活性化させてウエーハの有機レジスト材と
反応させるものがあった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記従来
技術を検討した結果、以下の問題点を見いだした。

【０００５】従来におけるオゾンガスを用いたレジスト
除去装置は、処理室で高温に加熱されたウエーハにオゾ
ン発生器により発生されたオゾンガスを常温のまま供給
していため、供給時に高温に加熱されたウエーハを冷却
してしまい、その冷却によりレジスト除去速度が低下す
るという問題点があった。

【０００６】また、処理室にＵＶランプを用いた場合、
オゾンガスの活性化によりオゾンガスが若干加熱され、
冷却によるレジスト除去速度の低下を小さくできるが、
十分な効果が得られない。

【０００７】それに加え、オゾン発生器により発生され
たオゾンガスを供給管を通じて処理室に供給しているた
め、供給管口付近のウエーハのレジスト除去速度がウエ
ーハ冷却効果大となる為低下し、処理が均一に行えない
という問題点があった。

【０００８】本発明の目的は、レジスト除去速度を高め
ることが可能なレジスト除去装置を提供することにあ
る。

【０００９】本発明の他の目的は、レジスト除去処理を
均一に行うことが可能なレジスト除去装置を提供するこ
とにある。

【００１０】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００１２】オゾン発生器とウエーハ加熱手段を有する
レジスト除去装置において、ウエーハに供給されるオゾ
ンガスをウエーハ供給前に予備加熱する手段を備える。

【００１３】そして、オゾン発生器とウエーハ加熱手段
を有するレジスト除去装置において、ウエーハにオゾン
ガスを均一に供給する手段を備える。

【００１４】

【作用】上述した手段によれば、オゾン発生器とウエー
ハ加熱手段を有するレジスト除去装置において、ウエー
ハに供給されるオゾンガスをウエーハ供給前に予備加熱
する手段を備えたので、加熱され、活性化されたオゾン
ガスをウエーハに供給でき、高温に加熱されたウエーハ
の冷却を防止でき、レジスト除去速度を高めることが可
能となる。

【００１５】そして、レジスト除去処理を行う処理室に
ウエーハにオゾンガスを均一に供給する手段を備えたの
で、処理室のウエーハ全体への均一なオゾンガスの供給
ができ、レジスト除去処理を均一に行うことが可能とな
る。

【００１６】以下、本発明の構成について、実施例とと
もに説明する。

【００１７】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の実施例について図を用いて詳
しく説明する。

【００１９】本発明におけるオゾンガスを予備加熱する
手段として、電熱ヒータを用いる場合とランプを用いる
場合とをそれぞれ例に挙げる。

【００２０】まず、オゾンガスを予備加熱する手段とし
て電熱ヒータを用いる場合の実施例を図１、図２に示
す。図１及び図２は、本実施例のレジスト除去装置の構
成を説明するための図である。

【００２１】図１及び図２において、１は処理室、２は
予備加熱用電熱ヒータ、３は供給管、４はシャワー吹き
だし板、５はウエーハ、６はウエーハ加熱用ヒータをそ
れぞれ示す。

【００２２】初めに、図１に示す本実施例のレジスト除
去装置について説明する。図１に示すレジスト除去装置
は、レジスト除去処理を行う処理室１の天井部分にある
供給管口付近にオゾンガスを予備加熱する予備加熱用電
熱ヒータ２を設け、その処理室１には、ウエーハ５にオ
ゾンガスを均一に供給させるための３枚のシャワー吹き
だし板４を設けたものである。

【００２３】このときの処理室１はステンレスで、供給
管３とシャワー吹きだし板４は石英でそれぞれ作られて
おり、オゾンガス中でも影響を受けにくい材質を使用し
ている。

【００２４】また、予備加熱用電熱ヒータ２やウエーハ
加熱用ヒータ６としては、オゾンガス中でも影響を受け
ない炭化珪素（ＳｉＣ）ヒータを使用するのが好まし
い。

【００２５】但し、これに限定されるものではなく、オ
ゾンガスの影響を受けないように石英等で被膜すること
により、他のヒータ、例えば、ＦｅＣｒ合金や白金ロジ
ュウム合金等を使用してもよい。

【００２６】以下に、その図１に示すレジスト除去装置
の処理手順を示す。

【００２７】まず最初に、ウエーハ５をウエーハ加熱用
ヒータ６で高温に加熱する。次に、オゾン発生器より発
生したオゾンガスＯ3を供給管３を通じて処理室１に供
給する。その後、その供給管口付近にある予備加熱用電
熱ヒータ２によりオゾンガスＯ3が加熱され、活性化さ
れる。その後、加熱され、活性化されたオゾンガスＯ3
が、３枚のシャワー吹きだし板４を経てウエーハ５全体
に均一に供給され、レジストを除去する。そして、最後
に、レジスト除去後の反応ガスを排気する。

【００２８】次に、図２に示す本実施例のレジスト除去
装置について説明する。図２に示すレジスト除去装置
は、オゾン発生器により処理室に送られてくるオゾンガ
スの供給管３にオゾンガスを予備加熱する予備加熱用電
熱ヒータ２を設け、前述同様に、処理室１に、ウエーハ
５にオゾンガスを均一に供給させるための３枚のシャワ
ー吹きだし板４を設けたものである。

【００２９】このときの処理室１はステンレスで、供給
管３とシャワー吹きだし板４は石英でそれぞれ作られて
おり、前述同様に、オゾンガス中でも影響を受けにくい
材質を使用している。

【００３０】また、ウエーハ加熱用ヒータ６は、前述同
様に、オゾンガス中でも影響を受けない炭化珪素（Ｓｉ
Ｃ）ヒータを使用するのが好ましいが、予備加熱用電熱
ヒータ２は供給管の外側に設けて間接的にオゾンを加熱
し、活性化するので炭化珪素（ＳｉＣ）ヒータや石英で
被膜したヒータを使用する必要がないため、ＦｅＣｒ合
金や白金ロジュウム合金等を使用する。

【００３１】以下に、その図２に示すレジスト除去装置
の処理手順を示す。

【００３２】まず最初に、ウエーハ５をウエーハ加熱用
ヒータ６で高温に加熱する。次に、オゾン発生器より発
生したオゾンガスＯ3を供給管３を通じて処理室１に供
給する。その供給途中に、供給管３に設けた予備加熱用
電熱ヒータ２によりオゾンガスＯ3が加熱され、活性化
される。その後、加熱され、活性化されたオゾンガスＯ
3が、処理室１に供給され、３枚のシャワー吹きだし板
４を経てウエーハ５全体に均一に供給され、レジストを
除去する。そして、最後に、レジスト除去後の反応ガス
を排気する。

【００３３】以上、オゾンガスを予備加熱する手段とし
て、前述の２つ実施例に示すような予備加熱用電熱ヒー
タ２を用いることにより、加熱され、活性化されたオゾ
ンガスをウエーハ５に供給でき、高温に加熱されたウエ
ーハ５の冷却を防止でき、レジスト除去速度を高めるこ
とが可能となる。

【００３４】また、処理室内に３枚のシャワー吹きだし
板４を設けることにより、ウエーハ５の保温効果を高め
ることができるのと同時に、ウエーハ５全体への均一な
オゾンガスの供給ができ、レジスト除去処理を均一に行
うことができる。

【００３５】更に、図１で示したレジスト除去装置にお
いては、処理室１の天井部分にある供給管口付近に予備
加熱用電熱ヒータ２を設けることにより、ウエーハの加
熱、保温の役目も果たす効果がある。

【００３６】そして、図２で示したレジスト除去装置に
おいては、予備加熱用電熱ヒータ２を供給管の外側に設
けて間接的にオゾンガスを加熱し、活性化するので炭化
珪素（ＳｉＣ）ヒータや石英で被膜したヒータを使用す
る必要がないという効果がある。

【００３７】次に、他の実施例として、オゾンガスを予
備加熱する手段にランプを用いる場合について図３を用
いて説明する。

【００３８】図３は、本実施例のオゾンガスを予備加熱
する手段としてランプを用いた場合のレジスト除去装置
の構成を説明するための図である。

【００３９】図３において、１は処理室、３は供給管、
４はシャワー吹きだし板、５はウエーハ、６はウエーハ
加熱用ヒータ、７は予備加熱用ランプ、８は石英板をそ
れぞれ示す。

【００４０】図３に示すレジスト除去装置は、レジスト
除去処理を行う処理室１の天井部分にオゾンガスを予備
加熱する予備加熱用ランプを設け、その処理室１には、
ウエーハ５にオゾンガスを均一に供給させるための２枚
のシャワー吹きだし板４を設けたものである。

【００４１】このときの処理室１はステンレスで、供給
管３とシャワー吹きだし板４は石英でそれぞれ作られて
おり、オゾンガス中でも影響を受けにくく、熱反射効率
のよい材質を使用している。

【００４２】そして、予備加熱用ランプは、ハロゲンラ
ンプや赤外線ランプを使用する。

【００４３】また、ウエーハ加熱用ヒータ６は、オゾン
ガス中でも影響を受けない炭化珪素（ＳｉＣ）ヒータを
使用するのが好ましい。

【００４４】但し、前述の実施例と同様に、これに限定
されるものではなく、オゾンガスの影響を受けないよう
に石英等で被膜することにより、他のヒータ、例えば、
ＦｅＣｒ合金や白金ロジュウム合金等を使用してもよ
い。

【００４５】また、石英板８は、予備加熱用ランプ７と
オゾンガスが直接触れないようにするために設けたもの
であり、石英の代わりにオゾンガス中でも影響を受けに
くく、熱が伝わり易い材質を使用してもよい。

【００４６】以下に、その図３に示すレジスト除去装置
の処理手順を示す。

【００４７】まず最初に、ウエーハ５をウエーハ加熱用
ヒータ６で高温に加熱する。次に、オゾン発生器より発
生したオゾンガスＯ3を供給管３を通じて両脇から処理
室１に供給する。その後、その処理室１の天井付近にあ
る予備加熱用ランプ７により石英板８を通して間接的に
オゾンガスＯ3が加熱され、活性化される。その後、加
熱され、活性化されたオゾンガスＯ3が、２枚のシャワ
ー吹きだし板４を経てウエーハ５全体に均一に供給さ
れ、レジストを除去する。そして、最後に、レジスト除
去後の反応ガスを排気する。

【００４８】以上、オゾンガスを予備加熱する手段とし
て、前述の実施例に示すような予備加熱用ランプ７を用
いることにより、加熱され、活性化されたオゾンガスを
ウエーハ５に供給でき、高温に加熱されたウエーハ５の
冷却を防止でき、レジスト除去速度を高めることが可能
となる。

【００４９】また、処理室１内に２枚のシャワー吹きだ
し板４を設けることにより、ウエーハ５の保温効果を高
めることができるのと同時に、ウエーハ５全体への均一
なオゾンガスの供給ができ、レジスト除去処理を均一に
行うことができる。

【００５０】更に、図３で示したレジスト除去装置にお
いては、処理室の天井付近に予備加熱用ランプ７を設
け、処理室の両脇からオゾンガスを供給することによ
り、処理室内のシャワー吹きだし板４は２枚でも、前述
の実施例で用いた３枚シャワー吹きだし板４と同等の効
果が得られ、ウエーハ５全体への均一なオゾンガスの供
給ができる効果がある。

【００５１】したがって、前述した実施例によれば、オ
ゾン発生器とウエーハ加熱手段を有するレジスト除去装
置において、ウエーハに供給されるオゾンガスをウエー
ハ供給前に予備加熱する手段として、電熱ヒータ叉は、
ランプを備えたので、加熱され、活性化されたオゾンガ
スをウエーハに供給でき、高温に加熱されたウエーハの
冷却を防止でき、レジスト除去速度を高めることが可能
となる。

【００５２】そして、レジスト除去処理を行う処理室に
ウエーハにオゾンガスを均一に供給するために、複数の
シャワー吹きだし板を備えたので、処理室のウエーハ全
体への均一なオゾンガスの供給ができ、レジスト除去処
理を均一に行うことが可能となる。

【００５３】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。

【００５４】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。

【００５５】オゾン発生器とウエーハ加熱手段を有する
レジスト除去装置において、ウエーハに供給されるオゾ
ンガスをウエーハ供給前に予備加熱する手段を備えたの
で、加熱され、活性化されたオゾンガスをウエーハに供
給でき、高温に加熱されたウエーハの冷却を防止でき、
レジスト除去速度を高めることが可能となる。

【００５６】そして、レジスト除去処理を行う処理室に
ウエーハにオゾンガスを均一に供給する手段を備えたの
で、処理室のウエーハ全体への均一なオゾンガスの供給
ができ、レジスト除去処理を均一に行うことが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である電熱ヒータを用いたレ
ジスト除去装置の構成を説明するための図である。

【図２】本発明の一実施例である電熱ヒータを用いたレ
ジスト除去装置の構成を説明するための図である。

【図３】本発明の一実施例であるランプを用いたレジス
ト除去装置の構成を説明するための図である。

【符号の説明】

１…処理室、２…予備加熱用電熱ヒータ、３…供給管、
４…シャワー吹きだし板、５…ウエーハ、６…ウエーハ
加熱用ヒータ、７…予備加熱用ランプ、８は石英板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 千葉 貴広 東京都青梅市藤橋３丁目３番地２ 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 佐原 誠一 東京都青梅市藤橋３丁目３番地２ 日立東 京エレクトロニクス株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 オゾン発生器とウエーハ加熱手段を有す
   るレジスト除去装置において、ウエーハに供給されるオ
   ゾンガスをウエーハ供給前に予備加熱する手段を備えた
   ことを特徴とするレジスト除去装置。
2. 【請求項２】 オゾン発生器とウエーハ加熱手段を有す
   るレジスト除去装置において、１０以上のガスノズル、
   又は１０以上の穴の空いたガスの吹き出し板によって、
   ウエーハにオゾンガスを均一に供給する手段を備えたこ
   とを特徴とするレジスト除去装置。