JPH07107946B2 - 光半導体素子 - Google Patents

光半導体素子

Info

Publication number
JPH07107946B2
JPH07107946B2 JP61025857A JP2585786A JPH07107946B2 JP H07107946 B2 JPH07107946 B2 JP H07107946B2 JP 61025857 A JP61025857 A JP 61025857A JP 2585786 A JP2585786 A JP 2585786A JP H07107946 B2 JPH07107946 B2 JP H07107946B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical semiconductor
semiconductor device
inp
light emitting
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61025857A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62185387A (ja
Inventor
博行 中野
慎也 佐々木
捷樹 田中
克之 井本
稔 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61025857A priority Critical patent/JPH07107946B2/ja
Publication of JPS62185387A publication Critical patent/JPS62185387A/ja
Publication of JPH07107946B2 publication Critical patent/JPH07107946B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、精密な位置精度でマウントが可能な光半導体
素子に関する。
〔発明の背景〕
従来の半導体レーザやホトダイオードなどの光半導体素
子は、例えば光通信光素子工学(米津宏雄著,工学図
書)のp.240やp.416に記載のような構造となつており、
素子の側面はスクライブして作られるための素子の外形
寸法には大きなばらつきがある。したがつて、素子の発
光部または受光部の位置をマウントに対して精度良く位
置決めすることが不可能であつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、位置精度良くマウントに固着可能な発
光部を有する光半導体素子を提供することにある。
〔発明の概要〕
光通信に用いる半導体レーザは光フアイバと効率良く結
合させるために、発光部を精度良く位置決めする必要が
ある。この際、チツプの外壁を利用して機械精度でチツ
プをマウントすることが望ましい。このため、発光部か
らの外壁の位置を精度良く決定できるホトリソグラフイ
ー技術などを利用することに着目した。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図により説明する。
この図は従来の埋め込みヘテロ形半導体レーザの上部の
活性層の両側にV溝を形成したものである。図におい
て、1はp側電極、2はp+一拡散領域、3はInGaAsPキ
ヤツプ層、4はp−InPクラツド層、5はInGaAsP活性
層、6はn−InPクラツド層、7はn−InP基板、8はn
側電極、9はn−InPブロツク層、10はp−InPブロツク
層である。本実施例ではV溝を利用して位置決めをす
る。すなわち、2本の逆V型のストライブ状突起を有し
たマウントに第1図の素子をはめ込む形となる。このた
め、活性層5近傍の台形リツジ形状部にかかる外力が低
減されるばかりでなく、V溝で位置決めするため、極め
て精密な位置精度が実現できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、発光部を有する光半導体素子を位置精
度良くマウントに固着することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す図である。 1……p側電極、2……p+−拡散領域、3……InGaAsP
キヤツプ層、4……p−InPクラツド層、5……InGaAsP
活性層、6……n−InPクラツド層、7……n−InP基
板、8……n側電極、9……n−InPブロツク層、10…
…p−InPブロツク層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井本 克之 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 前田 稔 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭54−14181(JP,A) 特開 昭50−79286(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】発光部を有する光半導体素子において、上
    記光半導体素子の発光部の両側に、それぞれ位置決めの
    ためのV溝を形成したことを特徴とする光半導体素子。
JP61025857A 1986-02-10 1986-02-10 光半導体素子 Expired - Lifetime JPH07107946B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61025857A JPH07107946B2 (ja) 1986-02-10 1986-02-10 光半導体素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61025857A JPH07107946B2 (ja) 1986-02-10 1986-02-10 光半導体素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62185387A JPS62185387A (ja) 1987-08-13
JPH07107946B2 true JPH07107946B2 (ja) 1995-11-15

Family

ID=12177489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61025857A Expired - Lifetime JPH07107946B2 (ja) 1986-02-10 1986-02-10 光半導体素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07107946B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5303793B2 (ja) * 2010-03-10 2013-10-02 Nttエレクトロニクス株式会社 フォトダイオード

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5414181A (en) * 1977-07-04 1979-02-02 Fujitsu Ltd Semiconductor laser unit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62185387A (ja) 1987-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5124281A (en) Method of fabricating a photonics module comprising a spherical lens
US5181216A (en) Photonics module apparatus
JP2514343B2 (ja) 光素子と光導波路の結合装置
JP3147313B2 (ja) ダイオードレーザと光ファイバを受動的に調整するための方法及び装置
JPH07107946B2 (ja) 光半導体素子
JPS59197184A (ja) 半導体レ−ザ
EP0713271B1 (en) Injection laser assembly incorporating a monitor photosensor
JP2570357B2 (ja) 半導体発光装置
JPH0339706A (ja) 光モジュール
JPS63253315A (ja) 光フアイバモジユ−ル装置
JPS6359279B2 (ja)
JPS63157969U (ja)
JPS61279190A (ja) 光フアイバ付半導体発光装置
JPS6439671U (ja)
JPS60140775A (ja) 半導体素子用ステム
JP2513198B2 (ja) 半導体レ−ザ装置
JPS57172308A (en) Coupling method of semiconductor laser and optical waveguide
JPH0667070A (ja) 半導体レーザモジュール
JPS6450588A (en) Manufacture of optical path rise type semiconductor light-emitting element
JPS58150856U (ja) 半導体レ−ザ装置
JPS6379667U (ja)
JPH0221612U (ja)
JPH08264883A (ja) 半導体レーザ・モジュールとその製造方法
JPS58109270U (ja) 光半導体のモニタ−構造
JPS6444088A (en) Semiconductor laser