JPH0711056A

JPH0711056A - セルローストリアセテートフィルム

Info

Publication number: JPH0711056A
Application number: JP17738793A
Authority: JP
Inventors: Kenji Uematsu; 健二植松; Masahiro Eto; 雅弘江藤; Hiroshi Nakajima; 浩中嶋
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1993-06-24
Filing date: 1993-06-24
Publication date: 1995-01-13

Abstract

(57)【要約】【目的】優れた光透過性及び滑り性を有し、そして耐
光性においても改善されたセルローストリアセテートフ
ィルムを提供する。【構成】セルローストリアセテートと該セルロースト
リアセテート中に含有された下記の一般式（Ｉ）：【化１】（但し、Ｒ¹ は、水素原子又はフェニル基で置換されて
いても良い炭素原子数１〜５のアルキル基を表わし、Ｒ
² は、フェニル基又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ
基で置換されていても良い炭素原子数１〜５のアルキル
基を表わし、そしてＸは水素原子又はハロゲン原子を表
わす。）で表わされる紫外線吸収剤からなることを特徴
とするセルローストリアセテートフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、写真フィルム用ベー
ス、製図トレーシングフィルム、電気絶縁材料及び液晶
ディスプレーの偏光板用保護フィルムに利用されるセル
ローストリアセテートフィルムに関する。特に、パーソ
ナルコンピューター、ワードプロセッサー及びテレビ等
に使用される液晶ディスプレーの偏光板用保護フィルム
に利用されるセルローストリアセテートフィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】セルローストリアセテートフィルムは、
透明で、優れた物理的、機械的性質を有し、且つ温度湿
度変化に対する寸法変化が少なく、従来から写真フィル
ム用ベース、製図トレーシングフィルム、電気絶縁材料
などの広い分野で使用され、最近では液晶ディスプレー
の偏光板用保護フィルムとして使用されている。液晶デ
ィスプレーの偏光板に使用されるセルローストリアセテ
ートフィルムは、光透過性、光学的無配向性、偏光膜と
の良好な接着性、優れた平面性及び紫外線を吸収し易い
こと等が要求される。さらに、自動車搭載用の液晶ディ
スプレーに使用される場合は、高湿熱下で劣化のないこ
とや寸法安定性に優れていることなどの良好な耐久性も
要求される。

【０００３】上記セルローストリアセテートフィルム
は、光透過性及び光学的無配向性等において優れた性質
を有しているが、例えば紫外線を吸収する性質はないた
め、液晶ディスプレーの液晶の紫外線による劣化を防止
するために、液晶ディスプレーの最も外側に設けられる
偏光板の保護フィルムであるセルローストリアセテート
フィルム中に、紫外線吸収剤を添加することが一般的に
行なわれている。更に、セルローストリアセテートフィ
ルムを、液晶ディスプレーの偏光板として使用するに
は、特にフィルム表面の滑り性が要求される。即ち、偏
光膜と上記フィルムを用いて偏光板を作成する際には、
フィルムのケン化処理（親水化処理）、偏光膜とフィル
ムの接着剤による接着工程、上記フィルム上へのハード
コートのコーティング工程、さらにこれらの工程を行な
うための搬送作業などが行なわれる。そして、フィルム
表面の耐傷性が充分でない場合は、上記作業中にフィル
ム表面に傷がつき、このようなフィルムを用いた偏光板
が組み込まれた液晶ディスプレーは、致命的な表示欠陥
を示す。

【０００４】セルローストリアセテートのフィルムは、
例えば、結合酢酸量（酢化度）６０〜６２％のセルロー
ストリアセテートを可塑剤と共にメチレンクロライドと
メタノールの混合溶剤に溶解したドープを、連続的に回
転するドラムまたは移動するバンド（支持体）上に流延
し、次いで溶剤を蒸発させることからなる溶液製膜法に
より得ることができる。そして、耐傷性及び耐光性（紫
外線劣化を防止）の向上のために、従来から使用されて
いる二酸化珪素及び紫外線吸収剤を、溶剤又は溶剤とセ
ルローストリアセテートとの混合溶液に分散し、得られ
た分散液を上記ドープと混合し、この混合液を流延、乾
燥することによりセルローストリアセテートのフィルム
を作製していた。これにより、フィルム表面に凹凸を形
成して、滑り性を付与し、そして紫外線吸収剤により耐
光性を付与していた。

【０００５】上記紫外線劣化を防止するために、従来セ
ルローストリアセテートフィルムに使用されていた上記
紫外線防止剤は、下記の構造式：

【０００６】

【化２】を有する２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シベンゾフェノンである。しかしながら、上記紫外線吸
収剤を含有するフィルムは、黄色味を帯びるため、液晶
ディスプレー用の偏光板の保護フィルムとして使用する
には適当とは言えず、また黄色味を消すために補色とな
る染料を更に含有させた場合は透明性がさらに低下し、
偏光板の保護フィルムに必要な透明性が維持できないと
の問題がある。また、前記滑り性を向上させるために二
酸化ケイ素を使用した場合、フィルム中に大きな凝集物
が発生し、フィルムの透明性を低下させるとの問題があ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者が、上記セル
ローストリアセテートフィルムに従来から使用されてい
る紫外線吸収剤である２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジメトキシベンゾフェノンについて、詳しく検討
したところ、波長４００ｎｍ付近の可視領域の光までか
なり吸収しており、これがフィルムに黄色味を帯びさせ
ていることが明らかとなった。このため、波長４００ｎ
ｍ付近の可視光をほとんど吸収せず、紫外領域の光を効
率よく吸収する紫外線吸収剤を求めて検討を重ねてき
た。そして、このような特性を満足する紫外線吸収剤と
して下記の一般式（Ｉ）を有する化合物を発見するに到
った。更に、驚くべきことに上記紫外線防止剤を使用し
た場合、フィルム表面の滑り性も向上することが明らか
となった。

【０００８】従って、本発明は、優れた光透過性を有
し、そして耐光性においても改善されたセルローストリ
アセテートフィルムを提供することを目的とする。さら
に、本発明は、優れた光透過性及び滑り性を有し、そし
て耐光性においても改善されたセルローストリアセテー
トフィルムを提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的は、セルロース
トリアセテートと該セルローストリアセテート中に含有
された下記の一般式（Ｉ）：

【００１０】

【化３】（但し、Ｒ¹ は、水素原子又はフェニル基で置換されて
いても良い炭素原子数１〜５のアルキル基を表わし、Ｒ
² は、フェニル基又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ
基で置換されていても良い炭素原子数１〜５のアルキル
基を表わし、そしてＸは水素原子又はハロゲン原子を表
わす。）で表わされる紫外線吸収剤からなることを特徴
とするセルローストリアセテートフィルムにより達成す
ることができる。

【００１１】上記本発明のセルローストリアセテートフ
ィルムの好ましい態様は下記の通りである。

【００１２】（１）該フィルムの波長４００ｎｍの光の
透過率が、６５％以上である上記のセルローストリアセ
テートフィルム。

【００１３】（２）該フィルムが、溶液流延により得ら
れるものである上記のセルローストリアセテートフィル
ム。

【００１４】（３）該フィルムが、偏光板用の保護フィ
ルムである上記のセルローストリアセテートフィルム。

【００１５】（４）上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹
は、水素原子又は炭素原子数４もしくは５のアルキル基
を表わし、Ｒ² は、メチル基又は炭素原子数４もしくは
５のアルキル基を表わし、そしてＸは水素原子又は塩素
原子を表わす上記のセルローストリアセテートフィル
ム。

【００１６】（５）上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹
は、水素原子又はｔ−ブチル基を表わし、Ｒ² は、メチ
ル基又はｔ−ブチル基を表わし、そしてＸは水素原子又
は塩素原子を表わす上記のセルローストリアセテートフ
ィルム。

【００１７】（６）上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹
は、水素原子を表わし、Ｒ² は、ｔ−ブチル基を表わ
し、そしてＸは水素原子を表わす上記のセルローストリ
アセテートフィルム。

【００１８】（７）該紫外線吸収剤が、セルローストリ
アセテートフィルム中に、１〜４０重量％の量で含まれ
ている上記のセルローストリアセテートフィルム。

【００１９】［発明の詳細な記述］本発明のセルロース
トリアセテートフィルムは、フィルム中に上記一般式
（Ｉ）の紫外線吸収剤が含有されている。

【００２０】本発明のセルローストリアセテートフィル
ムに使用されるセルローストリアセテートは、公知のも
のを使用することができる。セルローストリアセテート
の酢化度は、５０〜７０％が好ましく、特に５５〜６５
％が好ましい。重量平均分子量７００００〜１２０００
０が好ましく、特に８００００〜１０００００が好まし
い。また、上記セルローストリアセテートは、酢酸だけ
でなく上記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、
酪酸等の脂肪酸でエステル化されていても良い。あるい
は、上記セルローストリアセテートは、総量で上記酢化
度を満足する限りセルロースプロピオネート、セルロー
スブチレート等のセルロースエステル類を含んでいても
良い。

【００２１】セルローストリアセテートフィルムには、
一般に可塑剤が含有されている。可塑剤の例としては、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート等のリン酸エステ
ル類、およびジエチルフタレート、ジメトキシエチルフ
タレート、ジメチルフタレート等のフタル酸エステルを
挙げることができる。さらに、上記可塑剤は、フィルム
中に０〜２０重量％で含有されることが好ましく、更に
５〜１５重量％で含有されることが好ましい。

【００２２】また、本発明のセルローストリアセテート
フィルムは、紫外線吸収剤として下記の一般式（Ｉ）で
表わされる化合物を含有している。

【００２３】

【化４】（但し、Ｒ¹ は、水素原子又はフェニル基で置換されて
いても良い炭素原子数１〜５のアルキル基を表わし、Ｒ
² は、フェニル基又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ
基で置換されていても良い炭素原子数１〜５のアルキル
基を表わし、そしてＸは水素原子又はハロゲン原子を表
わす。）

【００２４】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ として
は、水素原子、炭素原子数３〜５のアルキル基又はα−
ジメチルベンジル基が一般的であり、水素原子又は炭素
原子数４又は５のアルキル基が好ましく、特に水素原子
又はｔ−ブチル基が好ましく、そして水素原子が最も好
ましい。Ｒ² としては、メチル基、炭素原子数４もしく
は５のアルキル基又はオクタロイロキシエチル基が一般
的であり、メチル基又は炭素原子数４もしくは５のアル
キル基が好ましく、特にメチル基又はｔ−ブチル基が好
ましく、そしてｔ−ブチル基が最も好ましい。Ｘとして
は、水素原子又は塩素原子が好ましく、特に水素原子が
好ましい。

【００２５】上記紫外線吸収剤を含有する本発明のフィ
ルムは、波長４００ｎｍの光の透過率として６５％以上
を示すことが好ましい。さらに、８０％以上示すことが
好ましい。また、波長３７０ｎｍの光の透過率が３％以
下、更に１％以下であることが好ましい。さらに、上記
紫外線吸収剤は、フィルム中に０．１〜１０重量％で含
有されることが好ましい。

【００２６】上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の
例、及びそれぞれの吸収スペクトルと融点を下記に示
す。

【００２７】

【化５】 λ_max ＝３５０ｎｍ（CH₃OH)、融点＝１３７〜１４１℃

【００２８】

【化６】 λ_max ＝３３９ｎｍ（CH₃OH)、融点＝１５４℃

【００２９】

【化７】 λ_max ＝３４８ｎｍ，ε＝1.69×10⁴ (CH₃OH) 、融点＝
１５８．５℃

【００３０】

【化８】 λ_max ＝３４１ｎｍ、ε＝1.60×10⁴ (CH₃OH) 、融点＝
８０〜８４℃

【００３１】

【化９】 λ_max ＝３４６ｎｍ、ε＝1.49×10⁴ (CH₃OH) 、油状

【００３２】

【化１０】 λ_max ＝３４４ｎｍ、ε＝1.56×10⁴ (CH₃OH)

【００３３】

【化１１】 λ_max ＝３４６ｎｍ、ε＝3.47×10⁴ (CH₃OH) 、融点＝
１３７〜１４１℃

【００３４】

【化１２】融点＝１３１〜１３３℃

【００３５】

【化１３】 λ_max ＝３３７ｎｍ、ε＝1.60×10⁴ (CH₃OH) 、融点＝
９５〜１００℃

【００３６】セルローストリアセテート中に滑り性を付
与するために無機又は有機化合物の微粒子を含有しても
良い。無機化合物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チ
タン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カル
シウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリ
ン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケ
イ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カル
シウムを挙げることができる。二酸化ケイ素、二酸化チ
タンおよび酸化ジルコニウムが好ましく、特に二酸化ケ
イ素が好ましい。上記有機化合物（ポリマー）の例とし
て、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げ
ることができる。シリコーン樹脂が好ましい。

【００３７】上記材料としての微粒子の平均粒径は、特
に限定されないが、０．００１〜１．０μｍの範囲が好
ましく、特に０．００１〜０．５μｍの範囲が好まし
い。さらに、上記微粒子は、セルローストリアセテート
に対して０．００５〜０．５重量％で使用されることが
好ましく、更に０．０１〜０．１重量％で使用されるこ
とが好ましい。

【００３８】本発明のフィルムを溶液流延法で作製する
際に使用される溶剤としては、セルローストリアセテー
トを溶解できる溶剤であれば何でもよく、また、単独で
溶解できない溶剤であっても、他の溶剤と混合すること
により溶解できるものであれば使用することができる。
上記溶剤の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン及びシクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳
香族炭化水素；塩化メチル、塩化メチレン（メチレンク
ロライド）、四塩化炭素及びトリクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素；メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール；
そして蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル及び酢酸エ
チル等のエステル類を挙げることができる。

【００３９】一般には、メチレンクロライドとメタノー
ルの混合溶剤が使用されるが、セルローストリアセテー
トを析出させない限り（ドープ作製中あるいは後の微粒
子分散液の添加時に）、他の溶剤、例えばイソプロピル
アルコールやｎ−ブチルアルコールを使用しても良い。
ドープのセルローストリアセテートと溶剤との割合は、
重量比で１０：９０〜３０：７０の範囲が好ましい。

【００４０】次に、本発明のセルローストリアセテート
フィルムを製造する方法について説明する。上記製造方
法は例えば下記のように行なわれる。

【００４１】溶剤、セルローストリアセテート及び可塑
剤をドープ用ミキシングタンクに投入し、攪拌して（加
熱下に、必要に応じ加圧下に）セルローストリアセテー
トを溶解させてドープを調製する。溶剤及び紫外線吸収
剤を別のミキシングタンクに投入し、攪拌して紫外線吸
収剤を溶解させる（滑り性を改善する微粒子を添加する
場合は、これを更に投入混合し、分散機に移し、微粒子
を充分分散させて分散液を調製する）。この紫外線吸収
剤含有溶液を適宜ドープ用ミキシングタンクに送り、上
記ドープと混合し、得られた混合液を、適宜ドープフィ
ルターを介して流延口に送り、流延口から混合液（ドー
プ）がドラム上に流延される。

【００４２】流延口から混合液（ドープ）がドラム上に
流延された後は、ドラムが一回転する間に流延された層
が自己支持性を有する程度に乾燥され、次いで、ドラム
から剥離されて充分に乾燥された後、ドラミに巻き取ら
れる。上記ドラムの代わりに無端バンドを使用しても良
い。

【００４３】ドープと紫外線吸収剤含有溶液との混合
を、タンクで行なわず、流延口の手前の配管途中に配置
されたスタチックミキサーにより混合され、流延口に送
られ、流延口から混合液（ドープ）をドラム上に流延さ
れてもよい。

【００４４】さらに、ドープあるいは分散液の調製時
に、必要に応じて、分散剤、蛍光染料、消泡剤、潤滑
剤、褪色防止剤、防腐剤等の公知の各種添加剤を用いて
も良い。

【００４５】

【実施例】

［実施例１］セルローストリアセテート（酢化度：６１
％）１００重量部、ＴＰＰ（トリフェニルホスフェー
ト）１２重量部、メチレンクロライド３２０重量部、メ
タノール５０重量部及び１−ブタノール１０重量部をド
ープ用ミキシングタンクに投入し、加熱攪拌することに
より、セルローストリアセテートを溶解させてドープを
調製した。別に、前記化合物例ＵＶ−９の紫外線吸収剤
１５重量部、メチレンクロライド８０重量部及びメタノ
ール２０重量部を別のミキシングタンクに投入し、加熱
攪拌して紫外線吸収剤を溶解させ、紫外線吸収剤含有溶
液を調製した。上記調製したドープ１００重量部に対し
て紫外線吸収剤含有溶液を２重量部の割合で加えてミキ
シングタンク中で充分混合し、次いで流延口から混合液
（ドープ）をドラム上に流延した。その後、多数のロー
ルを有する熱処理装置の中を搬送することにより乾燥
し、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム
を作製した。

【００４６】［実施例２］実施例１において、前記化合
物例ＵＶ−９の紫外線吸収剤１５重量部の代わりに前記
化合物例ＵＶ−６の紫外線吸収剤２０重量部を使用した
以外は実施例１と同様にしてセルローストリアセテート
フィルムを作製した。

【００４７】［実施例３］実施例１において、前記化合
物例ＵＶ−９の紫外線吸収剤１５重量部の代わりに前記
化合物例ＵＶ−６の紫外線吸収剤１０重量部と前記化合
物例ＵＶ−３の紫外線吸収剤５重量部とを使用した以外
は実施例１と同様にしてセルローストリアセテートフィ
ルムを作製した。

【００４８】［実施例４］実施例１において、実施例１
で調製した紫外線吸収剤含有溶液に、更に二酸化ケイ素
の微粒子（商品名：アエロジルＲ９７２Ｄ、一次粒子の
平均粒径：０．０１６μｍ；日本アエロジル（株）製）
０．５重量部を投入混合し、分散機に移して上記微粒子
の分散液中での平均粒径が０．３μｍとなるように分散
させて分散液を調製し、この分散液を上記紫外線吸収剤
含有溶液の代わりに使用した以外は実施例１と同様にし
てセルローストリアセテートフィルムを作製した。

【００４９】［比較例１］実施例１において、前記化合
物例ＵＶ−９の紫外線吸収剤１５重量部の代わりに前記
の２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベン
ゾフェノン２０重量部を使用した以外は実施例１と同様
にしてセルローストリアセテートフィルムを作製した。

【００５０】［比較例２］実施例１において、紫外線吸
収剤含有溶液の代わりに、メチレンクロライド８０重量
部及びメタノール２０重量部の溶剤中に二酸化ケイ素の
微粒子（商品名：アエロジル２００、一次粒子の平均粒
径：０．０１２μｍ；日本アエロジル（株）製）０．５
重量部を投入混合し、分散機に移して上記微粒子の分散
液中での平均粒径が０．３μｍとなるように分散させて
分散液を調製し、この分散液を紫外線吸収剤含有溶液の
代わりに使用した以外は実施例１と同様にしてセルロー
ストリアセテートフィルムを作製した。

【００５１】［比較例３］実施例１において、紫外線吸
収剤含有溶液を使用しなかった以外は実施例１と同様に
してセルローストリアセテートフィルムを作製した。

【００５２】上記で得られたセルローストリアセテート
フィルムについて下記の方法によりその特性を評価し
た。

【００５３】１）分光特性実施例１、実施例３及び比較例１で得られたフィルムに
ついて、分光光度計（Ｕ−３４００、（株）日立製作所
製）を用いて、得られたフィルムの３００ｎｍ〜４５０
ｎｍの波長範囲における透過率を測定した。

【００５４】上記結果を図１に示す。上記分光特性のグ
ラフより、短波長領域では共に透過率は０％であるが、
可視領域に入る４００ｎｍでは実施例１のフィルムは８
４．８％の透過率であるが、比較例の１のフィルムは６
０．２％で、比較例は可視光線をかなり吸収しているこ
とは明らかである。

【００５５】２）光透過率（％）透明度測定機（（株）ＫＯＴＡＫＩ製作所製）を用い
て、得られたフィルムの可視光線の透過率を測定した。

【００５６】３）波長４００ｎｍの光の透過率（％）分光光度計（Ｕ−３４００、（株）日立製作所製）を用
いて、得られたフィルムの波長４００ｎｍの光の透過率
を測定した。

【００５７】４）動摩擦係数１００ｍｍ×２００ｍｍのフィルム上に７５ｍｍ×１０
０ｍｍのフィルムを載せ、これを固定した台の上に載
せ、更にフィルム上にフォームラバーで覆われた２００
ｇのおもりを載せる。おもりを水平方向に引っ張り、動
き出した時の力（Ｆ）を測定した。そして下記式より動
摩擦係数（μ）を求めた。Ｆ＝μＷ（Ｗ：おもりの重さ（ｋｇｆ））

【００５８】上記測定結果を下記の表１に示す。

【００５９】

【表１】表１ ──────────────────────────────────── 光透過率 400nm 透過率動摩擦係数（％）（％） ──────────────────────────────────── 実施例１９２．５８４．８０．５０実施例２９２．５８０．３０．６０実施例３９２．５６６．８０．５５実施例４９２．５９０．１０．５０ ──────────────────────────────────── 比較例１９１．７６０．２ −− 比較例２ −− −− ０．５１比較例３ −− −− ０．７０ ────────────────────────────────────

【００６０】上記結果から明らかなように、実施例１〜
４で得られた本発明のトリアセテートフィルムは、可視
光線の光透過率が高く、かつ４００ｎｍの透過率が高い
ので透明性に優れたフィルムということができる。更
に、動摩擦係数も従来の滑り材を使した比較例２のフィ
ルムを差がなく、耐傷性についても向上していることが
わかる。

【００６１】

【発明の効果】本発明のセルローストリアセテートフィ
ルムは、透過率が高く且つ黄色みのない透過光を得るた
め、波長４００ｎｍ付近の可視光をほとんど吸収せず、
紫外領域の光を効率よく吸収する上記一般式（Ｉ）で表
わされる紫外線吸収剤を使用しているので、透明性にお
いて優れたものである。更に、上記紫外線吸収剤を含有
するトリアセテートフィルムは摩擦係数が低いことか
ら、滑り性にも優れており、従って、本発明のセルロー
ストリアセテートフィルムは優れた光透過性及び滑り性
を有し、そして耐光性においても改善されたものである
ということができる。このような滑り性と光透過性に優
れたセルローストリアセテートフィルムは、加工工程で
傷の発生がほとんどないため、種々な用途に有利に使用
することができる。特に、偏光膜と上記フィルムを用い
て偏光板を作成する際には、接着工程、ハードコートの
コーティング工程、さらにこれらの工程を行なうための
搬送作業などの種々な工程で傷つき易いことから、本発
明のセルローストリアセテートフィルムは、上記偏光板
用の保護フィルムとして有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１、実施例３及び比較例１で得られたフ
ィルムの、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲における
透過率（分光曲線）を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０２Ｂ 5/22 8507−2Ｋ // Ｂ２９Ｋ 1:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】セルローストリアセテートと該セルロー
ストリアセテート中に含有された下記の一般式（Ｉ）：【化１】（但し、Ｒ¹ は、水素原子又はフェニル基で置換されて
いても良い炭素原子数１〜５のアルキル基を表わし、Ｒ
² は、フェニル基又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ
基で置換されていても良い炭素原子数１〜５のアルキル
基を表わし、そしてＸは水素原子又はハロゲン原子を表
わす。）で表わされる紫外線吸収剤からなることを特徴
とするセルローストリアセテートフィルム。
【請求項２】該フィルムの波長４００ｎｍの光の透過
率が、６５％以上である請求項１に記載のセルロースト
リアセテートフィルム。
【請求項３】該フィルムが、溶液流延により得られる
ものである請求項１に記載のセルローストリアセテート
フィルム。
【請求項４】該フィルムが、偏光板用の保護フィルム
である請求項１に記載のセルローストリアセテートフィ
ルム。