JPH07110910A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ラミネートタイプの磁気ヘッドを、強磁性金
属膜２が形成された短冊状の基板３を複数重ね合わせ接
合一体化する工程と、前記一体化した基板３を、強磁性
金属膜２が形成された面と略直交方向に切断し、複数の
コアブロックを切り出す工程と、少なくとも一方に巻線
溝７加工を施した一対のコアブロックを、ギャップ材８
を介して接合一体化する工程と、接合一体化したコアブ
ロックの磁気記録媒体摺動面側の基板部分の少なくとも
一部に、強磁性金属膜２に沿って溝加工を施し、非磁性
材料１１を充填する工程と、溝に非磁性材料１１が充填
されたコアブロックを各ヘッドチップにスライシングす
る工程によって製造する。 【効果】 耐摩耗性に優れる磁気ヘッドが加工性良く、
高い生産性をもって製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強磁性金属膜を一対の
ヘッドコアで挟み込んでなる，いわゆるラミネートタイ
プの磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばビデオテープレコーダやデジタル
データレコーダ等の磁気記録再生装置においては、記録
信号の高密度化や高周波数化等が進められており、これ
に対応する磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ等の強磁性金属粉末を用いた，いわゆるメタルテープ
や、ベースフィルム上に強磁性金属材料を真空蒸着法に
より直接被着することで磁性層が形成された，いわゆる
蒸着テープ等が使用されるようになっている。

【０００３】ここで、このようなメタルテープや蒸着テ
ープは高い残留磁束密度Ｂｒと高い保磁力Ｈｃを有する
ため、記録再生に用いる磁気ヘッドにも、高い飽和磁束
密度Ｂｓと高い透磁率を有する材質であることが要求さ
れる。さらに、磁気ヘッドには、磁気記録媒体上に記録
される記録トラック密度を高めるべく、トラック幅の狭
小化が可能であることも重要である。

【０００４】このような要求に応える磁気ヘッドとして
は、各種金属磁性材料からなる強磁性金属膜をセラミッ
クス等の非磁性コア基板により挟持してなる磁気コア半
体を、強磁性金属膜の端面同士が突合わさるように接合
一体化してなる，いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッ
ドが提案されている。

【０００５】このラミネートタイプの磁気ヘッドは、強
磁性金属膜の厚みを制御することで簡単に狭トラック化
が図れること、構造的に疑似ギャップが発生しないこ
と、更に製造工程が簡単であること等，種々の利点を有
するものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、記録信号の
高密度記録化，高周波数化を図るに当たっては、磁気テ
ープを磁気ヘッドに対して高速摺動させることになるた
め、磁気ヘッドには、上述の要件とともに磁気テープの
摺動に対して耐摩耗性を有することも必要となってく
る。

【０００７】このため、上記ラミネートタイプの磁気ヘ
ッドでは、強磁性金属膜を挟持するコア基板として耐摩
耗性の高い材料を選定することで磁気記録媒体摺動面の
耐摩耗性を確保するようにしている。

【０００８】しかしながら、耐摩耗性の高いコア基板
は、難削であり、製造に際する基板切断加工，巻線溝切
削加工の加工性が悪い。このため、磁気ヘッドの生産性
の低下を招くといった問題がある。

【０００９】そこで、本発明は、このような従来の実情
に鑑みて提案されたものであり、耐摩耗性を有する磁気
ヘッドが高い生産性で製造できる磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、強磁性金属
膜が形成された短冊状の基板を複数重ね合わせ、接合一
体化する工程と、前記一体化した基板を、強磁性金属膜
が形成された面と略直交方向に切断し、複数のコアブロ
ックを切り出す工程と、少なくとも一方に巻線溝加工を
施した一対のコアブロックを、ギャップ材を介して接合
一体化する工程と、接合一体化したコアブロックの磁気
記録媒体摺動面側の少なくとも一部に、強磁性金属膜に
沿って溝加工を施し、難摩耗性非磁性材料を充填する工
程と、溝に難摩耗性非磁性材料が充填されたコアブロッ
クを各ヘッドチップにスライシングする工程とを有して
なるものである。

【００１１】

【作用】本発明の製造方法では、各種切断加工，溝切削
加工を行って強磁性金属膜が並列して介在する一対の磁
気コア半体ブロックを作製し、この一対の磁気コア半体
ブロックを金属磁性膜の端面同士が突合わさるように接
合一体化して磁気コアブロックを形成する。そして、該
磁気コアブロックの磁気記録媒体摺動面側の基板部分の
少なくとも一部に、強磁性金属膜に沿って溝加工を施し
て難摩耗性非磁性材料を充填し、各ヘッドチップにスラ
イシングすることで磁気ヘッドを製造する。

【００１２】このようにコアブロック作製後の最終段階
になって難摩耗性非磁性材料をフロント側にのみ付加す
るようにすると、難摩耗性非磁性材料はコアブロックを
作製するまでの切断加工，切削加工には関与してこない
ことになるので、これら加工が迅速且つ良好に行われ、
精密な形状の磁気ヘッドが高い生産性を持って製造され
る。

【００１３】また、このようにして作製される磁気ヘッ
ドは、フロント側に難摩耗性非磁性材料が充填されてい
るので、磁気記録媒体の摺動に対する耐摩耗性がこの難
摩耗性非磁性材料により確保され、優れた高速摺動性を
発揮する。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例について図面を
参照しながら説明する。

【００１５】実施例１ まず、本実施例の製造方法により作成される磁気ヘッド
の構造について説明する。

【００１６】本実施例で作成する磁気ヘッドは、図１に
示すようにセンダスト等からなる強磁性金属膜２をそれ
ぞれ非磁性コア基板１４で挟持してなる一対の磁気コア
半体Ｉ，ＩＩを、強磁性金属膜２の端面同士が突合わさ
るように接合一体化してなるものであり、この磁気コア
半体Ｉ，ＩＩ同士の突合せ面において強磁性金属膜２の
端面同士が突き合わさることによって磁気ギャップｇが
構成されている。この磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗ
は、前記コア基板１４が非磁性体であることから、上記
強磁性金属膜２の膜厚によって規制される。また、前記
磁気コア半体Ｉ，ＩＩの一方には、巻線溝７が切削加工
されており、これにより磁気ギャップｇのフロントデプ
スが規制される。

【００１７】そして、この磁気ヘッドでは、上記非磁性
コア基板１４のうち磁気記録媒体摺動面２０近傍のみが
難摩耗性非磁性材料１１によって構成され、残部が易摩
耗性材料１により構成されている。したがって、磁気記
録媒体の摺動に対する耐摩耗性は、この磁気記録媒体摺
動面２０近傍を構成する難摩耗性非磁性材料１１により
確保される。

【００１８】また、難摩耗性非磁性材料１１により構成
されているのはコア基板１４の極一部であり、コア基板
１４の大部分は易摩耗性材料１によって構成されている
ので、以下のような製造工程をとることによって、加工
性良く、高い生産性をもって製造できることになる。

【００１９】すなわち、このような構成の磁気ヘッドは
以下のようにして作成される。

【００２０】まず、易摩耗性非磁性材１からなる基板の
片面全面に、図２に示すように強磁性金属膜２をスパッ
タ等の真空薄膜形成法によって成膜し、複数の短冊基板
３を作製する。このとき、成膜される強磁性金属膜２の
膜厚は、作成される磁気ヘッドの磁気ギャップｇにおけ
るトラック幅Ｔｗに相当する。

【００２１】強磁性金属膜としては、例えば次のものが
使用できる。 （１）Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、及びこれらにＣ
ｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｕ，Ａｕ，Ｐ
ｄ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等を８原子％以下の割合で一種または数
種添加した結晶質材料 （２）Ｃｏに主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，
Ｎｂ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ等の一種または数種添加して構
成されたアモルファス材料 （３）Ｃｏ，Ｆｅに主としてＮｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｃ
ｕ，Ｓｎ，Ｒｕ，Ｂ等の一種または数種と、Ｎ，Ｃ，Ｏ
の一種または数種を添加して構成された微結晶材料

【００２２】また、強磁性金属膜２は、単層膜に限ら
ず、ＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ｓｉ₃ Ｎ ₄ 等の酸化物や窒
化物等の如き電気絶縁膜を介して膜厚の薄い強磁性金属
膜２を何層にも積み重ねた積層膜としても良い。強磁性
金属膜２を積層膜にすることにより、磁気ヘッドの高周
波帯域での渦電流損失を大幅に低減させることができ
る。

【００２３】次いで、図３に示すように強磁性金属膜２
が形成された複数の短冊基板３を、易摩耗性材料１と強
磁性金属膜２とが交互に並列するように重ね合わせ、接
合一体化して磁気コア基板ブロック４を作製する。

【００２４】この短冊基板３の接合方法としては、貴金
属層同士の熱拡散を利用した低温熱拡散接合やガラス融
着等，従来公知の接合方法を採用することができる。

【００２５】そして、この磁気コア基板ブロック４を、
図４に示すように強磁性金属膜２の略直交方向に、図
中、Ａ−Ａ’，Ｂ−Ｂ’，Ｃ−Ｃ’の線に沿って切断
し、図５に示すように複数の磁気コア半体ブロック５，
６を切り出す。各磁気コア半体ブロック５，６の端面に
は、各短冊基板３に成膜した強磁性金属膜２の端面が露
呈しており、この強磁性金属膜２が露呈する端面が磁気
コア半体ブロック５，６の突合せ面となる。

【００２６】この磁気コア半体ブロックの突合せ面に、
各強磁性金属膜２を横切るかたちで巻線溝を切削形成す
る。

【００２７】そして、図６に示すようにこの巻線溝７が
形成された磁気コア半体ブロック６と、巻線溝を形成し
ないこと以外は同様にして作製された磁気コア半体ブロ
ック５とを、それぞれ突合せ面を平滑研磨した後、ギャ
ップスペーサを介して突合せ、接合一体化する。このと
き磁気コア半体ブロック同士は、強磁性金属膜２の端面
が精密に対向して突合わさるように接合一体化する。

【００２８】その結果、図７に示すように、強磁性金属
膜２の突合せ面間に記録再生ギャップとして動作する磁
気ギャップｇが形成された磁気コアブロック９が得られ
る。なお、ギャップスペーサ８は、例えば各磁気コア半
体ブロック５，６の突合せ面にスパッタ等の真空薄膜形
成法によりギャップ材を被着することによって形成され
る。

【００２９】次に、このようにして形成された磁気コア
ブロック９のフロント側の面に、図８に示すように強磁
性金属膜２に沿って溝加工を施し、強磁性金属膜２のみ
が突出して残存するようにする。

【００３０】溝加工は、砥石による研削加工あるいはレ
ーザ加工によって行うことができる。また、このとき、
溝の底面は、図８に示すように一定の曲率をもった曲面
として形成しても、平坦面として形成するようにしても
どちらでも構わない。

【００３１】次いで、図９に示すように、このフロント
側の面に形成された溝部１０に難摩耗性非磁性材料１１
を充填する。

【００３２】難摩耗性非磁性材料１１としては、例えば
ビッカース硬度８００以上のものが好ましく、ＳｉＣ，
ＺｒＯ₂ ，Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｔｉ
Ｃ，ＴｉＯ₂ ，ＮｉＯ−ＣａＴｉＯ₃ 等を主成分とする
非磁性材料が挙げられる。これら非磁性材料は、スパッ
タ，ＣＶＤ等の真空薄膜形成法、あるいはパウダー・ビ
ーム・デポディション等の微粒子を高速で吹き付けて堆
積させる方法等によって溝部１０内に充填される。

【００３３】そして、最後にこの難摩耗性非磁性材料１
１の充填された面に、磁気ギャップｇのフロントデプス
が所定の値になるまでラップ処理を施して円筒面状の磁
気記録媒体摺動面２０を形成し、図中、Ｄ−Ｄ’，Ｅ−
Ｅ’の線に沿って切断することで各ヘッドチップを切り
出し磁気ヘッドが完成する。

【００３４】磁気ヘッドはこのように各種切断工程，切
削工程を経て製造されるが、この製造方法では、初めに
短冊状基板３に易摩耗性材料を用い、磁気コアブロック
９作製後の最終段階になって難摩耗性非磁性材料１１を
フロント側にのみ付加する。すなわち、磁気コアブロッ
ク９を作製するまでの工程で、切断加工，切削加工を施
すのは低摩耗性材料に対してであり、難摩耗性非磁性材
料に対して施すことはない。したがって、これら加工が
迅速且つ良好に行われ、精密な形状の磁気ヘッドが高い
生産性を持って製造されることになる。

【００３５】なお、以上は短冊状基板３に用いる易摩耗
性材料として非磁性材料を用いた場合を例にしている
が、易摩耗性材料としてフェライト等の磁性材料を用い
たり、あるいは図１０に示すように短冊状基板３を磁性
材料１２と非磁性材料１３で構成し、ヘッドのバック側
が磁性材料１２となるように配しても良い。このように
磁気ヘッドのバック側を磁性材料で構成すると、後部磁
気抵抗が低減し、高いヘッド効率が得られる。

【００３６】実施例２ 本実施例で作成する磁気ヘッドは、図１１に示すように
センダスト等からなる強磁性金属膜２をそれぞれ非磁性
コア基板１４で挟持してなる一対の磁気コア半体Ｉ，Ｉ
Ｉを、強磁性金属膜２の端面同士が突合わさるように接
合一体化してなるものであり、この磁気コア半体Ｉ，Ｉ
Ｉ同士の突合せ面において強磁性金属膜２の端面同士が
突き合わさることによって磁気ギャップｇが構成されて
いる。この磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗは、前記コ
ア基板１４が非磁性体であることから、上記強磁性金属
膜２の膜厚によって規制される。また、前記磁気コア半
体Ｉ，ＩＩの一方には、巻線溝７が切削加工されてお
り、これにより磁気ギャップｇのフロントデプスが規制
される。

【００３７】そして、この磁気ヘッドでは、上記非磁性
コア基板１４は、磁気記録媒体摺動面２０近傍のうち強
磁性金属膜２近傍を除いた部分のみが難摩耗性非磁性材
料１１によって構成され、残部が易摩耗性材料１により
構成されている。

【００３８】すなわち、上記非磁性コア基板は、磁気記
録媒体摺動面２０から見たときに、強磁性金属膜２近傍
が易摩耗性材料１により構成され、金属磁性薄膜２近傍
を除いた部分が難摩耗性非磁性材料１１によって構成さ
れている。したがって、磁気記録媒体の摺動に対する耐
摩耗性は、磁気記録媒体摺動面２０近傍のうち金属磁性
薄膜２近傍を除いた部分を構成する難摩耗性非磁性材料
１１により確保される。

【００３９】また、金属磁性薄膜２は、比較的易摩耗性
であり、これを直接難摩耗性非磁性材料１１によって挟
み込んだ場合には、摩耗速度の差からコア基板１４に比
べて強磁性金属膜２が大きく偏摩耗する。これにより磁
気記録媒体摺動面に段差が発生し出力の低下を招く虞れ
がある。これに対して、この磁気ヘッドは難摩耗性非磁
性材料１１と強磁性金属膜２の間に易摩耗性材料１が介
在している構成である。したがって、このような偏摩耗
が難摩耗性非磁性材料１１と強磁性金属膜２の間に介在
する易摩耗性材料１によって緩和され、偏摩耗が原因す
る出力低下が回避されることになる。

【００４０】そして、さらに、上記磁気ヘッドは、コア
基板１４のうち難摩耗性非磁性材料１１により構成され
ているのは磁気記録媒体摺動面近傍のみであり、コア基
板１４の大部分は易摩耗性材料１によって構成されてい
るので、以下のような製造工程をとることによって、加
工性良く、高い生産性をもって製造できることになる。

【００４１】すなわち、このような構成の磁気ヘッドは
以下のようにして作成される。

【００４２】まず、易摩耗性非磁性材料よりなる基板に
金属磁性薄膜が成膜されてなる短冊状基板を接合一体化
して、磁気コア基板ブロックを作成する。そして、この
磁気コア基板ブロックを切断加工して、磁気コア半体ブ
ロックとし、この磁気コア半体ブロックに巻線溝を切削
加工する。そして、巻線溝が切削加工された磁気コア半
体ブロックと巻線溝が切削加工されていない磁気コア半
体ブロックとを接合一体化して磁気コアブロックを作製
する。以上までの工程は、実施例１の場合と同様であ
る。

【００４３】そして、このようにして形成された磁気コ
アブロックのフロント側の面に溝加工を施す。溝加工
は、図１２に示すように、金属磁性薄膜２に沿って易摩
耗性材料１が金属磁性薄膜２近傍に一部残存するように
施し、金属磁性薄膜２とその近傍の易摩耗性材料１のみ
が突出するようにする。加工方法としては、実施例１に
例示した方法がいずれも採用可能である。

【００４４】なお、このとき金属磁性薄膜２近傍に一部
残存させる易摩耗性材料１の幅Ｅｗは、図１１に示すよ
うに磁気記録媒体摺動面の幅をＳｗ、磁気ギャップｇの
ギャップ幅をＴｗとしたときに、Ｅｗ≦（Ｓｗ−Ｔｗ）
／４なる条件を満たすように設定することが望ましい。
易摩耗性材料の幅Ｅｗが（Ｓｗ−Ｔｗ）／４よりも大き
くなると、磁気ヘッドの耐摩耗性が不十分となる。

【００４５】そして、図１３に示すように、このフロン
ト側の面に形成された溝部に難摩耗性非磁性材料１１を
充填する。難摩耗性非磁性材料，難摩耗性非磁性材料の
充填方法も、実施例１で例示した方法，材料がいずれも
採用できる。

【００４６】最後にこの非磁性材料の充填された面に、
フロントギャップが所定のデプスになるまでラップ処理
を施して円筒面状のテープ摺動面２０を形成し、図中、
Ｄ−Ｄ’，Ｅ−Ｅ’の線に沿って切断することで各ヘッ
ドチップを切り出し磁気ヘッドが完成する。

【００４７】この製造方法では、初めに短冊状基板３に
易摩耗性材料を用い、磁気コアブロック９作製後の最終
段階になって難摩耗性非磁性材料１１をフロント側にの
み付加する。すなわち、磁気コアブロック９を作製する
までの工程で、切断加工，切削加工を施すのは低摩耗性
材料に対してであり、難摩耗性非磁性材料に対して施す
ことはない。したがって、これら加工が迅速且つ良好に
行われ、精密な形状の磁気ヘッドが高い生産性を持って
製造されることになる。

【００４８】なお、以上は短冊状基板３に用いる易摩耗
性材料として非磁性材料を用いた場合を例にしている
が、この場合も実施例１の場合と同様、易摩耗性材料と
してフェライト等の磁性材料を用いたり、あるいは短冊
状基板３を磁性材料と非磁性材料で構成し、ヘッドのバ
ック側が磁性材料となるように配しても良い。このよう
に磁気ヘッドのバック側を磁性材料で構成すると、後部
磁気抵抗が低減し、高いヘッド効率が得られる。

【００４９】次に、実施例１，実施例２の製造方法で実
際に磁気ヘッドを作製し、摩耗テストを行った。用いた
材料，ヘッド寸法を以下に示す。

【００５０】実施例１の磁気ヘッド 材料 短冊状基板に用いた易摩耗性材料：非磁性Ｚｎ−フェラ
イト 強磁性金属膜：ＣｏＺｒＭｏＰｄアモルファス膜 難摩耗性非磁性材料：ＺｒＯ₂ スパッタ膜 寸法 縦×横×厚み：２ｍｍ×２ｍｍ×０．２ｍｍ 磁気記録媒体摺動面の当たり幅：６０μｍ 磁気記録媒体摺動面の曲率半径Ｒ：８ｍｍである。

【００５１】強磁性金属膜の厚み：２０μｍ

【００５２】実施例２の磁気ヘッド 材料 短冊状基板に用いた易摩耗性材料：非磁性Ｚｎ−フェラ
イト 強磁性金属膜：ＣｏＺｒＭｏＰｄアモルファス膜 難摩耗性非磁性材料：ＺｒＯ₂ スパッタ膜 寸法 縦×横×厚み：２ｍｍ×２ｍｍ×０．２ｍｍ 磁気記録媒体摺動面の当たり幅：６０μｍ 磁気記録媒体摺動面の曲率半径Ｒ：８ｍｍである。

【００５３】強磁性金属膜の厚み：２０μｍ 磁気記録媒体摺動面の金属磁性薄膜近傍の易摩耗性材料
の幅：両側とも５μｍ

【００５４】摩耗テストは、温度３０℃，相対湿度８０
％の高湿度環境下、ビデオセットとしてソニー社製，商
品名ＢＶＷ−５０（ベータカムＳＰ）を用い、磁気テー
プとしてソニー社製，商品名ＢＣＴ−９０ＭＬ（ベータ
カムＳＰ用メタルテープ）を用いて行った。テープ走行
時間と磁気記録媒体摺動面の摩耗量の関係を図１４に示
す。

【００５５】また、比較として、磁気ヘッドブロックへ
の溝部の形成，難摩耗性非磁性材料の充填を行わないこ
と以外は同様にして磁気ヘッドを作製し（比較例１）、
摩耗テストを行った。その結果も合わせて図１４に示
す。

【００５６】図１４から、実施例１，実施例２の磁気ヘ
ッドは、比較例１の磁気ヘッドに比べて格段に優れた耐
摩耗性を有することがわかる。このことから、磁気記録
媒体摺動面に溝部を形成し、これに難摩耗性非磁性材料
を充填することは、耐摩耗性の高い磁気ヘッドを得る上
で有効であることがわかった。

【００５７】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、強磁性金属膜が形成された短冊状の基板を複数
重ね合わせ接合一体化する工程と、前記一体化した基板
を、強磁性金属膜が形成された面と略直交方向に切断
し、複数のコアブロックを切り出す工程と、少なくとも
一方に巻線溝加工を施した一対のコアブロックを、ギャ
ップ材を介して接合一体化する工程と、接合一体化した
コアブロックの磁気記録媒体摺動面側の基板部分の少な
くとも一部に、強磁性金属膜に沿って溝加工を施し、難
摩耗性非磁性材料を充填する工程と、溝に難摩耗性非磁
性材料が充填されたコアブロックを各ヘッドチップにス
ライシングする工程とを有してなるので、耐摩耗性に優
れるラミネートタイプの磁気ヘッドを加工性良く高い生
産性をもって製造することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法で製造される磁気ヘッドの一
構成例を示す斜視図である。

【図２】図１に示す磁気ヘッドの製造方法を工程順に示
すものであり、強磁性金属膜成膜工程を示す斜視図であ
る。

【図３】短冊基板接合工程を示す斜視図である。

【図４】磁気コア基板ブロック切断工程を示す斜視図で
ある。

【図５】磁気コア基板ブロックを切断して得られた磁気
コア半体ブロックを示す斜視図である。

【図６】巻線溝切削工程を示す斜視図である。

【図７】磁気コア半体ブロック接合工程を示す斜視図で
ある。

【図８】磁気コア半体ブロックに難摩耗性非磁性材料を
充填するための溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図９】難摩耗性非磁性材料充填工程を示す斜視図であ
る。

【図１０】本発明の製造方法で作製される磁気ヘッドの
他の例を示す斜視図である。

【図１１】本発明の製造方法で作製される磁気ヘッドの
さらに他の例を示す斜視図である。

【図１２】図１１に示す磁気ヘッドの製造方法を工程順
に示すものであり、磁気コア半体ブロックに難摩耗性非
磁性材料を充填するための溝を形成する工程を示す斜視
図である。

【図１３】難摩耗性非磁性材料充填工程を示す斜視図で
ある。

【図１４】磁気ヘッドのテープ走行時間と磁気記録媒体
摺動面の摩耗量の関係を示す特性図である。

【符号の説明】

１・・・易摩耗性材料 ２・・・強磁性金属膜 ７・・・巻線溝 １１・・・難摩耗性非磁性材料 １４・・・磁気コア基板 ２０・・・磁気記録媒体摺動面

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 強磁性金属膜が形成された短冊状の基板
   を複数重ね合わせ、接合一体化する工程と、 前記一体化した基板を、強磁性金属膜が形成された面と
   略直交方向に切断し、複数のコアブロックを切り出す工
   程と、 少なくとも一方に巻線溝加工を施した一対のコアブロッ
   クを、ギャップ材を介して接合一体化する工程と、 接合一体化したコアブロックの磁気記録媒体摺動面側の
   基板部分の少なくとも一部に、強磁性金属膜に沿って溝
   加工を施し、難摩耗性非磁性材料を充填する工程と、 溝に難摩耗性非磁性材料が充填されたコアブロックを各
   ヘッドチップにスライシングする工程とを有してなる磁
   気ヘッドの製造方法。