JPH07122933B2 - 磁気記録ディスク及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録ディスク及びその製造方法Info
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- JPH07122933B2 JPH07122933B2 JP5150247A JP15024793A JPH07122933B2 JP H07122933 B2 JPH07122933 B2 JP H07122933B2 JP 5150247 A JP5150247 A JP 5150247A JP 15024793 A JP15024793 A JP 15024793A JP H07122933 B2 JPH07122933 B2 JP H07122933B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜金属合金磁気記録
ディスク及びこのディスクを製造する方法に関する。
ディスク及びこのディスクを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来型の回転する剛性ディスク・ファイ
ルでは、各読取り/書込み変換器(またはヘッド)が、
キャリア(またはスライダ)上に支持されており、この
キャリアは、ディスクがその動作速度で回転していると
き、その関連するディスクの表面の上方のクッションま
たは空気軸受上に載っている。スライダは、比較的もろ
いサスペンションによって線形または回転式のアクチュ
エータに連結されている。ディスク・ファイル内に複数
のディスクのスタックがあり、アクチュエータが複数の
スライダを支持することもある。アクチュエータは、各
ヘッドがその関連するディスク表面の記録領域にアクセ
スできるように、スライダを半径方向に移動させる。こ
うした従来型のディスク・ファイルでは、スライダは、
サスペンションからの小さな力によってディスク表面に
向かってバイアスされている。スライダはディスク・フ
ァイルがオンにされた時からディスク表面と接触してお
り、ディスクが十分な速度に達してスライダを空気軸受
上に載せるまでそれが続き、ディスク・ファイルがオフ
にされてディスクの回転速度が空気軸受を生成するのに
必要な速度以下に落ちたとき、再びディスク表面に接触
するので、このようなディスク・ファイルは、接触調歩
式(CSS:コンタクト スタート ストップ式)ディ
スク・ファイルと呼ばれる。CSSディスク・ファイル
では、スライダが接触するのは始動動作と停止動作の時
だけなので、ディスク表面が非常に平滑である必要はな
い。その代わりに、ディスク表面にきめ(テクスチュ
ア)をつけて、スライダがディスク表面上で静止してい
る時にスライダとディスクの間の静止摩擦を減らすこと
が望ましい。
ルでは、各読取り/書込み変換器(またはヘッド)が、
キャリア(またはスライダ)上に支持されており、この
キャリアは、ディスクがその動作速度で回転していると
き、その関連するディスクの表面の上方のクッションま
たは空気軸受上に載っている。スライダは、比較的もろ
いサスペンションによって線形または回転式のアクチュ
エータに連結されている。ディスク・ファイル内に複数
のディスクのスタックがあり、アクチュエータが複数の
スライダを支持することもある。アクチュエータは、各
ヘッドがその関連するディスク表面の記録領域にアクセ
スできるように、スライダを半径方向に移動させる。こ
うした従来型のディスク・ファイルでは、スライダは、
サスペンションからの小さな力によってディスク表面に
向かってバイアスされている。スライダはディスク・フ
ァイルがオンにされた時からディスク表面と接触してお
り、ディスクが十分な速度に達してスライダを空気軸受
上に載せるまでそれが続き、ディスク・ファイルがオフ
にされてディスクの回転速度が空気軸受を生成するのに
必要な速度以下に落ちたとき、再びディスク表面に接触
するので、このようなディスク・ファイルは、接触調歩
式(CSS:コンタクト スタート ストップ式)ディ
スク・ファイルと呼ばれる。CSSディスク・ファイル
では、スライダが接触するのは始動動作と停止動作の時
だけなので、ディスク表面が非常に平滑である必要はな
い。その代わりに、ディスク表面にきめ(テクスチュ
ア)をつけて、スライダがディスク表面上で静止してい
る時にスライダとディスクの間の静止摩擦を減らすこと
が望ましい。
【0003】上記の従来型のCSS磁気記録ディスク・
ファイルの他に、「接触」記録式剛性ディスク・ファイ
ルが提唱されている。「液体軸受」接触記録と呼ばれる
形式の接触記録では、ヘッド・ディスク界面は、変換器
キャリアとディスクの間の液体軸受として、液体薄膜を
含む。この形式の接触記録式ディスク・ファイルの例
は、欧州特許出願公告第367510号として1990
年5月9日に公告されている。「乾式」接触記録と呼ば
れるもう1つの形式の接触記録では、ディスク・ファイ
ルは、統合ヘッド・サスペンションを使用し、読取り動
作中及び書込み動作中にそれがディスク表面と物理的に
接触する。たとえば米国特許第5041932号に記載
されているこの形式のヘッド・サスペンションでは、ヘ
ッドの一部分が、ディスク・ファイルの耐用期間中ずっ
とディスクと摩擦接触するために、実際に摩耗してしま
う。上記の両形式の接触記録式ディスク・ファイルで
は、ヘッドとディスクの間隔が狭いため、ディスク表面
を極めて平滑にすることが必要である。
ファイルの他に、「接触」記録式剛性ディスク・ファイ
ルが提唱されている。「液体軸受」接触記録と呼ばれる
形式の接触記録では、ヘッド・ディスク界面は、変換器
キャリアとディスクの間の液体軸受として、液体薄膜を
含む。この形式の接触記録式ディスク・ファイルの例
は、欧州特許出願公告第367510号として1990
年5月9日に公告されている。「乾式」接触記録と呼ば
れるもう1つの形式の接触記録では、ディスク・ファイ
ルは、統合ヘッド・サスペンションを使用し、読取り動
作中及び書込み動作中にそれがディスク表面と物理的に
接触する。たとえば米国特許第5041932号に記載
されているこの形式のヘッド・サスペンションでは、ヘ
ッドの一部分が、ディスク・ファイルの耐用期間中ずっ
とディスクと摩擦接触するために、実際に摩耗してしま
う。上記の両形式の接触記録式ディスク・ファイルで
は、ヘッドとディスクの間隔が狭いため、ディスク表面
を極めて平滑にすることが必要である。
【0004】剛性ディスク・ファイルで使用されてきた
1つの形式のディスクは、一般に、ニッケル・リン(N
iP)の表面被覆を有するアルミニウム・マグネシウム
(AlMg)合金などの基板と、基板上に磁気層として
スパッタ付着されたCoPtやCoNi合金などコバル
トを主体とする合金と、磁気層の上に形成されたスパッ
タ付着非晶質(アモルファス)水素化炭素被膜などの保
護膜とを含む、薄膜金属合金ディスクである。この薄膜
ディスクは、磁気層及び保護膜に加えて、基板と磁気層
の間にクロム(Cr)、クロム−バナジウム(Cr
V)、タングステン(W)の層などのスパッタ付着され
た下地層、及び磁気層と保護層の間にCr、W、チタン
(Ti)などのスパッタ付着された接着層をも含むこと
ができる。この従来型のディスクはCSSディスク・フ
ァイル用には適切であるが、接触記録ディスク・ファイ
ル中でディスクを使用する場合に必要なようにAlMg
−NiP基板が非常に平滑に作られているときは、従来
の方法でディスクを製造しながら必要なディスク保磁力
を達成することは不可能である。
1つの形式のディスクは、一般に、ニッケル・リン(N
iP)の表面被覆を有するアルミニウム・マグネシウム
(AlMg)合金などの基板と、基板上に磁気層として
スパッタ付着されたCoPtやCoNi合金などコバル
トを主体とする合金と、磁気層の上に形成されたスパッ
タ付着非晶質(アモルファス)水素化炭素被膜などの保
護膜とを含む、薄膜金属合金ディスクである。この薄膜
ディスクは、磁気層及び保護膜に加えて、基板と磁気層
の間にクロム(Cr)、クロム−バナジウム(Cr
V)、タングステン(W)の層などのスパッタ付着され
た下地層、及び磁気層と保護層の間にCr、W、チタン
(Ti)などのスパッタ付着された接着層をも含むこと
ができる。この従来型のディスクはCSSディスク・フ
ァイル用には適切であるが、接触記録ディスク・ファイ
ル中でディスクを使用する場合に必要なようにAlMg
−NiP基板が非常に平滑に作られているときは、従来
の方法でディスクを製造しながら必要なディスク保磁力
を達成することは不可能である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、接触
記録ディスク・ファイル中で使用でき、ファイルが、必
要とされる平滑なヘッド・ディスク界面もディスク保磁
力も有することができる、従来のディスク技術に基づく
改良された薄膜金属合金磁気記録ディスクを提供するこ
とにある。
記録ディスク・ファイル中で使用でき、ファイルが、必
要とされる平滑なヘッド・ディスク界面もディスク保磁
力も有することができる、従来のディスク技術に基づく
改良された薄膜金属合金磁気記録ディスクを提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録ディ
スク及びこのディスクを製作する方法に関するものであ
る。ディスク基板上の超仕上げしたきめのないNiP被
覆を酸化して、NiO被膜を形成する。このNiO被膜
により、後でスパッタ付着される磁気層は非常に高い保
磁力を有することができ、そのためにこのディスクが接
触記録の応用例で使用できるようになる。このNiO被
膜と、後で付着される、ディスクを構成する層は、研磨
されたNiPの平滑な表面と共形(コンフォーム)であ
り、したがって、接触記録式ディスク・ファイルに必要
なディスクの上層の非常に平滑な表面を保存する。
スク及びこのディスクを製作する方法に関するものであ
る。ディスク基板上の超仕上げしたきめのないNiP被
覆を酸化して、NiO被膜を形成する。このNiO被膜
により、後でスパッタ付着される磁気層は非常に高い保
磁力を有することができ、そのためにこのディスクが接
触記録の応用例で使用できるようになる。このNiO被
膜と、後で付着される、ディスクを構成する層は、研磨
されたNiPの平滑な表面と共形(コンフォーム)であ
り、したがって、接触記録式ディスク・ファイルに必要
なディスクの上層の非常に平滑な表面を保存する。
【0007】基板上にNiO被膜を形成するための好ま
しい方法では、基板を空気中でNiP被膜を結晶化させ
る温度より低い温度でアニールする。
しい方法では、基板を空気中でNiP被膜を結晶化させ
る温度より低い温度でアニールする。
【0008】
【実施例】まず図1には、本発明のディスク・ファイル
の液体軸受接触記録実施例が概略断面図で示されてい
る。ディスク・ファイルは、ベース10、これに取り付
けたディスク駆動モータ12とアクチュエータ14、及
びカバー11を有する。ベース10とカバー11は、デ
ィスク駆動機構の実質的に密閉されたケーシングとな
る。一般に、ベース10とカバー11の間にガスケット
13があり、またディスク・ファイルの内部と外部環境
の間の圧力を等しくするための小さな通気口(図示せ
ず)がある。この形式のディスク・ファイルは、駆動モ
ータ12が完全にケーシング内にあり、内部の構成要素
を冷却するための外部強制空気供給もないので、実質的
に密封されていると記述される。磁気記録ディスク16
が、駆動モータ12によって回転するように取り付けた
ハブ18上に載っている。読取り/書込みヘッドすなわ
ち変換器(図示せず)が、変換器キャリア20上に形成
されている。キャリア20は、剛性アーム22とサスペ
ンション24によってアクチュエータ14に連結され、
サスペンション24は変換器キャリア20にバイアス力
を与えて、これを記録ディスク16の表面に押し付け
る。ディスク・ファイルの動作中、駆動モータ12がデ
ィスク16を一定速度で回転させ、また一般に線形また
は回転式のボイス・コイル・モータ(VCM)であるア
クチュエータ14が、変換器キャリア20を通常はディ
スク16の表面を横切って半径方向に移動させ、これに
よって読取り/書込みヘッドがディスク16上の様々な
データ・トラックにアクセスできるようになる。
の液体軸受接触記録実施例が概略断面図で示されてい
る。ディスク・ファイルは、ベース10、これに取り付
けたディスク駆動モータ12とアクチュエータ14、及
びカバー11を有する。ベース10とカバー11は、デ
ィスク駆動機構の実質的に密閉されたケーシングとな
る。一般に、ベース10とカバー11の間にガスケット
13があり、またディスク・ファイルの内部と外部環境
の間の圧力を等しくするための小さな通気口(図示せ
ず)がある。この形式のディスク・ファイルは、駆動モ
ータ12が完全にケーシング内にあり、内部の構成要素
を冷却するための外部強制空気供給もないので、実質的
に密封されていると記述される。磁気記録ディスク16
が、駆動モータ12によって回転するように取り付けた
ハブ18上に載っている。読取り/書込みヘッドすなわ
ち変換器(図示せず)が、変換器キャリア20上に形成
されている。キャリア20は、剛性アーム22とサスペ
ンション24によってアクチュエータ14に連結され、
サスペンション24は変換器キャリア20にバイアス力
を与えて、これを記録ディスク16の表面に押し付け
る。ディスク・ファイルの動作中、駆動モータ12がデ
ィスク16を一定速度で回転させ、また一般に線形また
は回転式のボイス・コイル・モータ(VCM)であるア
クチュエータ14が、変換器キャリア20を通常はディ
スク16の表面を横切って半径方向に移動させ、これに
よって読取り/書込みヘッドがディスク16上の様々な
データ・トラックにアクセスできるようになる。
【0009】図2は、カバー11を外したディスク・フ
ァイル内部の上面図であり、潤滑液をデイスク16の表
面に補給する潤滑液供給手段として働く、環状の潤滑液
だめ30が示されている。潤滑液の連続した薄膜がデイ
スク16表面上に維持され、動作中に環状潤滑液だめ3
0から潤滑液が補給される。図2には、サスペンション
24もより詳しく示してあり、これはキャリア20に力
をかけて、これをディスク16上の潤滑液薄膜と接触し
た状態に維持する。サスペンションは、空気軸受スライ
ダを有する磁気ディスク・ファイルで使用されるよう
な、従来型のサスペンションでよい。その1例は、本出
願人の米国特許第4167765号に記載されているよ
うな、周知のワトラス・サスペンションである。この形
式のサスペンションはまた、変換器キャリアをジンバル
で取り付け、潤滑液上に載ったキャリアの横揺れ縦揺れ
を可能にする。
ァイル内部の上面図であり、潤滑液をデイスク16の表
面に補給する潤滑液供給手段として働く、環状の潤滑液
だめ30が示されている。潤滑液の連続した薄膜がデイ
スク16表面上に維持され、動作中に環状潤滑液だめ3
0から潤滑液が補給される。図2には、サスペンション
24もより詳しく示してあり、これはキャリア20に力
をかけて、これをディスク16上の潤滑液薄膜と接触し
た状態に維持する。サスペンションは、空気軸受スライ
ダを有する磁気ディスク・ファイルで使用されるよう
な、従来型のサスペンションでよい。その1例は、本出
願人の米国特許第4167765号に記載されているよ
うな、周知のワトラス・サスペンションである。この形
式のサスペンションはまた、変換器キャリアをジンバル
で取り付け、潤滑液上に載ったキャリアの横揺れ縦揺れ
を可能にする。
【0010】図3は、本発明の液体軸受接触記録実施例
における変換器キャリア20の側面図及びディスク16
の断面図である。キャリア20の後端近くにスキー脚4
0があり、その後縁44にヘッド42がある。スキー脚
40はディスク16上の液体被膜50と接触しており、
読取り動作中または書込み動作中、取り付けられたサス
ペンション24によって与えられるバイアス力によって
接触状態に維持される。
における変換器キャリア20の側面図及びディスク16
の断面図である。キャリア20の後端近くにスキー脚4
0があり、その後縁44にヘッド42がある。スキー脚
40はディスク16上の液体被膜50と接触しており、
読取り動作中または書込み動作中、取り付けられたサス
ペンション24によって与えられるバイアス力によって
接触状態に維持される。
【0011】図4は、本発明の乾式接触記録実施例にお
ける統合ヘッド・サスペンション23の側面図及びディ
スク16の断面図である。統合ヘッド・サスペンション
23は、図3の液体軸受実施例におけるサスペンション
24とキャリア20の両方の機能を果す。ただしそれと
は対照的に、磁極端27およびコイル29として示され
ている変換器が、統合ヘッド・サスペンション23内に
埋め込まれている。ディスク16表面には液体被膜はな
いので潤滑液だめは必要でなく、ヘッド・サスペンショ
ン23は、読取り動作中及び書込み動作中にディスク1
6の表面と直接接触する。
ける統合ヘッド・サスペンション23の側面図及びディ
スク16の断面図である。統合ヘッド・サスペンション
23は、図3の液体軸受実施例におけるサスペンション
24とキャリア20の両方の機能を果す。ただしそれと
は対照的に、磁極端27およびコイル29として示され
ている変換器が、統合ヘッド・サスペンション23内に
埋め込まれている。ディスク16表面には液体被膜はな
いので潤滑液だめは必要でなく、ヘッド・サスペンショ
ン23は、読取り動作中及び書込み動作中にディスク1
6の表面と直接接触する。
【0012】図5は、本発明のディスク16の断面図で
ある。ディスク基板60は、NiP表面被覆62を有す
るAlMgベース61を備える。基板は市販のディスク
基板であり、東洋鋼板や日本軽金属などいくつかのベン
ダーから入手できる。AlMgは一般に5586アルミ
ニウム合金であり、NiPを厚さ約10〜15ミクロン
に無電解めっきする。接触記録の応用分野では、NiP
被覆62の表面が非常に平滑であることが必要である。
したがって、Al2O3研磨材による機械的研磨など様々
な既知の技術によって、NiP被覆62を算術平均表面
粗度(Ra)が約10オングストローム未満になるよう
に研磨する。次に基本的にNiOから成る酸化ニッケル
被膜64を、下記のいずれかの技術によってNiP被覆
62上に形成する。NiO被膜64の厚さは、下地層の
核形成を制御するのに十分な厚さである限り、重要では
ない。核制御を制御するのに十分な厚さは、約10〜3
0オングストロームの範囲にあることがわかっている。
NiO被膜64の形成後に、ディスク16の残りの周知
の層を、通常の方式でスパッタ付着によって形成する。
これには、厚さ約200〜1200オングストロームの
CrまたはCrV下地層66、厚さ約100〜500オ
ングストロームのCoPtCrやCoNiの合金などの
Co合金磁気層、及び水素の存在下で炭素ターゲットか
らスパッタ付着された、厚さ約250オングストローム
の水素化炭素保護層68が含まれる。後で付着される層
は基板の表面と共形になるので、接触記録式ディスク・
ファイルで必要とされるとおり保護層68の表面がヘッ
ドに対して極めて平滑な界面を示すように、基板表面
(すなわちNiP表面被覆62の表面)は非常に平滑で
ある必要がある。
ある。ディスク基板60は、NiP表面被覆62を有す
るAlMgベース61を備える。基板は市販のディスク
基板であり、東洋鋼板や日本軽金属などいくつかのベン
ダーから入手できる。AlMgは一般に5586アルミ
ニウム合金であり、NiPを厚さ約10〜15ミクロン
に無電解めっきする。接触記録の応用分野では、NiP
被覆62の表面が非常に平滑であることが必要である。
したがって、Al2O3研磨材による機械的研磨など様々
な既知の技術によって、NiP被覆62を算術平均表面
粗度(Ra)が約10オングストローム未満になるよう
に研磨する。次に基本的にNiOから成る酸化ニッケル
被膜64を、下記のいずれかの技術によってNiP被覆
62上に形成する。NiO被膜64の厚さは、下地層の
核形成を制御するのに十分な厚さである限り、重要では
ない。核制御を制御するのに十分な厚さは、約10〜3
0オングストロームの範囲にあることがわかっている。
NiO被膜64の形成後に、ディスク16の残りの周知
の層を、通常の方式でスパッタ付着によって形成する。
これには、厚さ約200〜1200オングストロームの
CrまたはCrV下地層66、厚さ約100〜500オ
ングストロームのCoPtCrやCoNiの合金などの
Co合金磁気層、及び水素の存在下で炭素ターゲットか
らスパッタ付着された、厚さ約250オングストローム
の水素化炭素保護層68が含まれる。後で付着される層
は基板の表面と共形になるので、接触記録式ディスク・
ファイルで必要とされるとおり保護層68の表面がヘッ
ドに対して極めて平滑な界面を示すように、基板表面
(すなわちNiP表面被覆62の表面)は非常に平滑で
ある必要がある。
【0013】NiO被膜64を形成するための好ましい
工程では、基板60を洗浄し、チャンバ内に入れて、空
気中で100〜200℃の範囲の温度で約20〜60分
間加熱する。温度は、非晶質NiPが結晶化する温度で
ある約250℃より低く維持しなければならない。この
酸化工程の結果、NiP被覆62上に基本的にNiOか
ら成る被膜が約10〜30オングストロームの厚さに形
成されることがわかった。酸化物被膜のテストによっ
て、明らかに優勢な成分はNiOであることが確認され
たが、NiO2やNi2O3など他の酸化物も存在する可
能性があった。比較のため、洗浄後のNiP被覆62の
表面をテストしたところ、厚さ約15オングストローム
の自然酸化物層があることがわかったが、有意なNiO
はなかった。
工程では、基板60を洗浄し、チャンバ内に入れて、空
気中で100〜200℃の範囲の温度で約20〜60分
間加熱する。温度は、非晶質NiPが結晶化する温度で
ある約250℃より低く維持しなければならない。この
酸化工程の結果、NiP被覆62上に基本的にNiOか
ら成る被膜が約10〜30オングストロームの厚さに形
成されることがわかった。酸化物被膜のテストによっ
て、明らかに優勢な成分はNiOであることが確認され
たが、NiO2やNi2O3など他の酸化物も存在する可
能性があった。比較のため、洗浄後のNiP被覆62の
表面をテストしたところ、厚さ約15オングストローム
の自然酸化物層があることがわかったが、有意なNiO
はなかった。
【0014】NiO被膜64を形成するための代替工程
では、酸素の存在下でのスパッタ・エッチングによって
酸化を実施する。基板60を真空チャンバに入れ、O2
を約10%含有するアルゴン(Ar)雰囲気中でNiP
表面被覆62をスパッタ・エッチングする。その後直ち
に、真空を切らずに、後続のディスク層66、67、6
8をスパッタ付着する。
では、酸素の存在下でのスパッタ・エッチングによって
酸化を実施する。基板60を真空チャンバに入れ、O2
を約10%含有するアルゴン(Ar)雰囲気中でNiP
表面被覆62をスパッタ・エッチングする。その後直ち
に、真空を切らずに、後続のディスク層66、67、6
8をスパッタ付着する。
【0015】NiP表面被覆の酸化によるディスク保磁
力の改善を図6と図7に示す。図6では、空気中でのア
ニールによって形成されたNiO被膜を有する超仕上げ
した(Ra=7オングストローム)基板及び前記のNi
O被膜を有しない同基板上に、Co78Pt8Cr20磁気
層を有し、残留磁気と厚さの積(Mr×t)の値が様々
な値をとるディスクを製造した。図に示すように、10
0〜200℃の範囲で60分間のアニールによって形成
されたNiO被膜を有するディスクでは、保磁力の顕著
な増大が見られる。たとえば、Mr×t=0.75me
mu/cm2のディスクの保磁力は、150℃での60
分間の空気アニールによってNiO被膜を形成すると、
900 Oe(NiO被膜なし)から1850 Oeに
増加する。図7では、750ボルト及び1250ボルト
のスパッタ・エッチング電圧で、O2を10%含むAr
雰囲気中で10秒間及び20秒間スパッタ・エッチング
した超仕上げ基板上に、同様なディスクを製造した。図
に示すように、スパッタ・エッチングした基板を有する
ディスクでは、保磁力の顕著な増大が見られる。たとえ
ば、750ボルトで10秒間スパッタ・エッチングを行
ったとき、保磁力は1000 Oeから1300 Oe
に増大し、1250ボルトで行ったときは1000 O
eから1850 Oeに増大する。
力の改善を図6と図7に示す。図6では、空気中でのア
ニールによって形成されたNiO被膜を有する超仕上げ
した(Ra=7オングストローム)基板及び前記のNi
O被膜を有しない同基板上に、Co78Pt8Cr20磁気
層を有し、残留磁気と厚さの積(Mr×t)の値が様々
な値をとるディスクを製造した。図に示すように、10
0〜200℃の範囲で60分間のアニールによって形成
されたNiO被膜を有するディスクでは、保磁力の顕著
な増大が見られる。たとえば、Mr×t=0.75me
mu/cm2のディスクの保磁力は、150℃での60
分間の空気アニールによってNiO被膜を形成すると、
900 Oe(NiO被膜なし)から1850 Oeに
増加する。図7では、750ボルト及び1250ボルト
のスパッタ・エッチング電圧で、O2を10%含むAr
雰囲気中で10秒間及び20秒間スパッタ・エッチング
した超仕上げ基板上に、同様なディスクを製造した。図
に示すように、スパッタ・エッチングした基板を有する
ディスクでは、保磁力の顕著な増大が見られる。たとえ
ば、750ボルトで10秒間スパッタ・エッチングを行
ったとき、保磁力は1000 Oeから1300 Oe
に増大し、1250ボルトで行ったときは1000 O
eから1850 Oeに増大する。
【0016】超仕上げしたNiP被覆の酸化はディスク
において他の改善をもたらすこともわかった。NiPを
研磨すると、その表面にいくつかの残留かき傷が残る。
これらのかき傷は磁気異方性をもたらし、かき傷の方向
に沿って保磁力と矩形比が増大する。残留かき傷は記録
トラックの方向と平行に並んでいないので、この異方性
によって望ましくない信号振幅変調が発生する。NiP
被覆上にNiO被膜を形成すると、下地層及び磁気層の
結晶配向が変化して、この変調が大幅に減少する。
において他の改善をもたらすこともわかった。NiPを
研磨すると、その表面にいくつかの残留かき傷が残る。
これらのかき傷は磁気異方性をもたらし、かき傷の方向
に沿って保磁力と矩形比が増大する。残留かき傷は記録
トラックの方向と平行に並んでいないので、この異方性
によって望ましくない信号振幅変調が発生する。NiP
被覆上にNiO被膜を形成すると、下地層及び磁気層の
結晶配向が変化して、この変調が大幅に減少する。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば、ニッケル・リンの表面
被覆を有するアルミニウム合金基板上にコバルトを主体
とする合金の磁気層を形成した構造の薄膜金属合金磁気
記録ディスクにおいて、ニッケル・リン表面被覆上に酸
化ニッケル被膜を形成し、その上に下地層を形成した上
で磁気層を形成するようにしたので、基板が非常に滑ら
かに作られていても、必要なディスク保磁力を達成する
ことが可能になった。更に下地層及び磁気層の結晶配向
が変化しても、異方性による望ましくない信号振幅変調
が大幅に減少する効果がある。
被覆を有するアルミニウム合金基板上にコバルトを主体
とする合金の磁気層を形成した構造の薄膜金属合金磁気
記録ディスクにおいて、ニッケル・リン表面被覆上に酸
化ニッケル被膜を形成し、その上に下地層を形成した上
で磁気層を形成するようにしたので、基板が非常に滑ら
かに作られていても、必要なディスク保磁力を達成する
ことが可能になった。更に下地層及び磁気層の結晶配向
が変化しても、異方性による望ましくない信号振幅変調
が大幅に減少する効果がある。
【図1】液体軸受接触記録式ディスク・ファイルの主要
構成要素を概略的に示す、部分断面側面図である。
構成要素を概略的に示す、部分断面側面図である。
【図2】カバーを外した図1のディスク・ファイルの上
面図である。
面図である。
【図3】液体軸受接触記録式ディスク・ファイルのヘッ
ド・ディスク界面を示す図である。
ド・ディスク界面を示す図である。
【図4】乾式液体軸受接触記録式ディスク・ファイルの
ヘッド・ディスク界面を示す図である。
ヘッド・ディスク界面を示す図である。
【図5】種々のディスク層を示す、本発明によるディス
クの断面図である。
クの断面図である。
【図6】空気アニールによって形成された酸化物被膜を
有するディスクと、それを有しないディスクの、保磁力
とアニール温度の関係を示す図である。
有するディスクと、それを有しないディスクの、保磁力
とアニール温度の関係を示す図である。
【図7】O2−アルゴン雰囲気中でのスパッタ・エッチ
ングによって形成された酸化物被膜を有するディスク
と、それを有しないディスクの、保磁力とエッチング電
圧の関係を示す図である。
ングによって形成された酸化物被膜を有するディスク
と、それを有しないディスクの、保磁力とエッチング電
圧の関係を示す図である。
10 ベース 11 カバー 12 ディスク駆動モータ 13 ガスケット 14 アクチュエータ 16 磁気記録ディスク 18 ハブ 20 変換器キャリア 22 剛性アーム 23 統合ヘッド・サスペンション 24 サスペンション 27 磁極端 29 コイル 30 環状潤滑液だめ 40 スキー脚 42 ヘッド 60 ディスク基板 61 AlMgベース 62 NiP表面被覆 64 NiO被膜 66 CrV下地層 68 水素化炭素保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 タダシ・ヨギ アメリカ合衆国95120 カリフォルニア州 サノゼ アンジュー・クリーク・サーク ル 7100 (72)発明者 アンソニー・ウー アメリカ合衆国95120 カリフォルニア州 サノゼ ブライアー・ランチ・レーン 663 (72)発明者 ダン・エス・パーカー アメリカ合衆国95129 カリフォルニア州 サノゼ レイントリー・ドライブ 847 (56)参考文献 特開 昭60−219638(JP,A)
Claims (11)
- 【請求項1】ニッケル・リン表面被覆を有するアルミニ
ウム合金を含む基板と、 前記ニッケル・リン表面被覆上に形成された酸化ニッケ
ル被膜と、 前記酸化ニッケル被膜上に形成された下地層と、 前記下地層を覆って形成されたコバルトを主体とする合
金を含む磁気層とを備える、薄膜金属合金磁気記録ディ
スク。 - 【請求項2】前記下地層がクロムまたはクロムとバナジ
ウムの合金を含むことを特徴とする、請求項1に記載の
ディスク。 - 【請求項3】前記磁気層を覆って形成された保護層を含
む、請求項1に記載のディスク。 - 【請求項4】前記ニッケル・リン表面被覆が約10オン
グストローム未満の算術平均表面粗度を有することを特
徴とする、請求項1に記載のディスク。 - 【請求項5】前記ディスクが約1800エルステッドよ
り高い保磁力を有することを特徴とする、請求項1に記
載のディスク。 - 【請求項6】算術平均表面粗度が約10オングストロー
ム未満のニッケル・リン表面被覆を有するアルミニウム
合金を含む基板と、 前記ニッケル・リン表面被覆上に形成された酸化ニッケ
ル被膜と、 前記酸化ニッケル被膜上にスパッタ付着された下地層
と、 前記下地層上にスパッタ付着されたコバルトと白金を含
む磁気層と、 前記磁気層を覆って形成された保護層と、 を備える、薄膜コバルト合金磁気記録ディスク。 - 【請求項7】基板表面の算術平均表面粗度(Ra)が約
10オングストローム未満であるニッケル・リン表面被
覆を有する、アルミニウム合金のディスク基板を用意す
るステップと、 前記ニッケル・リン表面被覆上に酸化ニッケル被膜を直
接形成するステップと、 前記酸化ニッケル被膜上に下地層をスパッタ付着するス
テップと、 前記下地層上にコバルト合金磁気層をスパッタ付着する
ステップと、 前記磁気層を覆って保護層を形成するステップと、 を含む、磁気記録ディスクを製造する方法。 - 【請求項8】前記酸化ニッケル被膜形成ステップが、酸
素の存在下で前記ニッケル・リン表面被覆をスパッタ・
エッチングするステップを含むことを特徴とする、請求
項7に記載の方法。 - 【請求項9】前記酸化ニッケル被膜形成ステップが、酸
素の存在下で前記基板を加熱するステップを含むことを
特徴とする、請求項7に記載の方法。 - 【請求項10】前記酸化ニッケル被膜形成ステップが、
前記酸化ニッケル表面被膜を約20オングストローム以
上の厚さに形成するステップを含むことを特徴とする、
請求項7に記載の方法。 - 【請求項11】前記下地層スパッタ付着ステップが、ク
ロムまたはクロムとバナジウムの合金の下地層をスパッ
タ付着するステップを含むことを特徴とする、請求項7
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/926,986 US5302434A (en) | 1992-08-07 | 1992-08-07 | Magnetic recording disk for contact recording |
| US926986 | 1992-08-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676279A JPH0676279A (ja) | 1994-03-18 |
| JPH07122933B2 true JPH07122933B2 (ja) | 1995-12-25 |
Family
ID=25453990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5150247A Expired - Lifetime JPH07122933B2 (ja) | 1992-08-07 | 1993-06-22 | 磁気記録ディスク及びその製造方法 |
Country Status (6)
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| JP (1) | JPH07122933B2 (ja) |
| KR (1) | KR970005351B1 (ja) |
| CN (1) | CN1062673C (ja) |
| MY (1) | MY107917A (ja) |
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