JPH0713034B2 - ２―（２′―アルキルベンゾイル）―１，３―シクロヘキサンジオン化合物またはそれらの塩 - Google Patents

２―（２′―アルキルベンゾイル）―１，３―シクロヘキサンジオン化合物またはそれらの塩

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Description

【発明の詳細な説明】 下記の構造式 （式中、Ｘはアルキル、ｎは０、１または２、R1はフエ
ニルまたは置換フエニル）の化合物は日本特許出願昭49
−84632において次式に示す除草剤化合物 （式中、R1、Ｘ、およびｎは上に定義されたもので、R2
はアルキル、アルケニル、またはアルキニル）を調整す
る際の中間体として記載されている。この後者のグルー
プの中でとくに取りあげられた除草剤化合物はｎが２、
Ｘが5,5−ジメチル、R2がアリルで、R1がフエニル、４
−クロロフエニルまたは４−メトキシフエニルのもので
ある。
これらのとくに取りあげられた３種の化合物の先駆物質
である中間体はほとんどあるいは全く除草剤活性をもた
ない。
ヨーロッパ特許出願No.83102599、４は1983年10月５日
公告され、除草剤としてのいくつかの新規な２−（２−
置換ベンゾイル）−シクロヘキサン−1,3−ジオンに関
するものである。この化合物は次の構造式をもつ： （式中ＲとR1は水素またはC1−C4アルキル；R2は塩素、
臭素またはヨウ素；R3は水素またはハロゲンで、R4は水
素、塩素、臭素、ヨウ素、C1−C4アルキル、C1−C4アル
コキシ、ニトロまたはトリフルオロメチル）。
本発明は２−（２−アルキルベンゾイル）−1,3−シク
ロヘキサンジオン類とそれらの除草剤としての使用に関
するものである。
本発明のひとつの実施態様はベンゾイル基の２−位置が
ハロゲン、より好ましくはメチルまたはCF3で置換され
ていてもよいC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アルキ
ルで置換されており、４−位置が好ましくは電子吸引性
基、たとえばハロゲン、シアノ、CF3またはニトロで置
換されている除草剤的に活性な２−ベンゾイル−1,3−
シクロヘキサンジオンとその不活性担体からなる除草剤
組成物である。1,3−シクロヘキサンジオン部の４−、
５−および６−位置は好ましくは以後に述べる基で置換
されていてもよい。より好ましくは、1,3−シクロヘキ
サンジオン部は置換基をもたないか、あるいは４−また
は６−位置がひとつまたは２つのメチル基で置換されて
いる。ベンゾイル基の３−、４−および５−位置は好ま
しくは以後に述べる基で置換されていてもよい。
また本発明の範囲内には、次に示す構造式をもつ新規な
化合物も具体化されている： （式中、Ｒはハロゲンで置換されていてもよいC1−C4ア
ルキル、好ましくはC1−C2アルキル、より好ましくはメ
チルまたはCF3； R1は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチル、もつとも好ましくはR1は
水素またはメチル； R2は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチルまたは （式中、RaはC1−C4アルキル）、もつとも好ましくはR2
は水素またはメチル；または R1とR2とが結合した３〜６炭素原子をもつアルキレン； R3は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチル、もつとも好ましくはR3は
水素またはメチル； R4は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチル、もつとも好ましくはR4は
水素またはメチル； R5は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチル、もつとも好ましくはR5は
水素またはメチル； R6は水素またはC1−C4アルキル、好ましくはC1−C2アル
キル、より好ましくはメチル、もつとも好ましくはR6は
水素； R7とR8は独立に（１）水素；（２）ハロゲン、好ましく
は塩素、フツ素または臭素；（３）C1−C4アルキル、好
ましくはメチル；（４）C1−C4アルコキシ、好ましくは
メトキシ；（５）OCF3；（６）シアノ；（７）ニトロ；
（８）C1−C4ハロアルキル、より好ましくはトリフルオ
ロメチル；（９）RbSOn−（式中、ｎは整数０、１また
は２、好ましくは２で； Rbは（ａ）C1−C4アルキル、好ましくはメチル； （ｂ）ハロゲンまたはシアノで置換された C1−C4アルキル、好ましくはクロロメチ ル、トリフルオロメチルまたはシアノメ チル； （ｃ）フエニル；または （ｄ）ベンジル）； （10）NRcRd（式中、RcとRdは独立に水素またはC1−C4
アルキル）； （11）ReC（Ｏ）−（式中、ReはC1−C4アルキルまたはC
1−C4アルコキシ）；または （12）−SO2NRcRd（式中、RcとRdは定義ずみ）ただしR7
は６−位置には結合していない）。
“C1−C4アルキル”なる語はメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、イソ
ブチルおよびｔ−ブチルを含む。“ハロゲン”なる語は
塩素、臭素、ヨウ素およびフツ素を含む。“C1−C4アル
コキシ”なる語はメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、sec−ブトキシ、
イソブトキシおよびｔ−ブトキシを含む。“ハロアルキ
ル”なる語はクロロ、ブロモ、ヨードまたはフルオロで
置換された１個以上の水素原子をもつ８種のアルキル基
群を含む。
好ましくはR7は３−位置にある。もつとも好ましくはR7
は水素でR8は水素、塩素、臭素、フツ素、CF3、またはR
bSO2（式中、RbはC1−C4アルキル、好ましくはメチル）
である。
上述の化合物の塩類も（以後定義されるように）本発明
の主題である。
本発明の化合物は互変異性により次の４つの構造式をと
りうる： ここにＲ、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は定義
ずみのものである。
４つの互変異性体それぞれの上にある丸で囲んだプロト
ンは適度に可動性がある。これらのプロトンは酸性であ
り、塩基によつて除くことができ次の４つの共鳴形アニ
オンをもつ塩を与える： ここにＲ、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は定義
ずみのものである。
これらの塩基のカチオンの例はリチウム、ナトリウム、
およびカリウムのようなアルカリ金属などの無機カチオ
ン、および置換基が脂肪族または芳香族基である置換ア
ンモニウム、スルホニウムまたはホスホニウムなどの有
機カチオンである。
本発明の化合物とそれらの塩類は一般用の活性な除草剤
である。すなわち、これらは広範囲の植物種に対して除
草剤的に活性である。本発明の望ましくない植生類を防
除する方法は上記化合物の除草剤的に有効な量を防除を
希望する区域に適用することからなるものである。
本発明の化合物は次の２段階一般法によつて調製するこ
とができる。
そのプロセスは反応（１）に示すようにエノールエステ
ル中間体の製造を経由して進行する。最終生成物は反応
（２）に示すようにエノールエステルの転位によつてえ
られる。２つの反応は次段の工程（２）に先立つて常法
によりエノールエステルを単離回収するか、エノールエ
ステルの生成後反応液にシアン化物源を加えるかして別
工程で行つてもよいし、あるいは反応（１）の開始時に
シアン化物源を同時に加えておいて一段階で行つてもよ
い。
ここにＲからR8までは定義ずみで、Ｘはハロゲン、好ま
しくは塩素、C1−C4アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、C1−C4
アルコキシ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−または次式に示す基 （式中、Ｒ、R7およびR8は上に示した反応物中のそれら
と同じ） そして中程度の強さの塩基は定義ずみで、好ましくはト
リ（C1−C6アルキル）アミン、ピリジン、アルカリ金属
炭酸塩またはアルカリ金属リン酸塩である。
一般に、段階（１）においては１モルのジオンと置換ベ
ンゾイル反応体が、１モル量または過剰の塩基とともに
用いられる。２種の反応体は塩化メチレン、トルエン、
酢酸エチルまたはジメチルホルムアミドのような有機溶
媒中で一緒にされる。塩基またはベンゾイル反応体は好
ましくは冷却しながら反応混合物に加えられる。混合物
は反応がほとんど完了するまで０℃−50℃でかくはんさ
れる。
反応混合物は常法によつて処理される。
＊＝シアン化物源 中程度の強さの塩基＝定義ずみ ここにＲからR8までは定義ずみである。
一般に、段階（２）においては１モルのエノールエステ
ル中間体を１〜４モルの塩基、好ましくは約２モルの中
程度の強さの塩基および0.01モルから約0.5モル以上、
好ましくは約0.1モルのシアン化物源（たとえば、シア
ン化カリウムまたはアセトンシアンヒドリン）と反応さ
せる。転位が80℃より低い温度、好ましくは約20℃から
約40℃でほとんど完全に終るまで混合物を反応器中でか
くはんし、常法によつて所望の生成物を回収する。
“シアン化物源”なる語は転位条件下でシアン化水素と
／またはシアン化物アニオンからなるかまたはそれを発
生する物質または物質群に関するものである。
プロセスはエノールエステルに関して、過剰モルの中程
度の強さの塩基とともに、触媒量のシアン化物アニオン
源および／またはシアン化水素の存在で進む。
好ましいシアン化物源はシアン化ナトリウムやシアン化
カリウムのようなアルカリ金属シアン化物；アルキル基
に１−４炭素原子をもつメチルアルキルケトンのシアン
ヒドリン、たとえばアセトンまたはメチルイソブチルケ
トンシアンヒドリン；ベンズアルデヒドまたはC2−C5脂
肪族アルデヒド、たとえばアセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド等のシアンヒドリン；シアン化亜鉛；トリ
（低級アルキル）シリルシアン化物、とくにトリメチル
シリルシアン化物；およびシアン化水素そのものであ
る。比較的反応速度が大きく、かつ安価であるのでシア
ン化水素がもつとも有利と考えられる。シアンヒドリン
の中で好ましいシアン化物源はアセトンシアンヒドリン
である。
シアン化物源はエノールエステルをもとにして約50モル
％までの量で用いられる。小規模で約40℃において許容
しうる反応速度を与えるには約１モル％という少量を使
うことができる。大規模反応では約２モル％のやや高い
触媒レベルで行う方が再現性のよい結果がえられる。一
般に約１−10モル％のシアン化物源が好ましい。
プロセスはエノールエステルに関して、過剰モルの中程
度の強さの塩基で進行する。“中程度の強さの塩基”な
る語によつてその塩基としての強さまたは活性が水酸化
物のような強塩基（エノールエステルの加水分解を起こ
しうる）のそれと重炭酸塩のような弱塩基（有効に機能
しない）のそれとの間にあつてしかも塩基として働く物
質を意味している。本実施態様に用いるのに適した中程
度の強さの塩基は第３級アミンのような有機塩基とアル
カリ金属炭酸塩やリン酸塩のような無機塩基をともに含
んでいる。適当な第３級アミンはトリエチルアミンのよ
うなトリアルキルアミン、トリエタノールアミンのよう
なトリアルカノールアミン、およびピリジンを含む。適
当な無機塩基は炭酸カリウムとリン酸三ナトリウムを含
む。
塩基はエノールエステルモル当り約１から約４モル、好
ましくは約２モル／モルで用いられる。
シアン化物源がアルカリ金属、好ましくはシアン化カリ
ウムであるとき、その反応には相間移動触媒を用いるこ
とができる。とくに適した相関移動触媒はクラウンエー
テルである。
本プロセスにおいては、酸塩化物またはアシル化物の性
質によつて多くの異なる溶媒が使用可能である。本反応
に対して好ましい溶媒は1,2−ジクロロエタンである。
使用可能なその他の溶媒は、反応体または生成物による
が、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、酢酸エ
チル、ジメチルホルムアミド、およびメチルイソブチル
ケトン（MIBK）を含む。
反応物とシアン化物源の性質によるが、一般に転位は約
50℃までの温度で行うのがよい。
上に述べた塩化置換ベンゾイル類はL.F.Fieser and M.F
ieser著、Reagents for Organic Synthesis,Vol.I,pp.7
67−769（1967）の記述に従つて、対応する置換安息香
酸から調製できる。
ここにＲ、R7およびR8は前に定義したものと同じであ
る。
置換安息香酸類はS.Patai編、The Chemistry of Carbox
ylic Acids and Esters,J.Wiley and Sons,New York,N.
Y.（1969）およびC.A.Buehler and D.F.Pearson著、Sur
vey of Organic Synthesis,J.Wiley and Sons,（1970）
の記述による各種の一般的方法に従つて調製することが
できる。
次にその中に記載されている方法のうち代表的な４つの
例を示す。
ここにＲ、R7およびR8は前に定義したものと同じであ
る。
反応（ａ）においては置換ベンゾニトリルが硫酸水溶液
中で数時間加熱還流される。混合物を冷却し反応生成物
は常法によつて単離される。
ここにＲ、R7およびR8は前に定義したものと同じであ
る。
反応（ｂ）においては置換アセトフエノンが次亜塩素酸
塩水溶液中で数時間加熱還流される。混合物を冷却し反
応生成物は常法によつて単離される。
ここにＲ、R7およびR8は定義ずみでＸは塩素、臭素また
はヨウ素である。
置換芳香族ハライドをエーテルなどの溶媒中でマグネシ
ウムと反応させる。溶液を次いで砕いたドライアイス上
に注ぎ安息香酸を常法によつて単離する。
次の例は本発明の代表的化合物の合成を示している。
実施例１ ２−（４′−ブロモ−２′−トリフルオロメチルベンゾ
イル）−4,4,6−トリメチル−1,3−シクロヘキサンジオ
ン 塩化４−ブロモ−２−トリフルオロメチルベンゾイル
（4.3g、15mmol）と4,4,6−トリメチル−1,3−シクロヘ
キサンジオン（2.3g、15mmol）を100mlの塩化メチレン
に溶解した。溶液を氷浴で冷却してトリエチルアミン
（2.1ml、15mmol）の10ml塩化メチレン溶液を滴下し
た。次いで氷浴を取り去り、溶液を室温で30分間かくは
んした。次に溶液を2N塩酸（2NHCl）、５％炭酸ナトリ
ウム溶液（５％K2CO3）および飽和塩化ナトリウム溶液
（食塩水）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム（MgSO4）
上で乾燥し、真空で濃縮した。残分（5.1g）を20mlのア
セトニトリルに溶解した。トリエチルアミン（3.5ml、2
5mmol）と0.4mlのアセトンシアンヒドリンを加え、乾燥
管（硫酸カルシウム）を取り付けて水分の侵入を防ぎな
がら室温で２時間かくはんした。エーテルで希釈後、溶
液を2NHClで洗浄し５％K2CO3で抽出した。水性抽出液を
濃塩酸で酸性にしエーテルで抽出した。エーテル溶液を
食塩水で洗浄し、乾燥（MgSO4）して真空濃縮を行つ
た。えられた油状物をシリカゲルカラム（80:20:1ヘキ
サン：酢酸エチル：酢酸−溶離剤）で精製し、1.5gの粘
ちような油状物をえた。これは核磁気共鳴、赤外スペク
トル分析および質量スペクトル分析にかけて所期の化合
物であることが同定された。
次の表はこれまで述べた方法に従つて調製可能ないくつ
かの選ばれた化合物を示すものである。化合物番号が各
化合物に付けられているが、これは以下の全記述を通じ
て用いられる。
除草剤のスクリーニングテスト 前に述べたように、上述の方法でえられたここに記載さ
れた化合物は各種の植物種を防除するのに有用かつ貴重
な植物有害性化合物である。本発明の選ばれた化合物が
次の方法で除草剤としてテストされた。
発生前除草テスト 処理前日に、８種類の異なる雑草種の種子をローム砂土
壌に、平床の幅の方向に１列当り１品種を用いてそれぞ
れの列にまく。テストに用いられた雑草類はエノコログ
サ（FT）（Setaria virides）、ヒメタイヌビエ（WG）
（Echinochioa crusgalli）、カラスムギ（WO）（Aven
a fatua）、一年生あさがお（AMG）（Ipomoea lacuno
sa）、ベツベツトリーフ（VL）（Abutilon theophrast
i）、インドからしな（MD）（Brassica juncea）、カ
ーリードツク（CD）（Rumex crispus）、およびイエロ
ーナツツエツジ（YNG）（Cyperus escule−ntus）であ
る。植物の大きさに応じて、発芽後、１列当り約20〜40
本の苗木になるのに十分な種子をまく。
分析用天びんを用いて、テストすべき化合物600ミリグ
ラム（mg）をひよう量用グラシン紙に乗せてひよう量す
る。グラシン紙と化合物を60ミリリツトル（ml）の広口
透明びんに入れ、45mlのアセトンまたは同効性溶媒に溶
かす。この溶液18mlを60ml広口透明びんに移し、最終溶
液中0.5％（v/v）になる量のポリオキシエチレンソルビ
タンモノラウレート乳化剤を含む水とアセトンの混合物
（19:1）20mlで希釈する。次いで溶液をエーカ当り80ガ
ロン（748L/ha）になるように計量して線状スプレー台
に乗せた種子をまいた平床上にスプレーする。施与率は
4lb／エーカ（4.48kg/ha）である。
処理後、平床を温度70〜80゜Fにある温室に入れ水を散布
する。処理の２週間後、同じ時期の未処理の対照用植物
と比較して被害度または防除度を測定する。０から100
％までの被害度格付けが品種ごとに防除％として記録さ
れるが、０％は被害なしを表わし、100％は完全防除を
表わしている。
テストの結果は次の表IIに示されている。
発生後除草テスト このテストは発生前除草テストに対する試験方法と同じ
方法で行われるが、８種の異なる雑草種の種子を処理の
10−12日前にまく点だけが異なつている。また処理ずみ
平床への施水は土壌面に限定し、発芽した植物の葉部に
は行わない。
発生後除草テストの結果は表IIIに報告されている。
発生前多種雑草除草テスト 多種類の雑草に対する発芽前活性を調べるために施与率
１または1/2ポンド／エーカ（1.12または0.56kg/ha）で
評価テストを行つた。
プロセスは既述の発生前除草テストとほぼ同じである
が、テスト化合物のひよう量を150または75mgとし、施
与率が40ガロン／エーカになつた点だけが異なる。
アオビユ（PW）およびカーリードツグ（CD）は今回のテ
ストから外し、これに代わつて次の雑草種を追加した： 植物 ダウニーブロム Bromus tectorum （DB） 一年生ライグラス Lolium multiflorum （ARG） ジヨンソングラス Sorghum halepense （JG） 広葉のシグナルグラスBrachiaria platyphylla（BSG） ヘンプセスバニア Sesbania exaltata （SESB） シクルポツド Cassia oftusifolia （SP） オナモミ Xanthium sp栄 （CB） テスト結果は表IVとＶに示されている。
発生後多種雑草除草テスト このテストは発生後除草テストに対して行つた試験法に
準じて実施されるが、発生前多種雑草除草テストに用い
られた８種の種子を使い、種子を処理の10−12日前にま
いた点だけが異なる。また、処理ずみ平床への撤水は土
壌面に限定し、発芽植物あの葉部には行わない。
発生後多種雑草除草テストの結果は表VIとVIIに示され
ている。
本発明の化合物は除草剤として有用であり、各種の濃度
でいろいろな方法によつて施与することができる。実際
には、ここに定義された化合物は、防除剤の配合処方や
施与方法がその化合物の用途面における活性に影響を与
えることを考慮して、除草剤として有効な量で、農薬用
の活性成分の分散を助けるために通常用いられる補助剤
や担体とともに混合して除草剤組成物に調合される。す
なわち、これらの活性な除草剤性化合物は比較的粒径の
大きな粒剤として、湿潤性粉剤として、乳化性濃度液と
して、粉末ダストとして、溶液として、またはその他の
公知の処方タイプのどれかの形としてその所望の使い方
に応じて配合できる。発生前除草用に好ましい配合は湿
潤性粉剤、乳化性濃度液および粒剤である。これらの配
合物は活性成分を重量で約0.5％程度から約95％以上ま
で含ませることができる。除草剤的有効量は防除すべき
種子または植物の性質に依存し、施与率はエーカー当り
約0.05から約25ポンド、好ましくは約0.1から約10ポン
ド／エーカまで変わる。
湿潤性粉剤は水その他の分散媒に容易に分散する微細化
された粒子の形をとつている。湿潤性粉剤は最終的には
ドライダストあるいは水その他の液体への分散液として
土壌に施与される。湿潤性粉剤用の典型的な担体はフラ
ー土、カオリン粘土、シリカその他の湿潤性のよい有機
または無機希釈剤を含む。湿潤性粉剤は通常活性成分を
約５％から約95％まで含むように調製され、また湿潤性
と分散性を助けるために通常少量の湿潤剤、分散剤、ま
たは乳化剤も含んでいる。
乳化性濃度液は水その他の分散媒に分散可能な均一液状
組成物であつて、活性成分と液体または固体の乳化剤を
必須成分とするが、キシレン、重質芳香族ナフサ類、イ
ソホロンおよびその他の非揮発性有機溶媒などの液状担
体を含んでいてもよい。除草剤として使うためには、こ
れらの濃度液を水その他の液状担体に分散して、通常は
処理すべき区域にスプレーとして施与する。本質的な活
性成分の重量％はその組成物の使い方によつて変わる
が、一般には、除草剤組成物の重量当り活性成分約0.5
％から95％である。
防除剤が比較的粗大な粒子上についている粒剤配合物は
通常植物防除を希望する区域に希釈せずに施与する。粒
剤配合物用の典型的な担体は砂、フラー土、ベントナイ
ト粘土、ひろ石、パーライトその他の有機または無機物
質で、防除剤を吸収するものか、それを表面に塗布する
ものかである。粒剤配合物は通常活性成分を約５％から
約25％含むように調製されるが、重質芳香族ナフサ類、
灯油、その他の石油留分などの界面活性剤、または植物
油；および／またはデキストリン、にかわまたは合成樹
脂などの粘着剤を含んでいてもよい。
農業用配合物に用いられる典型的な湿潤剤、分散剤また
は乳化剤の例を示すと、アルキルおよびアルキルアリー
ルスルホネートおよび硫酸エステルとそれらのナトリウ
ム塩；多価アルコール；およびその他のタイプの界面活
性剤で、その多くは市場で入手可能である。界面活性剤
を使うときは、通常除草剤組成物の0.1から15重量％と
する。
活性成分と、防除剤の分散剤および担体として働くタル
ク、粘土類、粉末類およびその他の有機および無機固体
類などの微粉化固体との自由流動性混合物である粉末ダ
ストは土壤混入施与法に有用な配合物である。
水または油のような液状担体に微粉状の固体防除剤を均
一に懸濁させたペーストは特殊な目的に用いられる。こ
れらの配合物は通常約５〜95重量％の活性成分を含んで
おり、分散を助けるために少量の湿潤剤、分散剤または
乳化剤を含んでいてもよい。使うには、通常ペーストを
希釈して防除すべき区域にスプレーとして施与する。
除草剤として使うためのもうひとつの有用な配合物は活
性成分を所望の濃度で完全に溶解する分散媒、たとえば
アセトン、アルキル化ナフタレン類、キシレンその他の
有機溶媒に溶かした単純溶液である。フレオンのような
低沸点分散剤溶媒担体の蒸発の結果として活性成分が微
粉状に分散する加圧スプレー、典型的にはエアゾール剤
もまた使用可能である。
本発明の植物毒性組成物は常法で植物類に施与される。
たとえば、粉体−ダスタ、ブームおよびハンドスプレー
およびスプレーダスタを使つてダスト及び液状組成物を
植物に施与することができる。組成物は極めて低用量で
有効なのでダストまたはスプレーとして飛行機から散布
することも可能である。発芽種子または苗木の生長を変
えたり防除したりするために、典型的な例として、ダス
トおよび液状組成物を常法で土壤に施与すると、土の表
面から少なくとも1/2インチの深さまで入る。植物毒性
組成物は土壤表面に噴霧機または散布機で施与するだけ
でよいから、これらを土壤粒子と混ぜ合わせることは必
ずしも必要ではない。本発明の植物毒性組成物はまたか
んがい用水に混ぜて処理すべき土地に供給することもで
きる。この方法は水が吸収される土壤の内部への組成物
の浸透を可能にする。土壤面上にダスト組成物、粒剤組
成物または液状配合物を施与すると、デイスタ掛け；ま
ぐわすきまたは混合法といつて通常の方法によつて土の
表面下に分配されるようにすることができる。
乳化性濃厚液処方 一般的配合範囲 除草剤化合物 5−55 界面活性剤 5−25 溶媒 20−90 100％ 特定処方 除草剤化合物 54 油溶性スルホネートとポリオキシ エチレンの特定の混合組成物 10 極性溶媒 27 石油炭化水素 ９ 100％ 特定処方 除草剤化合物 45 ポリオキシエチレンエーテル 5 アタゲル 0.05 プロピリングリコール 10 BIT 0.03 シリコーン消ほう剤 0.02 水 39.9 100％ 本発明の植物毒性組成物は他の添加剤、たとえば、肥料
や他の除草剤、農薬等を、補助剤として、あるいは上述
の補助剤のどれかとの組合わせとして含ませることもで
きる。上述の化合物と組合わせて使うのに有用なその他
の植物毒性化合物は、たとえば、２−ベンゾチアゾール
−２−イルオキシ−Ｎ−メチルアセトアニリド、２−ク
ロロ−２′,6′−ジメチル−Ｎ−（ｎ−プロピルエチ
ル）アセトアニリド、２−クロロ−２′,6′−ジエチル
−Ｎ−（ブトキシメチル）アセトアニリドなどのアニリ
ド類;2,4−ジクロロフエノキシ酢酸類、2,4,5−トリク
ロロフエノキシ酢酸、２−メチル−４−クロロフエノキ
シ酢酸およびそれらの塩類、エステル類およびアミド
類;2,4−ビス（３−メトキシプロピルアミノ）−６−メ
チルチオ−Ｓ−トリアジン、２−クロロ−４−エチルア
ミノ−６−イソプロピルアミノ−Ｓ−トリアジン、およ
び２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルメルカプト−Ｓ−トリアジンなどのトリアジン誘導
体;3−（3,5−ジクロロフエニル）−1,1−ジメチル尿素
や３−（ｐ−クロロフエニル）−1,1−ジメチル尿素な
どの尿素誘導体；およびN,N−ジアリル−α−クロロア
セトアミドなどのアセトアミド類;3−アミノ−2,5−ジ
クロロ安息香酸などの安息香酸類;S−（1,1−ジメチル
ベンジル）−ピペリデン−１−カルボチオエート、３−
（４−クロロフエニル）−メチル・ジエチルカルボチオ
エート、エチル−１−ヘキサヒドロ−1,4−アゼピン−
１−カルボチオエート、Ｓ−エチル−ヘキサヒドロ−1H
−アゼピン−１−カルボチオエート、Ｓ−プロピル・N,
N−プロプルチオカルバメート、Ｓ−エチルN,N−プロピ
ルチオカルバメート、Ｓ−エチル・シクロヘキシルエチ
ルチオカルバメートなどのチオカルバメート類;4−（メ
チルスルホニル）−2,6−ジニトロ−N,N−置換アニリ
ン、４−トリフルオロメチル−2,6−ジニトロ−N,N−ジ
−ｎ−プロピルアニリン、４−トリフルオロメチル−2,
6−ジニトロ−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアニリンなどの
アニリン類;2−〔４−（2,4−ジクロロフエノキシ）フ
エノキシ〕プロピオン酸;2−〔１−（エトキシイミノ）
ブチル〕−５−〔２−（エチルチオ）プロピル〕−３−
ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オン；（±）−
ブチル・２−〔４−〔〔５−（トリフルオロメチル）−
２−ピリジニル〕オキシ〕−フエノキシ〕プロピオネー
ト、５−〔２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フ
エノキシ〕−２−ニトロ安息香酸ナトリウム、３−イソ
プロピル−1H−2,1,3−ベンゾチアジアジン−４（3H）
−オン−2,2−ジオキシド、および４−アミノ−６−ｔ
−ブチル−３（メチルチオ）−as−トリアジン−５（4
H）−オンまたは４−アミノ−６−（1,1−ジメチルエチ
ル）−３−（メチルチオ）−1,2,4−トリアジン−５（4
H）−オンおよびＳ−（0,0−ジイソプロピル）−ベンゼ
ンスルホンアミドを含む。本活性成分と組合わせて使う
のに有用な肥料は、たとえば、硝酸アンモニウム、尿素
および過リン酸塩を含む。その他の有用な添加剤は植物
が根から取つて生長する、たとえばたい肥、腐植質、砂
などの物質を含む。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 45/46 49/813 49/84 Ｃ 9049−4Ｈ 69/757 Ｃ 9279−4Ｈ 205/45 225/22 255/56 311/16 317/24 323/22

Claims (38)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記の式で示される化合物またはそれらの
    塩： （式中、Ｒはハロゲンで置換されていてもよいC1−C4ア
    ルキル； R1は水素またはC1−C4アルキル； R2は水素、C1−C4アルキルまたは （式中、RaはC1−C4アルキル）；または R1とR2とが結合した３ないし６炭素原子を有するアルキ
    レン； R3およびR4は独立して水素またはC1−C4アルキル； R5およびR6は独立して水素またはC1−C4アルキル； R7およびR8は独立して（１）水素；（２）ハロゲン；
    （３）C1−C4アルキル；（４）C1−C4アルコキシ；
    （５）シアノ；（６）ニトロ；（７）C1−C4ハロアルキ
    ル；（８）RbSOn−（式中、ｎは整数で０または2;RbはC
    1−C4アルキル）；または（９）−NRcRd（式中、Rcおよ
    びRdは独立してC1−C4アルキルまたはReC(O)−（ここ
    で、ReはC1−C4アルキル）、ただしR7は６−位置には結
    合していない）。
  2. 【請求項２】ＲがメチルまたはCF3；R1が水素またはメ
    チル；R2が水素またはメチル；R3およびR4が独立して水
    素またはメチル；R5およびR6が独立して水素またはメチ
    ル；R7およびR8が独立して（１）水素；（２）ハロゲ
    ン；（３）C1−C4アルキル；（４）C1−C4アルコキシ；
    （５）シアノ；（６）ニトロ；（７）C1−C4ハロアルキ
    ル；（８）RbSOn−（式中、ｎは整数で０または2;RbはC
    1−C4アルキル）；または（９）−NRcRd（式中、Rcおよ
    びRdは独立してC1−C4アルキルまたはReC(O)−（ここ
    で、ReはC1−C4アルキル））である特許請求の範囲第１
    項の化合物またはそれらの塩。
  3. 【請求項３】R7およびR8が独立して水素；塩素；フッ
    素；臭素；メチル；メトキシ；シアノ；ニトロ；トリフ
    ルオロメチル；RbSOn−（式中、ｎは整数２であり、Rb
    はメチル、エチル、またはｎ−プロピル）；または−NR
    cRd（式中、RcおよびRdは独立してC1−C4アルキルまた
    はReC(O)−（ここで、ReはC1−C4アルキル））であり、
    かつR7が３−位置にある特許請求の範囲第２項の化合物
    またはそれらの塩。
  4. 【請求項４】R7が水素でR8が水素、塩素、臭素、フッ
    素、CF3またはRbSO2（式中、RbはC1−C4アルキル）であ
    る特許請求の範囲第２項の化合物またはそれらの塩。
  5. 【請求項５】Ｒがメチル；R1がメチル；R2がメチル；R3
    が水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；
    R8がCH3SO2−である特許請求の範囲第２項の化合物また
    はそれらの塩。
  6. 【請求項６】Ｒがメチル；R1がメチル；R2がメチル；R3
    が水素；R4が水素；R5がメチル；R6が水素；R7が水素
    で；R8がCH3SO2−である特許請求の範囲第２項の化合物
    またはそれらの塩。
  7. 【請求項７】Ｒがメチル；R1がメチル；R2がメチル；R3
    が水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；
    R8がC2H5SO2−である特許請求の範囲第２項の化合物ま
    たはそれらの塩。
  8. 【請求項８】Ｒがメチル；R1が水素；R2が水素；R3が水
    素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；R8が
    CH3SO2−である特許請求の範囲第２項の化合物またはそ
    れらの塩。
  9. 【請求項９】Ｒがメチル；R1がメチル；R2がメチル；R3
    が水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；
    R8がメチルチオである特許請求の範囲第２項の化合物ま
    たはそれらの塩。
  10. 【請求項１０】Ｒがメチル；R1が水素；R2が水素；R3が
    水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；R8
    がシアノである特許請求の範囲第２項の化合物またはそ
    れらの塩。
  11. 【請求項１１】Ｒがメチル；R1が水素；R2が水素；R3が
    水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が水素で；R8
    がC2H5SO2−である特許請求の範囲第２項の化合物また
    はそれらの塩。
  12. 【請求項１２】ＲがCF3；R1がメチル；R2がメチル；R3
    が水素；R4が水素；R5がメチル；R6が水素；R7が水素
    で；R8が臭素である特許請求の範囲第２項の化合物また
    はそれらの塩。
  13. 【請求項１３】Ｒがメチル；R1が水素；R2が水素；R3が
    水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が３−シアノ
    で；R8が水素である特許請求の範囲第２項の化合物また
    はそれらの塩。
  14. 【請求項１４】Ｒがメチル；R1がメチル；R2がメチル；
    R3が水素；R4が水素；R5が水素；R6が水素；R7が３−ニ
    トロで；R8が水素である特許請求の範囲第２項の化合物
    またはそれらの塩。
  15. 【請求項１５】R7が水素である特許請求の範囲第２項の
    化合物またはそれらの塩。
  16. 【請求項１６】R7が水素である特許請求の範囲第３項の
    化合物またはそれらの塩。
  17. 【請求項１７】R1とR2が水素またはともにメチルである
    特許請求の範囲第１項の化合物またはそれらの塩。
  18. 【請求項１８】R8が−SO2CH3、−CF3、−シアノまたは
    −SO2C2H5である特許請求の範囲第17項の化合物または
    それらの塩。
  19. 【請求項１９】防除を希望する区域に、除草剤として有
    効な量の下記の式で示される化合物またはそれらの塩を
    適用することからなる望ましくない植生類の防除方法： （式中、Ｒはハロゲンで置換されていてもよいC1−C4ア
    ルキル； R1は水素またはC1−C4アルキル； R2は水素、C1−C4アルキルまたは （式中、RaはC1−C4アルキル）；または R1とR2とが結合した３ないし６炭素原子を有するアルキ
    レン； R3およびR4は独立して水素またはC1−C4アルキル； R5およびR6は独立して水素またはC1−C4アルキル； R7およびR8は独立して（１）水素；（２）ハロゲン；
    （３）C1−C4アルキル；（４）C1−C4アルコキシ；
    （５）シアノ；（６）ニトロ；（７）C1−C4ハロアルキ
    ル；（８）RbSOn−（式中、ｎは整数で０または2;RbはC
    1−C4アルキル）；または（９）−NRcRd（式中、Rcおよ
    びRdは独立してC1−C4アルキルまたはReC(O)−（ここ
    で、ReはC1−C4アルキル）、ただしR7は６−位置には結
    合していない）。
  20. 【請求項２０】前記化合物が、２−ベンゾイル置換基が
    ハロゲンで置換されていてもよいC1−C4アルキルである
    除草剤的に活性な２−（２−置換ベンゾイル）−1,3−
    シクロヘキサンジオンである特許請求の範囲第19項の方
    法。
  21. 【請求項２１】下記の式で示される化合物またはそれら
    の塩とその不活性な担体からなる除草剤組成物： （式中、Ｒはハロゲンで置換されていてもよいC1−C4ア
    ルキル； R1は水素またはC1−C4アルキル； R2は水素、C1−C4アルキルまたは （式中、RaはC1−C4アルキル）；または R1とR2とが結合した３ないし６炭素原子を有するアルキ
    レン； R3およびR4は独立して水素またはC1−C4アルキル； R5およびR6は独立して水素またはC1−C4アルキル； R7およびR8は独立して（１）水素；（２）ハロゲン；
    （３）C1−C4アルキル；（４）C1−C4アルコキシ；
    （５）シアノ；（６）ニトロ；（７）C1−C4ハロアルキ
    ル；（８）RbSOn−（式中、ｎは整数で０または2;RbはC
    1−C4アルキル）；または（９）−NRcRd（式中、Rcおよ
    びRdは独立してC1−C4アルキルまたはReC(O)−（ここ
    で、ReはC1−C4アルキル）、ただしR7は６−位置には結
    合していない）。
  22. 【請求項２２】前記化合物が、ベンゾイル基の２−位置
    が、ハロゲンで置換されていてもよいC1−C4アルキルで
    置換されている除草剤的に活性な２−（２−置換ベンゾ
    イル）−1,3−シクロヘキサンジオンである特許請求の
    範囲第21項の除草剤組成物。
  23. 【請求項２３】前記２−（２−置換ベンゾイル）−1,3
    −シクロヘキサンジオンがフエニル環上にC1−C4アルキ
    ルスルホニルまたはC1−C4ハロアルキルスルホニル置換
    基を有する特許請求の範囲第20項の方法。
  24. 【請求項２４】前記アルキルスルホニルまたはハロアル
    キルスルホニル置換基がフエニル環の４−位置にある特
    許請求の範囲第23項の方法。
  25. 【請求項２５】前記２−（２−置換ベンゾイル）−1,3
    −シクロヘキサンジオンがフエニル環上にC1−C4アルキ
    ルスルホニルまたはC1−C4ハロアルキルスルホニル置換
    基を有する特許請求の範囲第22項の除草剤組成物。
  26. 【請求項２６】前記アルキルスルホニルまたはハロアル
    キルスルホニル置換基がフエニル環の４−位置にある特
    許請求の範囲第25項の除草剤組成物。
  27. 【請求項２７】前記２−（２−置換ベンゾイル）−1,3
    −シクロヘキサンジオンがフエニル環上にC1−C4ハロア
    ルキル置換基を有する特許請求の範囲第20項の方法。
  28. 【請求項２８】前記ハロアルキル置換基がフエニル環の
    ４−位置にある特許請求の範囲第27項の方法。
  29. 【請求項２９】前記２−（２−置換ベンゾイル）−1,3
    −シクロヘキサンジオンがフエニル環上にC1−C4ハロア
    ルキル置換基を有する特許請求の範囲第22項の除草剤組
    成物。
  30. 【請求項３０】前記ハロアルキル置換基がフエニル環の
    ４−位置にある特許請求の範囲第29項の除草剤組成物。
  31. 【請求項３１】前記ハロアルキルがCF3である特許請求
    の範囲第29項の除草剤組成物。
  32. 【請求項３２】R1とR2が水素またはともにメチルである
    特許請求の範囲第19項の方法。
  33. 【請求項３３】R8が−SO2CH3、−CF3、−シアノまたは
    −SO2C2H5である特許請求の範囲第32項の方法。
  34. 【請求項３４】R1とR2が水素またはともにメチルである
    特許請求の範囲第21項の除草剤組成物。
  35. 【請求項３５】R8が−SO2CH3、−CF3、−シアノまたは
    −SO2C2H5である特許請求の範囲第34項の除草剤組成
    物。
  36. 【請求項３６】次式で示されるジオン （式中、R1は水素またはC1−C4アルキル；R2は水素、C1
    −C4アルキルまたは （式中、RaはC1−C4アルキル）；またはR1とR2とが結合
    した３〜６炭素原子をもつアルキレンであり；R3および
    R4は独立して水素またはC1−C4アルキル；R5およびR6は
    独立して水素またはC1−C4アルキル）を次式で示す置換
    ベンゾイル反応体 （式中、Ｒはハロゲンで置換されていてもよいC1−C4ア
    ルキル；R7およびR8は独立して（１）水素；（２）ハロ
    ゲン；（３）C1−C4アルキル；（４）C1−C4アルコキ
    シ；（５）シアノ；（６）ニトロ；（７）C1−C4ハロア
    ルキル；（８）RbSOn−（式中、ｎは整数で０または2;R
    bはC1−C4アルキル）；または（９）−NRcRd（式中、Rc
    およびRdは独立してC1−C4アルキルまたはReC(O)−（こ
    こで、ReはC1−C4アルキル）、ただしR7は６−位置には
    結合していないものとし、かつＸはハロゲン、C1−C4ア
    ルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、C1−C4アルコキシ−Ｃ（Ｏ）
    −Ｏ−または次式の基 （式中、Ｒ、R7とR8は定義ずみ）、および少なくとも１
    モルの中程度の強さの塩基と反応させて次式に示すエノ
    ールエステル （式中、Ｒ、R1〜R8は定義ずみ）を形成させ、次に第２
    段階で１モルのエノールエステル中間体を１〜４モルの
    中程度の強さの塩基および 0.01モルから約0.5モル以上のシアン化物源と反応させ
    て次式に示す化合物またはそれらの塩 （式中、Ｒ、R1〜R8は定義ずみ）を形成させることから
    なる次式に示す化合物またはそれらの塩 （式中、Ｒ、R1〜R8は定義ずみ）の製造方法。
  37. 【請求項３７】Ｘがハロゲン、中程度の強さの塩基がト
    リ（C1−C6アルキル）アミン、ピリジン、アルカリ金属
    炭酸塩またはアルカリ金属リン酸塩で、シアン化物源が
    アルカリ金属シアン化物、メチルC1−C4アルキルケトン
    のシアンヒドリン類、ベンズアルデヒドまたはC2−C5脂
    肪族アルデヒドのシアンヒドリン類；シアンヒドリン
    類、シアン化亜塩；トリ（低級アルキル）シリルシアン
    化物類またはシアン化水素である特許請求の範囲第36項
    の方法。
  38. 【請求項３８】Ｘが塩素で、中程度の強さの塩基がトリ
    （C1−C6アルキル）アミン、ピリジン、炭酸ナトリウム
    またはリン酸ナトリウムで、シアン化物源がシアン化カ
    リウム、アセトンシアンヒドリンまたはシアン化水素で
    ある特許請求の範囲第37項の方法。
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