JPH0713057B2 - 新規なスルホニウム塩 - Google Patents
新規なスルホニウム塩Info
- Publication number
- JPH0713057B2 JPH0713057B2 JP20112287A JP20112287A JPH0713057B2 JP H0713057 B2 JPH0713057 B2 JP H0713057B2 JP 20112287 A JP20112287 A JP 20112287A JP 20112287 A JP20112287 A JP 20112287A JP H0713057 B2 JPH0713057 B2 JP H0713057B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfonium salt
- salt
- epoxy resin
- present
- polymerization initiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- -1 β-naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 150000007517 lewis acids Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 16
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- DPVAHOUXGQHEOI-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethylene epoxide Chemical compound ClC1(Cl)CO1 DPVAHOUXGQHEOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIYFBIOUBFTQJU-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-sulfanylethanone Chemical class SCC(=O)C1=CC=CC=C1 DIYFBIOUBFTQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVGXFREOJHJAX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-(4-methylphenyl)ethanone Chemical compound CC1=CC=C(C(=O)CBr)C=C1 KRVGXFREOJHJAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGHGZRVXCKCJGX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-(4-phenylphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)CBr)=CC=C1C1=CC=CC=C1 KGHGZRVXCKCJGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHXHHGDUANVQHE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-naphthalen-2-ylethanone Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)CBr)=CC=C21 YHXHHGDUANVQHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWTZEKHVFGRMAU-UHFFFAOYSA-N [2-(4-methylphenyl)-2-oxoethyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AWTZEKHVFGRMAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- QSKWJTXWJJOJFP-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethoxyethane Chemical compound ClC(Cl)Cl.CCOCC QSKWJTXWJJOJFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- HWJHWSBFPPPIPD-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CCOCC HWJHWSBFPPPIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N phenacyl bromide Chemical class BrCC(=O)C1=CC=CC=C1 LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [発明の利用分野] 本発明は、例えば光カチオン重合開始剤として、例えば
エポキシ樹脂の硬化等に使用し得る、新規なスルホニウ
ム塩に関する。
エポキシ樹脂の硬化等に使用し得る、新規なスルホニウ
ム塩に関する。
[発明の背景] 光カチオン重合開始剤は、紫外線エネルギー等のエネル
ギー線を吸収して、カチオン重合を開始させる触媒成分
を放出する物質で、例えばエポキシ樹脂の硬化や各種環
状エーテル,環状エステル,環状有機ケイ素化合物,多
官能ビニルエーテル等の重合、硬化に用いられる。
ギー線を吸収して、カチオン重合を開始させる触媒成分
を放出する物質で、例えばエポキシ樹脂の硬化や各種環
状エーテル,環状エステル,環状有機ケイ素化合物,多
官能ビニルエーテル等の重合、硬化に用いられる。
光カチオン重合開始剤の代表的なものとしては例えば、
米国特許第3,205,157号明細書及び同第3,708,296号明細
書に記載のアリールジアゾニウム塩及びハロゲン含有錯
アニオンのアリールジアゾニウム塩、米国特許第4,231,
951号明細書に記載のトリアリールスルホニウム錯体
塩、米国特許第4,256,828号明細書に記載のハロゲン含
有錯体イオンの芳香族スルホニウム塩又はヨードニウム
塩、米国特許第4,058,401号明細書及び同第4,138,255号
明細書に記載のVIa族元素の芳香族オニウム塩、特開昭5
9−147001号公報に記載のジアルキルフェナシルスルホ
ニウム塩等が挙げられる。
米国特許第3,205,157号明細書及び同第3,708,296号明細
書に記載のアリールジアゾニウム塩及びハロゲン含有錯
アニオンのアリールジアゾニウム塩、米国特許第4,231,
951号明細書に記載のトリアリールスルホニウム錯体
塩、米国特許第4,256,828号明細書に記載のハロゲン含
有錯体イオンの芳香族スルホニウム塩又はヨードニウム
塩、米国特許第4,058,401号明細書及び同第4,138,255号
明細書に記載のVIa族元素の芳香族オニウム塩、特開昭5
9−147001号公報に記載のジアルキルフェナシルスルホ
ニウム塩等が挙げられる。
しかしながら、これら既知の光カチオン重合開始剤は、
例えばジアゾニウム塩系のものは、樹脂中での貯蔵安定
性が悪い、光照射により窒素が副生するため塗膜に気泡
が生じる、などの欠点を有し、また、ジアルキルフェナ
シルスルホニウム塩の場合には、分子吸光係数がいずれ
も比較的小さい。また、トリアリールスルホニウム塩、
ヨードニウム塩等のオニウム塩の場合には、実際にこれ
を例えばエポキシ樹脂等の硬化に使用した場合、硬化速
度の点で必ずしも未だ十分満足し得るものであるとは言
えず、より速硬化性に優れたより重合活性の高い更に新
たな光カチオン重合開始剤の出現が待ち望まれていた。
例えばジアゾニウム塩系のものは、樹脂中での貯蔵安定
性が悪い、光照射により窒素が副生するため塗膜に気泡
が生じる、などの欠点を有し、また、ジアルキルフェナ
シルスルホニウム塩の場合には、分子吸光係数がいずれ
も比較的小さい。また、トリアリールスルホニウム塩、
ヨードニウム塩等のオニウム塩の場合には、実際にこれ
を例えばエポキシ樹脂等の硬化に使用した場合、硬化速
度の点で必ずしも未だ十分満足し得るものであるとは言
えず、より速硬化性に優れたより重合活性の高い更に新
たな光カチオン重合開始剤の出現が待ち望まれていた。
[発明の目的] 本発明は、上記した如き現状に鑑みなされたもので、光
カチオン重合開始剤等としての用途が期待でき、しかも
分子吸光係数が大きく、高重合活性を有し、例えばこれ
をエポキシ樹脂等の硬化に用いた場合には優れた速硬化
性を示す新規なスルホニウム塩を提供することを目的と
する。
カチオン重合開始剤等としての用途が期待でき、しかも
分子吸光係数が大きく、高重合活性を有し、例えばこれ
をエポキシ樹脂等の硬化に用いた場合には優れた速硬化
性を示す新規なスルホニウム塩を提供することを目的と
する。
[発明の構成] 上記の目的を達成するために、本発明は下記の構成より
なる。
なる。
「一般式[I] (式中、Rはビフェニル基,4−メチルフェニル基,2,5−
ジメトキシフェニル基又はβ−ナフチル基を示し、X-は
求核性の弱いルイス酸残基を示す。)で示されるスルホ
ニウム塩又はこれらの溶媒付加物。」 一般式[I] で示される本発明のスルホニウム塩に於いて、Rはビフ
ェニル基,4−メチルフェニル基,2,5−ジメトキシフェニ
ル基又はβ−ナフチル基を示し、X-は求核性の弱いルイ
ス酸残基を示すが、求核性の弱いルイス酸残基としては
例えばBF4 -,PF6 -,SbF6 -,AsF6 -等が代表的なものとして
挙げられる。しかしながら、求核性の弱いルイス酸で、
遊離してブレンステッド酸となるようなルイス酸の残基
であればこれら以外のものであってもよい。
ジメトキシフェニル基又はβ−ナフチル基を示し、X-は
求核性の弱いルイス酸残基を示す。)で示されるスルホ
ニウム塩又はこれらの溶媒付加物。」 一般式[I] で示される本発明のスルホニウム塩に於いて、Rはビフ
ェニル基,4−メチルフェニル基,2,5−ジメトキシフェニ
ル基又はβ−ナフチル基を示し、X-は求核性の弱いルイ
ス酸残基を示すが、求核性の弱いルイス酸残基としては
例えばBF4 -,PF6 -,SbF6 -,AsF6 -等が代表的なものとして
挙げられる。しかしながら、求核性の弱いルイス酸で、
遊離してブレンステッド酸となるようなルイス酸の残基
であればこれら以外のものであってもよい。
本発明のスルホニウム塩は、例えば日本化学会誌,89,7
5(1968)等に記載の方法に準じて、一般に下記の如く
して容易に合成し得る。
5(1968)等に記載の方法に準じて、一般に下記の如く
して容易に合成し得る。
即ち、ジアリールスルフィドとω−ブロモアセトフェノ
ン誘導体とを適当な溶媒、例えばハロゲン化炭化水素
(例えば、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホ
ルム、テトラクロルエタン等)中、求核性の弱いルイス
酸の銀塩又はアルカリ金属塩の存在下、遮光下で室温乃
至加温下に数時間乃至数日間撹拌反応させる。反応後、
濾過して不溶物を除き、濾液を濃縮して得られるシロッ
プ状物をそのまま又は要すればエーテル,テトラヒドロ
フラン(THF),クロロホルム,メタノール等で結晶化
させた後、クロロホルム−エーテル混液,アセトン−エ
ーテル混液,ジクロルエタン−エーテル混液,アセトニ
トリル,THF,メタノール等の適当な溶媒で再結晶すれ
ば、目的とするスルホニウム塩が容易に得られる。後処
理時に、必要に応じて活性炭処理を加える等は任意であ
る。尚、該スルホニウム塩の種類により、また、用いる
晶出溶媒の種類によっては溶媒付加物を形成することも
ある。
ン誘導体とを適当な溶媒、例えばハロゲン化炭化水素
(例えば、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホ
ルム、テトラクロルエタン等)中、求核性の弱いルイス
酸の銀塩又はアルカリ金属塩の存在下、遮光下で室温乃
至加温下に数時間乃至数日間撹拌反応させる。反応後、
濾過して不溶物を除き、濾液を濃縮して得られるシロッ
プ状物をそのまま又は要すればエーテル,テトラヒドロ
フラン(THF),クロロホルム,メタノール等で結晶化
させた後、クロロホルム−エーテル混液,アセトン−エ
ーテル混液,ジクロルエタン−エーテル混液,アセトニ
トリル,THF,メタノール等の適当な溶媒で再結晶すれ
ば、目的とするスルホニウム塩が容易に得られる。後処
理時に、必要に応じて活性炭処理を加える等は任意であ
る。尚、該スルホニウム塩の種類により、また、用いる
晶出溶媒の種類によっては溶媒付加物を形成することも
ある。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物は、モノマ
ー、オリゴマー、低分子ポリマー等の光カチオン重合開
始剤としての用途が期待できる。本発明のスルホニウム
塩又はその溶媒付加物を光カチオン重合開始剤として用
いる場合、これを夫々単独で用いても、2種以上組み合
わせて用いても、また、他の光カチオン重合開始剤或は
光増感剤と適宜組み合わせて用いても随意である。
ー、オリゴマー、低分子ポリマー等の光カチオン重合開
始剤としての用途が期待できる。本発明のスルホニウム
塩又はその溶媒付加物を光カチオン重合開始剤として用
いる場合、これを夫々単独で用いても、2種以上組み合
わせて用いても、また、他の光カチオン重合開始剤或は
光増感剤と適宜組み合わせて用いても随意である。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物からなる光
カチオン重合開始剤はエポキシ樹脂中での貯蔵安定性に
優れ、また、光照射により窒素を副生することがないの
で塗膜に気泡が生じることもなく、しかも分子吸光係数
が大きく硬化速度も従来の光カチオン重合開始剤と比べ
て速い。
カチオン重合開始剤はエポキシ樹脂中での貯蔵安定性に
優れ、また、光照射により窒素を副生することがないの
で塗膜に気泡が生じることもなく、しかも分子吸光係数
が大きく硬化速度も従来の光カチオン重合開始剤と比べ
て速い。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物からなる光
カチオン重合開始剤は、例えばビスフェノールAジグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂(DGEBA),フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂,オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂,グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂,脂環式エポキシ樹脂,メチル置換型エポキシ樹脂,
グリシジルエステル型エポキシ樹脂等のエポキシ化合
物、イソブチレン,スチレン,α−メチルスチレン,ブ
タジエン,ビニルアルキルエーテル等のビニル単量体或
はこれらのオリゴマーや低分子ポリマー等、環状有機エ
ーテル、環状有機エステル、環状有機スルフィド、環状
アミン、環状有機ケイ素化合物、多官能ビニルエーテル
等のカチオン重合性化合物の光重合や光硬化に効果的に
使用し得る。
カチオン重合開始剤は、例えばビスフェノールAジグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂(DGEBA),フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂,オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂,グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂,脂環式エポキシ樹脂,メチル置換型エポキシ樹脂,
グリシジルエステル型エポキシ樹脂等のエポキシ化合
物、イソブチレン,スチレン,α−メチルスチレン,ブ
タジエン,ビニルアルキルエーテル等のビニル単量体或
はこれらのオリゴマーや低分子ポリマー等、環状有機エ
ーテル、環状有機エステル、環状有機スルフィド、環状
アミン、環状有機ケイ素化合物、多官能ビニルエーテル
等のカチオン重合性化合物の光重合や光硬化に効果的に
使用し得る。
以下に参考例及び実施例を示すが、本発明はこれら参考
例、実施例により何ら制約を受けるものではない。
例、実施例により何ら制約を受けるものではない。
[実施例] 実施例1.6弗化アンチモン酸ジフェニル−p−メチルフ
ェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル10gと臭化p−メチルフェナシル17.8gをジ
クロルエタン83mlに溶解した。次いで、遮光下で撹拌し
ながら6弗化アンチモン酸銀18.5gを徐々に加え、室温
で6時間反応させた。
ェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル10gと臭化p−メチルフェナシル17.8gをジ
クロルエタン83mlに溶解した。次いで、遮光下で撹拌し
ながら6弗化アンチモン酸銀18.5gを徐々に加え、室温
で6時間反応させた。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮して得られた
残渣にクロロホルムを加え暫時放置した。析出晶を濾取
し、メタノールから再結晶して、目的物の結晶22.9gを
得た。
残渣にクロロホルムを加え暫時放置した。析出晶を濾取
し、メタノールから再結晶して、目的物の結晶22.9gを
得た。
mp:149〜151℃。
元素分析値(C21H19F6OSSb) 計算値(%):C 45.43、H 3.45 実測値(%):C 45.31、H 3.44。
UV(λmax):265nm(ε=19300)。
IR(KBr):1680(C=0),650(SbF6 -)cm-1。
NMR(DMSO−d6):δppm 2.45(3H,s,−CH3)、6.6(2
H,s,−CH2−)、7.4〜8.3(14H,m,Aromatic H)。
H,s,−CH2−)、7.4〜8.3(14H,m,Aromatic H)。
実施例2.6弗化アンチモン酸ジフェニル−p−フェニル
フェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル6.8gと臭化p−フェニルフェナシル15gを
ジクロルエタン100mlに溶解した。次いで、遮光下で撹
拌しながら6弗化アンチモン酸銀12.5gを徐々に加え、
室温で6時間反応させた。
フェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル6.8gと臭化p−フェニルフェナシル15gを
ジクロルエタン100mlに溶解した。次いで、遮光下で撹
拌しながら6弗化アンチモン酸銀12.5gを徐々に加え、
室温で6時間反応させた。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮して得られた
残渣をメタノール中で活性炭処理した後、エーテルで結
晶化させ、次いでメタノールから再結晶して、目的物の
結晶16.2gを得た。
残渣をメタノール中で活性炭処理した後、エーテルで結
晶化させ、次いでメタノールから再結晶して、目的物の
結晶16.2gを得た。
mp:171〜172℃。
元素分析値(C26H21F6OSSb) 計算値(%):C 50.59、H 3.43 実測値(%):C 50.62、H 3.44。
UV(λmax):301nm(ε=26400)。
IR(KBr):1680(C=0),660(SbF6 -)cm-1。
NMR(DMSO−d6):δppm 6.7(2H,s,−CH2−)、7.35〜
8.3(19H,m,Aromatic H)。
8.3(19H,m,Aromatic H)。
実施例3.6弗化アンチモン酸ジフェニル−2′,5′−ジ
メトキシフェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル5gと臭化2′,5′−ジメトキシフェナシル
10gをジクロルエタン45mlに溶解した。次いで、遮光下
で撹拌しながら6弗化アンチモン酸銀9.3gを徐々に加
え、室温で6時間反応させた。
メトキシフェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル5gと臭化2′,5′−ジメトキシフェナシル
10gをジクロルエタン45mlに溶解した。次いで、遮光下
で撹拌しながら6弗化アンチモン酸銀9.3gを徐々に加
え、室温で6時間反応させた。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮して得られた
残渣をメタノール中で活性炭処理した後、エーテルで結
晶化させ、次いでメタノールから再結晶して、目的物の
結晶6.2gを得た。
残渣をメタノール中で活性炭処理した後、エーテルで結
晶化させ、次いでメタノールから再結晶して、目的物の
結晶6.2gを得た。
mp:146℃(分解)。
元素分析値(C22H21F6O3SSb) 計算値(%):C 43.95、H 3.52 実測値(%):C 44.01、H 3.56。
UV(λmax):356nm(ε=4760);261nm(ε=12300)。
IR(KBr):1660(C=0),660(SbF6 -)cm-1。
NMR(DMSO−d6):δppm 3.75(3H,s,−OCH3)、4.0(3
H,s,−OCH3)、6.25(2H,s,−CH2−)、7.3〜8.3(13H,
m,Aromatic H)。
H,s,−OCH3)、6.25(2H,s,−CH2−)、7.3〜8.3(13H,
m,Aromatic H)。
実施例4.6弗化アンチモン酸ジフェニル−(β−ナフチ
ル)アセチルスルホニウムの合成 硫化フェニル10gと2−ブロモアセチルナフタレン20.9g
をジクロルエタン83mlに溶解した。次いで、遮光下で撹
拌しながら6弗化アンチモン酸銀18.4gを徐々に加え、
室温で6時間反応させた。
ル)アセチルスルホニウムの合成 硫化フェニル10gと2−ブロモアセチルナフタレン20.9g
をジクロルエタン83mlに溶解した。次いで、遮光下で撹
拌しながら6弗化アンチモン酸銀18.4gを徐々に加え、
室温で6時間反応させた。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮して得られた
残渣をメタノール中で活性炭処理した後冷却した。析出
晶を濾取し、メタノールから再結晶して、目的物の結晶
8.7gを得た。
残渣をメタノール中で活性炭処理した後冷却した。析出
晶を濾取し、メタノールから再結晶して、目的物の結晶
8.7gを得た。
mp:174〜175℃。
元素分析値(C24H19F6OSSb) 計算値(%):C 48.76、H 3.24 実測値(%):C 48.77、H 3.20。
UV(λmax):297nm(ε=13100);254nm(ε=49100);
247nm(ε=42700)。
247nm(ε=42700)。
IR(KBr):1670(C=0),650(SbF6 -)cm-1。
NMR(DMSO−d6):δppm 6.25(2H,s,−CH2−)、7.6〜
9.0(17H,m,Aromatic H)。
9.0(17H,m,Aromatic H)。
参考例1、2. 実施例1及び2で得られた本発明のスルホニウム塩を、
各々、その50w/w%炭酸プロピレン溶液として光カチオ
ン重合開始剤溶液とした。この光カチオン重合開始剤溶
液と、シクロヘキセンオキシド及び市販エポキシ樹脂
(東都化成社製、商品名;エポトート YDPN−638)と
を、2:15:85の比率でよく混和した後、ガラス板上に厚
さ約30μmとなるように塗布し、高圧水銀灯(50W/cm)
を備えた紫外線照射装置中、距離15cmで紫外線照射し、
光硬化した塗膜の鉛筆硬度がHに達するまでに必要な照
射時間(秒)を測定した。
各々、その50w/w%炭酸プロピレン溶液として光カチオ
ン重合開始剤溶液とした。この光カチオン重合開始剤溶
液と、シクロヘキセンオキシド及び市販エポキシ樹脂
(東都化成社製、商品名;エポトート YDPN−638)と
を、2:15:85の比率でよく混和した後、ガラス板上に厚
さ約30μmとなるように塗布し、高圧水銀灯(50W/cm)
を備えた紫外線照射装置中、距離15cmで紫外線照射し、
光硬化した塗膜の鉛筆硬度がHに達するまでに必要な照
射時間(秒)を測定した。
結果を表1に示す。
表1から明らかな如く、本発明のスルホニウム塩は、い
ずれも優れた速硬化性を示した。
ずれも優れた速硬化性を示した。
参考例3〜5. 実施例1、2及び4で得られた本発明のスルホニウム塩
を、1w/w%炭酸プロピレン溶液として光カチオン重合開
始剤溶液とした。
を、1w/w%炭酸プロピレン溶液として光カチオン重合開
始剤溶液とした。
遮光下に、この光カチオン重合開始剤溶液と、シクロヘ
キセンオキシドとを、1:20の比率でよく混和した後、そ
の5mlをパイレックス製試験管にとり、窒素置換後、距
離7cmで15秒間、高圧水銀灯(50W/cm)で紫外線照射し
た。
キセンオキシドとを、1:20の比率でよく混和した後、そ
の5mlをパイレックス製試験管にとり、窒素置換後、距
離7cmで15秒間、高圧水銀灯(50W/cm)で紫外線照射し
た。
紫外線照射後、内容物を大量のメタノール中に注ぎ、析
出ポリマーを濾取、洗浄、乾燥し、得られたポリマー重
量よりシクロヘキセンオキシドの重合率を求めた。
出ポリマーを濾取、洗浄、乾燥し、得られたポリマー重
量よりシクロヘキセンオキシドの重合率を求めた。
結果を表2に示す。
尚、比較の為、本発明のスルホニウム塩からなる光カチ
オン重合開始剤溶液の代りに既存の代表的な光カチオン
重合開始剤である6弗化アンチモン酸4−チオフェノキ
シトリフェニルスルホニウムの1w/w%炭酸プロピレン溶
液を用いて同様に測定を行った結果を、比較例1として
表2に併せて示す。
オン重合開始剤溶液の代りに既存の代表的な光カチオン
重合開始剤である6弗化アンチモン酸4−チオフェノキ
シトリフェニルスルホニウムの1w/w%炭酸プロピレン溶
液を用いて同様に測定を行った結果を、比較例1として
表2に併せて示す。
表2の結果から明らかな如く、本発明のスルホニウム塩
からなる光カチオン重合開始剤は、市販の光カチオン重
合開始剤よりも高い重合率を与えることから、より高い
重合活性を有すると考えられる。
からなる光カチオン重合開始剤は、市販の光カチオン重
合開始剤よりも高い重合率を与えることから、より高い
重合活性を有すると考えられる。
[発明の効果] 以上述べた如く、本発明は、光カチオン重合開始剤等と
しての用途が期待できる新規なスルホニウム塩を提供す
るものであり、これを光カチオン重合開始剤として用い
た場合には、重合活性が高く、例えばエポキシ樹脂の硬
化等に用いた場合、優れた速硬化性を示すものである点
に顕著な効果を奏するものであり、斯業に貢献するとこ
ろ大なる発明である。
しての用途が期待できる新規なスルホニウム塩を提供す
るものであり、これを光カチオン重合開始剤として用い
た場合には、重合活性が高く、例えばエポキシ樹脂の硬
化等に用いた場合、優れた速硬化性を示すものである点
に顕著な効果を奏するものであり、斯業に貢献するとこ
ろ大なる発明である。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式[I] (式中、Rはビフェニル基,4−メチルフェニル基,2,5−
ジメトキシフェニル基又はβ−ナフチル基を示し、X-は
求核性の弱いルイス酸残基を示す。)で示されるスルホ
ニウム塩又はこれらの溶媒付加物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20112287A JPH0713057B2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 | 新規なスルホニウム塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20112287A JPH0713057B2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 | 新規なスルホニウム塩 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6445357A JPS6445357A (en) | 1989-02-17 |
| JPH0713057B2 true JPH0713057B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=16435774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20112287A Expired - Fee Related JPH0713057B2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 | 新規なスルホニウム塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713057B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4175115B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2008-11-05 | 和光純薬工業株式会社 | フッ素置換トリフェニルスルホニウム塩 |
| JP4070538B2 (ja) * | 2002-08-19 | 2008-04-02 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型レジスト組成物 |
| IN2012DN03022A (ja) | 2009-10-01 | 2015-07-31 | Hitachi Chemical Co Ltd | |
| JP5574153B2 (ja) * | 2010-01-15 | 2014-08-20 | 川崎化成工業株式会社 | 光カチオン重合性組成物 |
| KR101537654B1 (ko) | 2010-04-22 | 2015-07-17 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치 |
| CN106939074B (zh) | 2013-03-08 | 2020-06-16 | 日立化成株式会社 | 含有离子性化合物的处理液 |
| JP6603127B2 (ja) | 2015-12-29 | 2019-11-06 | サンアプロ株式会社 | 感光性組成物 |
| WO2021251035A1 (ja) | 2020-06-12 | 2021-12-16 | サンアプロ株式会社 | 新規オニウム塩、および光酸発生剤 |
| JP7779862B2 (ja) | 2020-12-14 | 2025-12-03 | サンアプロ株式会社 | 光酸発生剤及びこれを用いた感光性組成物 |
-
1987
- 1987-08-12 JP JP20112287A patent/JPH0713057B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6445357A (en) | 1989-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2444391B1 (en) | Base and radical generator, composition using same and method for curing same | |
| WO1997008141A1 (fr) | Nouveaux composes a base de sel de sulfonium, initiateur de polymerisation, composition solidifiable et procede de durcissement | |
| US7709548B2 (en) | Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product | |
| JPH0713057B2 (ja) | 新規なスルホニウム塩 | |
| WO1999048945A1 (en) | Photocurable composition containing iodonium salt compound | |
| JP3716416B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPH10212286A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP2777388B2 (ja) | 重合触媒およびそれを含有する硬化性組成物 | |
| JPH06345726A (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPWO1994029271A1 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JP2023110567A (ja) | 化合物、硬化性組成物、化合物の製造方法 | |
| CN100372833C (zh) | 芳基锍盐与其聚合组成物及其聚合方法 | |
| US5798396A (en) | Sulfonium salt-containing compounds and initiators of polymerization | |
| JPH10245378A (ja) | 新規スルホニウム塩、それからなる光重合開始剤及びエネルギー線硬化性組成物 | |
| JP2007008919A (ja) | 熱酸発生剤、酸の発生方法、および熱硬化性組成物 | |
| JPS6312092B2 (ja) | ||
| JP3211311B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 | |
| JP3512437B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPH06321915A (ja) | 新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JP3923096B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤およびそれらを含有する硬化性組成物 | |
| JPH08325225A (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤およびそれらを含有する硬化性組成物 | |
| JP3211310B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 | |
| JP3555119B2 (ja) | 新規スルホニウム塩化合物及び重合開始剤 | |
| JP2827567B2 (ja) | 新規スルホニウム塩及び重合開始剤 | |
| JPH0782283A (ja) | ホスホニウム塩およびそれを含有するカチオン重合性組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |