JPH07130798A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

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JPH07130798A
JPH07130798A JP5275458A JP27545893A JPH07130798A JP H07130798 A JPH07130798 A JP H07130798A JP 5275458 A JP5275458 A JP 5275458A JP 27545893 A JP27545893 A JP 27545893A JP H07130798 A JPH07130798 A JP H07130798A
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electric component
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Takeshi Sakaino
剛 境野
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数個の電気部品間の結線を容易かつ確実に
行い、電気部品間の組み換えを容易にする。 【構成】 二部品21,22間の結線手段として形状記
憶合金ばね31またはバイメタル等を用い、特定の温度
域下でこれらを接続点24に自動的にかつ着脱自在に弾
性圧着させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のボンディ
ング方法に関し、特にワイヤボンドを用いたボンディン
グ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】<一般的な背景>一般に、計算機間ある
いはボード間等の装置間信号を高速に送受信可能な光イ
ンターコネクト技術は、将来の広帯域光通信システムに
おいて重要である。特に、例えば複数の発光部を1チッ
プに集積した送信用レーザダイオード(LD)アレイ
は、光送信部の小型化を実現しながら多チャンネル化を
可能とするため、光インターコネクトを実現するキーデ
バイスであり、盛んに研究開発が進められている。
【0003】<第1の従来例>図18は、第1の従来例
の半導体装置として、1.3μm帯複数ビームLD(レ
ーザ)アレイの構造を示したものである。図18の如
く、第1の従来例の半導体装置は、複数(図18では1
0ビーム)の半導体素子(LD素子)を列状に集積化し
てなる例えば厚さ100μmの半導体アレイチップ(L
Dアレイチップ)1を、SiCからなる一次ヒートシン
ク2上にマウントし、金線等のボンディングワイヤ3
a,3bにより給電用のストリップライン4とLDアレ
イチップ1上の電極とを配線している。LDアレイチッ
プ内の隣合うLD素子間の間隔、すなわちビーム間隔は
例えば250μmである。各LD素子の構造はp型In
P基板上に形成した埋込ヘテロ型(Buried-Hetero-stur
ucture)レーザで、埋め込み成長には液相成長法(LP
E法)を用いている(信学技報OQE92-176(1993-02)第6
1頁乃至第66頁参照)。
【0004】図19は、LD4ビームを集積化した4ビ
ームLDアレイを、2重のヒートシンクに搭載した状態
を示している。図19において、1はLDアレイチッ
プ、2はLDアレイチップ1をダイボンドおよびワイヤ
ボンドする一次ヒートシンク、5は特性評価用試料台と
して前記一次ヒートシンク2をダイボンドおよびワイヤ
ボンドする二次ヒートシンクであり、外部からワイヤ3
a,3bを通してLDアレイチップ1に電流が供給され
るようになっている。図19において、まず最初に一次
ヒートシンク2を二次ヒートシンク5の上に置き、さら
に一次ヒートシンク2の上にLDアレイチップ1を置
く。なお、このとき、LDアレイチップ1と一次ヒート
シンク2の間、さらに一次ヒートシンク2と二次ヒート
シンク5の間には半田を介在させる。ここで、LDアレ
イチップ1の上に荷重をかける。その後、半田の融点以
上の温度まで昇温し、一定時間保持する。半田が溶融し
た後、半田の凝固点以下まで降温する。なお、このとき
のダイボンド雰囲気は、半田およびLDアレイチップ1
等の酸化を防ぐため、還元雰囲気等にしておく。このダ
イボンド作業終了後、金線等を用いてLDアレイチップ
1と一次ヒートシンク2の間、さらに一次ヒートシンク
2と二次ヒートシンク5の間にワイヤボンディングを行
う。このようにして組み立てたLDアレイチップ1を特
性評価した後、他のパッケージへの組み換える作業を行
う。ここでは、一次ヒートシンク2と二次ヒートシンク
5の間のワイヤボンド、ダイボンドを外し、LDアレイ
チップ1の固定された一次ヒートシンク2を二次ヒート
シンク5から取り外す作業となる。
【0005】<第2の従来例>図20に、大量の情報を
高速で通信する第2の従来例の半導体装置として、一本
の光ファイバで従来の百倍の情報量を伝達することも可
能な光周波数分割多重用アレイLD(Frequency Divisi
on Multiplexing :FDM)方式のものを示す。ここで
は、2電極型方式の通信用単一波長LDアレイ装置を例
にあげる。図20の如く、p型InP基板上にMOCV
D(Metal Organic Chemical Vapor Deposition )法に
より、活性層と、該活性層に電子およびホールを閉じ込
めるためのクラッド層を順に連続形成した後、LPE法
を用いてn型InP下電流狭窄層およびp型InP上電
流狭窄層を順次成長したものである。このLD素子の共
振器長は600μmであり、上面電極は第1電極16と
第2電極17の二つに分割されている。また、この二つ
の電極16,17間の電気的アイソレーションをとるた
めに分離溝18を形成している(三菱電気技報Vol.66 N
o.9 1992第60頁乃至第62頁参照)。なお、図20中
の1はLDアレイチップ、2はLDアレイチップ1をダ
イボンドおよびワイヤボンドする一次ヒートシンク、5
は前記一次ヒートシンク2をダイボンドおよびワイヤボ
ンドする二次ヒートシンク(特性評価用試料台)であ
り、外部からワイヤ3a,3bを通してLDアレイチッ
プ1に電流が供給されるようになっている。該第2の従
来例におけるLDアレイチップ1のヒートシンク2,5
への組み付けも、上述の第1の従来例と同様である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、第1および
第2の従来例のようにして半導体装置を組み立てる場
合、LDアレイチップ1と一次ヒートシンク2の間、さ
らに一次ヒートシンク2と二次ヒートシンク5の間に数
多くのボンディングワイヤ3a,3bをワイヤボンドし
なければならないが、該ワイヤボンディング作業は、
熱、超音波振動、またはその両方を与えながら各ボンデ
ィングワイヤ3a,3bを各電極に圧着しなければなら
ないため多大な時間がかかり、ボンディング時間の短縮
化が望まれていた。また、通常のボンディング作業時に
は、X−Yテーブル等を用いて試料を移動しながらワイ
ヤボンディングを行うが、特に第2の従来例のようにボ
ンディングワイヤの形状が非画一的で多様に渡る場合、
X−Yテーブルの動作行程が複雑となり、ボンディング
作業にかかる所要時間がさらに増大する原因となってい
た。
【0007】また、ボンディングワイヤは形成途中また
は形成後において容易に変形可能であり、特に空間的な
自由度があまりないような複雑な形状をした半導体装置
を組み立てる際には、互いに隣合うワイヤ3a,3b同
士が接触し、ワイヤボンディング不良が起きる可能性が
ある。特に、一個の半導体装置を特性評価した後にこれ
を二次ヒートシンク5(試料台)から一次ヒートシンク
2ごと離脱し、次の半導体装置を二次ヒートシンク5に
組み換えようとする際等には、いずれかの半導体装置中
のLDアレイチップ1と一次ヒートシンク2の間のワイ
ヤ3bに周囲の装置類等が触れやすいため、ボンディン
グワイヤ3bの切断または短絡を起こす可能性がある。
この場合にボンディングワイヤ3bを修理するために
は、不良のボンディングワイヤ3bを除去した後、再び
にワイヤボンディング作業を行わなければならず、多大
な労力を要していた。
【0008】また、上記の組み換えを繰り返し行うと、
先行程で特性評価を行った半導体装置の一次ヒートシン
ク2と試料台としての二次ヒートシンク5を結線してい
たワイヤ3aの一部が残ってしまい、次行程の組み換え
が不可能になることがあるという問題点があった。
【0009】本発明は、複数個の電気部品間の結線を容
易かつ確実に行うと同時に、電気部品間の組み換えを容
易に行い得る半導体装置およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体装置は、第1の接続点および第2の接続点を有
し、該両接続点が結線手段にて結線される半導体装置に
おいて、前記結線手段は、前記第1の接続点および前記
第2の接続点のいずれか一方の接続点に接続固定され、
かつ少なくとも特定の温度域下で他方の接続点に対して
圧着する方向に弾性を有せしめられたものである。
【0011】本発明の請求項2に係る半導体装置は、ダ
イパッドおよび第1の接続点を有する第1の電気部品
と、上面に第2の接続点を有し前記第1の電気部品の前
記ダイパッド上にダイボンディングされる第2の電気部
品と、前記第1の接続点と前記第2の接続点とを結線す
る結線手段とを備える半導体装置において、前記結線手
段は、前記第1の電気部品の前記第1の接続点に接続固
定され、かつ少なくとも特定の温度域下で前記第2の電
気部品を前記第2の接続点から前記第1の電気部品の前
記ダイパッド側に押圧する方向に弾性を有せしめられた
ものである。
【0012】本発明の請求項3に係る半導体装置は、前
記結線手段は、前記第2の接続点に対して着脱自在に離
脱可能とされる。
【0013】望ましくは、前記結線手段は、昇温時に形
状回復して前記第2の接続点に圧着する形状記憶合金ば
ねを含む。
【0014】あるいは、前記結線手段は、プリント配線
板と、該プリント配線板を前記第2の接続点側へ押圧す
る押圧部材とを備える。
【0015】望ましくは、前記押圧部材は、昇温時に前
記プリント配線板を前記第2の接続点側へ押圧する形状
記憶合金ばねを含む。
【0016】さらに望ましくは、前記プリント配線板
は、高温時に前記第2の接続点に溶融接続する接続バン
プを有する。
【0017】あるいは、前記結線手段は、昇温時に前記
第2の接続点から離間する方向に変形しかつ常温時に前
記第2の接続点に圧着する感温変形ばねを含む。
【0018】望ましくは、前記第1の電気部品は複数の
半導体素子が並置されてなる半導体アレイチップであ
り、前記第1の接続点は前記各半導体素子の各上面電極
であり、前記第2の接続点は、前記半導体素子の上面電
極と同数個設けられる。
【0019】あるいは、前記第1の電気部品は半導体素
子を含み、前記第2の電気部品は前記半導体素子の特性
評価用試料台を含み、前記結線手段は、前記第2の接続
点に対して着脱自在に離脱可能とされる。
【0020】本発明の請求項11に係る製造方法は、第
1の電気部品の第1の接続点に導電特性を有する結線用
形状記憶合金ばねを接続固定するばね取付工程と、前記
第1の電気部品のダイパッド上に、第2の電気部品を半
田を介して載置する載置工程と、昇温により前記半田を
溶融して前記第2の電気部品を前記第1の電気部品の前
記ダイパッド上にダイボンディングするダイボンディン
グ工程とを備え、前記ダイボンディング工程の昇温時
に、前記形状記憶合金ばねを形状回復させて前記第2の
電気部品の上面の第2の接続点に圧接させ、同時に、前
記第2の電気部品を前記第1の電気部品の前記ダイパッ
ド側に押圧する。
【0021】本発明の請求項12に係る製造方法は、溶
融可能な接続バンプを有するプリント配線板を形状記憶
合金ばねを介して第1の電気部品に取り付けるばね取付
工程と、前記第1の電気部品のダイパッド上に、第2の
電気部品を半田を介して載置する載置工程と、昇温によ
り前記半田を溶融して前記第2の電気部品を前記第1の
電気部品の前記ダイパッド上にダイボンディングするダ
イボンディング工程とを備え、前記ダイボンディング工
程の昇温時に、前記形状記憶合金ばねを形状回復させて
前記プリント配線板の接続バンプを前記第1の電気部品
の第1の接続点および前記第2の電気部品の第2の接続
点に圧着させ、同時に、前記第2の電気部品を前記第1
の電気部品のダイパッド側に押圧する。
【0022】本発明の請求項13に係る製造方法は、導
電特性を有する感温変形ばねを第1の電気部品の個別電
極に接続固定するばね取付工程と、前記第1の電気部品
のダイパッド上に、第2の電気部品を半田を介して載置
する載置工程と、昇温により前記半田を溶融して前記第
2の電気部品を前記第1の電気部品のダイパッド上にダ
イボンディングするダイボンディング工程と、降温によ
り前記半田を凝固させる凝固工程とを備え、前記凝固工
程において、前記感温変形ばねを感温変形させ前記第2
の電気部品の上面の第2の接続点に圧着させる。
【0023】本発明の請求項14に係る製造方法は、結
線用形状記憶合金ばねが取り付けられた特性評価用試料
台のダイパッド上に、半導体試料を半田を介して載置す
る載置工程と、昇温により前記半田を溶融して前記半導
体試料を前記特性評価用試料台の前記ダイパッド上にダ
イボンディングするダイボンディング工程とを備え、前
記ダイボンディング工程の昇温時に、前記形状記憶合金
ばねを形状回復させ前記半導体試料の接続点に着脱自在
に圧接させ、同時に、前記半導体試料を前記特性評価用
試料台の前記ダイパッド側に押圧する。
【0024】本発明の請求項15に係る製造方法は、結
線用プリント配線板が形状記憶合金ばねを介して取り付
けられた特性評価用試料台のダイパッド上に、半導体素
子を含む半導体試料を半田を介して載置する載置工程
と、昇温により前記半田を溶融して前記半導体試料を前
記特性評価用試料台の前記ダイパッド上にダイボンディ
ングするダイボンディング工程とを備え、前記ダイボン
ディング工程の昇温時に、前記形状記憶合金ばねを形状
回復させて前記プリント配線板を前記半導体試料の接続
点に着脱自在に圧着させ、同時に、前記半導体試料を前
記特性評価用試料台の前記ダイパッド側に押圧する。
【0025】本発明の請求項16に係る製造方法は、導
電特性を有する感温変形ばねが取り付けられた特性評価
用試料台のダイパッド上に、半導体素子を含む半導体試
料を半田を介して載置する載置工程と、昇温により前記
半田を溶融して前記半導体試料を前記特性評価用試料台
のダイパッド上にダイボンディングするダイボンディン
グ工程と、降温により前記半田を凝固させる凝固工程と
を備え、前記凝固工程において、前記感温変形ばねを感
温変形させ前記半導体試料の接続点に着脱自在に圧接さ
せる。
【0026】
【作用】本発明の請求項1または請求項2では、結線手
段が特定の温度域下で他方の接続点に弾性圧着すること
を利用して、例えば半田結線時や常温時において一対の
接続点間の結線を確実に行うことができる。特に、請求
項2では、第2の電気部品を第1の電気部品のダイパッ
ド上にダイボンディングする際に、結線手段が第2の電
気部品を第1の電気部品のダイパッド側に押圧するの
で、ダイボンディングを確実に行うことができる。ま
た、従来例のワイヤボンディングに比較すると、熱、超
音波振動等を与えながらのワイヤ圧着の必要もなく、さ
らに、X−Yテーブル等にて試料を移動しながら結線す
る必要もなくなるため、結線作業にかかる所要時間を大
幅に低減できる。
【0027】本発明の請求項3では、第1の電気部品と
第2の電気部品を分離させたい場合に、結線手段を第2
の接続点から容易に離脱することができ、分離作業が容
易になる。
【0028】本発明の請求項4では、予め常温下におい
て、結線手段としての形状記憶合金ばねを第1の接続点
に固定しておき、可塑変形させて第2の接続点から離脱
させておく。ダイボンディング時に昇温すると、形状記
憶合金ばねは形状回復し、第2の接続点に圧着する。そ
うすると、結線を確実に行うことができるとともに、第
2の電気部品をダイパッドの方向へ押圧することでダイ
ボンディングを確実に行うことができる。そして、形状
記憶合金ばねの圧着を昇温とともに自動的に行うことが
できるので、従来例のワイヤボンディングに比較して結
線作業にかかる所要時間を大幅に低減できる。また、そ
の後に周辺のものに当たり、断線したり隣合う形状記憶
合金ばねが誤接触したりしても、これを高温下に置くこ
とにより、いつでも形状記憶合金ばねを形状回復させて
第2の接続点に接続できる。
【0029】本発明の請求項5では、第1の接続点と第
2の接続点とをプリント配線板で結線する際、押圧部材
にてプリント配線板を各接続点に圧着させ、結線を確実
に行うとともに、第2の電気部品を第1の電気部品のダ
イパッド側に押圧でき、ダイボンディングを確実に行う
ことができる。
【0030】本発明の請求項6では、予め常温下におい
て、結線手段としてのプリント配線板を、形状記憶合金
ばねを介して第1の電気部品に固定しておく。この際、
形状記憶合金ばねを可塑変形させて第2の接続点から離
脱させておく。ダイボンディング時に昇温すると、形状
記憶合金ばねは形状回復し、プリント配線板を各接続点
に自動的に圧着させる。そうすると、その後に周辺のも
のに当たり、断線や隣合う形状記憶合金ばねが誤接触し
ても、これを高温下に置くことにより、いつでも形状記
憶合金ばねを形状回復させて結線することができる。
【0031】本発明の請求項7では、昇温時に、プリン
ト配線板の接続バンプが溶融すると同時に、形状記憶合
金ばねが形状回復して接続バンプを各接続点に自動的に
圧着させるので、バンプ接続が強固になる。
【0032】本発明の請求項8では、ダイボンディング
終了後に、半導体装置を常温下に置き、感温変形ばねを
第2の接続点に圧着することで、半導体装置の使用時に
おける接続点の接続を確実にする。
【0033】本発明の請求項9では、半導体アレイチッ
プと第2の電気部品とを接続する際、結線手段を複数設
けてもこれらを弾性変形させるだけで同時に結線できる
ので、半導体アレイチップ内の複数の半導体素子と結線
手段とを同時に結線でき、結線処理時間を大幅に短縮で
きる。
【0034】本発明の請求項10では、単一の特性評価
用試料台の上に第2の電気部品を載せ換えながら、半導
体素子の特性評価を繰り返し行う場合、結線手段を第2
の接続点に対して着脱自在に離脱可能としているので、
第2の電気部品の載せ換えが容易になる。
【0035】本発明の請求項11では、形状記憶合金ば
ねの形状回復により、結線を確実に行い得るとともに、
第2の電気部品をダイパッドの方向へ押圧することでダ
イボンディングを確実に行うことができる。そして、形
状記憶合金ばねの圧着を昇温とともに自動的に行うこと
ができるので、従来例のワイヤボンディングに比較して
結線作業にかかる所要時間を大幅に低減できる。また、
その後に周辺のものに当たり、断線や隣合う形状記憶合
金ばねが誤接触しても、これを高温下に置くことによ
り、いつでも形状記憶合金ばねを形状回復させて第2の
接続点に接続できる。
【0036】本発明の請求項12では、複雑な配置の接
続点同士を接続する場合、プリント配線板の接続バンプ
を各接続点に接続することで、配線間の誤接触を防止で
きる。この場合、形状記憶合金ばねを形状回復させてプ
リント配線板の接続バンプを各接続点に圧着させること
で、結線を確実に行うとともに、第2の電気部品をダイ
パッド側に押圧してダイボンディングを確実に行うこと
ができる。
【0037】本発明の請求項13では、半導体装置を使
用する際等の常温時に、感温変形ばねを第2の接続点に
圧着することで、接続点の接続を確実にできる。
【0038】本発明の請求項14では、特性評価用試料
台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評価
を繰り返し行う場合に、形状記憶合金ばねを可塑変形さ
せて接続点から容易に離脱でき、半導体試料の載せ換え
が容易になる。
【0039】本発明の請求項15では、特性評価用試料
台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評価
を繰り返し行う場合に、形状記憶合金ばねを可塑変形さ
せてプリント配線板を半導体試料の接続点から容易に離
脱でき、半導体試料の載せ換えが容易になる。
【0040】本発明の請求項16では、特性評価用試料
台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評価
を繰り返し行う場合に、特性評価用試料台等を高温下に
置くだけで感温変形ばねが自動的に半導体試料の接続点
から離脱するので、半導体試料の載せ換えが容易にな
る。
【0041】
【実施例】[第1の実施例] <構成>図1は本発明の第1の実施例の半導体装置(L
Dアレイ装置)を示す図である。図1において、21は
半導体アレイチップ(LDアレイチップ)、22は前記
LDアレイチップ21を搭載する一次ヒートシンク、2
3は前記LDアレイチップ21の特性評価時に前記一次
ヒートシンク22を搭載する試料台としての二次ヒート
シンクである。
【0042】前記LDアレイチップ21は、4個の埋込
ヘテロ型半導体素子(LD素子)24を一列に並置して
集積化した4ビームLDアレイである。前記一次ヒート
シンク22は例えばSiCが使用され、該一次ヒートシ
ンク22の上面には、前記LDアレイチップ21をダイ
ボンディングする領域としての単一の一次ダイパッド2
5と、前記LDアレイチップ21の各LD素子24の上
面電極に結線する電極としての4個の一次個別電極26
が形成されている。該一次個別電極26は、前記LDア
レイチップ21に平行な帯状領域に一列に並置される。
前記二次ヒートシンク23は例えばアルミニウムや銅が
使用され、該二次ヒートシンク23の上面には、前記一
次ヒートシンク22をダイボンディングする領域として
の単一の二次ダイパッド27と、前記一次ヒートシンク
22の一次個別電極26に結線する給電用電極としての
4個の二次個別電極28(ストリップライン)が形成さ
れている。該二次個別電極28は、前記一次個別電極2
6の形成される帯状領域に平行に一列に並置される。
【0043】そして、前記一次ヒートシンク22の前記
各一次個別電極25と前記各LD素子24とを結線する
一次結線手段としては、ニチノール(Ti−Ni)、C
u−Zn−Al、またはIn−Ti等からなる4個の形
状記憶合金ばね片に導電用の金メッキが施された形状記
憶合金ばね31が使用される。該各形状記憶合金ばね3
1は、前記各LD素子24の上面電極幅および前記一次
ヒートシンク22の各一次個別電極26の形成幅より小
幅とされ、かつ各LD素子24とこれに対応する一次個
別電極26の離間寸法より僅かに長い短冊状に形成され
る。そして、該形状記憶合金ばね31は、高温相(母
相)での逆変態による形状回復により側面視略Ω形に一
定の曲率で湾曲する特性を有せしめられ、これにより半
田溶融時(昇温時)に前記各LD素子24の上面電極に
圧着し該各LD素子24を前記一次ヒートシンク22の
ダイパッド25側へ押圧する押圧部材として機能する。
該形状記憶合金ばね31と前記一次ヒートシンク22の
一次個別電極26との接続は、ダイボンディング用の半
田より高融点の半田を用いて行われる。また、該形状記
憶合金ばね31と前記LD素子24の上面電極との接続
は、半田を用いて溶着してもよいし、着脱自在に圧接す
るだけでもよい。一方、前記一次ヒートシンク22の一
次個別電極26とこれに対応する二次ヒートシンク23
の二次個別電極28とを結線する二次結線手段として
は、従来例と同様の金線等のボンディングワイヤ32が
使用される。
【0044】<製造方法>まず、図2の如く、事前段階
として、常温、すなわち形状記憶合金ばね31がマルテ
ンサイトとされた状態で、一次ヒートシンク22の一次
個別電極26に一次結線用形状記憶合金ばね31を、高
融点の半田(図示せず)を用いて固着する(ばね取付工
程)。このときの形状記憶合金ばね31の形状として
は、図2の如く、LD素子24の上面電極から離間する
方向、すなわち上方向に反った状態に可塑変形させてお
く。次に、図3の如く、一次ヒートシンク22を二次ヒ
ートシンク23の二次ダイパッド27の上に低融点の半
田33を介在させて載置し(二次載置工程)、さらに一
次ヒートシンク22の一次ダイパッド25の上にLDア
レイチップ21を低融点の半田34を介在させて載置す
る(一次載置工程)。そして、ダイボンディン用半田3
3,34の融点以上で、かつ形状記憶合金ばね31を固
着する半田の融点未満の温度まで昇温し、一定時間保持
する。そうすると、ダイボンディング用の半田33,3
4のみが溶融し、LDアレイチップ21の底面と一次ダ
イパッド25の間、さらに一次ヒートシンク22の底面
と二次ダイパッド27の間が電気的に接続される(ダイ
ボンディング工程)。このとき、上方に反って変形して
いた各形状記憶合金ばね31は、図4の如く、予め記憶
していた側面視略Ω形状に形状回復し、その結果、形状
記憶合金ばね31の先端部が各LD素子24の上面電極
に確実に接続する。また、形状記憶合金ばね31の先端
部は各LD素子24を一次ダイパッド25側に押しつけ
るため、LDアレイチップ21の底面と一次ダイパッド
25の一次ヒートシンク22の間の電気的接触を確実に
行い得る。そうすると、前記一次結線手段としての形状
記憶合金ばね31による結線と一次ダイパッド25上で
のダイボンディングを同時に処理できる。特に、本実施
例のように複数のLD素子24を集積したLDアレイ装
置の場合、LD素子24の集積個数を大幅に増やして
も、その個数に拘らず各LD素子24と一次ヒートシン
ク22の一次個別電極26とのダイボンディングを瞬時
に行うことができ、製造時間を大幅に短縮できる。その
後、常温等の半田凝固点以下まで降温し、一次ヒートシ
ンク22の各一次個別電極26と二次ヒートシンク23
の各二次個別電極28との間を、二次結線手段としての
ボンディングワイヤ32にて二次結線する。このとき、
形状記憶合金ばね31はマルテンサイトの状態となり可
塑状態となるため、昇温時の結線状態を維持している。
しかる後、LDアレイチップ21の各LD素子24をテ
スターで特性評価した後、ボンディングワイヤ32を切
断し、LDアレイチップ21を一次ヒートシンク22ご
と二次ヒートシンク23から取り外して、他のパッケー
ジへ組み換える。
【0045】このように、本実施例では、例えば第1の
従来例で用いていたワイヤに代えて形状記憶合金ばね3
1を用いているので、この部分のワイヤボンディング工
程を簡略化してダイボンドと同時に瞬時に行うことがで
きる。また、昇温時に形状回復して結線した形状記憶合
金ばね31は降温時にもその形状を維持するため、隣合
う形状記憶合金ばね31同士が接触しにくくなる。
【0046】ところで、形状記憶合金ばね31に周囲の
装置類等が触れてしまうと、形状記憶合金ばね31がL
D素子24の上面電極から離脱したり、互いに隣合う形
状記憶合金ばね31同士が接触したりすることがある。
しかしながら、本実施例では、一次結線手段として形状
記憶合金ばね31を用いているので、断線や誤接触があ
っても、半導体装置を再び高温下に置くだけで形状記憶
合金ばね31をいつでも形状回復させることができ、ワ
イヤボンディング作業をやり直していた従来例に比べて
修正作業が容易となる。
【0047】また、多数のLD素子24を含むLDアレ
イチップ21について結線する場合でも、従来例のよう
に、X−Yテーブル等を用いて試料を移動しながらワイ
ヤボンディングを行う必要がなくなり、すべての形状記
憶合金ばね31を昇温時に一度に結線できるので、結線
に要する処理時間が飛躍的に速まり、時間当たりの製造
個数を増大することで大量生産化をさらに促進できる。
【0048】[第2の実施例]図5は本発明の第2の実
施例を示す図である。本実施例は、図5に示した第2の
従来例のような2電極型方式のFDM方式のLDアレイ
装置であって、LDアレイチップ21内の4個のLD素
子24が列状に並置集積化され、該各LD素子24の上
面電極と一次ヒートシンク22の一次個別電極26とを
形状記憶合金ばね31で結線している点は第1の実施例
と同様であるが、各LD素子24が第1電極35および
第2電極36の夫々一対の上面電極を有する点で第1の
実施例と異なる。本実施例における一次ヒートシンク2
2の複数の一次個別電極26は、前記複数のLD素子2
4の並置方向(列方向)に対して直交する帯状領域に一
列に並置される。また、前記二次ヒートシンク23の複
数の二次個別電極28は、前記一次個別電極26の形成
される帯状領域に平行に一列に並置される。また、前記
各LD素子24の上面電極および各一次個別電極26の
配置関係により、形状記憶合金ばね31も、短寸タイプ
のばね37、長寸ダイプのばね38、L字形タイプのば
ね39の3種類のものが適宜使用される。該各ばね37
〜39は第1の実施例と同様の材料を用いて打ち抜き形
成され、夫々対応する一次個別電極26に高融点の半田
を用いて固着される。なお、図5中の41はLDアレイ
チップ21の互いに隣合うLD素子24や、各LD素子
24内で第1電極35と第2電極36を分離する分離溝
である。
【0049】上記構成のLDアレイ装置についても、例
えば第2の従来例で用いていたワイヤに代えて形状記憶
合金ばね31を用いているので、この部分のワイヤボン
ディング工程を簡略化して結線作業をダイボンドと同時
に瞬時に行うことができる。特に、本実施例の如き個々
のLD素子24が複数の上面電極を有するような場合に
は、結線形状が非画一的で多様に渡ることになり、従来
例のようにX−Yテーブルを動作させながらワイヤボン
ディング作業を行うと、動作が極めて複雑となり、多大
な処理時間を要することになるが、本実施例では、従来
例のようにX−Yテーブルを複雑に動作させることも必
要でなくなり、結線作業に要する処理時間を大幅に低減
し得る。その他の作用・効果は第1の実施例と同様であ
る。
【0050】[第3の実施例] <構成>図6は本発明の第3の実施例を示す図である。
本実施例の半導体装置も第2の実施例と同様の2電極型
方式のFDM方式のLDアレイ装置であって、図6中、
21はLDアレイチップ、22は前記LDアレイチップ
21を搭載する一次ヒートシンク、23は前記LDアレ
イチップ21の特性評価時に前記一次ヒートシンク22
を搭載する試料台としての二次ヒートシンク、32は前
記一次ヒートシンク22と前記二次ヒートシンク23の
間の電気的接触をとる二次結線手段としてのボンディン
グワイヤである。
【0051】そして、前記LDアレイチップ21と前記
一次ヒートシンク22の間の上面同士の電気的接触をと
るための前記一次結線手段としては、プリント配線板4
4と、昇温時に該プリント配線板44を前記LDアレイ
チップ21の上面電極側へ押圧する押圧部材としての形
状記憶合金ばね45とから構成する。前記プリント配線
板44は、透光性の絶縁樹脂板46の表面(図6中の下
面)に金蒸着等によるプリント配線パターン47が形成
されたもので、該プリント配線パターン47は、前記L
Dアレイチップ21の上面電極および前記一次ヒートシ
ンク22の一次個別電極26の位置に対応してパターニ
ングされる。そして、該プリント配線パターン47の前
記LDアレイチップ21の上面電極および前記一次ヒー
トシンク22の一次個別電極26に対応する位置には、
高温時にLDアレイチップ21の上面電極に溶融接続す
る接続バンプ48が予め固着されている。前記形状記憶
合金ばね45は特に導電特性が必要ないため、第1の実
施例および第2の実施例と異なりその表面に金メッキを
施す必要はない。該各形状記憶合金ばね45は短冊状に
形成され、前記一次ヒートシンク22の上面の所定の隅
部と前記プリント配線パターン47の所定の端部との間
に架橋されるよう、高融点の半田を用いて固着される。
そして、該各形状記憶合金ばね45は、半田融点等の高
温相(母相)での逆変態による形状回復により前記プリ
ント配線板44を前記LDアレイチップ21および前記
一次ヒートシンク22の上面に押圧する機能を有する。
【0052】<製造方法>上記構成において、まず事前
段階として、接続バンプ48を有するプリント配線板4
4の所定の端部に形状記憶合金ばね45を高融点の半田
を用いて固着しておく。そして、図7の如く、プリント
配線板44に固着された形状記憶合金ばね45の一部
を、一次ヒートシンク22の上面の所定の隅部に固着す
る(ばね取付工程)。この際のばね取り付けは、常温
下、すなわちがマルテンサイトの状態で行い、形状記憶
合金ばね45を可塑変形させて、プリント配線板44を
LDアレイチップ21の取り付け位置から僅かに離間さ
せるよう上方向に反った状態にしておく。そして、図8
の如く、一次ヒートシンク22を二次ヒートシンク23
の二次ダイパッド27の上に低融点の半田33を介在さ
せて載置し(二次載置工程)、さらに一次ヒートシンク
22の一次ダイパッド25の上にLDアレイチップ21
を低融点の半田34を介在させて載置する(一次載置工
程)。しかる後、昇温を行い、二次ヒートシンク23の
二次ダイパッド27上の半田33を溶融するとともに、
一次ヒートシンク22の一次ダイパッド25上の半田3
4を溶融し、各部品21,22をその下層部品22,2
3にダイボンディングする(ダイボンディング工程)。
かかる昇温時には、図9の如く、形状記憶合金ばね45
が形状回復し、前記プリント配線板44の接続バンプ4
8は前記一次ヒートシンク22の一次個別電極26およ
びLDアレイチップ21の上面電極に圧着する。そうす
ると、溶融した接続バンプ48を、一次個別電極26お
よびLDアレイチップ21の上面電極に自動的に圧着で
き、他の機構を用いてプリント配線板44を圧着しなく
ても、部品間の結線を確実に行うことができる。特に、
本実施例のように個々のLD素子ごとに複数の上面電極
を有するような、結線形状が非画一的で多様に渡る場合
に、プリント配線パターン47で一度に結線できるた
め、結線作業に要する処理時間を大幅に低減し得る。そ
の他の作用・効果は第1または第2の実施例と同様であ
る。
【0053】[第4の実施例] <構成>図10は本発明の第4の実施例のLDアレイ装
置を示す図である。本実施例の半導体装置は、各LD素
子について単一の上面電極を有する4ビームLDアレイ
であり、LDアレイチップ21、一次ヒートシンク2
2、試料台としての二次ヒートシンク23、および前記
LDアレイチップ21と前記一次ヒートシンク22の間
の一次結線手段としての形状記憶合金ばね31を有する
点は、第1の実施例と同様であるが、第1の実施例にお
いて一次ヒートシンク22と二次ヒートシンク23の間
の二次結線手段としてボンディングワイヤを用いていた
のに対し、本実施例では、前記二次結線手段を前記一次
結線手段と同様に構成している点が第1の実施例と異な
る。すなわち、前記二次結線手段は、ニチノール(Ti
−Ni)、Cu−Zn−Al、またはIn−Ti等から
なる形状記憶合金ばね片に導電用の金メッキが施された
形状記憶合金ばね49であって、該各形状記憶合金ばね
49は、前記一次ヒートシンク22の各一次個別電極2
6および前記二次ヒートシンク23の各二次個別電極2
8の形成幅より小幅とされ、かつ各一次個別電極26と
これに対応する二次個別電極28の離間寸法より僅かに
長い短冊状に形成される。そして、該各形状記憶合金ば
ね49は、半田融点等の高温相(母相)での逆変態によ
る形状回復により側面視略Ω形に一定の曲率で湾曲する
特性を有せしめられ、これにより半田溶融時(昇温時)
に前記一次ヒートシンク22の各一次個別電極26に着
脱自在に圧着しこれを前記二次ヒートシンク23の二次
ダイパッド27側へ押圧する押圧部材として機能する。
【0054】<製造方法>まず、事前段階として、常
温、すなわち形状記憶合金ばね31,49がマルテンサ
イトの状態で、一次ヒートシンク22の一次個別電極2
6に一次結線用形状記憶合金ばね31を取り付けるとと
もに二次ヒートシンク23の二次個別電極28に二次結
線用形状記憶合金ばね49を取り付ける(ばね取付工
程)。このときの形状記憶合金ばね31,49の形状と
しては、LD素子24の上面電極または一次個別電極2
6から離間する方向、すなわち上方向に反った状態に変
形させておく。次に、一次ヒートシンク22を二次ヒー
トシンク23の二次ダイパッド27の上に半田を介在さ
せて載置し(二次載置工程)、さらに一次ヒートシンク
22の一次ダイパッド25の上にLDアレイチップ21
を半田を介在させて載置する(一次載置工程)。そし
て、半田の融点以上の温度まで昇温し一定時間保持す
る。そうすると、ダイボンディング用の半田は溶融し、
LDアレイチップ21の底面と一次ダイパッド25の
間、さらに一次ヒートシンク22の底面と二次ダイパッ
ド27の間が電気的に接続される(ダイボンディング工
程)。このとき、上方に反って変形していた各形状記憶
合金ばね31,49は、予め記憶していた側面視略Ω形
状に形状回復し、その結果、形状記憶合金ばね31の先
端部が各LD素子24の上面電極に着脱自在に圧着し、
形状記憶合金ばね49の先端部が一次ヒートシンク22
の一次個別電極26に着脱自在に圧着する。そして、形
状記憶合金ばね31の圧着によりLDアレイチップ21
が一次ヒートシンク22の一次ダイパッド25側に押し
つけられ、LDアレイチップ21のダイボンドを確実に
行い得るとともに、形状記憶合金ばね49の圧着により
一次ヒートシンク22が二次ヒートシンク23の二次ダ
イパッド27側に押しつけられ、一次ヒートシンク22
のダイボンドを確実に行い得る。特に、本実施例のよう
に複数のLD素子24を集積したLDアレイ装置の場
合、LD素子24の集積個数を大幅に増やしても、その
個数に拘らず各LD素子24と一次ヒートシンク22の
一次個別電極26とのダイボンディングを瞬時に行うこ
とができ、製造時間を大幅に短縮できる。その後、常温
等の半田凝固点以下まで降温し、一次ヒートシンク22
の各一次個別電極26と二次ヒートシンク23の各二次
個別電極28との間を、二次結線手段としての形状記憶
合金ばね49にて二次結線する。このとき、形状記憶合
金ばね31,49はマルテンサイトの状態となり可塑状
態となるため、昇温時の結線状態を維持している。しか
る後、LDアレイチップ21の各LD素子24をテスタ
ーで特性評価する。特性評価後、LDアレイチップ21
を一次ヒートシンク22ごと二次ヒートシンク23から
取り外して、他のパッケージへ組み換える。このとき、
二次結線手段としての形状記憶合金ばね49は可塑状態
であり、かつ一次ヒートシンク22の一次個別電極26
に対して着脱自在であるため、一次ヒートシンク22と
二次ヒートシンク23の間の電気的接続を容易に絶つこ
とができ、したがって、繰り返し特性評価を行う際の組
み換えが極めて容易になる。その他の効果は第1の実施
例と同様である。
【0055】[第5の実施例] <構成>図11は本発明の第5の実施例のLDアレイ装
置を示す図である。本実施例の半導体装置は、各LD素
子について単一の上面電極を有する4ビームLDアレイ
であり、LDアレイチップ21、一次ヒートシンク2
2、試料台としての二次ヒートシンク23、および前記
一次ヒートシンク22と前記二次ヒートシンク23の間
の二次結線手段としてのボンディングワイヤ32を有す
る点は、第1の実施例と同様であるが、第1の実施例に
おいて前記LDアレイチップ21と前記一次ヒートシン
ク22の一次個別電極26間の一次結線手段として形状
記憶合金ばね31を用いていたのに対し、本実施例で
は、前記一次結線手段として導電特性を有する感温変形
ばね(バイメタル)51を使用している点が第1の実施
例と異なる。該感温変形ばね51は、例えばインバーと
青銅等の熱膨張率の異なる二種の金属の帯状の薄板を溶
接して一枚の板にしたもので、昇温時に前記LDアレイ
チップ21のLD素子24の上面電極から離間する方向
に湾曲しかつ常温時に前記LD素子24の上面電極に圧
着する方向に湾曲する。該感温変形ばね51と前記一次
ヒートシンク22の一次個別電極26との接続は、ダイ
ボンディング用の半田よりも高融点の半田が用いられ
る。また、該感温変形ばね51と前記LD素子24の上
面電極との接続は、半田を用いてもよいし、圧着のみに
よって行ってもよい。その他の構成は第1の実施例と同
様である。
【0056】<製造方法>まず、図12の如く、一次結
線手段としての感温変形ばね51を一次ヒートシンク2
2の前記一次個別電極26に高融点の半田を用いて接続
固定する。このときの感温変形ばね51の先端部は、L
Dアレイチップ21の取り付け位置と重なるため、この
ままでは一次ダイパッド25上にLDアレイチップ21
を載置することができない。そこで、次工程として、感
温変形ばね51の変態点以上に温度を上げてやり、図1
3の如く、感温変形ばね51を感温変形にて上方に反ら
せた状態で、一次ヒートシンク22を二次ヒートシンク
23の二次ダイパッド27の上に半田を介在させて載置
し(二次載置工程)、さらに一次ヒートシンク22の一
次ダイパッド25の上にLDアレイチップ21を半田を
介在させて載置する(一次載置工程)。そして、半田の
融点以上の温度まで昇温し一定時間保持する。そうする
と、ダイボンディング用の半田33,34は溶融し、L
Dアレイチップ21の底面と一次ダイパッド25の間、
さらに一次ヒートシンク22の底面と二次ダイパッド2
7の間が電気的に接続される(ダイボンディング工
程)。このときの感温変形ばね51の先端部は、LDア
レイチップ21のLD素子24の上面電極から僅かに離
間している。その後、常温等の半田凝固点以下まで降温
し、一次ヒートシンク22の各一次個別電極26と二次
ヒートシンク23の各二次個別電極28との間を、二次
結線手段としてのボンディングワイヤ32にて二次結線
する。このとき、感温変形ばね51は、図14の如く、
その溶接された二種の金属薄板の熱膨張率の差によって
LD素子24の上面電極側に湾曲変形しこれを圧着す
る。その結果、感温変形ばね51の先端部が各LD素子
24の上面電極に確実に接続するとともに、各LD素子
24を一次ダイパッド25側に押しつけるため、LDア
レイチップ21の底面と一次ダイパッド25の一次ヒー
トシンク22の間の電気的接触を確実に行い得る。そう
すると、前記一次結線手段による結線と一次ダイパッド
25上でのダイボンディングを同時に処理できる。特
に、本実施例のように複数のLD素子24を集積したL
Dアレイ装置の場合、LD素子24の集積個数を大幅に
増やしても、その個数に拘らず各LD素子24と一次ヒ
ートシンク22の一次個別電極26とのダイボンディン
グを瞬時に行うことができ、製造時間を大幅に短縮でき
る。しかる後、LDアレイチップ21の各LD素子24
をテスターで特性評価する。特性評価後、二次結線手段
としてのボンディングワイヤ32を切断し、LDアレイ
チップ21を一次ヒートシンク22ごと二次ヒートシン
ク23から取り外して、他のパッケージへ組み換える。
【0057】[第6の実施例]第1、第2または第4の
実施例のように、対応する接続点間を形状記憶合金ばね
31,49で結線する場合、先に接続固定しておく側の
接続点、すなわち、昇温時に変形回復する際の支点とな
る接続点への取り付け精度が良ければ、かなりの細かい
接続が可能となるが、各形状記憶合金ばね31,49を
片持ち支持しながら取り付けるため、その精度向上には
限界がある。しかしながら、多くのLD素子24を有す
るLDアレイチップ21について各部品間を結線する場
合は、互いに隣合う形状記憶合金ばね31,49同士の
誤接を防止するため、これらの取り付け精度の向上は必
須条件となる。そこで、本発明の第6の実施例では、図
15の如く、形状記憶合金ばね54を予め耐熱樹脂製等
の絶縁フィルム56に一定の厚さにスパッタ蒸着し、高
温下で形状を記憶させたものを用いている。かかる構成
では、複雑かつ細かい配線を誤接触することなく結線で
き、しかも、第1、第2または第4の実施例等のように
結線作業を容易に行い得る。
【0058】[第7の実施例] <構成>本発明の第7の実施例の半導体装置は、図16
の如く、LDアレイチップ21、一次ヒートシンク2
2、試料台としての二次ヒートシンク23を有し、ま
た、前記LDアレイチップ21と前記一次ヒートシンク
22の間の一次結線手段として、プリント配線板44
と、昇温時に該プリント配線板44を前記LDアレイチ
ップ21の各LD素子24の上面電極側へ押圧する形状
記憶合金ばね45とから構成する点で、第3の実施例と
同様であるが、第3の実施例において一次ヒートシンク
22と二次ヒートシンク23の間の二次結線手段として
ボンディングワイヤを用いていたのに対し、本実施例で
は、前記二次結線手段が一次結線手段と同様の構成を備
える点が第3の実施例と異なる。すなわち、前記二次結
線手段は、プリント配線板44と、昇温時に該プリント
配線板44を前記LDアレイチップ21の各LD素子2
4の上面電極側へ押圧する形状記憶合金ばね45とから
構成される。前記プリント配線板44は、透光性の絶縁
樹脂板46の表面に金蒸着等によるプリント配線パター
ンが形成されたもので、該プリント配線パターンは、前
記一次ヒートシンク22の一次個別電極および前記二次
ヒートシンク23の二次個別電極28の位置に対応して
パターニングされる。そして、該プリント配線パターン
の前記各個別電極,28に対応する位置には接続バンプ
が予め固着されている。ただし、本実施例での接続バン
プは、試料の組み換えを容易にするよう、高温時に前記
一次ヒートシンク22の一次個別電極に完全に溶着しな
いような融点の高いものを用い、圧接だけで電気的接触
をとるようにして、いつでも離脱可能にしておく。
【0059】<製造方法>まず、特性評価用試料台とし
ての二次ヒートシンク23の二次ダイパッド27上に、
一次ヒートシンク22を半田を介在させて載置し(二次
載置工程)、さらに一次ヒートシンク22の一次ダイパ
ッド25の上にLDアレイチップ21を半田を介在させ
て載置する(一次載置工程)。次に、LDアレイチップ
21と一次ヒートシンク22、および一次ヒートシンク
22と二次ヒートシンク23の間の電気的接触をとるた
めに、夫々プリント配線板44を取り付ける。この際、
まず第1のプリント配線板44に固着された形状記憶合
金ばね45の端部を、一次ヒートシンク22の上面の所
定の隅部に固着するとともに、第2のプリント配線板4
4に固着された形状記憶合金ばね45の端部を、二次ヒ
ートシンク23の上面の所定の隅部に固着する(ばね取
付工程)。この際のばね取り付けは、常温下、すなわち
がマルテンサイトの状態で行い、各形状記憶合金ばね4
5を可塑変形させて、各プリント配線板44をLDアレ
イチップ21および一次ヒートシンク22から僅かに離
間させるよう上方向に反った状態にしておく。しかる
後、昇温を行い、二次ヒートシンク23の二次ダイパッ
ド27上の半田を溶融するとともに、一次ヒートシンク
22の一次ダイパッド25上の半田を溶融してかく部品
をその下層部品にダイボンディングする(ダイボンディ
ング工程)。かかるダイボンディング工程の昇温時に
は、形状記憶合金ばね45が形状回復し、前記各プリン
ト配線板44がLDアレイチップ21および一次ヒート
シンク22に押しつけられ、LDアレイチップ21と一
次ヒートシンク22の上面同士の電気的接触、および一
次ヒートシンク22と二次ヒートシンク23の上面同士
の電気的接触が達成されると同時に、各プリント配線板
44により、LDアレイチップ21が一次ヒートシンク
22の一次ダイパッド25側に、また一次ヒートシンク
22が二次ヒートシンク23の二次ダイパッド27側に
夫々押しつけられ、各部品間のダイボンディングを確実
にする。ダイボンディング終了後は降温し、テスターに
て特性評価を行う。そして、特性評価後は、常温下にお
いて各形状記憶合金ばね45を可塑変形させ、二次ヒー
トシンク23に支持されたプリント配線板44を一次ヒ
ートシンク22の上方へ引き離し、LDアレイチップ2
1を一次ヒートシンク22ごと二次ヒートシンク23か
ら取り去る。このように、本実施例では、一次ヒートシ
ンク22と二次ヒートシンク23の間の電気的接続を容
易に絶つことができ、繰り返し特性評価を行う際の組み
換えが極めて容易になる。その他の効果は第3の実施例
と同様である。
【0060】[第8の実施例] <構成>本発明の第8の実施例は、図17の如く、LD
アレイチップ21と一次ヒートシンク22を結線する一
次結線手段と、一次ヒートシンク22と二次ヒートシン
ク23を結線する二次結線手段の両方に、第5の実施例
と同様の感温変形ばね(バイメタル)51,57を使用
したものである。該感温変形ばね(バイメタル)51,
57は、昇温時にLDアレイチップ21のLD素子24
の上面電極または一次ヒートシンク22の一次個別電極
26から離間する方向に湾曲しかつ常温時に前記LD素
子24の上面電極または前記一次個別電極26に圧着す
る方向に湾曲する。その他の構成は、第5の実施例と同
様である。
【0061】<製造方法>まず、事前段階として、一次
結線手段としての感温変形ばね51を一次ヒートシンク
22の前記一次個別電極26に接続固定するとともに、
二次結線手段としての感温変形ばね57を二次ヒートシ
ンク23の二次個別電極28に接続固定する。かかる固
定は高融点の半田を用いて行う。このときの感温変形ば
ね51,57の先端部は、各ダイパッド25,27に比
較的近接しているため、このままでは一次ダイパッド2
5上にLDアレイチップ21を、あるいは二次ダイパッ
ド27上に一次ヒートシンク22を夫々載置することが
できない。そこで、温度を感温変形ばね51,57の変
態点以上に上げてやり、感温変形ばね51,57を上方
に反らせた状態で、一次ヒートシンク22を二次ヒート
シンク23の二次ダイパッド27の上に半田を介在させ
て載置し(二次載置工程)、さらに一次ヒートシンク2
2の一次ダイパッド25の上にLDアレイチップ21を
半田を介在させて載置する(一次載置工程)。そして、
半田の融点以上の温度まで昇温し一定時間保持する。そ
うすると、ダイボンディング用の半田は溶融し、LDア
レイチップ21の底面と一次ダイパッド25の間、さら
に一次ヒートシンク22の底面と二次ダイパッド27の
間が電気的に接続される(ダイボンディング工程)。そ
の後、常温等の半田凝固点以下まで降温する。このと
き、感温変形ばね51,57は、その溶接された二種の
金属薄板の熱膨張率の差によって湾曲変形する。そし
て、感温変形ばね51がLD素子24の上面電極に圧着
すると同時に、感温変形ばね57が一次ヒートシンク2
2の一次個別電極26に圧着し、夫々の電気的接触を達
成する。その後、テスターにて特性評価を行う。そし
て、特性評価後は、再び昇温し、感温変形ばね57を一
次ヒートシンク22の一次個別電極26から離間するよ
う変形した状態で、LDアレイチップ21を一次ヒート
シンク22ごと二次ヒートシンク23から取り去る。こ
のように、本実施例では、一次ヒートシンク22と二次
ヒートシンク23の間の電気的接続を容易に絶つことが
でき、繰り返し特性評価を行う際の組み換えが極めて容
易になる。その他の効果は第5の実施例と同様である。
【0062】[変形例] (1)上記各実施例では、ある特定の温度領域におい
て、形状記憶合金ばねまたは感温変形ばね等を変形させ
ることで結線手段を各接続点に接続していたが、押圧手
段としては単なる金属製の板ばねを用いて押圧し、結線
手段を各接続点に接続しても差し支えない。この場合、
第1の電気部品上に第2の電気部品を載置する際に、押
圧手段としての複数の前記板ばねを、例えば押さえバー
にて同時に上方へ変形させながらその下方に第2の電気
部品を挿入すれば、手間のかかるボンディングワイヤを
用いずに組立工程を自動化できる。 (2)第4、第7および第8の実施例では、一次結線手
段と二次結線手段を同様の部材で構成していたが、一次
結線手段として形状記憶合金ばねを用いた場合に二次結
線手段として押圧部材付きプリント配線板または感温変
形ばねを用いてもよく、あるいは、一次結線手段として
押圧部材付きプリント配線板を用いた場合に二次結線手
段として形状記憶合金ばねのみまたは感温変形ばねを用
いてもよく、さらに、一次結線手段として感温変形ばね
を用いた場合に二次結線手段として押圧部材付きプリン
ト配線板または形状記憶合金ばねのみを用いてもよい。
あるいは、一次結線手段として、従来例と同様のボンデ
ィングワイヤを用い、二次結線手段のみに押圧部材付き
プリント配線板、形状記憶合金ばねのみ、または感温変
形ばねを用いてもよい。 (3)第3および第7の実施例では、プリント配線板の
押圧部材として形状記憶合金ばねを用いていたが、感温
変形ばねを用いてもよい。 (4)上記各実施例では、LDアレイ装置を例に挙げて
説明したが、例えばLEDやフォトダイオード等の他の
半導体アレイチップを有する半導体装置に適用してもよ
い。
【0063】
【発明の効果】本発明請求項1によると、少なくとも特
定の温度域下で、いずれかの接続点に接続固定した結線
手段が他方の接続点を弾性圧着するよう構成しているの
で、結線時に結線手段を特別に加圧しなくても、少なく
とも特定の温度域下で結線手段の弾性力だけで結線を行
うことができる。したがって、従来例のワイヤボンディ
ングに比較すると、熱、超音波振動等を与えながらのワ
イヤ圧着の必要もなく、さらに、X−Yテーブル等にて
試料を移動しながら結線する必要もなくなるため、結線
作業にかかる所要時間を大幅に低減できるという効果が
ある。
【0064】本発明請求項2によると、少なくとも特定
の温度域下で、第1の電気部品の第1の接続点に接続固
定された結線手段が第2の電気部品を第1の電気部品の
ダイパッド側に押圧するよう構成しているので、両電気
部品のダイボンディングにおける電気的接触を強固にで
きるという効果がある。
【0065】本発明請求項3によると、結線手段を第2
の接続点に対して離脱可能としているので、部品の組み
換え等において第1の電気部品と第2の電気部品を分離
させたい場合に、結線手段を第2の接続点から容易に離
脱することができ、分離作業を容易にできるという効果
がある。
【0066】本発明請求項4によると、昇温時に形状記
憶合金ばねを形状回復させて第2の接続点に圧着する構
成としているので、ダイボンディング時等に形状記憶合
金ばねを同時にかつ自動的に結線でき、従来例のワイヤ
ボンディングに比較して結線作業にかかる所要時間を大
幅に低減できる。また、その後に周辺のものに当たり、
断線や隣合う形状記憶合金ばねが誤接触しても、これを
高温下に置くことにより、いつでも形状記憶合金ばねを
形状回復させて第2の接続点に接続できる。さらに、形
状記憶合金ばねの弾性を利用して、第2の電気部品と第
1の電気部品とを強固にダイボンディングできるという
効果がある。
【0067】本発明請求項5によると、結線手段をプリ
ント配線板および押圧部材で構成しているので、接続点
の配置構成が複雑な場合等にプリント配線板で結線する
際、押圧部材にてプリント配線板を各接続点に圧着さ
せ、複雑な配線を、誤接触なくかつ一度に行い得るとい
う効果がある。
【0068】本発明請求項6によると、昇温時に形状記
憶合金ばねにてプリント配線板を第2の接続点側へ押圧
する構成としているので、ダイボンディング時等に第2
の電気部品を第1の電気部品のダイパッド側に押圧で
き、ダイボンディングを確実に行うことができるという
効果がある。
【0069】本発明請求項7によると、プリント配線板
に溶融可能な接続バンプを有せしめているので、ダイボ
ンディング時に形状記憶合金ばねにてプリント配線板を
第2の接続点側へ押圧することで、溶融した接続バンプ
にてプリント配線板と第2の接続点との接続を強固にで
きるという効果がある。
【0070】本発明請求項8によると、昇温時に第2の
接続点から離間していた感温変形ばねを、常温時に第2
の接続点に圧着させるので、ダイボンディング等の昇温
後において感温変形ばねの接続を確実にできる。また、
第2の電気部品を第1の電気部品から離脱するときに
は、昇温するだけで感温変形ばねと第2の接続点とを切
断することができるという効果がある。
【0071】本発明請求項9によると、複数の半導体素
子が並置されてなる半導体アレイチップについて、複数
の結線手段を弾性変形させるだけで同時に結線を行うこ
とができ、結線処理効率を大幅に向上できるという効果
がある。
【0072】本発明請求項10によると、結線手段を第
2の接続点に対して着脱自在に離脱可能としているの
で、単一の特性評価用試料台の上に第2の電気部品を載
せ換えながら、半導体素子の特性評価を繰り返し行う場
合に、第2の電気部品の載せ換えが容易になるという効
果がある。
【0073】本発明請求項11によると、形状記憶合金
ばねの形状回復により、結線を確実に行い得るととも
に、第2の電気部品をダイパッドの方向へ押圧すること
でダイボンディングを確実に行うことができる。そし
て、形状記憶合金ばねの圧着を昇温とともに自動的に行
うことができるので、従来例のワイヤボンディングに比
較して結線作業にかかる所要時間を大幅に低減できる。
また、その後に周辺のものに当たり、断線や隣合う形状
記憶合金ばねが誤接触しても、これを高温下に置くこと
により、いつでも形状記憶合金ばねを形状回復させて第
2の接続点に接続できるという効果がある。
【0074】本発明請求項12によると、複雑な配置の
接続点同士を接続する場合、プリント配線板の接続バン
プを各接続点に接続することで、配線間の誤接触を防止
できる。この場合、形状記憶合金ばねを形状回復させて
プリント配線板の接続バンプを各接続点に圧着させるこ
とで、結線を確実に行い得るとともに、第2の電気部品
をダイパッド側に押圧してダイボンディングを確実に行
うことができるという効果がある。
【0075】本発明請求項13によると、半導体装置を
使用する際等の常温時に、感温変形ばねを第2の接続点
に圧着することで、接続点の接続を確実にできるという
効果がある。
【0076】本発明請求項14によると、特性評価用試
料台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評
価を繰り返し行う場合に、形状記憶合金ばねを可塑変形
させて接続点から容易に離脱でき、半導体試料の載せ換
えが容易になるという効果がある。
【0077】本発明請求項15によると、特性評価用試
料台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評
価を繰り返し行う場合に、形状記憶合金ばねを可塑変形
させてプリント配線板を半導体試料の接続点から容易に
離脱でき、半導体試料の載せ換えが容易になるという効
果がある。
【0078】本発明請求項16によると、特性評価用試
料台の上に半導体試料を載せ換えて半導体素子の特性評
価を繰り返し行う場合に、特性評価用試料台等を高温下
に置くだけで感温変形ばねが自動的に半導体試料の接続
点から離脱するので、半導体試料の載せ換えが容易にな
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の半導体装置を示す斜視
図である。
【図2】本発明の第1の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図3】本発明の第1の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図4】本発明の第1の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図5】本発明の第2の実施例の半導体装置を示す斜視
図である。
【図6】本発明の第3の実施例の半導体装置を示す斜視
図である。
【図7】本発明の第3の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図8】本発明の第3の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図9】本発明の第3の実施例の半導体装置の製造工程
を示す側面図である。
【図10】本発明の第4の実施例の半導体装置を示す斜
視図である。
【図11】本発明の第5の実施例の半導体装置を示す斜
視図である。
【図12】本発明の第5の実施例の半導体装置の製造工
程を示す側面図である。
【図13】本発明の第5の実施例の半導体装置の製造工
程を示す側面図である。
【図14】本発明の第5の実施例の半導体装置の製造工
程を示す側面図である。
【図15】本発明の第6の実施例の半導体装置を示す斜
視図である。
【図16】本発明の第7の実施例の半導体装置を示す斜
視図である。
【図17】本発明の第8の実施例の半導体装置を示す斜
視図である。
【図18】第1の従来例の半導体装置を示す斜視図であ
る。
【図19】第1の従来例の半導体装置を簡略化した説明
図である。
【図20】第2の従来例の半導体装置を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
21 LDアレイチップ 22 一次ヒートシンク 23 二次ヒートシンク 24 LD体素子 25 一次ダイパッド 26 一次個別電極 27 二次ダイパッド 28 二次個別電極 31 形状記憶合金ばね 32 ボンディングワイヤ 44 プリント配線板 45 形状記憶合金ばね 48 接続バンプ 51 感温変形ばね 54 形状記憶合金ばね 56 絶縁フィルム 57 感温変形ばね

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の接続点および第2の接続点を有
    し、該両接続点が結線手段にて結線される半導体装置に
    おいて、 前記結線手段は、前記第1の接続点および前記第2の接
    続点のいずれか一方の接続点に接続固定され、かつ少な
    くとも特定の温度域下で他方の接続点に対して圧着する
    方向に弾性を有せしめられたことを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 ダイパッドおよび第1の接続点を有する
    第1の電気部品と、 上面に第2の接続点を有し前記第1の電気部品の前記ダ
    イパッド上にダイボンディングされる第2の電気部品
    と、 前記第1の接続点と前記第2の接続点とを結線する結線
    手段とを備える半導体装置において、 前記結線手段は、前記第1の電気部品の前記第1の接続
    点に接続固定され、かつ少なくとも特定の温度域下で前
    記第2の電気部品を前記第2の接続点から前記第1の電
    気部品の前記ダイパッド側に押圧する方向に弾性を有せ
    しめられたことを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記結線手段は、前記第2の接続点に対
    して着脱自在に離脱可能とされた、請求項1または請求
    項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記結線手段は、昇温時に形状回復して
    前記第2の接続点に圧着する形状記憶合金ばねを含む、
    請求項2記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記結線手段は、 プリント配線板と、 該プリント配線板を前記第2の接続点側へ押圧する押圧
    部材とを備える、請求項2記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記押圧部材は、昇温時に前記プリント
    配線板を前記第2の接続点側へ押圧する形状記憶合金ば
    ねを含む、請求項5記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記プリント配線板は、高温時に前記第
    2の接続点に溶融接続する接続バンプを有する、請求項
    6記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記結線手段は、昇温時に前記第2の接
    続点から離間する方向に変形しかつ常温時に前記第2の
    接続点に圧着する感温変形ばねを含む、請求項2記載の
    半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記第1の電気部品は複数の半導体素子
    が並置されてなる半導体アレイチップであり、前記第1
    の接続点は前記各半導体素子の各上面電極であり、前記
    第2の接続点は、前記半導体素子の上面電極と同数個設
    けられた、請求項2記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記第1の電気部品は半導体素子を含
    み、前記第2の電気部品は前記半導体素子の特性評価用
    試料台を含み、前記結線手段は、前記第2の接続点に対
    して着脱自在に離脱可能とされた、請求項3記載の半導
    体装置。
  11. 【請求項11】 第1の電気部品の第1の接続点に導電
    特性を有する結線用形状記憶合金ばねを接続固定するば
    ね取付工程と、 前記第1の電気部品のダイパッド上に、第2の電気部品
    を半田を介して載置する載置工程と、 昇温により前記半田を溶融して前記第2の電気部品を前
    記第1の電気部品の前記ダイパッド上にダイボンディン
    グするダイボンディング工程とを備え、 前記ダイボンディング工程の昇温時に、前記形状記憶合
    金ばねを形状回復させて前記第2の電気部品の上面の第
    2の接続点に圧接させ、同時に、前記第2の電気部品を
    前記第1の電気部品の前記ダイパッド側に押圧する半導
    体装置の製造方法。
  12. 【請求項12】 溶融可能な接続バンプを有するプリン
    ト配線板を形状記憶合金ばねを介して第1の電気部品に
    取り付けるばね取付工程と、 前記第1の電気部品のダイパッド上に、第2の電気部品
    を半田を介して載置する載置工程と、 昇温により前記半田を溶融して前記第2の電気部品を前
    記第1の電気部品の前記ダイパッド上にダイボンディン
    グするダイボンディング工程とを備え、 前記ダイボンディング工程の昇温時に、前記形状記憶合
    金ばねを形状回復させて前記プリント配線板の接続バン
    プを前記第1の電気部品の第1の接続点および前記第2
    の電気部品の第2の接続点に圧着させ、同時に、前記第
    2の電気部品を前記第1の電気部品のダイパッド側に押
    圧する半導体装置の製造方法。
  13. 【請求項13】 導電特性を有する感温変形ばねを第1
    の電気部品の個別電極に接続固定するばね取付工程と、 前記第1の電気部品のダイパッド上に、第2の電気部品
    を半田を介して載置する載置工程と、 昇温により前記半田を溶融して前記第2の電気部品を前
    記第1の電気部品のダイパッド上にダイボンディングす
    るダイボンディング工程と、 降温により前記半田を凝固させる凝固工程とを備え、 前記凝固工程において、前記感温変形ばねを感温変形さ
    せ前記第2の電気部品の上面の第2の接続点に圧着させ
    る半導体装置の製造方法。
  14. 【請求項14】 結線用形状記憶合金ばねが取り付けら
    れた特性評価用試料台のダイパッド上に、半導体試料を
    半田を介して載置する載置工程と、 昇温により前記半田を溶融して前記半導体試料を前記特
    性評価用試料台の前記ダイパッド上にダイボンディング
    するダイボンディング工程とを備え、 前記ダイボンディング工程の昇温時に、前記形状記憶合
    金ばねを形状回復させ前記半導体試料の接続点に着脱自
    在に圧接させ、同時に、前記半導体試料を前記特性評価
    用試料台の前記ダイパッド側に押圧する半導体装置の製
    造方法。
  15. 【請求項15】 結線用プリント配線板が形状記憶合金
    ばねを介して取り付けられた特性評価用試料台のダイパ
    ッド上に、半導体素子を含む半導体試料を半田を介して
    載置する載置工程と、 昇温により前記半田を溶融して前記半導体試料を前記特
    性評価用試料台の前記ダイパッド上にダイボンディング
    するダイボンディング工程とを備え、 前記ダイボンディング工程の昇温時に、前記形状記憶合
    金ばねを形状回復させて前記プリント配線板を前記半導
    体試料の接続点に着脱自在に圧着させ、同時に、前記半
    導体試料を前記特性評価用試料台の前記ダイパッド側に
    押圧する半導体装置の製造方法。
  16. 【請求項16】 導電特性を有する感温変形ばねが取り
    付けられた特性評価用試料台のダイパッド上に、半導体
    素子を含む半導体試料を半田を介して載置する載置工程
    と、 昇温により前記半田を溶融して前記半導体試料を前記特
    性評価用試料台のダイパッド上にダイボンディングする
    ダイボンディング工程と、 降温により前記半田を凝固させる凝固工程とを備え、 前記凝固工程において、前記感温変形ばねを感温変形さ
    せ前記半導体試料の接続点に着脱自在に圧接させる半導
    体装置の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH09148701A (ja) * 1995-11-21 1997-06-06 Nec Corp 形状記憶接続リボン
CN118507518A (zh) * 2024-06-21 2024-08-16 北京怀柔实验室 门极连接元件、组件、晶闸管、半导体器件、电力设备

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JPH09148701A (ja) * 1995-11-21 1997-06-06 Nec Corp 形状記憶接続リボン
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