JPH07135155A - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置Info
- Publication number
- JPH07135155A JPH07135155A JP5174912A JP17491293A JPH07135155A JP H07135155 A JPH07135155 A JP H07135155A JP 5174912 A JP5174912 A JP 5174912A JP 17491293 A JP17491293 A JP 17491293A JP H07135155 A JPH07135155 A JP H07135155A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- coordinate system
- dimensional coordinate
- change amount
- orthogonality
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ステージ装置において、実際のステ
ージの使用時にステージの２次元座標系の変化を有効に
検出する。 【構成】ステージ１１上に基準マーク１４を配置し、こ
の基準マーク１４を第１の２次元座標系の変化量が補正
された第２の２次元座標系上で所定の位置関係で配置さ
れた少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１２Ｃで
検出し、座標変化量測定手段で基準マーク１４検出時の
位置測定手段１３Ｘ、１３Ｙの測定結果と、マーク検出
手段１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、第
１の２次元座標系と第２の２次元座標系との変化量α、
βを求めるようにしたことにより、変化量α、βと予め
設定された補正値との関係を必要に応じて検出し得る。
ージの使用時にステージの２次元座標系の変化を有効に
検出する。 【構成】ステージ１１上に基準マーク１４を配置し、こ
の基準マーク１４を第１の２次元座標系の変化量が補正
された第２の２次元座標系上で所定の位置関係で配置さ
れた少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１２Ｃで
検出し、座標変化量測定手段で基準マーク１４検出時の
位置測定手段１３Ｘ、１３Ｙの測定結果と、マーク検出
手段１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、第
１の２次元座標系と第２の２次元座標系との変化量α、
βを求めるようにしたことにより、変化量α、βと予め
設定された補正値との関係を必要に応じて検出し得る。
Description
【０００１】
以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術（図５及び図６） 発明が解決しようとする課題（図５及び図６） 課題を解決するための手段（図１） 作用（図１） 実施例（図１〜図４） 発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明はステージ装置に関し、例
えば半導体製造用若しくは液晶デイスプレイ製造用露光
装置におけるＸＹステージに適用して好適なものであ
る。
えば半導体製造用若しくは液晶デイスプレイ製造用露光
装置におけるＸＹステージに適用して好適なものであ
る。
【０００３】
【従来の技術】従来、露光装置におけるＸＹステージの
位置決めは、ＸＹステージに２つの平面鏡を互いに直角
をなすように固定し、これら２つの平面鏡にそれぞれ光
束を照射し、この光束の反射光に基づいて平面鏡までの
距離を測定することにより位置決めを行うようになされ
ている。この場合２つの平面鏡の取り付け誤差などの原
因によつて２つの平面鏡によつて決められるＸＹステー
ジの直交座標系のＸ軸とＹ軸が完全に直交していないこ
とがある。このような状態になると、レチクル上のパタ
ーンをＸＹステージ上に置かれた基板に露光する際、本
来の位置からずれて露光されてしまう。
位置決めは、ＸＹステージに２つの平面鏡を互いに直角
をなすように固定し、これら２つの平面鏡にそれぞれ光
束を照射し、この光束の反射光に基づいて平面鏡までの
距離を測定することにより位置決めを行うようになされ
ている。この場合２つの平面鏡の取り付け誤差などの原
因によつて２つの平面鏡によつて決められるＸＹステー
ジの直交座標系のＸ軸とＹ軸が完全に直交していないこ
とがある。このような状態になると、レチクル上のパタ
ーンをＸＹステージ上に置かれた基板に露光する際、本
来の位置からずれて露光されてしまう。
【０００４】このようなＸＹステージの位置決め誤差を
補正するため、従来は、図５の露光手順ＳＰ１に示すよ
うに、まずテスト露光を行つてＸＹステージの座標系の
直交度を測定し（ステツプＳＰ１）、この結果得られる
直交度を補正値として設定し（ステツプＳＰ２）、露光
動作を行うようになされていた（ステツプＳＰ３）。実
際上このテスト露光では、図６に示すように、ＸＹステ
ージ１上に置かれた基板２にＸＹステージ１のＸ軸、Ｙ
軸に平行に数シヨツト露光して、この基板２を現像した
後１度目の露光より90°回転させてＸＹステージ１上に
置く。
補正するため、従来は、図５の露光手順ＳＰ１に示すよ
うに、まずテスト露光を行つてＸＹステージの座標系の
直交度を測定し（ステツプＳＰ１）、この結果得られる
直交度を補正値として設定し（ステツプＳＰ２）、露光
動作を行うようになされていた（ステツプＳＰ３）。実
際上このテスト露光では、図６に示すように、ＸＹステ
ージ１上に置かれた基板２にＸＹステージ１のＸ軸、Ｙ
軸に平行に数シヨツト露光して、この基板２を現像した
後１度目の露光より90°回転させてＸＹステージ１上に
置く。
【０００５】続いて１度目の露光時に露光したシヨツト
の内の１つのＸ方向位置決め用マーク及び２つのＹ方向
位置決め用マークを用いて、基板２をＸ方向、Ｙ方向及
び回転（θ）方向について位置合わせした後、１度目の
露光と同じシヨツト位置に露光し、この基板２を現像す
る。
の内の１つのＸ方向位置決め用マーク及び２つのＹ方向
位置決め用マークを用いて、基板２をＸ方向、Ｙ方向及
び回転（θ）方向について位置合わせした後、１度目の
露光と同じシヨツト位置に露光し、この基板２を現像す
る。
【０００６】この後、１度目（図中破線で示す）と２度
目（図中実線で示す）の露光のシヨツト内のＸ方向のバ
ーニアを読み取ることによつて、間隔Ｌの１度目と２度
目の露光のシヨツト位置のＸ方向のずれ量ＸA 、ＸB を
求めるようになされ、このずれ量ＸA 、ＸB を用いた次
式
目（図中実線で示す）の露光のシヨツト内のＸ方向のバ
ーニアを読み取ることによつて、間隔Ｌの１度目と２度
目の露光のシヨツト位置のＸ方向のずれ量ＸA 、ＸB を
求めるようになされ、このずれ量ＸA 、ＸB を用いた次
式
【数１】 によつてＸ軸に対するＹ軸の直交度αを近似的に求め、
この直交度αを補正値として露光動作を行うようになさ
れている。尚、ずれ量ＸA 、ＸB は、１度目のシヨツト
位置に対し、２度目のシヨツト位置が−Ｘ方向にずれて
いる場合を正とする。また直交度αは反時計回りの方向
を正とする。
この直交度αを補正値として露光動作を行うようになさ
れている。尚、ずれ量ＸA 、ＸB は、１度目のシヨツト
位置に対し、２度目のシヨツト位置が−Ｘ方向にずれて
いる場合を正とする。また直交度αは反時計回りの方向
を正とする。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところがこのようにテ
スト露光によつて予め直交度αを測定し、この測定結果
に基づいて補正値を設定する方法では、補正値自体を決
定した後に温度変化やメンテナンス時の衝撃等何らかの
原因でＸＹステージ１の座標系の直交度が変化した場合
に対応できないという問題点があつた。
スト露光によつて予め直交度αを測定し、この測定結果
に基づいて補正値を設定する方法では、補正値自体を決
定した後に温度変化やメンテナンス時の衝撃等何らかの
原因でＸＹステージ１の座標系の直交度が変化した場合
に対応できないという問題点があつた。
【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、実際のステージの使用時にステージの直交座標系の
変化を有効に検出し得るステージ装置を提案しようとす
るものである。
で、実際のステージの使用時にステージの直交座標系の
変化を有効に検出し得るステージ装置を提案しようとす
るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、平面内を２次元移動可能なステー
ジ１１と、平面内の第１の２次元座標系でステージ１１
の位置を測定する位置測定手段１３Ｘ、１３Ｙ、１５
Ｘ、１５Ｙとを有し、第１の２次元座標系の変化量を所
定の補正値で補正して使用するステージ装置において、
ステージ１１上に配置された基準マーク１４と、第１の
２次元座標系の変化量が補正された第２の２次元座標系
に所定の位置関係で配置されると共に、基準マーク１４
を検出する少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１
２Ｃと、基準マーク１４がマーク検出手段１２Ａ〜１２
Ｃのそれぞれによつて検出された際の、位置測定手段１
３Ｘ、１３Ｙ、１５Ｘ、１５Ｙの測定結果と、マーク検
出手段１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、
第１の２次元座標系の第２の２次元座標系に対する変化
量α、βを求める座標変化量測定手段とを設けるように
した。
め本発明においては、平面内を２次元移動可能なステー
ジ１１と、平面内の第１の２次元座標系でステージ１１
の位置を測定する位置測定手段１３Ｘ、１３Ｙ、１５
Ｘ、１５Ｙとを有し、第１の２次元座標系の変化量を所
定の補正値で補正して使用するステージ装置において、
ステージ１１上に配置された基準マーク１４と、第１の
２次元座標系の変化量が補正された第２の２次元座標系
に所定の位置関係で配置されると共に、基準マーク１４
を検出する少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１
２Ｃと、基準マーク１４がマーク検出手段１２Ａ〜１２
Ｃのそれぞれによつて検出された際の、位置測定手段１
３Ｘ、１３Ｙ、１５Ｘ、１５Ｙの測定結果と、マーク検
出手段１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、
第１の２次元座標系の第２の２次元座標系に対する変化
量α、βを求める座標変化量測定手段とを設けるように
した。
【００１０】また本発明においては、座標変化量測定手
段によつて測定される第１の２次元座標の変化量α、β
と、予め設定された補正値との差が所定値を超える場合
に、オペレータに報知する報知手段を設けるようにし
た。
段によつて測定される第１の２次元座標の変化量α、β
と、予め設定された補正値との差が所定値を超える場合
に、オペレータに報知する報知手段を設けるようにし
た。
【００１１】また本発明においては、座標変化量測定手
段によつて測定される第１の２次元座標の変化量α、β
と、予め設定された補正値との差が所定値を超える場合
に、変化量を補正値として用いるようにした。
段によつて測定される第１の２次元座標の変化量α、β
と、予め設定された補正値との差が所定値を超える場合
に、変化量を補正値として用いるようにした。
【００１２】また本発明において、座標変化量測定手段
は、第１の２次元座標系の第２の２次元座標系に対する
変化量として、ステージの直交度α、ステージの回転ず
れ量β、ステージの伸縮及び又はステージの原点のシフ
トを測定するようにした。
は、第１の２次元座標系の第２の２次元座標系に対する
変化量として、ステージの直交度α、ステージの回転ず
れ量β、ステージの伸縮及び又はステージの原点のシフ
トを測定するようにした。
【００１３】
【作用】ステージ１１上に基準マーク１４を配置し、こ
の基準マーク１４を第１の２次元座標系の変化量が補正
された第２の２次元座標系上に所定の位置関係で配置さ
れた少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１２Ｃで
検出し、座標変化量測定手段で基準マーク検出時の位置
測定手段１３Ｘ、１３Ｙの測定結果と、マーク検出手段
１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、第１の
２次元座標系の第２の２次元座標系に対する変化量α、
βを求めるようにしたことにより、ステージ１１の使用
時にステージ１１の直交座標系の変化量α、βと予め設
定された補正値との関係を必要に応じて測定し得る。
の基準マーク１４を第１の２次元座標系の変化量が補正
された第２の２次元座標系上に所定の位置関係で配置さ
れた少なくとも３個のマーク検出手段１２Ａ〜１２Ｃで
検出し、座標変化量測定手段で基準マーク検出時の位置
測定手段１３Ｘ、１３Ｙの測定結果と、マーク検出手段
１２Ａ〜１２Ｃの所定の位置関係とに基づいて、第１の
２次元座標系の第２の２次元座標系に対する変化量α、
βを求めるようにしたことにより、ステージ１１の使用
時にステージ１１の直交座標系の変化量α、βと予め設
定された補正値との関係を必要に応じて測定し得る。
【００１４】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１５】図１において１０は全体として本発明によ
るステージ装置を適用した露光装置を示し、露光用の基
板が載置されるＸＹステージ１１と理想的な直交座標系
に配置された３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃを有して構成されている。３つのＸＹ位置検
出センサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃのうち、第１及び第２
の位置検出センサ１２Ａ及び１２Ｂ間は間隔Ａ、第１及
び第３の位置検出センサ１２Ａ及び１２Ｃ間は間隔Ｂに
選定され、それぞれ３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜
１２Ｃが一直線上に重ならないように配置されている。
るステージ装置を適用した露光装置を示し、露光用の基
板が載置されるＸＹステージ１１と理想的な直交座標系
に配置された３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃを有して構成されている。３つのＸＹ位置検
出センサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃのうち、第１及び第２
の位置検出センサ１２Ａ及び１２Ｂ間は間隔Ａ、第１及
び第３の位置検出センサ１２Ａ及び１２Ｃ間は間隔Ｂに
選定され、それぞれ３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜
１２Ｃが一直線上に重ならないように配置されている。
【００１６】またＸＹステージ１１上には、レーザ干渉
計１５Ｘ、１５Ｙを用いて位置決めを行なうための２つ
の平面鏡１３Ｘ及び１３Ｙが互いに直角に固定されると
共に、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃによ
つて検出される例えば格子状の基準マーク１４が形成さ
れている。尚、ＸＹステージは、平面鏡１３Ｘ、１３Ｙ
及びレーザ干渉計１５Ｘ、１５ＹによつてＸＹ座標系
（第１の２次元座標系）内での位置を検出されながら移
動する。
計１５Ｘ、１５Ｙを用いて位置決めを行なうための２つ
の平面鏡１３Ｘ及び１３Ｙが互いに直角に固定されると
共に、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃによ
つて検出される例えば格子状の基準マーク１４が形成さ
れている。尚、ＸＹステージは、平面鏡１３Ｘ、１３Ｙ
及びレーザ干渉計１５Ｘ、１５ＹによつてＸＹ座標系
（第１の２次元座標系）内での位置を検出されながら移
動する。
【００１７】このＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２Ｂ、
１２Ｃは、予めテスト露光によつて求めた直交度を補正
した２次元座標系（第２の２次元座標系であり、後術の
Ｘ′Ｙ′座標系）に基づいて配置されており、レーザ光
を垂直下方向に射出すると共に基準マーク１４による回
折光をデイテクタで検出するようになされている。これ
によりＸＹステージ１１を移動させて基準マーク１４を
レーザ光に対して走査させ、デイテクタ出力のピークに
よつて基準マーク１４がセンサの真下に存在することを
検出するようになされている。
１２Ｃは、予めテスト露光によつて求めた直交度を補正
した２次元座標系（第２の２次元座標系であり、後術の
Ｘ′Ｙ′座標系）に基づいて配置されており、レーザ光
を垂直下方向に射出すると共に基準マーク１４による回
折光をデイテクタで検出するようになされている。これ
によりＸＹステージ１１を移動させて基準マーク１４を
レーザ光に対して走査させ、デイテクタ出力のピークに
よつて基準マーク１４がセンサの真下に存在することを
検出するようになされている。
【００１８】この実施例の場合、基準マーク１４が真下
に存在するときの、レーザ干渉計１５Ｘ、１５Ｙより得
られるＸＹ座標値と、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃの位置に応じたＸＹ座標値を比較することに
より、ＸＹステージ１１の直交度や回転ずれ量を測定し
得るようになされている。
に存在するときの、レーザ干渉計１５Ｘ、１５Ｙより得
られるＸＹ座標値と、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃの位置に応じたＸＹ座標値を比較することに
より、ＸＹステージ１１の直交度や回転ずれ量を測定し
得るようになされている。
【００１９】すなわち図２及び図３に示すように、ＸＹ
ステージ１１の座標系の直交度や回転ずれ量を測定する
際、ＸＹステージ１１上の２つの平面鏡１３Ｘ、１３Ｙ
によつて決定される、ＸＹ直交座標系のＸ軸に対するＹ
軸の直交度をαとし、Ｘ軸及びＹ軸の回転ずれ量をβと
する。直交度α及び回転ずれ量βは、反時計回り方向を
正とする。また３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃによつて直交度０の理想的なＸ′Ｙ′直交座
標系が決定されている。
ステージ１１の座標系の直交度や回転ずれ量を測定する
際、ＸＹステージ１１上の２つの平面鏡１３Ｘ、１３Ｙ
によつて決定される、ＸＹ直交座標系のＸ軸に対するＹ
軸の直交度をαとし、Ｘ軸及びＹ軸の回転ずれ量をβと
する。直交度α及び回転ずれ量βは、反時計回り方向を
正とする。また３つのＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃによつて直交度０の理想的なＸ′Ｙ′直交座
標系が決定されている。
【００２０】ＸＹ直交座標系の直交度αを求めるため、
まずＸＹステージ１１を移動させて基準マーク１４をＸ
Ｙ位置検出センサ１２Ａの検出範囲内の点Ｐ１（ｘ１、
ｙ１）に移動し、ＸＹ位置検出センサ１２ＡでＸ′Ｙ′
直交座標系における点Ｐ１の位置を測定する。
まずＸＹステージ１１を移動させて基準マーク１４をＸ
Ｙ位置検出センサ１２Ａの検出範囲内の点Ｐ１（ｘ１、
ｙ１）に移動し、ＸＹ位置検出センサ１２ＡでＸ′Ｙ′
直交座標系における点Ｐ１の位置を測定する。
【００２１】次にＸＹステージ１１を移動させて、基準
マーク１４を＋Ｘ方向にＸＹ位置検出センサ１２Ａ及び
１２Ｂの間隔Ａだけ動かし、ＸＹ位置検出センサ１２Ｂ
の検出範囲内の点Ｐ２（ｘ２、ｙ１）に置き、ＸＹ位置
検出センサ１２ＢでＸ′Ｙ′直交座標系における点Ｐ２
の位置を測定する。
マーク１４を＋Ｘ方向にＸＹ位置検出センサ１２Ａ及び
１２Ｂの間隔Ａだけ動かし、ＸＹ位置検出センサ１２Ｂ
の検出範囲内の点Ｐ２（ｘ２、ｙ１）に置き、ＸＹ位置
検出センサ１２ＢでＸ′Ｙ′直交座標系における点Ｐ２
の位置を測定する。
【００２２】続いてＸＹステージ１１を移動させて、基
準マーク１４を点Ｐ１の位置に戻し、今度は＋Ｙ方向に
ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２Ｃの間隔Ｂだけ動か
し、ＸＹ位置検出センサ１２Ｃの検出範囲内の点Ｐ３
（ｘ１、ｙ２）に置き、ＸＹ位置検出センサ１２Ｃで
Ｘ′Ｙ′直交座標系における点Ｐ３の位置を測定する。
準マーク１４を点Ｐ１の位置に戻し、今度は＋Ｙ方向に
ＸＹ位置検出センサ１２Ａ、１２Ｃの間隔Ｂだけ動か
し、ＸＹ位置検出センサ１２Ｃの検出範囲内の点Ｐ３
（ｘ１、ｙ２）に置き、ＸＹ位置検出センサ１２Ｃで
Ｘ′Ｙ′直交座標系における点Ｐ３の位置を測定する。
【００２３】この時基準マーク１４を点Ｐ１からＰ２に
移動した際のＹ′方向の変位をΔＹ、基準マーク１４を
点Ｐ１から点Ｐ３に移動した際のＸ′方向の変位をΔＸ
とすると、ＸＹステージ１１の座標系の直交度αは次式
移動した際のＹ′方向の変位をΔＹ、基準マーク１４を
点Ｐ１から点Ｐ３に移動した際のＸ′方向の変位をΔＸ
とすると、ＸＹステージ１１の座標系の直交度αは次式
【数２】 で近似的に表わされる。
【００２４】すなわちＸＹステージ１１の直交座標系
が、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜１２Ｃの理想的な直交
座標系に対して、直交度αのみを有する場合には、図２
に示すような位置関係になり、直交度αは次式
が、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜１２Ｃの理想的な直交
座標系に対して、直交度αのみを有する場合には、図２
に示すような位置関係になり、直交度αは次式
【数３】 で近似的に表され、またＸＹステージ１１の直交座標系
が、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜１２Ｃの理想的な直交
座標系に対して、回転ずれ量βのみを有する場合には、
図３に示すような位置関係になり、回転ずれ量βは次式
が、ＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜１２Ｃの理想的な直交
座標系に対して、回転ずれ量βのみを有する場合には、
図３に示すような位置関係になり、回転ずれ量βは次式
【数４】 で近似的に表され、このようにしてＸＹステージ１１の
直交座標系の直交度αや回転ずれ量βを求める。
直交座標系の直交度αや回転ずれ量βを求める。
【００２５】実際上この実施例の露光装置の場合、図４
に示すような露光手順ＳＰ１０によつて、露光するよう
になされ、まず従来について上述したテスト露光によつ
てＸＹステージ１１の直交座標系の直交度を測定し（ス
テツプＳＰ１０）、その値を補正値として設定する（ス
テツプＳＰ１１）。続いて露光前に、ＸＹ位置検出セン
サ１２Ａ〜１２Ｃを用いて直交度を測定し（ステツプＳ
Ｐ１２）、この結果得られる直交度αの値と補正値との
差が許容値を超えない場合は（ステツプＳＰ１３）、そ
のまま露光処理を行う（ステツプＳＰ１４）。
に示すような露光手順ＳＰ１０によつて、露光するよう
になされ、まず従来について上述したテスト露光によつ
てＸＹステージ１１の直交座標系の直交度を測定し（ス
テツプＳＰ１０）、その値を補正値として設定する（ス
テツプＳＰ１１）。続いて露光前に、ＸＹ位置検出セン
サ１２Ａ〜１２Ｃを用いて直交度を測定し（ステツプＳ
Ｐ１２）、この結果得られる直交度αの値と補正値との
差が許容値を超えない場合は（ステツプＳＰ１３）、そ
のまま露光処理を行う（ステツプＳＰ１４）。
【００２６】一方ＸＹ位置検出センサ１２Ａ〜１２Ｃを
用いて得られる直交度αの値と補正値との差が許容値を
超える場合は（ステツプＳＰ１３）、ステージ１１を備
える露光装置等に備えられている例えばＣＲＴ（図示せ
ず）上に警告のメツセージを表示する（ステツプＳＰ１
５）と共に、求めた直交度αを新たな補正値として再設
定し（ステツプＳＰ１６）、露光を行なう（ステツプＳ
Ｐ１４）。
用いて得られる直交度αの値と補正値との差が許容値を
超える場合は（ステツプＳＰ１３）、ステージ１１を備
える露光装置等に備えられている例えばＣＲＴ（図示せ
ず）上に警告のメツセージを表示する（ステツプＳＰ１
５）と共に、求めた直交度αを新たな補正値として再設
定し（ステツプＳＰ１６）、露光を行なう（ステツプＳ
Ｐ１４）。
【００２７】以上の構成によれば、露光前にＸＹステー
ジ１１上に固定された基準マーク１４の位置を、理想的
な直交座標系に配置された３つのＸＹ位置検出センサ１
２Ａ〜１２Ｃで測定してＸＹステージ１１の直交度αを
求め、この値αが予め設定した補正値と異なる場合、警
告を発すると共に、求めた直交度αを新しく補正値とし
て設定するようにしたことにより、何らかの原因でテス
ト露光によつて補正値を設定した後に直交度が大きく変
化した場合でも正常に露光動作し得る露光装置を実現で
きる。
ジ１１上に固定された基準マーク１４の位置を、理想的
な直交座標系に配置された３つのＸＹ位置検出センサ１
２Ａ〜１２Ｃで測定してＸＹステージ１１の直交度αを
求め、この値αが予め設定した補正値と異なる場合、警
告を発すると共に、求めた直交度αを新しく補正値とし
て設定するようにしたことにより、何らかの原因でテス
ト露光によつて補正値を設定した後に直交度が大きく変
化した場合でも正常に露光動作し得る露光装置を実現で
きる。
【００２８】なお上述の実施例においては、ＸＹ位置検
出センサの数を３つに選定した場合について述べたが、
センサの数はこれに限らず、所定の直交座標系中で少な
くとも３個のセンサが同一直線上に配置されないように
すれば、３個以上のＸＹ位置検出センサを用いるように
しても良く、このようにすれば、検出精度を一段と向上
し得る。
出センサの数を３つに選定した場合について述べたが、
センサの数はこれに限らず、所定の直交座標系中で少な
くとも３個のセンサが同一直線上に配置されないように
すれば、３個以上のＸＹ位置検出センサを用いるように
しても良く、このようにすれば、検出精度を一段と向上
し得る。
【００２９】また上述の実施例においては、ＸＹ位置検
出センサとして、レーザ光をＸＹステージ上に形成され
た格子状のマークに照射し、その回折光を受光して位置
を検出するものを用いたが、ＸＹ位置検出センサはこれ
に限らず、例えばＸＹステージ上の直線上等のマークを
ＣＣＤカメラで撮像し、画像処理によつて位置を検出す
るＸＹ位置検出センサを用いても、上述の実施例と同様
の効果を実現できる。
出センサとして、レーザ光をＸＹステージ上に形成され
た格子状のマークに照射し、その回折光を受光して位置
を検出するものを用いたが、ＸＹ位置検出センサはこれ
に限らず、例えばＸＹステージ上の直線上等のマークを
ＣＣＤカメラで撮像し、画像処理によつて位置を検出す
るＸＹ位置検出センサを用いても、上述の実施例と同様
の効果を実現できる。
【００３０】また上述の実施例においては、ＸＹ位置検
出センサを用いて測定した直交度が、予めテスト露光に
よつて設定された補正値に対して異なる場合に、露光装
置のＣＲＴ上に警告メツセージを表示したが、警告の表
示はこれに限らず、例えばアラームを鳴らしたり、警告
灯を点灯するようにしても良く、要はオペレータに報知
できれば上述の実施例と同様の効果を実現できる。
出センサを用いて測定した直交度が、予めテスト露光に
よつて設定された補正値に対して異なる場合に、露光装
置のＣＲＴ上に警告メツセージを表示したが、警告の表
示はこれに限らず、例えばアラームを鳴らしたり、警告
灯を点灯するようにしても良く、要はオペレータに報知
できれば上述の実施例と同様の効果を実現できる。
【００３１】また上述の実施例においては、ＸＹ位置検
出センサを用いてＸＹステージの直交座標系の直交度や
回転ずれ量を検出する場合について述べたが、本発明は
これに加えて、ＸＹステージの距離の伸縮や原点のシフ
ト等の種々の変化を検出する場合に広く適用し得、この
場合も上述の実施例と同様の効果を実現できる。
出センサを用いてＸＹステージの直交座標系の直交度や
回転ずれ量を検出する場合について述べたが、本発明は
これに加えて、ＸＹステージの距離の伸縮や原点のシフ
ト等の種々の変化を検出する場合に広く適用し得、この
場合も上述の実施例と同様の効果を実現できる。
【００３２】さらに上述の実施例においては、本発明に
よるステージ装置を半導体製造用の露光装置におけるＸ
Ｙステージに適用したが、本発明はこれに限らず、ＮＣ
ミーリングマシン等の精密工作機器におけるステージ装
置にも、直交度は回転ずれ等のステージ装置自体の直交
座標系の変化を検出する場合に広く適用して好適なもの
である。
よるステージ装置を半導体製造用の露光装置におけるＸ
Ｙステージに適用したが、本発明はこれに限らず、ＮＣ
ミーリングマシン等の精密工作機器におけるステージ装
置にも、直交度は回転ずれ等のステージ装置自体の直交
座標系の変化を検出する場合に広く適用して好適なもの
である。
【００３３】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、ステージ
上に固定された基準マークの位置を、理想的な直交座標
系に配置された３個以上のＸＹ位置検出センサで測定す
ることにより、ステージの直交座標系の変化量を求め、
この変化量が予め設定された補正値と異なる場合、オペ
レータに報知すると共に求めた変化量を新たな補正値と
して設定するようにしたことにより、実際のステージの
使用時にステージの２次元座標系の変化を有効に検出し
得るステージ装置を実現できる。
上に固定された基準マークの位置を、理想的な直交座標
系に配置された３個以上のＸＹ位置検出センサで測定す
ることにより、ステージの直交座標系の変化量を求め、
この変化量が予め設定された補正値と異なる場合、オペ
レータに報知すると共に求めた変化量を新たな補正値と
して設定するようにしたことにより、実際のステージの
使用時にステージの２次元座標系の変化を有効に検出し
得るステージ装置を実現できる。
【図１】本発明によるステージ装置の一実施例として露
光装置におけるＸＹステージ及びＸＹ位置検出センサの
配置を示す略線的平面図である。
光装置におけるＸＹステージ及びＸＹ位置検出センサの
配置を示す略線的平面図である。
【図２】ＸＹステージの直交座標系の直交度を測定する
原理を示す略線図である。
原理を示す略線図である。
【図３】ＸＹステージの直交座標系の回転ずれ量を測定
する原理を示す略線図である。
する原理を示す略線図である。
【図４】本発明によるステージ装置を用いた露光装置の
露光手順を示すフローチヤートである。
露光手順を示すフローチヤートである。
【図５】従来の露光装置の露光手順の説明に供するフロ
ーチヤートである。
ーチヤートである。
【図６】テスト露光によつてＸＹステージの直交座標系
の直交度を測定する原理を示す略線図である。
の直交度を測定する原理を示す略線図である。
１、１１……ＸＹステージ、２……基板、１２Ａ、１２
Ｂ、１２Ｃ……ＸＹ位置検出センサ、１３Ｘ、１３Ｙ…
…平面鏡、１４……基準マーク、１５Ｘ、１５Ｙ……レ
ーザ干渉計。
Ｂ、１２Ｃ……ＸＹ位置検出センサ、１３Ｘ、１３Ｙ…
…平面鏡、１４……基準マーク、１５Ｘ、１５Ｙ……レ
ーザ干渉計。
Claims (4)
- 【請求項１】平面内を２次元移動可能なステージと、前
記平面内の第１の２次元座標系で前記ステージの位置を
測定する位置測定手段とを有し、前記第１の２次元座標
系の変化量を所定の補正値で補正して使用するステージ
装置において、 前記ステージ上に配置された基準マークと、 前記第１の２次元座標系の変化量が補正された第２の２
次元座標系に所定の位置関係で配置されると共に、前記
基準マークを検出する少なくとも３個のマーク検出手段
と、 前記基準マークが前記マーク検出手段のそれぞれによつ
て検出された際の、前記位置測定手段の測定結果と、前
記マーク検出手段の前記所定の位置関係とに基づいて、
前記第１の２次元座標系の前記第２の２次元座標系に対
する変化量を求める座標変化量測定手段とを具えること
を特徴とするステージ装置。 - 【請求項２】前記座標変化量測定手段によつて測定され
る前記第１の２次元座標の変化量と、予め設定された補
正値との差が所定値を超える場合に、オペレータに報知
する報知手段を具えることを特徴とする請求項１に記載
のステージ装置。 - 【請求項３】前記座標変化量測定手段によつて測定され
る前記第１の２次元座標の変化量と、予め設定された補
正値との差が所定値を超える場合に、前記変化量を補正
値として用いるようにしたことを特徴とする請求項１又
請求項２に記載のステージ装置。 - 【請求項４】前記座標変化量測定手段は、前記第１の２
次元座標系の前記第２の２次元座標系に対する変化量と
して、前記ステージの直交度、前記ステージの回転ずれ
量、前記ステージの伸縮及び又は前記ステージの原点の
シストを測定するようにしたことを特徴とする請求項
１、請求項２又は請求項３に記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5174912A JPH07135155A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5174912A JPH07135155A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07135155A true JPH07135155A (ja) | 1995-05-23 |
Family
ID=15986877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5174912A Pending JPH07135155A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07135155A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010161112A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Nikon Corp | 露光装置の管理方法及びデバイス製造方法 |
| JP2011117780A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Canon Inc | 直交度の計測方法 |
| JP2011237394A (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-24 | Y E Data Inc | ２次元測長機による測定値の補正方法 |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP5174912A patent/JPH07135155A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010161112A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Nikon Corp | 露光装置の管理方法及びデバイス製造方法 |
| JP2011117780A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Canon Inc | 直交度の計測方法 |
| JP2011237394A (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-24 | Y E Data Inc | ２次元測長機による測定値の補正方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5523843A (en) | Position detecting system | |
| EP0498499B1 (en) | Method of and device for repetitively imaging a mask pattern on a substrate | |
| JP2694868B2 (ja) | 位置検出方法及び装置 | |
| US6486955B1 (en) | Shape measuring method and shape measuring device, position control method, stage device, exposure apparatus and method for producing exposure apparatus, and device and method for manufacturing device | |
| JPH0419545B2 (ja) | ||
| US4737920A (en) | Method and apparatus for correcting rotational errors during inspection of reticles and masks | |
| US7694426B2 (en) | Method for eliminating sources of error in the system correction of a coordinate measuring machine | |
| JPH0310105A (ja) | 位置測定方法、位置測定装置、位置決め方法、位置決め装置、および露光装置 | |
| JPH08288193A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| US7986409B2 (en) | Method for determining the centrality of masks | |
| KR100372190B1 (ko) | 스테이지 장치의 이동좌표계의 직교도 측정방법 및 이동좌표계의 교차각도 측정방법 | |
| JP3491106B2 (ja) | 位置検出装置、位置合せ装置及び位置測定方法 | |
| JPH09223650A (ja) | 露光装置 | |
| JP3014499B2 (ja) | 位置情報検出装置およびそれを用いた転写装置 | |
| JPH07135155A (ja) | ステージ装置 | |
| JP2693791B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2005197483A (ja) | 撮像手段の回転誤差計測方法、及びこの回転誤差計測方法を用いた調整方法又は計測方法、及びこの回転誤差計測方法で計測された回転誤差を使用する位置計測装置、及びこの位置計測装置を備えた露光装置 | |
| JP3254704B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JPH09171954A (ja) | 位置測定装置 | |
| JP2626637B2 (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JPH09320920A (ja) | 露光装置の調整方法 | |
| JP2006010544A (ja) | 異物検査装置および異物検査方法 | |
| JPH09260252A (ja) | 投影光学系の結像特性評価方法及び該方法を使用する投影露光装置 | |
| JP3237022B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2977307B2 (ja) | 試料面高さ測定方法 |