JPH07138015A - シリカ微小球状粒子およびその製造方法 - Google Patents
シリカ微小球状粒子およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH07138015A JPH07138015A JP5168573A JP16857393A JPH07138015A JP H07138015 A JPH07138015 A JP H07138015A JP 5168573 A JP5168573 A JP 5168573A JP 16857393 A JP16857393 A JP 16857393A JP H07138015 A JPH07138015 A JP H07138015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- fine spherical
- spherical particles
- silica fine
- boron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 168
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 14
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 13
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 claims description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 13
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 26
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 16
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P diazanium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [NH4+].[NH4+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 流動床で使用される触媒担体、流動調節剤、
希釈剤などに好適な、耐摩耗性、流動性に優れた比表面
積および細孔容積の小さいリンおよび／またはホウ素を
含有するシリカ微小球状粒子およびその製造方法の提
供。 【構成】 下記ａ）〜ｅ）の性状を有するリンおよび／
またはホウ素を含有するシリカ微小球状粒子。 ａ）比表面積 ；５０ｍ2／ｇ以下、 ｂ）細孔容積 ；０．３ｍｌ／ｇ以下、 ｃ）耐摩耗性 ；２．０ｗｔ％／１５ｈｒ、 ｄ）嵩比重 ；０．６〜１．３ｇ／ｍｌ、 ｅ）平均粒子径；１０〜１５０μｍ。
希釈剤などに好適な、耐摩耗性、流動性に優れた比表面
積および細孔容積の小さいリンおよび／またはホウ素を
含有するシリカ微小球状粒子およびその製造方法の提
供。 【構成】 下記ａ）〜ｅ）の性状を有するリンおよび／
またはホウ素を含有するシリカ微小球状粒子。 ａ）比表面積 ；５０ｍ2／ｇ以下、 ｂ）細孔容積 ；０．３ｍｌ／ｇ以下、 ｃ）耐摩耗性 ；２．０ｗｔ％／１５ｈｒ、 ｄ）嵩比重 ；０．６〜１．３ｇ／ｍｌ、 ｅ）平均粒子径；１０〜１５０μｍ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シリカ微小球状粒子お
よびその製造方法に関し、さらに詳しくは、耐摩耗性に
優れた、流動床用の触媒担体、流動調節剤、希釈剤など
としての用途に適したシリカ微小球状粒子およびその製
造方法に関する。
よびその製造方法に関し、さらに詳しくは、耐摩耗性に
優れた、流動床用の触媒担体、流動調節剤、希釈剤など
としての用途に適したシリカ微小球状粒子およびその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】従来、流動床用触媒担体や希
釈剤などに使用されるシリカ微小球状粒子は、比表面積
が大きくて細孔容積の大きいものが種々提案されてい
る。例えば、特開昭６３−１６０４９には、流動床用触
媒担体として比表面積が３０〜８００ｍ2／ｇであり、
細孔容積が０．３〜２．０ｍｌ／ｇであり、粒径が２０
〜５００μｍの球状シリカゲルが記載されており、この
ような球状シリカゲルはケイ酸アルカリ水溶液を酸と混
合して得られる活性シリカゾルを気体媒体又は水不溶性
有機媒体中に噴霧し、次いで得られる球状シリカヒドロ
ゲルを乾燥して製造することが開示されている。また、
特公平３−２３２１１には、触媒担体等に有用な大細孔
径のシリカゲルの製法として、多孔性シリカにリン酸を
含浸し、加熱処理後、アンモニア水、強有機塩基水溶液
又は希薄塩酸にて洗浄処理する方法が記載されている。
しかし、比表面積および細孔容積が小さくて、耐摩耗性
に優れた流動床用触媒担体や希釈剤などに適したシリカ
微小球状粒子については見当らない。
釈剤などに使用されるシリカ微小球状粒子は、比表面積
が大きくて細孔容積の大きいものが種々提案されてい
る。例えば、特開昭６３−１６０４９には、流動床用触
媒担体として比表面積が３０〜８００ｍ2／ｇであり、
細孔容積が０．３〜２．０ｍｌ／ｇであり、粒径が２０
〜５００μｍの球状シリカゲルが記載されており、この
ような球状シリカゲルはケイ酸アルカリ水溶液を酸と混
合して得られる活性シリカゾルを気体媒体又は水不溶性
有機媒体中に噴霧し、次いで得られる球状シリカヒドロ
ゲルを乾燥して製造することが開示されている。また、
特公平３−２３２１１には、触媒担体等に有用な大細孔
径のシリカゲルの製法として、多孔性シリカにリン酸を
含浸し、加熱処理後、アンモニア水、強有機塩基水溶液
又は希薄塩酸にて洗浄処理する方法が記載されている。
しかし、比表面積および細孔容積が小さくて、耐摩耗性
に優れた流動床用触媒担体や希釈剤などに適したシリカ
微小球状粒子については見当らない。
【０００３】
【発明の目的】本発明は、流動床で使用される触媒担
体、流動調節剤、希釈剤などに好適な、耐摩耗性、流動
性に優れた比表面積および細孔容積の小さいリンおよび
／またはホウ素を含有するシリカ微小球状粒子およびそ
の製造方法を提供することを目的とする。
体、流動調節剤、希釈剤などに好適な、耐摩耗性、流動
性に優れた比表面積および細孔容積の小さいリンおよび
／またはホウ素を含有するシリカ微小球状粒子およびそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【構成】本発明に係る微小球状粒子は流動床で希釈剤な
どとして使用されるのに適した下記のａ）〜ｅ）の性状
を有することを特徴とする。 ａ）比表面積 ；５０ｍ2／ｇ以下、好ましくは３０ｍ2
／ｇ以下、 ｂ）細孔容積 ；０．３ｍｌ／ｇ以下、好ましくは０．
２ｍｌ／ｇ以下、 ｃ）耐摩耗性 ；２．０ｗｔ％／１５ｈｒ以下、好まし
くは１．０ｗｔ％／１５ｈｒ以下、 ｄ）嵩比重 ；０．６〜１．３ｇ／ｍｌ、好ましくは
０．９〜１．２ｇ／ｍｌ、 ｅ）平均粒子径；１０〜１５０μｍ、好ましくは３０〜
８０μｍ。 該シリカ微小球状粒子の比表面積が、５０ｍ2／ｇより
も大きく、また、細孔容積が０．３ｍｌ／ｇよりも大き
い場合には、シリカ自体が活性となるため希釈剤などの
用途には不適当となり、また、耐摩耗性が２．０ｗｔ％
／１５ｈｒより大きい場合には、流動床で使用中に粒子
の粉化が起きるので好ましくない。また、流動床で良好
な流動状態を保つためには嵩比重が０．６〜１．３ｇ／
ｍｌの範囲にあり、平均粒子径が１０〜１５０μｍの範
囲であることが必要である。本発明に係るシリカ微小球
状粒子は、リンおよび／またはホウ素を酸化物として３
〜２０ｗｔ％、好ましくは５〜１５ｗｔ％含有する。リ
ンおよび／またはホウ素の含有量が３ｗｔ％より少ない
場合は、シリカ微小球状粒子の耐摩耗性が悪くなり、比
表面積が大きくなる傾向にある。また、２０ｗｔ％より
も多くなると、噴霧乾燥して微小球状粒子とした際に形
状が悪くなり、流動床で使用される微小球状粒子として
好ましくない。
どとして使用されるのに適した下記のａ）〜ｅ）の性状
を有することを特徴とする。 ａ）比表面積 ；５０ｍ2／ｇ以下、好ましくは３０ｍ2
／ｇ以下、 ｂ）細孔容積 ；０．３ｍｌ／ｇ以下、好ましくは０．
２ｍｌ／ｇ以下、 ｃ）耐摩耗性 ；２．０ｗｔ％／１５ｈｒ以下、好まし
くは１．０ｗｔ％／１５ｈｒ以下、 ｄ）嵩比重 ；０．６〜１．３ｇ／ｍｌ、好ましくは
０．９〜１．２ｇ／ｍｌ、 ｅ）平均粒子径；１０〜１５０μｍ、好ましくは３０〜
８０μｍ。 該シリカ微小球状粒子の比表面積が、５０ｍ2／ｇより
も大きく、また、細孔容積が０．３ｍｌ／ｇよりも大き
い場合には、シリカ自体が活性となるため希釈剤などの
用途には不適当となり、また、耐摩耗性が２．０ｗｔ％
／１５ｈｒより大きい場合には、流動床で使用中に粒子
の粉化が起きるので好ましくない。また、流動床で良好
な流動状態を保つためには嵩比重が０．６〜１．３ｇ／
ｍｌの範囲にあり、平均粒子径が１０〜１５０μｍの範
囲であることが必要である。本発明に係るシリカ微小球
状粒子は、リンおよび／またはホウ素を酸化物として３
〜２０ｗｔ％、好ましくは５〜１５ｗｔ％含有する。リ
ンおよび／またはホウ素の含有量が３ｗｔ％より少ない
場合は、シリカ微小球状粒子の耐摩耗性が悪くなり、比
表面積が大きくなる傾向にある。また、２０ｗｔ％より
も多くなると、噴霧乾燥して微小球状粒子とした際に形
状が悪くなり、流動床で使用される微小球状粒子として
好ましくない。
【０００５】本発明での比表面積（ｍ2／ｇ）は、ＢＥ
Ｔ法により測定された値であり、細孔容積（ｍｌ／ｇ）
は、窒素ガス吸着法により測定した値である。耐摩耗性
（ｗｔ％／１５ｈｒ）は、ＡＣＣ法（英国特許７３７４
２９号記載の方法）により、流動開始後５〜２０ｈｒの
間の１５ｈｒの間に摩耗した割合を示す。嵩比重（Ｃ，
Ｂ，Ｄ，ｇ／ｍｌ）は、メスシリンダー法により測定し
た値であり、平均粒子径はふるいにより測定した値であ
る。
Ｔ法により測定された値であり、細孔容積（ｍｌ／ｇ）
は、窒素ガス吸着法により測定した値である。耐摩耗性
（ｗｔ％／１５ｈｒ）は、ＡＣＣ法（英国特許７３７４
２９号記載の方法）により、流動開始後５〜２０ｈｒの
間の１５ｈｒの間に摩耗した割合を示す。嵩比重（Ｃ，
Ｂ，Ｄ，ｇ／ｍｌ）は、メスシリンダー法により測定し
た値であり、平均粒子径はふるいにより測定した値であ
る。
【０００６】前述の性状を有するシリカ微小球状粒子
は、流動床用の触媒担体や希釈剤などに使用して好適で
あるが、これらの用途に限定されるものではない。
は、流動床用の触媒担体や希釈剤などに使用して好適で
あるが、これらの用途に限定されるものではない。
【０００７】次に製造方法について説明する。本発明に
係るシリカ微小球状粒子の製造方法は、（ｉ）シリカヒ
ドロゲル、（ii）シリカヒドロゾルと（iii）リンおよ
び／またはホウ素化合物、とを混合し、得られた混合物
を噴霧乾燥して微小球状粒子とし、この微小球状粒子を
５００℃以上の温度で焼成することを特徴とする。シリ
カヒドロゲルとシリカヒドロゾルの混合比（ゲル／ゾ
ル）は、ＳｉＯ2として１０／９０〜５０／５０（重量
比）であることが望ましい。シリカヒドロゲルの割合が
１０／９０（重量比）より少ない場合には、噴霧乾燥し
て得られる微小球状粒子の形状が悪くなり、耐摩耗性も
悪くなる。また、シリカヒドロゲルの割合が５０／５０
（重量比）よりも多い場合には、得られる微小球状粒子
の嵩比重が小さくなり、細孔容積が大きくなり、また、
形状も悪くなる。好ましいシリカヒドロゲルとシリカヒ
ドロゾルの混合比（ゲル／ゾル）は、２０／８０〜５０
／５０（重量比）の範囲である。
係るシリカ微小球状粒子の製造方法は、（ｉ）シリカヒ
ドロゲル、（ii）シリカヒドロゾルと（iii）リンおよ
び／またはホウ素化合物、とを混合し、得られた混合物
を噴霧乾燥して微小球状粒子とし、この微小球状粒子を
５００℃以上の温度で焼成することを特徴とする。シリ
カヒドロゲルとシリカヒドロゾルの混合比（ゲル／ゾ
ル）は、ＳｉＯ2として１０／９０〜５０／５０（重量
比）であることが望ましい。シリカヒドロゲルの割合が
１０／９０（重量比）より少ない場合には、噴霧乾燥し
て得られる微小球状粒子の形状が悪くなり、耐摩耗性も
悪くなる。また、シリカヒドロゲルの割合が５０／５０
（重量比）よりも多い場合には、得られる微小球状粒子
の嵩比重が小さくなり、細孔容積が大きくなり、また、
形状も悪くなる。好ましいシリカヒドロゲルとシリカヒ
ドロゾルの混合比（ゲル／ゾル）は、２０／８０〜５０
／５０（重量比）の範囲である。
【０００８】本発明で使用されるシリカヒドロゲルは、
通常のシリカヒドロゲルが使用可能であり、例えば、水
硝子水溶液と硫酸とを反応させる方法、あるいはシリカ
ヒドロゾルに硝酸などの酸を添加してｐＨを酸性領域に
した後に、アンモニア水を加えてゲル化する方法などに
より調製される。特に後者の方法はアルカリ金属などの
不純物が含まれないので好ましい。
通常のシリカヒドロゲルが使用可能であり、例えば、水
硝子水溶液と硫酸とを反応させる方法、あるいはシリカ
ヒドロゾルに硝酸などの酸を添加してｐＨを酸性領域に
した後に、アンモニア水を加えてゲル化する方法などに
より調製される。特に後者の方法はアルカリ金属などの
不純物が含まれないので好ましい。
【０００９】また、シリカヒドロゾルとしては、市販さ
れている水を分散媒とするシリカゾルが使用可能であ
る。特にシリカコロイド粒子の平均粒子径が２０ｎｍ以
下、好ましくは４〜１５ｎｍのシリカヒドロゾルは、得
られる微小球状粒子の耐摩耗性の面から好ましい。シリ
カヒドロゾルとしては、カタロイド−Ｓ〔触媒化成工業
（株）：商品名〕などを挙げることができ、アルカリが
触媒毒となるような反応に使用する場合にはシリカヒド
ロゾル中のアルカリの含有量がＮａ2Ｏとして、固形分
基準で１．０ｗｔ％以下のものが好ましい。
れている水を分散媒とするシリカゾルが使用可能であ
る。特にシリカコロイド粒子の平均粒子径が２０ｎｍ以
下、好ましくは４〜１５ｎｍのシリカヒドロゾルは、得
られる微小球状粒子の耐摩耗性の面から好ましい。シリ
カヒドロゾルとしては、カタロイド−Ｓ〔触媒化成工業
（株）：商品名〕などを挙げることができ、アルカリが
触媒毒となるような反応に使用する場合にはシリカヒド
ロゾル中のアルカリの含有量がＮａ2Ｏとして、固形分
基準で１．０ｗｔ％以下のものが好ましい。
【００１０】リン化合物としては、リン酸、リン酸アン
モニウム、リン酸水素アンモニウムなどが挙げられ、ホ
ウ素化合物としては、ホウ酸、酸化ホウ素、メタホウ酸
アンモニウム、四ホウ酸アンモニウムなどが挙げられ
る。
モニウム、リン酸水素アンモニウムなどが挙げられ、ホ
ウ素化合物としては、ホウ酸、酸化ホウ素、メタホウ酸
アンモニウム、四ホウ酸アンモニウムなどが挙げられ
る。
【００１１】本発明では、シリカヒドロゲル、シリカヒ
ドロゾルとリンおよび／またはホウ素化合物の混合は、
通常の方法で混合され、添加順序は問わない。なお、リ
ンおよび／またはホウ素化合物は、そのまま、あるい
は、水溶液の状態で使用される。
ドロゾルとリンおよび／またはホウ素化合物の混合は、
通常の方法で混合され、添加順序は問わない。なお、リ
ンおよび／またはホウ素化合物は、そのまま、あるい
は、水溶液の状態で使用される。
【００１２】得られた混合物は、必要に応じて加熱濃縮
し、酸化物として濃度１５〜３０ｗｔ％の範囲に調節し
た後、噴霧乾燥して微小球状粒子とする。該微小球状粒
子は５００℃以上、好ましくは５００〜１０００℃、更
に好ましくは６００〜８５０℃の温度で０．５〜１０時
間焼成される。
し、酸化物として濃度１５〜３０ｗｔ％の範囲に調節し
た後、噴霧乾燥して微小球状粒子とする。該微小球状粒
子は５００℃以上、好ましくは５００〜１０００℃、更
に好ましくは６００〜８５０℃の温度で０．５〜１０時
間焼成される。
【００１３】本発明のシリカ微小球状粒子は、リンおよ
び／またはホウ素を含有するために比較的低い温度での
焼成でも、比表面積を低下させることができるので、比
表面積を小さくするために１０００℃程度の高温で焼成
する必要はなく、安価に製造することができ、耐摩耗
性、流動性に優れている。このため、流動床用の触媒担
体や希釈剤として好適である。
び／またはホウ素を含有するために比較的低い温度での
焼成でも、比表面積を低下させることができるので、比
表面積を小さくするために１０００℃程度の高温で焼成
する必要はなく、安価に製造することができ、耐摩耗
性、流動性に優れている。このため、流動床用の触媒担
体や希釈剤として好適である。
【００１４】
【実施例】以下に実施例を示す。 実施例１ 内容積３００リットルのスチームジャケット付きタンク
に、シリカコロイド粒子の平均粒子径が１７ｎｍのシリ
カゾル〔カタロイドＳ−２０Ｌ、ＳｉＯ2濃度、２０重
量％、触媒化成工業（株）製〕５０ｋｇを張込み、これ
にイオン交換水１６．７ｋｇを加えてＳｉＯ2濃度を１
５重量％に調製した。このシリカゾルに６３％硝酸２．
１ｋｇを撹拌しながら添加した。この時のｐＨは１．０
であった。更に、撹拌しながら１５重量％アンモニア水
を４．３ｋｇ添加してＳｉＯ2濃度１０．９重量％のシ
リカヒドロゲルスラリーを調製した。この時のｐＨは
９．９であった。これを９０℃に加温し撹拌しながら１
０時間熟成を行った。次いで、シリカゾル（カタロイド
Ｓ−２０Ｌ）２００ｋｇを前記シリカヒドロゲルスラリ
ーに加えて混合した。シリカヒドロゲルとシリカゾルの
重量比は、２０／８０であった。更に該スラリーにホウ
酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）７．
１ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温し、ホ
ウ酸結晶を完全に溶解した。この時の該スラリーの固形
分濃度は１８．１重量％であった。該スラリーの加温を
続けて固形分濃度２３．５重量％まで濃縮した後、噴霧
乾燥を行った。次いで、噴霧乾燥品を８５０℃で２時間
焼成を行いシリカ微小球状粒子Ａを得た。表１および表
２にシリカ微小球状粒子Ａの組成と性状を示す。
に、シリカコロイド粒子の平均粒子径が１７ｎｍのシリ
カゾル〔カタロイドＳ−２０Ｌ、ＳｉＯ2濃度、２０重
量％、触媒化成工業（株）製〕５０ｋｇを張込み、これ
にイオン交換水１６．７ｋｇを加えてＳｉＯ2濃度を１
５重量％に調製した。このシリカゾルに６３％硝酸２．
１ｋｇを撹拌しながら添加した。この時のｐＨは１．０
であった。更に、撹拌しながら１５重量％アンモニア水
を４．３ｋｇ添加してＳｉＯ2濃度１０．９重量％のシ
リカヒドロゲルスラリーを調製した。この時のｐＨは
９．９であった。これを９０℃に加温し撹拌しながら１
０時間熟成を行った。次いで、シリカゾル（カタロイド
Ｓ−２０Ｌ）２００ｋｇを前記シリカヒドロゲルスラリ
ーに加えて混合した。シリカヒドロゲルとシリカゾルの
重量比は、２０／８０であった。更に該スラリーにホウ
酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）７．
１ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温し、ホ
ウ酸結晶を完全に溶解した。この時の該スラリーの固形
分濃度は１８．１重量％であった。該スラリーの加温を
続けて固形分濃度２３．５重量％まで濃縮した後、噴霧
乾燥を行った。次いで、噴霧乾燥品を８５０℃で２時間
焼成を行いシリカ微小球状粒子Ａを得た。表１および表
２にシリカ微小球状粒子Ａの組成と性状を示す。
【００１５】実施例２ コロイダルシリカの平均粒子径が５ｎｍであるカタロイ
ドＳＩ−５５０〔触媒化成工業（株）製品〕３００ｋｇ
にイオン交換水を加え、濃度が１０重量％となるように
希釈した。この希釈ゾルを予め水素型に再生された５０
リットルの陽イオン交換樹脂〔ダイヤイオンＳＫ−１１
３、三菱化成（株）製品〕層を通過させ、脱ナトリウム
シリカゾル５８０ｋｇを調製した。一方、８０リットル
のスチームジャケット付きタンクに、前述の脱ナトリウ
ムシリカゾル１０．２ｋｇを張込み、６３％硝酸０．１
５ｋｇを撹拌しながら添加した。この時のゾルのｐＨは
０．８であった。更に撹拌しながら１５重量％アンモニ
ア水を０．４ｋｇ添加して、ｐＨ９．４でＳｉＯ2濃度
９．３重量％のシリカヒドロゲルスラリーを調製した。
該ヒドロゲルスラリーを９０℃に加温し８時間撹拌熟成
を行った。次いで、これに前述の脱ナトリウムシリカゾ
ル４１ｋｇを加えた。シリカのゲル／ゾル比は２０／８
０であった。更に該スラリーにホウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3
Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）０．７１ｋｇを加え、よ
く撹拌しながら１００℃に加温し、ホウ酸結晶を完全に
溶解した。この時の固形分濃度は９．５重量％であっ
た。該スラリーの加温を続けて固形分濃度２０．０重量
％まで濃縮した後、噴霧乾燥を行い、次いで、噴霧乾燥
品を７５０℃で２時間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｂ
を得た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｂの組成
と性状を示す。
ドＳＩ−５５０〔触媒化成工業（株）製品〕３００ｋｇ
にイオン交換水を加え、濃度が１０重量％となるように
希釈した。この希釈ゾルを予め水素型に再生された５０
リットルの陽イオン交換樹脂〔ダイヤイオンＳＫ−１１
３、三菱化成（株）製品〕層を通過させ、脱ナトリウム
シリカゾル５８０ｋｇを調製した。一方、８０リットル
のスチームジャケット付きタンクに、前述の脱ナトリウ
ムシリカゾル１０．２ｋｇを張込み、６３％硝酸０．１
５ｋｇを撹拌しながら添加した。この時のゾルのｐＨは
０．８であった。更に撹拌しながら１５重量％アンモニ
ア水を０．４ｋｇ添加して、ｐＨ９．４でＳｉＯ2濃度
９．３重量％のシリカヒドロゲルスラリーを調製した。
該ヒドロゲルスラリーを９０℃に加温し８時間撹拌熟成
を行った。次いで、これに前述の脱ナトリウムシリカゾ
ル４１ｋｇを加えた。シリカのゲル／ゾル比は２０／８
０であった。更に該スラリーにホウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3
Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）０．７１ｋｇを加え、よ
く撹拌しながら１００℃に加温し、ホウ酸結晶を完全に
溶解した。この時の固形分濃度は９．５重量％であっ
た。該スラリーの加温を続けて固形分濃度２０．０重量
％まで濃縮した後、噴霧乾燥を行い、次いで、噴霧乾燥
品を７５０℃で２時間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｂ
を得た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｂの組成
と性状を示す。
【００１６】実施例３〜６ 実施例２において、ホウ酸結晶の添加量を変えた以外
は、実施例２と同様の方法で表１、表２に示すシリカ微
小球状粒子、Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆを調製した。
は、実施例２と同様の方法で表１、表２に示すシリカ微
小球状粒子、Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆを調製した。
【００１７】実施例７ 実施例２に準ずる方法で調製したシリカヒドロゲルとシ
リカゾルの重量比が３０／７０のスラリー（シリカ濃度
９．７重量％）１００ｋｇを１５０リットルのスチーム
ジャケット付きタンクに張込み、次いで８５％リン酸水
溶液（Ｈ3ＰＯ4Ｐ2Ｏ5濃度６１．５４重量％）１．０６
ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温して固形
分濃度１９．７重量％まで濃縮した。このスラリーを噴
霧乾燥し、次いで、７５０℃で２時間焼成を行いシリカ
微小球状粒子Ｇを得た。表１および表２にシリカ微小球
状粒子Ｇの組成と性状を示す。
リカゾルの重量比が３０／７０のスラリー（シリカ濃度
９．７重量％）１００ｋｇを１５０リットルのスチーム
ジャケット付きタンクに張込み、次いで８５％リン酸水
溶液（Ｈ3ＰＯ4Ｐ2Ｏ5濃度６１．５４重量％）１．０６
ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温して固形
分濃度１９．７重量％まで濃縮した。このスラリーを噴
霧乾燥し、次いで、７５０℃で２時間焼成を行いシリカ
微小球状粒子Ｇを得た。表１および表２にシリカ微小球
状粒子Ｇの組成と性状を示す。
【００１８】実施例８ 実施例２で調製した脱ナトリウムシリカゾル３５．７ｋ
ｇを１００リットルのスチームジャケット付きＳＵＳタ
ンクに張込み、６３％硝酸０．５２ｋｇを撹拌しながら
添加し、１５重量％アンモニア水を１．４ｋｇ添加して
シリカヒドロゲルスラリーを調製した。この時のヒドロ
ゲルスラリーのｐＨは９．５であった。このスラリーを
９０℃に加温し８時間撹拌熟成を行った。次いでこれに
脱ナトリウムシリカゾル３５．７ｋｇを加えて混合し、
シリカヒドロゲルとシリカゾルの重量比が５０／５０の
シリカヒドロゲルスラリーとした。更に該スラリーにホ
ウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）
１．５４ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温
し、ホウ酸結晶を完全に溶解した後、１００℃に保ちな
がら固形分濃度１７重量％まで濃縮した。次いで、該ス
ラリーの噴霧乾燥を行い、噴霧乾燥品を６５０℃で２時
間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｈを得た。表１および
表２にシリカ微小球状粒子Ｈの組成と性状を示す。
ｇを１００リットルのスチームジャケット付きＳＵＳタ
ンクに張込み、６３％硝酸０．５２ｋｇを撹拌しながら
添加し、１５重量％アンモニア水を１．４ｋｇ添加して
シリカヒドロゲルスラリーを調製した。この時のヒドロ
ゲルスラリーのｐＨは９．５であった。このスラリーを
９０℃に加温し８時間撹拌熟成を行った。次いでこれに
脱ナトリウムシリカゾル３５．７ｋｇを加えて混合し、
シリカヒドロゲルとシリカゾルの重量比が５０／５０の
シリカヒドロゲルスラリーとした。更に該スラリーにホ
ウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度５６．３９重量％）
１．５４ｋｇを加え、よく撹拌しながら１００℃に加温
し、ホウ酸結晶を完全に溶解した後、１００℃に保ちな
がら固形分濃度１７重量％まで濃縮した。次いで、該ス
ラリーの噴霧乾燥を行い、噴霧乾燥品を６５０℃で２時
間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｈを得た。表１および
表２にシリカ微小球状粒子Ｈの組成と性状を示す。
【００１９】実施例９ 実施例１に準ずる方法でシリカヒドロゲルとシリカゾル
の重量比が２０／８０のスラリーを調製し、このスラリ
ーにホウ酸結晶と８５％リン酸水溶液を酸化物としてそ
れぞれ７．０重量％となるようにそれぞれ添加し、よく
撹拌しながら、１００℃に加温して、溶解、混合を十分
に行った。次いで固形分濃度２７重量％まで加熱して濃
縮したスラリーを噴霧乾燥した。次いで噴霧乾燥品を７
５０℃で２時間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｉを得
た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｉの組成と性
状を示す。
の重量比が２０／８０のスラリーを調製し、このスラリ
ーにホウ酸結晶と８５％リン酸水溶液を酸化物としてそ
れぞれ７．０重量％となるようにそれぞれ添加し、よく
撹拌しながら、１００℃に加温して、溶解、混合を十分
に行った。次いで固形分濃度２７重量％まで加熱して濃
縮したスラリーを噴霧乾燥した。次いで噴霧乾燥品を７
５０℃で２時間焼成を行いシリカ微小球状粒子Ｉを得
た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｉの組成と性
状を示す。
【００２０】比較例１ 内容積１００リットルのスチームジャケット付きタンク
に、シリカコロイド粒子の平均粒子径が１７ｎｍのシリ
カゾル〔カタロイドＳ−２０Ｌ）５０ｋｇを張込み、こ
れにイオン交換水を加えてシリカ濃度を１５重量％に調
製した。このシリカゾルに６３重量％硝酸２．１ｋｇを
撹拌しながら添加した。更に、撹拌しながら１５重量％
アンモニア水を４．３ｋｇ添加してシリカ濃度１０．９
重量％のシリカヒドロゲルスラリーを調製した。このシ
リカヒドロゲルスラリーのｐＨは９．９であった。この
シリカヒドロゲルスラリーを９０℃に加温し、撹拌しな
がら１０時間熟成を行った。熟成後に該スラリーを濾過
し、イオン交換水を用いて洗浄し硝安を除去して、シリ
カヒドロゲルスラリーを得た。その後、このシリカヒド
ロゲルスラリーの濃縮を行い、シリカ濃度２３重量％に
調製した後、噴霧乾燥を行い、次いで噴霧乾燥品を８５
０℃で２時間焼成してシリカ微小球状粒子Ｊを得た。表
１および表２にシリカ微小球状粒子Ｊの組成と性状を示
す。
に、シリカコロイド粒子の平均粒子径が１７ｎｍのシリ
カゾル〔カタロイドＳ−２０Ｌ）５０ｋｇを張込み、こ
れにイオン交換水を加えてシリカ濃度を１５重量％に調
製した。このシリカゾルに６３重量％硝酸２．１ｋｇを
撹拌しながら添加した。更に、撹拌しながら１５重量％
アンモニア水を４．３ｋｇ添加してシリカ濃度１０．９
重量％のシリカヒドロゲルスラリーを調製した。このシ
リカヒドロゲルスラリーのｐＨは９．９であった。この
シリカヒドロゲルスラリーを９０℃に加温し、撹拌しな
がら１０時間熟成を行った。熟成後に該スラリーを濾過
し、イオン交換水を用いて洗浄し硝安を除去して、シリ
カヒドロゲルスラリーを得た。その後、このシリカヒド
ロゲルスラリーの濃縮を行い、シリカ濃度２３重量％に
調製した後、噴霧乾燥を行い、次いで噴霧乾燥品を８５
０℃で２時間焼成してシリカ微小球状粒子Ｊを得た。表
１および表２にシリカ微小球状粒子Ｊの組成と性状を示
す。
【００２１】比較例２ ５０リットルのスチームジャケット付きＳＵＳタンクに
実施例２で調製した脱ナトリウムシリカゾル３０ｋｇを
張込み、このゾルにホウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度
５６．３９重量％）０．２２ｋｇを加え、１００℃に加
温・撹拌してホウ酸結晶を完全に溶解した後、更に加温
を続けて固形分濃度２０重量％まで濃縮してスラリーと
した。このスラリーの噴霧乾燥を行い、噴霧乾燥品を７
５０℃で２時間焼成を行い、シリカ微小球状粒子Ｋを得
た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｋの組成と性
状を示す。
実施例２で調製した脱ナトリウムシリカゾル３０ｋｇを
張込み、このゾルにホウ酸結晶（Ｈ3ＢＯ3 Ｂ2Ｏ3濃度
５６．３９重量％）０．２２ｋｇを加え、１００℃に加
温・撹拌してホウ酸結晶を完全に溶解した後、更に加温
を続けて固形分濃度２０重量％まで濃縮してスラリーと
した。このスラリーの噴霧乾燥を行い、噴霧乾燥品を７
５０℃で２時間焼成を行い、シリカ微小球状粒子Ｋを得
た。表１および表２にシリカ微小球状粒子Ｋの組成と性
状を示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】 ＊1 耐摩耗性は、試料を２０時間流動させ、最初の５
時間を除く１５時間の間に摩耗により生じた微粉末の量
を測定し、次式により求めた。 ＊2 顕微鏡で観察した結果 ○…良好 △…やや良好 ×…不良
時間を除く１５時間の間に摩耗により生じた微粉末の量
を測定し、次式により求めた。 ＊2 顕微鏡で観察した結果 ○…良好 △…やや良好 ×…不良
【００２４】
【効果】実施例の表２から分かるように、本発明のシリ
カ微小球状粒子は、耐摩耗性が良く、粒子形状が良好で
あり、しかも比表面積、細孔容積が小さいため脂肪族、
芳香族化合物の酸化反応やアンモオキシネーション、オ
キシクロリネーションなどの種々の触媒反応に対して不
活性であるため、流動調節剤、希釈剤などに使用して好
適である。
カ微小球状粒子は、耐摩耗性が良く、粒子形状が良好で
あり、しかも比表面積、細孔容積が小さいため脂肪族、
芳香族化合物の酸化反応やアンモオキシネーション、オ
キシクロリネーションなどの種々の触媒反応に対して不
活性であるため、流動調節剤、希釈剤などに使用して好
適である。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記ａ）〜ｅ）の性状を有するリンおよ
び／またはホウ素を含有するシリカ微小球状粒子。 ａ）比表面積 ；５０ｍ2／ｇ以下、 ｂ）細孔容積 ；０．３ｍｌ／ｇ以下、 ｃ）耐摩耗性 ；２．０ｗｔ％／１５ｈｒ、 ｄ）嵩比重 ；０．６〜１．３ｇ／ｍｌ、 ｅ）平均粒子径；１０〜１５０μｍ。 - 【請求項２】 リンおよび／またはホウ素の含有量が酸
化物として３〜２０ｗｔ％であることを特徴とする請求
項１記載のシリカ微小球状粒子。 - 【請求項３】 （ｉ）シリカヒドロゲル、（ii）シリカ
ヒドロゾルと（iii）リンおよび／またはホウ素化合
物、とを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥して微小球
状粒子とし、この微小球状粒子を５００℃以上の温度で
焼成することを特徴とする請求項１または２記載のシリ
カ微小球状粒子の製造方法。 - 【請求項４】 シリカヒドロゲルとシリカヒドロゾルの
混合比（ゲル／ゾル）が、ＳｉＯ2として１０／９０〜
５０／５０（重量比）であることを特徴とする請求項３
記載のシリカ微小球状粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5168573A JPH07138015A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | シリカ微小球状粒子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5168573A JPH07138015A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | シリカ微小球状粒子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07138015A true JPH07138015A (ja) | 1995-05-30 |
Family
ID=15870554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5168573A Pending JPH07138015A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | シリカ微小球状粒子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07138015A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09315813A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-12-09 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカ微小球状粒子とその製造方法 |
| JP2004500299A (ja) * | 1999-12-22 | 2004-01-08 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 不透明石英ガラスの製造方法、該方法に適したＳｉＯ２粒子および不透明石英ガラス物品 |
| JP2009515684A (ja) * | 2005-11-14 | 2009-04-16 | オクイ ビンイルス，エルピー | オキシ塩素化のための触媒組成物及び方法 |
| JP2010271400A (ja) * | 2009-05-19 | 2010-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学シート |
| JP2011224458A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 一酸化炭素還元触媒の製造方法および一酸化炭素還元触媒 |
| CN104093667A (zh) * | 2012-02-13 | 2014-10-08 | 德山硅技术株式会社 | 具有新型特征特性的二氧化硅球材料 |
| JP2021529722A (ja) * | 2018-06-28 | 2021-11-04 | アセンド・パフォーマンス・マテリアルズ・オペレーションズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーＡｓｃｅｎｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｏｐｅｒａｔｉｏｎｓ Ｌｌｃ | 流動床反応器においてシリカ粒子を使用する方法およびシステム |
| WO2025182883A1 (ja) * | 2024-02-28 | 2025-09-04 | Ａｇｃ株式会社 | 球状シリカ粒子粉体及び球状シリカ粒子粉体の製造方法 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP5168573A patent/JPH07138015A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09315813A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-12-09 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカ微小球状粒子とその製造方法 |
| JP2004500299A (ja) * | 1999-12-22 | 2004-01-08 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 不透明石英ガラスの製造方法、該方法に適したＳｉＯ２粒子および不透明石英ガラス物品 |
| JP2009515684A (ja) * | 2005-11-14 | 2009-04-16 | オクイ ビンイルス，エルピー | オキシ塩素化のための触媒組成物及び方法 |
| JP2010271400A (ja) * | 2009-05-19 | 2010-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学シート |
| JP2011224458A (ja) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 一酸化炭素還元触媒の製造方法および一酸化炭素還元触媒 |
| CN104093667A (zh) * | 2012-02-13 | 2014-10-08 | 德山硅技术株式会社 | 具有新型特征特性的二氧化硅球材料 |
| JP2021529722A (ja) * | 2018-06-28 | 2021-11-04 | アセンド・パフォーマンス・マテリアルズ・オペレーションズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーＡｓｃｅｎｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｏｐｅｒａｔｉｏｎｓ Ｌｌｃ | 流動床反応器においてシリカ粒子を使用する方法およびシステム |
| WO2025182883A1 (ja) * | 2024-02-28 | 2025-09-04 | Ａｇｃ株式会社 | 球状シリカ粒子粉体及び球状シリカ粒子粉体の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0146313B1 (en) | Method for producing aqueous, low-alkali metal low-alumina silica sols | |
| DE3689106T2 (de) | Zerknirschungsfeste Katalysatoren, Katalysator-Vorläufer und Katalysatorträger. | |
| CA2593061C (en) | Production and use of polysilicate particulate materials | |
| JPH0581301B2 (ja) | ||
| US3886094A (en) | Preparation of hydrocarbon conversion catalysts | |
| JP3937447B2 (ja) | 流動ベッドでメチルアミンを製造するための摩耗耐性をもったゼオライト触媒 | |
| US4374758A (en) | Preparation of stable tellurium-containing solution from metallic tellurium and process for producing tellurium-antimony containing oxide catalyst using said solution | |
| JP2002219362A (ja) | 低比重シリカ担持触媒 | |
| US6878668B1 (en) | Process for manufacture of an attrition resistant catalyst | |
| JPH07138015A (ja) | シリカ微小球状粒子およびその製造方法 | |
| US3948807A (en) | Oxide catalysts and process for preparation thereof | |
| US6362128B1 (en) | Process for manufacture of an attrition resistant catalyst | |
| JP2004181454A (ja) | 結晶アルモシリケートに基づく触媒 | |
| JP3327709B2 (ja) | シリカ微小球状粒子の製造方法 | |
| JP2021065825A (ja) | 有機反応触媒用担体粒子分散液および有機反応触媒 | |
| US4127591A (en) | Method of producing maleic anhydride | |
| CN114588889B (zh) | 一种催化剂、其制备方法及制备烯酮类化合物的方法 | |
| CA1171064A (en) | Spray dried vanadia catalyst | |
| JP2000135437A (ja) | 水素化処理触媒およびその製造方法 | |
| JPH0663402A (ja) | デュレンの気相接触酸化用流動触媒 | |
| CN116078368B (zh) | 用于不饱和烯烃催化合成不饱和腈的催化剂及其制备和应用 | |
| JPH01207136A (ja) | ナフタリンの気相接触酸化用流動触媒の製造方法 | |
| JP2008246392A (ja) | 微粒子含有複合体及びその製造方法 | |
| JP2010029787A (ja) | ロジウム含有ゼオライトの製造方法 | |
| JP2000302735A (ja) | メチルアミン類の製造方法 |