JPH07140126A - 粒子ビームのためのガス向流を備えた質量分析法 - Google Patents
粒子ビームのためのガス向流を備えた質量分析法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】質量分析計における粒子ビームに向流ガスを供
給することによって、検体の損失を減少させ、フラグメ
ンテーションを軽減する。 【構成】GC/LC/MSシステムにおいて、LC(液
体クロマトグラフィー)モード時にGC(ガスクロマト
グラフィー)システムが、LC粒子ビームに対向する向
流ガスを生成するようにする。この向流ガスは、信号強
度を高め、高分子質量検体に関しフラグメンテーション
を減少させる。
給することによって、検体の損失を減少させ、フラグメ
ンテーションを軽減する。 【構成】GC/LC/MSシステムにおいて、LC(液
体クロマトグラフィー)モード時にGC(ガスクロマト
グラフィー)システムが、LC粒子ビームに対向する向
流ガスを生成するようにする。この向流ガスは、信号強
度を高め、高分子質量検体に関しフラグメンテーション
を減少させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は質量分析法に関し、詳し
くは粒子ビームが分析するために質量分析計に導入され
るシステムおよび方法に関する。本発明の主要な目的は
質量分析器の出力におけるより強力なシグナル強度を提
供することである。
くは粒子ビームが分析するために質量分析計に導入され
るシステムおよび方法に関する。本発明の主要な目的は
質量分析器の出力におけるより強力なシグナル強度を提
供することである。
【0002】
【従来の技術】ガスクロマトグラフィー(GC)、液体
クロマトグラフィー(LC)および質量分析法(MS)
を組合わせたGC/LC/MSシステムは(1)例えば
水、土壌および廃棄物を評価するための環境研究、
(2)汚染物および不純物を同定するための食品分析、
(3)天然生成物および(4)合成生成物を分析するた
めの薬剤開発、およびタンパク質成分を特徴づけるため
の生命科学を含む幾つかの目的のために利用されてい
る。
クロマトグラフィー(LC)および質量分析法(MS)
を組合わせたGC/LC/MSシステムは(1)例えば
水、土壌および廃棄物を評価するための環境研究、
(2)汚染物および不純物を同定するための食品分析、
(3)天然生成物および(4)合成生成物を分析するた
めの薬剤開発、およびタンパク質成分を特徴づけるため
の生命科学を含む幾つかの目的のために利用されてい
る。
【0003】クロマトグラフィーは一連の分離技術を含
んでおり、これらの技術においては分離中の所定の時間
中に成分のある分子は固定相担体に吸着されるが、他の
分子は移動流体によって移送される。吸着された分子は
“固定相”中にあると言われるが、流体に移送された分
子は“移動相”中にあると言われる。
んでおり、これらの技術においては分離中の所定の時間
中に成分のある分子は固定相担体に吸着されるが、他の
分子は移動流体によって移送される。吸着された分子は
“固定相”中にあると言われるが、流体に移送された分
子は“移動相”中にあると言われる。
【0004】平衡時には固定相中の成分分子が移動相に
遊離される速度は移動相中の同じ分子が固定相に吸着さ
れる速度に等しい。それぞれの成分については移動相中
の分子の数に対する固定相中の分子の数の比率は分配係
数によって表示される。すなわち分配係数は成分の分子
が移動相中にある時間の平均百分率に相当する。この百
分率は固定相担体を通過する成分の移動度に関連してい
る。移動度の異なるサンプル成分は固定相担体を通過す
るときに分離する。十分に分離されると成分はクロマト
グラフィー流出液中に連続的に出てくる。
遊離される速度は移動相中の同じ分子が固定相に吸着さ
れる速度に等しい。それぞれの成分については移動相中
の分子の数に対する固定相中の分子の数の比率は分配係
数によって表示される。すなわち分配係数は成分の分子
が移動相中にある時間の平均百分率に相当する。この百
分率は固定相担体を通過する成分の移動度に関連してい
る。移動度の異なるサンプル成分は固定相担体を通過す
るときに分離する。十分に分離されると成分はクロマト
グラフィー流出液中に連続的に出てくる。
【0005】液体クロマトグラフィーシステムとガスク
ロマトグラフィーシステムの両方が知られている。液体
クロマトグラフィーにおいては、流体は有機液体溶媒、
水性液体溶媒あるいは有機溶媒と水性溶媒との混合物で
あればよい。ガスクロマトグラフィーにおいては、流体
はキャリヤーガスであればよい。もちろん、流出液はL
Cの場合には液状であり、GCの場合にはガス状であ
る。GCは揮発性成分にとって好ましい傾向があるが、
LCは非揮発性成分に対する補助的な代替手段を提供す
る。
ロマトグラフィーシステムの両方が知られている。液体
クロマトグラフィーにおいては、流体は有機液体溶媒、
水性液体溶媒あるいは有機溶媒と水性溶媒との混合物で
あればよい。ガスクロマトグラフィーにおいては、流体
はキャリヤーガスであればよい。もちろん、流出液はL
Cの場合には液状であり、GCの場合にはガス状であ
る。GCは揮発性成分にとって好ましい傾向があるが、
LCは非揮発性成分に対する補助的な代替手段を提供す
る。
【0006】サンプル混合物の分析を完結させるために
溶出成分は同定され、そして定量されなければならな
い。質量分析計は高速、高感度、高分解能の同定および
定量を提供する。質量分析計は分子質量によるサンプル
副成分のろ過と各分子質量における副成分分子の数の定
量によってサンプル成分の質量スペクトルを提供する。
溶出成分は同定され、そして定量されなければならな
い。質量分析計は高速、高感度、高分解能の同定および
定量を提供する。質量分析計は分子質量によるサンプル
副成分のろ過と各分子質量における副成分分子の数の定
量によってサンプル成分の質量スペクトルを提供する。
【0007】代表的な質量分析計は粒子ビーム入力を受
容しビームの粒子は検体分子である。質量分析計は検体
分子をイオン化してイオンビームを生成するために活性
化されたイオン源を有する。そしてイオンビームは電荷
/質量の比率に応じて掃引ろ過される。質量分析計は掃
引されたイオンビーム出力を検出および定量するために
電子増倍管を備えていてもよい。電子倍増管の経時変化
出力は電荷/質量比の函数としての濃度の質量スペクト
ルである。
容しビームの粒子は検体分子である。質量分析計は検体
分子をイオン化してイオンビームを生成するために活性
化されたイオン源を有する。そしてイオンビームは電荷
/質量の比率に応じて掃引ろ過される。質量分析計は掃
引されたイオンビーム出力を検出および定量するために
電子増倍管を備えていてもよい。電子倍増管の経時変化
出力は電荷/質量比の函数としての濃度の質量スペクト
ルである。
【0008】ガスクロマトグラフィーカラムの出力はキ
ャリヤーガスと気体状検体分子の粒子ビームである。一
般にGC粒子ビームは質量分析計に適合するので特別の
GC/MSインターフェイスは必要としない。しかしな
がら、GC充てんカラムが使用されるときにキャリヤー
ガスのバルクを除去するためにガスジェット分離器を利
用することができる。質量分析計に入るGC粒子ビーム
はイオン化されて質量分析される。
ャリヤーガスと気体状検体分子の粒子ビームである。一
般にGC粒子ビームは質量分析計に適合するので特別の
GC/MSインターフェイスは必要としない。しかしな
がら、GC充てんカラムが使用されるときにキャリヤー
ガスのバルクを除去するためにガスジェット分離器を利
用することができる。質量分析計に入るGC粒子ビーム
はイオン化されて質量分析される。
【0009】LCシステムの液体出力はそのままではイ
オン化および質量分析計の真空条件に対する必要条件に
適合しない。したがって、LC/MSインターフェイス
は液状流出液を粒子ビームに変換する粒子ビーム発生器
を備えていることができる。代表的な粒子ビーム発生器
はネブライザーガス源、噴霧器、脱溶媒和室、運動量分
離器および移送プローブを備えている。噴霧器において
は、LC流出液はヘリウムの流れに合流されて均一な小
滴よりなるエーロゾルに変換される。この小滴が脱溶媒
和室を横切るときに溶媒は蒸発されてサンプル粒子が遊
離される。
オン化および質量分析計の真空条件に対する必要条件に
適合しない。したがって、LC/MSインターフェイス
は液状流出液を粒子ビームに変換する粒子ビーム発生器
を備えていることができる。代表的な粒子ビーム発生器
はネブライザーガス源、噴霧器、脱溶媒和室、運動量分
離器および移送プローブを備えている。噴霧器において
は、LC流出液はヘリウムの流れに合流されて均一な小
滴よりなるエーロゾルに変換される。この小滴が脱溶媒
和室を横切るときに溶媒は蒸発されてサンプル粒子が遊
離される。
【0010】サンプル粒子はビームとして運動量分離器
中を進行する。真空ポンプは運動量分離器を脱溶媒和室
よりも低い圧力に維持する。真空ポンプは通過する粒子
を横方向にそらし、運動量が比較的低いヘリウムと溶媒
蒸気を真空排気システムに導入する。運動量が比較的高
いサンプル粒子は移送プローブによって質量分析計に入
る粒子ビーム中に残留する。そしてこの粒子ビームは質
量分析計の必要条件に十分に適合する。次にサンプル粒
子はイオン化されて質量分析計によって質量分析され
る。
中を進行する。真空ポンプは運動量分離器を脱溶媒和室
よりも低い圧力に維持する。真空ポンプは通過する粒子
を横方向にそらし、運動量が比較的低いヘリウムと溶媒
蒸気を真空排気システムに導入する。運動量が比較的高
いサンプル粒子は移送プローブによって質量分析計に入
る粒子ビーム中に残留する。そしてこの粒子ビームは質
量分析計の必要条件に十分に適合する。次にサンプル粒
子はイオン化されて質量分析計によって質量分析され
る。
【0011】GC/LC/MSシステムは質量分析法の
利点に広い種類のサンプルの適合性を提供する。質量分
析計成分を二重に利用するために質量分析計へのGC入
力とLC入力は直径方向に反対になる可能性がある。G
C/LC/MSシステムはGC適合サンプルが分析され
るときにはGCモードで操作することができ、LC適合
サンプルが分析されるときにはLCモードで操作するこ
とができる。シグナルノイズを最小にするためには、G
CモードGCモードの時にはLC入力を閉じることが通
常行われることである。
利点に広い種類のサンプルの適合性を提供する。質量分
析計成分を二重に利用するために質量分析計へのGC入
力とLC入力は直径方向に反対になる可能性がある。G
C/LC/MSシステムはGC適合サンプルが分析され
るときにはGCモードで操作することができ、LC適合
サンプルが分析されるときにはLCモードで操作するこ
とができる。シグナルノイズを最小にするためには、G
CモードGCモードの時にはLC入力を閉じることが通
常行われることである。
【0012】サンプルの量が少ないときには、分光計に
おける検体の損失を最低限に保持することが重要であ
る。このことはGCに当てはまるが、質量分析計におけ
る損失が粒子ビーム発生器における損失に加わるLCの
場合に特に当てはまる。さらに、LCは大抵はイオン化
中にフラグメンテーションを受ける大きい分子を生成す
る。このフラグメンテーションは単一のピークであった
であろうピークを複数のより小さいピークに分割して、
SN比を減少させそして質量分光写真の説明を複雑にす
る。
おける検体の損失を最低限に保持することが重要であ
る。このことはGCに当てはまるが、質量分析計におけ
る損失が粒子ビーム発生器における損失に加わるLCの
場合に特に当てはまる。さらに、LCは大抵はイオン化
中にフラグメンテーションを受ける大きい分子を生成す
る。このフラグメンテーションは単一のピークであった
であろうピークを複数のより小さいピークに分割して、
SN比を減少させそして質量分光写真の説明を複雑にす
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】必要なものは、このフ
ラグメンテーションおよび質量分析計におけるLC検体
の損失を最低限にするシステムおよび方法である。
ラグメンテーションおよび質量分析計におけるLC検体
の損失を最低限にするシステムおよび方法である。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は質量分析計にお
ける粒子ビームに向流ガスを供給する。GC/LC/M
Sシステムにおいては、LC粒子ビームに対する向流ガ
スは向流ガス源としてのGCシステムを利用することに
よって供給することができる。向流は粒子ビームを吸収
して検体の損失を減少させ、そしてフラグメンテーショ
ンを軽減する。SN比の増大は向流の速度を30〜50
cm/sec.の範囲に最適にすることによって、そして向
流ガスの温度を100℃〜300℃の範囲に最適にする
ことによって改善することができる。
ける粒子ビームに向流ガスを供給する。GC/LC/M
Sシステムにおいては、LC粒子ビームに対する向流ガ
スは向流ガス源としてのGCシステムを利用することに
よって供給することができる。向流は粒子ビームを吸収
して検体の損失を減少させ、そしてフラグメンテーショ
ンを軽減する。SN比の増大は向流の速度を30〜50
cm/sec.の範囲に最適にすることによって、そして向
流ガスの温度を100℃〜300℃の範囲に最適にする
ことによって改善することができる。
【0015】本発明は大きさのオーダーによってシグナ
ル強度を改善する。説明のために、そして限定のためで
はないが、シグナル強度の増大は向流ガスからLC粒子
ビームにおける溶媒/検体クラスターへの熱エネルギー
の伝達に由来するものであると考えられる。この付加さ
れた熱エネルギーはこれらの溶媒/検体クラスターがイ
オン源の熱い金属表面と接触することによって熱によっ
て分解する可能性がある前に脱溶媒和し、そして蒸発す
るのを助長する。向流ガスはまたイオン化されそして質
量分析器に向って集中される前に源泉体積から出てくる
運動量の高い検体粒子の百分率を減少させる。本発明の
前述の特徴その他の特徴および利点は図面を参照した以
下の説明から明らかである。
ル強度を改善する。説明のために、そして限定のためで
はないが、シグナル強度の増大は向流ガスからLC粒子
ビームにおける溶媒/検体クラスターへの熱エネルギー
の伝達に由来するものであると考えられる。この付加さ
れた熱エネルギーはこれらの溶媒/検体クラスターがイ
オン源の熱い金属表面と接触することによって熱によっ
て分解する可能性がある前に脱溶媒和し、そして蒸発す
るのを助長する。向流ガスはまたイオン化されそして質
量分析器に向って集中される前に源泉体積から出てくる
運動量の高い検体粒子の百分率を減少させる。本発明の
前述の特徴その他の特徴および利点は図面を参照した以
下の説明から明らかである。
【0016】本発明によるGC/LC/MSシステム1
0は、LCシステム12、粒子ビーム発生器14、質量
分析計16、GCシステム18および制御装置20を含
んでいる。システム10のLCモードにおいては、LC
システム12は粒子ビーム発生器14にLC流出液を供
給する。粒子ビーム発生器14はLC流出液を“LC”
粒子ビームに変換させ、この粒子ビームが質量分析計1
6に導入される。システム10のGCモードにおいて
は、GCシステム18は質量分析計16にGC粒子ビー
ムを供給する。制御装置20はシステム構成部品の操作
を所望のモードを実施するように調整する。次にLCモ
ードにあるシステム10の操作を説明する。
0は、LCシステム12、粒子ビーム発生器14、質量
分析計16、GCシステム18および制御装置20を含
んでいる。システム10のLCモードにおいては、LC
システム12は粒子ビーム発生器14にLC流出液を供
給する。粒子ビーム発生器14はLC流出液を“LC”
粒子ビームに変換させ、この粒子ビームが質量分析計1
6に導入される。システム10のGCモードにおいて
は、GCシステム18は質量分析計16にGC粒子ビー
ムを供給する。制御装置20はシステム構成部品の操作
を所望のモードを実施するように調整する。次にLCモ
ードにあるシステム10の操作を説明する。
【0017】LCシステム12は溶液中のサンプル混合
物の成分を分離するようになっている。溶媒は有機溶媒
であっても水性溶媒であってもよく、水性溶媒は極性成
分をより効果的に溶解するが、有機溶媒は非極生成分を
より効果的に溶解する。広い範囲の極性を有する成分を
有するサンプルを取扱うためにLCシステム12は、溶
媒が有機溶媒から有機溶媒/水性溶媒混合物へ、次に水
性溶媒へと徐々に変化する逆相液体クロマトグラフィー
を行なうことができる。LCシステム12の流出液は連
続的に出てくるサンプル成分あるいは“LC検体”を含
んだ溶媒流である。
物の成分を分離するようになっている。溶媒は有機溶媒
であっても水性溶媒であってもよく、水性溶媒は極性成
分をより効果的に溶解するが、有機溶媒は非極生成分を
より効果的に溶解する。広い範囲の極性を有する成分を
有するサンプルを取扱うためにLCシステム12は、溶
媒が有機溶媒から有機溶媒/水性溶媒混合物へ、次に水
性溶媒へと徐々に変化する逆相液体クロマトグラフィー
を行なうことができる。LCシステム12の流出液は連
続的に出てくるサンプル成分あるいは“LC検体”を含
んだ溶媒流である。
【0018】粒子ビーム発生器14は、図2に示される
ように分散ガス源(ヘリウムガス源)22、噴霧器2
4、脱溶媒和室26、運動量分離器28および出力孔3
0より構成されている。分散ガス源22は管路32を経
由して加圧下噴霧器24にヘリウムの流れを供給する。
同時にLCシステム12からの流れは管路34を経由し
て粒子ビーム発生器14に移送される。流出液と分散ガ
スは噴霧器24内で互いに接触する。分散ガスと流出液
は噴霧器24のノズル36を流過するので狭い範囲の粒
経を有する小滴よりなるエーロゾルが脱溶媒和室26に
入る。
ように分散ガス源(ヘリウムガス源)22、噴霧器2
4、脱溶媒和室26、運動量分離器28および出力孔3
0より構成されている。分散ガス源22は管路32を経
由して加圧下噴霧器24にヘリウムの流れを供給する。
同時にLCシステム12からの流れは管路34を経由し
て粒子ビーム発生器14に移送される。流出液と分散ガ
スは噴霧器24内で互いに接触する。分散ガスと流出液
は噴霧器24のノズル36を流過するので狭い範囲の粒
経を有する小滴よりなるエーロゾルが脱溶媒和室26に
入る。
【0019】脱溶媒和室26は周囲の温度および圧力に
近い状態に保持される。エーロゾル小滴中の溶媒は小滴
が出口のジェットノズル40に向って脱溶媒和室26を
横切るときに蒸発する。ノズル40から出てくるものは
ヘリウム、溶媒蒸気および検体粒子よりなる混合物であ
る。
近い状態に保持される。エーロゾル小滴中の溶媒は小滴
が出口のジェットノズル40に向って脱溶媒和室26を
横切るときに蒸発する。ノズル40から出てくるものは
ヘリウム、溶媒蒸気および検体粒子よりなる混合物であ
る。
【0020】この混合物は比較的圧力の低い運動量分離
器28に向って加速される。運動量分離器28の第1段
階44は約2〜10トールの圧力に維持される。第1段
階44に入ると、混合物はビームに集中されて超音速で
膨脹する。ヘリウムと溶媒蒸気は真空によって第1の排
気46中にそらされる。比較的大きくて重い検体粒子は
第1段階スキマー48の中心孔を通過する。
器28に向って加速される。運動量分離器28の第1段
階44は約2〜10トールの圧力に維持される。第1段
階44に入ると、混合物はビームに集中されて超音速で
膨脹する。ヘリウムと溶媒蒸気は真空によって第1の排
気46中にそらされる。比較的大きくて重い検体粒子は
第1段階スキマー48の中心孔を通過する。
【0021】運動量分離器28の第2段階50は第1段
階44によって排出されなかったヘリウムと溶媒蒸気の
痕跡を排出するように操作される。第2段階50は第2
段階排気孔52と第2段階スキマー54を有する。真空
実施第2段階排気孔52は第2段階の圧力を1トール以
下に維持する。第2段階スキマー54の開口部から出る
検体粒子ビームは出力孔30に入る。孔30から粒子ビ
ームは図1に示すように移送プローブ56から質量分析
計16に導かれる。
階44によって排出されなかったヘリウムと溶媒蒸気の
痕跡を排出するように操作される。第2段階50は第2
段階排気孔52と第2段階スキマー54を有する。真空
実施第2段階排気孔52は第2段階の圧力を1トール以
下に維持する。第2段階スキマー54の開口部から出る
検体粒子ビームは出力孔30に入る。孔30から粒子ビ
ームは図1に示すように移送プローブ56から質量分析
計16に導かれる。
【0022】質量分析計16は図1に示されるようにイ
オン源60と質量分析器62を備えている。イオン源6
0はLC入力64、GC入力66、フィラメント68、
イオン焦点レンズ70およびレンズスタック72を有す
る。LCモードにおいては、GCシステム18は(サン
プルがないときは)LC入力64と直径方向反対側にあ
るGC入力66から向流ガスを供給するように操作され
る。向流ガスの速度は約41cm/sec.で向流ガスの温
度は約250℃であることが好ましい。この向流ガスは
LC入力64に入ってイオン源60に至るLC粒子ビー
ムを“緩和する”。
オン源60と質量分析器62を備えている。イオン源6
0はLC入力64、GC入力66、フィラメント68、
イオン焦点レンズ70およびレンズスタック72を有す
る。LCモードにおいては、GCシステム18は(サン
プルがないときは)LC入力64と直径方向反対側にあ
るGC入力66から向流ガスを供給するように操作され
る。向流ガスの速度は約41cm/sec.で向流ガスの温
度は約250℃であることが好ましい。この向流ガスは
LC入力64に入ってイオン源60に至るLC粒子ビー
ムを“緩和する”。
【0023】LC粒子ビームはイオン源60から質量分
析器62までの圧力降下のために質量分析器62に向っ
て分散する。抵抗線条68を通る電流は電子を放出させ
る。(線条68は図1の外側の位置に示されており、実
際イオン焦点レンズ70の上側で頁の上方にある)。電
子はLC粒子ビームに衝撃を与えて検体分子をイオン化
する。生成したイオンビームはレンズスタック72によ
って調整され圧力差によって質量分析器62に導入され
る。質量分析器62は4極子マスフィルター74及び電
子増倍管76を有する。マスフィルター74は電子増倍
管76に到達し検出されるような特定の電荷/質量比を
選択する。
析器62までの圧力降下のために質量分析器62に向っ
て分散する。抵抗線条68を通る電流は電子を放出させ
る。(線条68は図1の外側の位置に示されており、実
際イオン焦点レンズ70の上側で頁の上方にある)。電
子はLC粒子ビームに衝撃を与えて検体分子をイオン化
する。生成したイオンビームはレンズスタック72によ
って調整され圧力差によって質量分析器62に導入され
る。質量分析器62は4極子マスフィルター74及び電
子増倍管76を有する。マスフィルター74は電子増倍
管76に到達し検出されるような特定の電荷/質量比を
選択する。
【0024】マスフィルター74は検出された電荷/質
量比が適時に変化するように掃引される。そして電子増
倍管76の記録された出力は検体濃度が電荷/質量比の
函数としてプロットされる質量スペクトルである。検体
を同定するためにピークの配置を利用することができる
が、検体濃度を測定するためにはピーク領域を利用する
ことができる。
量比が適時に変化するように掃引される。そして電子増
倍管76の記録された出力は検体濃度が電荷/質量比の
函数としてプロットされる質量スペクトルである。検体
を同定するためにピークの配置を利用することができる
が、検体濃度を測定するためにはピーク領域を利用する
ことができる。
【0025】システム10のLCモード操作法100は
図3にフローチャートで示されている。段階101にお
いては、LCシステム12がLC流出液を生成するため
に操作される。段階102においては、LC流出液は粒
子ビーム発生器14によって粒子ビームに変換される。
段階103においては、粒子ビームは質量分析計16中
に導入される。
図3にフローチャートで示されている。段階101にお
いては、LCシステム12がLC流出液を生成するため
に操作される。段階102においては、LC流出液は粒
子ビーム発生器14によって粒子ビームに変換される。
段階103においては、粒子ビームは質量分析計16中
に導入される。
【0026】段階104においては、粒子ビームは向流
ガスによって緩和される。段階104の準備は段階11
3に示されており、この段階は粒子ビームが質量分析計
16に入る時間までに向流ガスが到達するようにGCシ
ステム18(GCサンプルを含まない)を開始すること
を含む。段階113は向流速度を30〜50cm/sec.
の範囲、好ましくは約41cm/sec.に調節すること、
および向流ガス温度が100℃〜300℃の範囲、好ま
しくは約250℃になるようにGCシステム18のGC
オーブンを調節することを含んでいてもよい。
ガスによって緩和される。段階104の準備は段階11
3に示されており、この段階は粒子ビームが質量分析計
16に入る時間までに向流ガスが到達するようにGCシ
ステム18(GCサンプルを含まない)を開始すること
を含む。段階113は向流速度を30〜50cm/sec.
の範囲、好ましくは約41cm/sec.に調節すること、
および向流ガス温度が100℃〜300℃の範囲、好ま
しくは約250℃になるようにGCシステム18のGC
オーブンを調節することを含んでいてもよい。
【0027】段階105においては、緩和された粒子ビ
ームがイオン化される。段階106においては、生成し
たイオンビームが調整されて質量分析器62中に導入さ
れる。段階107においては、イオンビームが質量分析
されて質量スペクトルを生成する。質量分析は質量ろ過
およびイオン検出の副段階を含んでいる。
ームがイオン化される。段階106においては、生成し
たイオンビームが調整されて質量分析器62中に導入さ
れる。段階107においては、イオンビームが質量分析
されて質量スペクトルを生成する。質量分析は質量ろ過
およびイオン検出の副段階を含んでいる。
【0028】システム10のGCモード操作は慣用的な
ものである。LCシステム12と粒子ビーム発生器14
は移送プローブ60に沿ってバルブを閉じることによっ
て質量分析計から連結を解かれて操作される。(理論上
は粒子ビーム発生器はGC粒子ビームを緩和するように
操作することができる。)GCオーブンはGCサンプル
を蒸発するために調節される。生成した蒸気はキャリヤ
ーガス(向流ガス、例えばヘリウムと同じ)によってG
Cカラムに沿って掃引される。GCサンプル成分はキャ
リヤーガスと固定相担体との間で分配され、GCサンプ
ル成分を連続的に流出させる。それから連続的に流出し
た成分はGC入力64から質量分析計に入る。そして成
分はイオン化され、質量分析される。
ものである。LCシステム12と粒子ビーム発生器14
は移送プローブ60に沿ってバルブを閉じることによっ
て質量分析計から連結を解かれて操作される。(理論上
は粒子ビーム発生器はGC粒子ビームを緩和するように
操作することができる。)GCオーブンはGCサンプル
を蒸発するために調節される。生成した蒸気はキャリヤ
ーガス(向流ガス、例えばヘリウムと同じ)によってG
Cカラムに沿って掃引される。GCサンプル成分はキャ
リヤーガスと固定相担体との間で分配され、GCサンプ
ル成分を連続的に流出させる。それから連続的に流出し
た成分はGC入力64から質量分析計に入る。そして成
分はイオン化され、質量分析される。
【0029】
【試験I】LCシステムは水性溶媒を使用してスルホニ
ル尿素除草剤の成分を分離するためにLCシステムが利
用された。まず、GCシステムはMSインターフェイス
中に残され、GCカラム温度は50℃、カラムのヘッド
圧力は5Psig、ガス速度は25cm/sec.であった。線
速度を増大させると、シグナル強度の顕着な増大が認め
られた。この増大は41cm/sec.においてピークに達
した(level out)。この速度においてはシグナル強度
は25cm/sec.における強度の10倍以上に増大し
た。
ル尿素除草剤の成分を分離するためにLCシステムが利
用された。まず、GCシステムはMSインターフェイス
中に残され、GCカラム温度は50℃、カラムのヘッド
圧力は5Psig、ガス速度は25cm/sec.であった。線
速度を増大させると、シグナル強度の顕着な増大が認め
られた。この増大は41cm/sec.においてピークに達
した(level out)。この速度においてはシグナル強度
は25cm/sec.における強度の10倍以上に増大し
た。
【0030】線速度を41cm/sec.に維持すると、G
Cオーブン温度したがって向流の温度は増大した。シグ
ナル強度は温度とともに増大し250℃においてピーク
に達した。41cm/sec.で250℃のときのシグナル
強度は25cm/sec.で50℃のときの強度の10倍以
上であった。線速度および/または温度は低下し、シグ
ナル強度も同様に低下する。
Cオーブン温度したがって向流の温度は増大した。シグ
ナル強度は温度とともに増大し250℃においてピーク
に達した。41cm/sec.で250℃のときのシグナル
強度は25cm/sec.で50℃のときの強度の10倍以
上であった。線速度および/または温度は低下し、シグ
ナル強度も同様に低下する。
【0031】向流がないときには、スルキニル尿素除草
剤の電子衝撃スペクトルは少なくとも四つの特徴的なフ
ラグメントイオンを含み、分子イオンは全く含まない。
基準ピークは136原子質量単位(amu)であり、ス
ルホンアミドCH3CN*H2O錯体を示している。15
5amuのイオンはトリアジンイソシアナートである。
221amuのイオンはトリアジンアミンである。28
0amuのイオンはスルホンアミド尿素である。相対的
な比率はそれぞれ100、50、40および20であ
る。
剤の電子衝撃スペクトルは少なくとも四つの特徴的なフ
ラグメントイオンを含み、分子イオンは全く含まない。
基準ピークは136原子質量単位(amu)であり、ス
ルホンアミドCH3CN*H2O錯体を示している。15
5amuのイオンはトリアジンイソシアナートである。
221amuのイオンはトリアジンアミンである。28
0amuのイオンはスルホンアミド尿素である。相対的
な比率はそれぞれ100、50、40および20であ
る。
【0032】向流が導入されてその速度と温度が上げら
れるとフラグメンテーションは“緩和される”。136
amuフラグメントは実質的に消失し、基準ピークとし
て221amuを残す。少量の分子イオン(387am
u)も強調スペクトル中に認められ、フラグメンテーシ
ョンの減少を示している。
れるとフラグメンテーションは“緩和される”。136
amuフラグメントは実質的に消失し、基準ピークとし
て221amuを残す。少量の分子イオン(387am
u)も強調スペクトル中に認められ、フラグメンテーシ
ョンの減少を示している。
【0033】
【試験II】前述の手順がスルホニル尿素除草剤の代り
にスクロースに対して適用された。感度は増大したが
(スクロースはフラグメントではないので)フラグメン
テーションは減少しなかった。
にスクロースに対して適用された。感度は増大したが
(スクロースはフラグメントではないので)フラグメン
テーションは減少しなかった。
【0034】前述の説明はGC/LC/MSシステムに
関するが粒子ビームの源泉が何であろうと、向流ガスの
源泉が何であろうと本発明が適用されることは明らかで
ある。したがって、本発明は代替え粒子ビーム源および
代替えの向流ガスを提供する。好ましい実施態様に対す
るこれらおよびその他の変更態様が本発明によって提供
され、本発明の範囲は特許請求の範囲によってのみ限定
される。
関するが粒子ビームの源泉が何であろうと、向流ガスの
源泉が何であろうと本発明が適用されることは明らかで
ある。したがって、本発明は代替え粒子ビーム源および
代替えの向流ガスを提供する。好ましい実施態様に対す
るこれらおよびその他の変更態様が本発明によって提供
され、本発明の範囲は特許請求の範囲によってのみ限定
される。
【0035】以上、本発明の実施例について詳述した
が、以下、本発明の各実施態様毎に列挙する。 (1)粒子ビームを分析する方法において、前記粒子ビー
ムに対向してガスを流す工程と、前記粒子ビームをイオ
ン化してイオンビームを生成する工程と、前記イオンビ
ームを質量分析器に導入する工程と、前記イオンビーム
を質量分析する工程と、を含むことを特徴とする粒子ビ
ームの分析法。
が、以下、本発明の各実施態様毎に列挙する。 (1)粒子ビームを分析する方法において、前記粒子ビー
ムに対向してガスを流す工程と、前記粒子ビームをイオ
ン化してイオンビームを生成する工程と、前記イオンビ
ームを質量分析器に導入する工程と、前記イオンビーム
を質量分析する工程と、を含むことを特徴とする粒子ビ
ームの分析法。
【0036】(2)LCモードのGC/LC/MSシステ
ムを操作する方法において、LC流出液を発生させる工
程と、前記LC流出液から粒子ビームを発生させる工程
と、前記粒子ビームを質量分析計に導入する工程と、前
記質量分析計に前記粒子ビームに対向してGCキャリヤ
ーガス流を供給するようGCシステムを操作する工程
と、前記粒子をイオン化してイオンビームを生成する工
程と、前記イオンビームを質量分析器中に導入する工程
と、前記イオンビームを質量分析する工程と、を含むこ
とを特徴とするGC/LC/MSシステムの操作法。
ムを操作する方法において、LC流出液を発生させる工
程と、前記LC流出液から粒子ビームを発生させる工程
と、前記粒子ビームを質量分析計に導入する工程と、前
記質量分析計に前記粒子ビームに対向してGCキャリヤ
ーガス流を供給するようGCシステムを操作する工程
と、前記粒子をイオン化してイオンビームを生成する工
程と、前記イオンビームを質量分析器中に導入する工程
と、前記イオンビームを質量分析する工程と、を含むこ
とを特徴とするGC/LC/MSシステムの操作法。
【0037】(3)前記GCキャリヤーガス流が30〜5
0cm/sec.の速度を有することを特徴とする前項(2)
記載のGC/LC/MSシステムの操作法。
0cm/sec.の速度を有することを特徴とする前項(2)
記載のGC/LC/MSシステムの操作法。
【0038】(4)前記GCキャリヤーガス流が100℃
〜300℃の温度を有することを特徴とする前項(2)又
は(3)記載のGC/LC/MSシステムの操作法。
〜300℃の温度を有することを特徴とする前項(2)又
は(3)記載のGC/LC/MSシステムの操作法。
【0039】(5)前記LC流出液が水溶液であることを
特徴とする前項(2)、(3)又は(4)記載のGC/LC/M
Sシステムの操作法。
特徴とする前項(2)、(3)又は(4)記載のGC/LC/M
Sシステムの操作法。
【0040】(6)検体粒子を有する粒子ビームを供給す
る粒子ビーム発生器と、前記粒子ビームを分析する質量
分析計であって、前記粒子ビームを導入するために前記
粒子ビーム発生器に連結された粒子ビーム入力と、前記
検体粒子をイオン化して検体イオンを有するイオンビー
ムを生成するイオン化器と、少なくとも一部が質量の函
数として前記イオンビームの前記イオンを分離する質量
分析器とを備えた質量分析計を備えたものと、前記イオ
ン化器において前記粒子ビームに向流ガスを供給する向
流ガス源と、前記向流ガス源に連結され、前記質量分析
計が前記粒子ビームを導入している間前記向流ガスの流
れを生じさせる制御装置と、を含むことを特徴とする分
析システム。
る粒子ビーム発生器と、前記粒子ビームを分析する質量
分析計であって、前記粒子ビームを導入するために前記
粒子ビーム発生器に連結された粒子ビーム入力と、前記
検体粒子をイオン化して検体イオンを有するイオンビー
ムを生成するイオン化器と、少なくとも一部が質量の函
数として前記イオンビームの前記イオンを分離する質量
分析器とを備えた質量分析計を備えたものと、前記イオ
ン化器において前記粒子ビームに向流ガスを供給する向
流ガス源と、前記向流ガス源に連結され、前記質量分析
計が前記粒子ビームを導入している間前記向流ガスの流
れを生じさせる制御装置と、を含むことを特徴とする分
析システム。
【0041】前項(6)記載の分析システムにおいて、L
C検体と溶媒を含む前記流出液を供給する前記粒子ビー
ム発生器に連結されたLCシステムを備え、前記粒子ビ
ーム発生器は、噴霧を助長するネブライザーガスを供給
するガス源を有して前記流出液を検体と溶媒を含む小滴
に噴霧化する噴霧器と、前記小滴を脱溶媒和してLC検
体粒子、溶媒蒸気およびネブライザーガスよりなる混合
物を生成する脱溶媒和室と、前記混合物から前記溶媒蒸
気と前記ネブライザーガスを分離する分離器とを備え、
前記向流ガス源は、GC検体のGCビームと前記向流ガ
スを供給するGCシステムであり、前記質量分析計は、
GCシステムに連結され前記向流ガスを前記質量分析計
に導入するGC入力を有し、前記イオン化器は、前記G
C検体のイオン化を行ない、前記制御装置は、GCモー
ドおよびLCモードの操作を提供し、前記分析システム
がそのGCモードにあるときにはGCシステムにGC検
体を含む前記GCビームを生成させ、前記分析システム
がLCモードにあるときにはGCシステムにGC検体を
含まない前記向流ガスを生成させることを特徴とするG
C/LC/MSシステム。
C検体と溶媒を含む前記流出液を供給する前記粒子ビー
ム発生器に連結されたLCシステムを備え、前記粒子ビ
ーム発生器は、噴霧を助長するネブライザーガスを供給
するガス源を有して前記流出液を検体と溶媒を含む小滴
に噴霧化する噴霧器と、前記小滴を脱溶媒和してLC検
体粒子、溶媒蒸気およびネブライザーガスよりなる混合
物を生成する脱溶媒和室と、前記混合物から前記溶媒蒸
気と前記ネブライザーガスを分離する分離器とを備え、
前記向流ガス源は、GC検体のGCビームと前記向流ガ
スを供給するGCシステムであり、前記質量分析計は、
GCシステムに連結され前記向流ガスを前記質量分析計
に導入するGC入力を有し、前記イオン化器は、前記G
C検体のイオン化を行ない、前記制御装置は、GCモー
ドおよびLCモードの操作を提供し、前記分析システム
がそのGCモードにあるときにはGCシステムにGC検
体を含む前記GCビームを生成させ、前記分析システム
がLCモードにあるときにはGCシステムにGC検体を
含まない前記向流ガスを生成させることを特徴とするG
C/LC/MSシステム。
【0042】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、質量分析計
における粒子ビームに向流ガスを供給することによっ
て、検体の損失を減少させ、フラグメンテーションを軽
減することができる。
における粒子ビームに向流ガスを供給することによっ
て、検体の損失を減少させ、フラグメンテーションを軽
減することができる。
【図1】図1は本発明によるGC/LC/MSシステム
の略図である。
の略図である。
【図2】図2は図1のGC/LC/MSに含まれている
粒子ビーム発生器の略図である。
粒子ビーム発生器の略図である。
【図3】図3は本発明による図1のGC/LC/MSシ
ステムにおいて利用されるMS法のフローチャートであ
る。
ステムにおいて利用されるMS法のフローチャートであ
る。
10:GC/LC/MCシステム 12:LCシステム 14:粒子ビーム発生器 16:質量分析計 18:GCシステム 20:制御装置 22:分散ガス源 24:噴霧器 26:脱溶媒和室 28:運動量分離器 30:出力孔 60:イオン源 62:質料分析器 64:LC入力 66:GC入力 68:フィラメント 70:イオン焦
Claims (4)
- 【請求項1】粒子ビームを分析する方法において、 前記粒子ビームに対向してガスを流す工程と、 前記粒子ビームをイオン化してイオンビームを生成する
工程と、 前記イオンビームを質量分析器に導入する工程と、 前記イオンビームを質量分析する工程と、を含むことを
特徴とする粒子ビームの分析法。 - 【請求項2】LCモードのGC/LC/MSシステムを
操作する方法において、 LC流出液を発生させる工程と、 前記LC流出液から粒子ビームを発生させる工程と、 前記粒子ビームを質量分析計に導入する工程と、 前記質量分析計に前記粒子ビームに対向してGCキャリ
ヤーガス流を供給するようGCシステムを操作する工程
と、 前記粒子をイオン化してイオンビームを生成する工程
と、 前記イオンビームを質量分析器中に導入する工程と、 前記イオンビームを質量分析する工程と、を含むことを
特徴とするGC/LC/MSシステムの操作法。 - 【請求項3】検体粒子を有する粒子ビームを供給する粒
子ビーム発生器と、 前記粒子ビームを分析する質量分析計であって、前記粒
子ビームを導入するために前記粒子ビーム発生器に連結
された粒子ビーム入力と、前記検体粒子をイオン化して
検体イオンを有するイオンビームを生成するイオン化器
と、少なくとも一部が質量の函数として前記イオンビー
ムの前記イオンを分離する質量分析器とを備えた質量分
析計を備えたものと、 前記イオン化器において前記粒子ビームに向流ガスを供
給する向流ガス源と、 前記向流ガス源に連結され、前記質量分析計が前記粒子
ビームを導入している間前記向流ガスの流れを生じさせ
る制御装置と、を含むことを特徴とする分析システム。 - 【請求項4】請求項3記載の分析システムにおいて、 LC検体と溶媒を含む前記流出液を供給する前記粒子ビ
ーム発生器に連結されたLCシステムを備え、 前記粒子ビーム発生器は、 噴霧を助長するネブライザーガスを供給するガス源を有
して前記流出液を検体と溶媒を含む小滴に噴霧化する噴
霧器と、 前記小滴を脱溶媒和してLC検体粒子、溶媒蒸気および
ネブライザーガスよりなる混合物を生成する脱溶媒和室
と、 前記混合物から前記溶媒蒸気と前記ネブライザーガスを
分離する分離器とを備え、 前記向流ガス源は、GC検体のGCビームと前記向流ガ
スを供給するGCシステムであり、 前記質量分析計は、GCシステムに連結され前記向流ガ
スを前記質量分析計に導入するGC入力を有し、 前記イオン化器は、前記GC検体のイオン化を行ない、 前記制御装置は、GCモードおよびLCモードの操作を
提供し、前記分析システムがそのGCモードにあるとき
にはGCシステムにGC検体を含む前記GCビームを生
成させ、前記分析システムがLCモードにあるときには
GCシステムにGC検体を含まない前記向流ガスを生成
させることを特徴とするGC/LC/MSシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US066,369 | 1993-05-24 | ||
| US08/066,369 US5359196A (en) | 1993-05-24 | 1993-05-24 | Mass spectrometry with gas counterflow for particle beam |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07140126A true JPH07140126A (ja) | 1995-06-02 |
Family
ID=22069069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6133718A Pending JPH07140126A (ja) | 1993-05-24 | 1994-05-24 | 粒子ビームのためのガス向流を備えた質量分析法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5359196A (ja) |
| EP (1) | EP0627758A3 (ja) |
| JP (1) | JPH07140126A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5412208A (en) * | 1994-01-13 | 1995-05-02 | Mds Health Group Limited | Ion spray with intersecting flow |
| EP1137046A2 (en) * | 2000-03-13 | 2001-09-26 | Agilent Technologies Inc. a Delaware Corporation | Manufacturing precision multipole guides and filters |
| DE60237196D1 (de) * | 2001-03-29 | 2010-09-16 | Wisconsin Alumni Res Found | Piezoelektrisch geladene tröpfchenquelle |
| DE10127353B4 (de) * | 2001-06-06 | 2005-02-24 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Dosieren und Verdampfen kleiner Mengen einer Flüssigkeit |
| WO2004081173A2 (en) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Evogene Ltd. | Nucleotide sequences regulating gene expression and constructs and methods utilizing same |
| US7518108B2 (en) * | 2005-11-10 | 2009-04-14 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrospray ionization ion source with tunable charge reduction |
| US7679052B2 (en) * | 2006-08-07 | 2010-03-16 | Kwj Engineering, Inc. | Methods of separating ionized particles |
| DE102009059963B4 (de) * | 2009-12-22 | 2011-11-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Flüssigdosier-Vorrichtung für einen Gasanalysator |
| CN102820201B (zh) * | 2012-09-02 | 2015-06-17 | 王利兵 | 同轴嵌套型多模式离子源 |
| CN102800553B (zh) * | 2012-09-02 | 2015-07-29 | 王利兵 | 一种气相液相色谱-电子轰击电喷雾双重离子源飞行时间质谱系统 |
| JP2024002021A (ja) * | 2022-06-23 | 2024-01-11 | 株式会社島津製作所 | イオン化装置及びイオン化方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4023398A (en) * | 1975-03-03 | 1977-05-17 | John Barry French | Apparatus for analyzing trace components |
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