JPH07145164A - ジチオカーボネート誘導体及びそれを用いる架橋方法 - Google Patents
ジチオカーボネート誘導体及びそれを用いる架橋方法Info
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- JPH07145164A JPH07145164A JP28560393A JP28560393A JPH07145164A JP H07145164 A JPH07145164 A JP H07145164A JP 28560393 A JP28560393 A JP 28560393A JP 28560393 A JP28560393 A JP 28560393A JP H07145164 A JPH07145164 A JP H07145164A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ホルマリンを発生せず、低温でも容易に重合体
を架橋できる新規化合物及びそれを用いる架橋方法を提
供する。 【構成】式（１）で表されるジチオカーボネート誘導体
及びそれを用いて活性水素含有官能基を有する重合体を
架橋する方法。 【化１】 （式中、Ｒはアルキレン基またはフェニレン基を示す。
a、b、c及びdは０または１を示し、それらはそれぞれ同
じものであっても、異なったものであっても良い。） 【効果】ホルマリンを発生せず、低温でも容易に重合体
を架橋できる新規化合物及びそれを用いる架橋方法を提
供することができる。
を架橋できる新規化合物及びそれを用いる架橋方法を提
供する。 【構成】式（１）で表されるジチオカーボネート誘導体
及びそれを用いて活性水素含有官能基を有する重合体を
架橋する方法。 【化１】 （式中、Ｒはアルキレン基またはフェニレン基を示す。
a、b、c及びdは０または１を示し、それらはそれぞれ同
じものであっても、異なったものであっても良い。） 【効果】ホルマリンを発生せず、低温でも容易に重合体
を架橋できる新規化合物及びそれを用いる架橋方法を提
供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なジチオカーボネー
ト誘導体及びそれを用いる架橋方法に関する。
ト誘導体及びそれを用いる架橋方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】重合体を架橋してなる架橋体は耐熱性、
耐水性、耐溶剤溶解性、耐油性などに優れているため、
塗料、接着剤、繊維などの分野で広く利用することがで
きる。架橋剤としては、例えば、メチロール尿素、メチ
ロールフェノールなどが知られているが、これらは通
常、１３０℃以上の高温下でないと架橋反応が進行しに
くいため操作性や経済性などの点で問題があった。さら
にそのような高温下ではホルマリンが発生するため安全
性の点でも問題があった。
耐水性、耐溶剤溶解性、耐油性などに優れているため、
塗料、接着剤、繊維などの分野で広く利用することがで
きる。架橋剤としては、例えば、メチロール尿素、メチ
ロールフェノールなどが知られているが、これらは通
常、１３０℃以上の高温下でないと架橋反応が進行しに
くいため操作性や経済性などの点で問題があった。さら
にそのような高温下ではホルマリンが発生するため安全
性の点でも問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、かかる
事情のもとに鋭意検討した結果、後記式（２）で表され
新規なジチオカーボネート誘導体は、１００℃以下の温
度でも容易に重合体を架橋することができ、またその際
にホルマリンのような毒性物質を発生しないことを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに到った。
事情のもとに鋭意検討した結果、後記式（２）で表され
新規なジチオカーボネート誘導体は、１００℃以下の温
度でも容易に重合体を架橋することができ、またその際
にホルマリンのような毒性物質を発生しないことを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに到った。
【０００４】
【課題を解決する為の手段】かくして本発明によれば、
式（２）で表されるジチオカーボネート誘導体が提供さ
れる。
式（２）で表されるジチオカーボネート誘導体が提供さ
れる。
【化２】 （Ｒはアルキレン基またはフェニレン基を示す。a、b、
c及びdは０または１を示し、それらはそれぞれ同じもの
であっても、異なったものであっても良い。）また、上
記ジチオカーボネート誘導体を用いて活性水素含有官能
基を有する重合体を架橋する方法が提供される。
c及びdは０または１を示し、それらはそれぞれ同じもの
であっても、異なったものであっても良い。）また、上
記ジチオカーボネート誘導体を用いて活性水素含有官能
基を有する重合体を架橋する方法が提供される。
【０００５】本発明のジチオカーボネート誘導体は前記
式（２）で表され、文献未記載の新規化合物である。式
中、Ｒはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テ
トラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレ
ン基、デカメチレン基などのアルキレン基；キシリレン
基を示す。アルキレン基のなかでは炭素数が１〜６のア
ルキレン基が好ましい。
式（２）で表され、文献未記載の新規化合物である。式
中、Ｒはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テ
トラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレ
ン基、デカメチレン基などのアルキレン基；キシリレン
基を示す。アルキレン基のなかでは炭素数が１〜６のア
ルキレン基が好ましい。
【０００６】かかるジチオカーボネート誘導体の具体例
としては、エチレングリコールビス（１，３−オキサチ
オラン−２−チオン−５−イルメチル）エーテル、テレ
フタル酸ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−
５−イルメチル）、４−メチルフタル酸ビス（１，３−
オキサチオラン−２−チオン−５−イルメチル）、３−
メチルペンタン−１，５−ジオールビス（１，３−オキ
サチオラン−２−チオン−５−イルメチル）エーテル、
アジピン酸ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン
−５−イルメチル）、２，３−ブタンジオールビス
（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イルメチ
ル）エーテル、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラ
ン−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）２，２
−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イルメ
トキシカルボニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イ
ルメトキシカルボニル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン
−５−イルメトキシカルボニル）−ｏ−フェニレンジア
ミンなどが例示される。
としては、エチレングリコールビス（１，３−オキサチ
オラン−２−チオン−５−イルメチル）エーテル、テレ
フタル酸ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−
５−イルメチル）、４−メチルフタル酸ビス（１，３−
オキサチオラン−２−チオン−５−イルメチル）、３−
メチルペンタン−１，５−ジオールビス（１，３−オキ
サチオラン−２−チオン−５−イルメチル）エーテル、
アジピン酸ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン
−５−イルメチル）、２，３−ブタンジオールビス
（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イルメチ
ル）エーテル、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラ
ン−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）２，２
−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イルメ
トキシカルボニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン−５−イ
ルメトキシカルボニル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン−２−チオン
−５−イルメトキシカルボニル）−ｏ−フェニレンジア
ミンなどが例示される。
【０００７】本発明のジチオカーボネート誘導体の製造
法は特に限定されない。例えば、式（３）で表されるグ
リシドール誘導体と二硫化炭素とを触媒の存在下に反応
させることにより得ることができる。
法は特に限定されない。例えば、式（３）で表されるグ
リシドール誘導体と二硫化炭素とを触媒の存在下に反応
させることにより得ることができる。
【０００８】
【化３】 （Ｒ、a、b、c及びdは前述と同様のものを示す。）
【０００９】二硫化炭素の使用量はグリシドール誘導体
１モルに対し、通常、２〜６モル、好ましくは２〜３モ
ルの範囲である。触媒としては、リチウムブロマイド、
リチウムクロライド、リチウムアイオダイド、ナトリウ
ムブロマイド、ナトリウムアイオダイドなどが用いられ
る。触媒の使用量はグリシドール誘導体に対し、通常、
０．０１〜０．４モル、好ましくは０．０５〜０．２モ
ルの範囲である。反応に際しては希釈剤を用いてもよ
い。希釈剤としてはトルエン、ベンゼン、シクロヘキサ
ンなどの炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類；アセトニ
トリルのようなニトリル類；塩化メチレン、クロロホル
ムなどのようなハロゲン化炭化水素類；アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのようなケトン類；酢酸エチルのよ
うなエステル類などが例示さる。希釈剤の使用量はグリ
シドール誘導体と二硫化炭素との合計量が５〜５０重量
％になるような範囲で適宜選択される。
１モルに対し、通常、２〜６モル、好ましくは２〜３モ
ルの範囲である。触媒としては、リチウムブロマイド、
リチウムクロライド、リチウムアイオダイド、ナトリウ
ムブロマイド、ナトリウムアイオダイドなどが用いられ
る。触媒の使用量はグリシドール誘導体に対し、通常、
０．０１〜０．４モル、好ましくは０．０５〜０．２モ
ルの範囲である。反応に際しては希釈剤を用いてもよ
い。希釈剤としてはトルエン、ベンゼン、シクロヘキサ
ンなどの炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類；アセトニ
トリルのようなニトリル類；塩化メチレン、クロロホル
ムなどのようなハロゲン化炭化水素類；アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのようなケトン類；酢酸エチルのよ
うなエステル類などが例示さる。希釈剤の使用量はグリ
シドール誘導体と二硫化炭素との合計量が５〜５０重量
％になるような範囲で適宜選択される。
【００１０】反応温度は−５０〜＋１００℃、好ましく
は０〜＋８０℃で、反応時間は１〜１０時間、好ましく
は２〜４時間である。反応終了後は抽出やカラムクロマ
トグラフィーなどによりジチオカーボネート誘導体を単
離することができる。
は０〜＋８０℃で、反応時間は１〜１０時間、好ましく
は２〜４時間である。反応終了後は抽出やカラムクロマ
トグラフィーなどによりジチオカーボネート誘導体を単
離することができる。
【００１１】かくして得られたジチオカーボネート誘導
体は１００℃以下、好ましくは２０〜１００℃の温度で
も、重合体を容易に架橋することができる。重合体は活
性水素含有官能基を有する重合体が用いられる。活性水
素とは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子に結合した反応
性の高い水素原子を意味する。活性水素含有官能基とし
ては、例えば、アミノ基、イミノ基、カルボキシル基、
フェノール性水酸基、スルホ基、チオール基などが挙げ
られる。また、酸無水物基のような無水物基も活性水素
含有官能基に含まれる。これらのなかでも、アミノ基及
びイミノ基が好適である。重合体中の活性水素含有官能
基の含有量は、通常、重合体１グラム当り、０．０１ミ
リ当量以上である。
体は１００℃以下、好ましくは２０〜１００℃の温度で
も、重合体を容易に架橋することができる。重合体は活
性水素含有官能基を有する重合体が用いられる。活性水
素とは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子に結合した反応
性の高い水素原子を意味する。活性水素含有官能基とし
ては、例えば、アミノ基、イミノ基、カルボキシル基、
フェノール性水酸基、スルホ基、チオール基などが挙げ
られる。また、酸無水物基のような無水物基も活性水素
含有官能基に含まれる。これらのなかでも、アミノ基及
びイミノ基が好適である。重合体中の活性水素含有官能
基の含有量は、通常、重合体１グラム当り、０．０１ミ
リ当量以上である。
【００１２】活性水素含有官能基を有する重合体は活性
水素含有官能基を有する単量体を重合させたもの、また
は前記単量体と共重合可能な他の単量体とを共重合させ
たものである。活性水素含有官能基を有する単量体とし
ては、例えば、（メタ）アクリルアミドのようなアミド
類；ビニルエチルアミン、ビニルブチルアミンなどのア
ミン類；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、イタコン
酸、フマル酸などのカルボン酸類；スチレンスルホン酸
のようなスルホン酸類が挙げられる。共重合可能な他の
単量体としてはスチレン、メチルスチレンなどのスチレ
ン類；（メタ）アクリル酸メチル、マレイン酸ジエチル
などのカルボン酸エステル類；（メタ）アクリロニトリ
ルのようなニトリル類；１，３−ブタジエン、イソプレ
ンなどの共役ジエン類などが挙げられる。
水素含有官能基を有する単量体を重合させたもの、また
は前記単量体と共重合可能な他の単量体とを共重合させ
たものである。活性水素含有官能基を有する単量体とし
ては、例えば、（メタ）アクリルアミドのようなアミド
類；ビニルエチルアミン、ビニルブチルアミンなどのア
ミン類；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、イタコン
酸、フマル酸などのカルボン酸類；スチレンスルホン酸
のようなスルホン酸類が挙げられる。共重合可能な他の
単量体としてはスチレン、メチルスチレンなどのスチレ
ン類；（メタ）アクリル酸メチル、マレイン酸ジエチル
などのカルボン酸エステル類；（メタ）アクリロニトリ
ルのようなニトリル類；１，３−ブタジエン、イソプレ
ンなどの共役ジエン類などが挙げられる。
【００１３】ジチオカーボネート誘導体は、重合体中の
活性水素含有官能基１モルに対して、通常、ジチオカー
ボネート基が０．０１〜２０モルになる範囲で用いられ
る。架橋反応は、通常、１００℃以下、好ましくは２０
〜１００℃の温度で実施される。１００℃を超える温度
でも架橋は進行するが、操作性や経済性の点で前記範囲
が好適である。反応時間は温度により一概には限定でき
ないが、通常、５分〜５０時間程度である。
活性水素含有官能基１モルに対して、通常、ジチオカー
ボネート基が０．０１〜２０モルになる範囲で用いられ
る。架橋反応は、通常、１００℃以下、好ましくは２０
〜１００℃の温度で実施される。１００℃を超える温度
でも架橋は進行するが、操作性や経済性の点で前記範囲
が好適である。反応時間は温度により一概には限定でき
ないが、通常、５分〜５０時間程度である。
【００１４】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特
に断りのないかぎり重量基準である。 実施例１ 乾燥した反応器にエチレングリコールジグリシジルエー
テル３１ミリモル、テトラヒドロフラン５ミリリットル
及び塩化リチウム２．８７ミリモルを加えた。次いで二
硫化炭素６７ミリモルを含むテトラヒドロフラン１０ミ
リリットルを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了
後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を
飽和重曹水で洗浄した後、濃縮した。得られた油状物質
をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキ
サンと酢酸エチルの１：２混合溶媒）で精製したとこ
ろ、エチレングリコールビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメチル）エーテル（前記式
（３）のＲがエチレン基、a、b、c及びdが０の構造のも
のである。以下、化合物１と記す。）を収率５９％で得
た。化合物１のスペクトルデータを表１に示す。
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特
に断りのないかぎり重量基準である。 実施例１ 乾燥した反応器にエチレングリコールジグリシジルエー
テル３１ミリモル、テトラヒドロフラン５ミリリットル
及び塩化リチウム２．８７ミリモルを加えた。次いで二
硫化炭素６７ミリモルを含むテトラヒドロフラン１０ミ
リリットルを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了
後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を
飽和重曹水で洗浄した後、濃縮した。得られた油状物質
をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキ
サンと酢酸エチルの１：２混合溶媒）で精製したとこ
ろ、エチレングリコールビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメチル）エーテル（前記式
（３）のＲがエチレン基、a、b、c及びdが０の構造のも
のである。以下、化合物１と記す。）を収率５９％で得
た。化合物１のスペクトルデータを表１に示す。
【００１５】実施例２ エチレングリコールジグリシジルエーテルの代わりに
Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジルオキシカルボニル）ヘキサ
メチレンジアミンを用いること以外は実施例１と同様の
反応を行い、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）ヘキサメ
チレンジアミン（前記式（３）のＲがヘキサメチレン
基、a、b、c及びdが１の構造のものである。以下、化合
物２と記す。）を収率８０％で得た。化合物２のスペク
トルデータを表１に示す。
Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジルオキシカルボニル）ヘキサ
メチレンジアミンを用いること以外は実施例１と同様の
反応を行い、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）ヘキサメ
チレンジアミン（前記式（３）のＲがヘキサメチレン
基、a、b、c及びdが１の構造のものである。以下、化合
物２と記す。）を収率８０％で得た。化合物２のスペク
トルデータを表１に示す。
【００１６】実施例３ エチレングリコールジグリシジルエーテルの代わりにテ
レフタル酸ジグリシジルを用いること以外は実施例１と
同様の反応を行い、テレフタル酸ビス（１，３−オキサ
チオラン−２−チオン−５−イルメチル）（前記式
（３）のＲがフェニレン基、a及びcが１、b及びdが０の
構造のものである。以下、化合物３と記す。）を収率８
５％で得た。化合物３のスペクトルデータを表１に示
す。
レフタル酸ジグリシジルを用いること以外は実施例１と
同様の反応を行い、テレフタル酸ビス（１，３−オキサ
チオラン−２−チオン−５−イルメチル）（前記式
（３）のＲがフェニレン基、a及びcが１、b及びdが０の
構造のものである。以下、化合物３と記す。）を収率８
５％で得た。化合物３のスペクトルデータを表１に示
す。
【００１７】
【表１】
【００１８】参考例１ 温度計、攪拌器、還流冷却器、供給管及び窒素導入管を
備えた反応器に、イソプロピルアルコール２８０部及び
ｎ−ブトキシエタノール１２４．６部を仕込んだ後、窒
素を導入して８０℃に加熱した。次にメタクリル酸８
０．５部、メタクリル酸メチル１３６．５部、スチレン
７０部及びアゾビスイソブチロニトリル９部からなる混
合物を２時間かけて反応器に添加した。添加終了後、さ
らに８０℃で６時間反応させ、２０℃に冷却した。次に
トリエチルアミン３３部を添加して３０分間攪拌し、均
一に混合した後、エチレンイミン３７％水溶液６１．６
部を添加し、８０℃に加熱して４時間反応させた。そし
て、トリエチルアミン８．４部と脱イオンや７５部とを
添加して２０℃に冷却し、不揮発分４０％の重合体の溶
液を得た。
備えた反応器に、イソプロピルアルコール２８０部及び
ｎ−ブトキシエタノール１２４．６部を仕込んだ後、窒
素を導入して８０℃に加熱した。次にメタクリル酸８
０．５部、メタクリル酸メチル１３６．５部、スチレン
７０部及びアゾビスイソブチロニトリル９部からなる混
合物を２時間かけて反応器に添加した。添加終了後、さ
らに８０℃で６時間反応させ、２０℃に冷却した。次に
トリエチルアミン３３部を添加して３０分間攪拌し、均
一に混合した後、エチレンイミン３７％水溶液６１．６
部を添加し、８０℃に加熱して４時間反応させた。そし
て、トリエチルアミン８．４部と脱イオンや７５部とを
添加して２０℃に冷却し、不揮発分４０％の重合体の溶
液を得た。
【００１９】上記重合体の溶液４６部に化合物１を０．
５部添加し、攪拌混合して重合体組成物を得た。重合体
組成物を枠付きガラス板に流延し、２０℃で４８時間放
置しフィルム（フィルム１と記す。）を得た。フィルム
を得る際にはホルマリンの発生は認められなかった。フ
ィルム１を１００メッシュの金網に入れ、２０℃のテト
ラヒドロフランに２４時間浸漬した後、金網に残った固
形分の恒量を求め、最初に金網に入れたフィルムの恒量
に対する重量百分率を求めたところ、９０％であった。
厚さ０．４ｍｍのフィルム１を定型２号ダンベル型打ち
抜き刃で打ち抜き、試験片を得、この試験片について定
速緊張形引張試験機を用いて、チャック間距離５ｃｍ、
引張速度３００ｍｍ／分の条件で測定したところ、破断
時の引張強度は４０（Ｋｇｆ／ｃｍ2）、破断時の伸び
は３５０％であった。
５部添加し、攪拌混合して重合体組成物を得た。重合体
組成物を枠付きガラス板に流延し、２０℃で４８時間放
置しフィルム（フィルム１と記す。）を得た。フィルム
を得る際にはホルマリンの発生は認められなかった。フ
ィルム１を１００メッシュの金網に入れ、２０℃のテト
ラヒドロフランに２４時間浸漬した後、金網に残った固
形分の恒量を求め、最初に金網に入れたフィルムの恒量
に対する重量百分率を求めたところ、９０％であった。
厚さ０．４ｍｍのフィルム１を定型２号ダンベル型打ち
抜き刃で打ち抜き、試験片を得、この試験片について定
速緊張形引張試験機を用いて、チャック間距離５ｃｍ、
引張速度３００ｍｍ／分の条件で測定したところ、破断
時の引張強度は４０（Ｋｇｆ／ｃｍ2）、破断時の伸び
は３５０％であった。
【００２０】比較例１ 化合物１を用いないこと以外は、参考例１と同様に操作
して、重合体組成物及びフィルム（フィルム２と記
す。）を得た。フィルムを得る際にはホルマリンの発生
は認められなかった。フィルム２を１００メッシュの金
網に入れ、２０℃のテトラヒドロフランに２４時間浸漬
した後、金網に残った固形分の恒量を求め、最初に金網
に入れたフィルムの恒量に対する重量百分率を求めたと
ころ、０％であった。厚さ０．４ｍｍのフィルム２を定
型２号ダンベル型打ち抜き刃で打ち抜き、試験片を得、
この試験片について定速緊張形引張試験機を用いて、チ
ャック間距離５ｃｍ、引張速度３００ｍｍ／分の条件で
測定したところ、破断時の引張強度は５（Ｋｇｆ／ｃｍ
2）未満、破断時の伸びは２０００％以上であった。
して、重合体組成物及びフィルム（フィルム２と記
す。）を得た。フィルムを得る際にはホルマリンの発生
は認められなかった。フィルム２を１００メッシュの金
網に入れ、２０℃のテトラヒドロフランに２４時間浸漬
した後、金網に残った固形分の恒量を求め、最初に金網
に入れたフィルムの恒量に対する重量百分率を求めたと
ころ、０％であった。厚さ０．４ｍｍのフィルム２を定
型２号ダンベル型打ち抜き刃で打ち抜き、試験片を得、
この試験片について定速緊張形引張試験機を用いて、チ
ャック間距離５ｃｍ、引張速度３００ｍｍ／分の条件で
測定したところ、破断時の引張強度は５（Ｋｇｆ／ｃｍ
2）未満、破断時の伸びは２０００％以上であった。
【手続補正書】
【提出日】平成５年１０月２９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特
に断りのないかぎり重量基準である。 実施例１ 乾燥した反応器にエチレングリコールジグリシジルエー
テル３１ミリモル、テトラヒドロフラン５ミリリットル
及び塩化リチウム２．８７ミリモルを加えた。次いで二
硫化炭素６７ミリモルを含むテトラヒドロフラン１０ミ
リリットルを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了
後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を
飽和重曹水で洗浄した後、濃縮した。得られた油状物質
をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキ
サンと酢酸エチルの１：２混合溶媒）で精製したとこ
ろ、エチレングリコールビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメチル）エーテル（前記式
（２）のＲがエチレン基、ａ，ｂ、ｃ及びｄが０の構造
のものである。以下、化合物１と記す。）を収率５９％
で得た。化合物１のスペクトルデータを表１に示す。
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特
に断りのないかぎり重量基準である。 実施例１ 乾燥した反応器にエチレングリコールジグリシジルエー
テル３１ミリモル、テトラヒドロフラン５ミリリットル
及び塩化リチウム２．８７ミリモルを加えた。次いで二
硫化炭素６７ミリモルを含むテトラヒドロフラン１０ミ
リリットルを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了
後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を
飽和重曹水で洗浄した後、濃縮した。得られた油状物質
をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキ
サンと酢酸エチルの１：２混合溶媒）で精製したとこ
ろ、エチレングリコールビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメチル）エーテル（前記式
（２）のＲがエチレン基、ａ，ｂ、ｃ及びｄが０の構造
のものである。以下、化合物１と記す。）を収率５９％
で得た。化合物１のスペクトルデータを表１に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】実施例２ エチレングリコールジグリシジルエーテルの代わりに
Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジルオキシカルボニル）ヘキサ
メチレンジアミンを用いること以外は実施例１と同様の
反応を行い、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）ヘキサメ
チレンジアミン（前記式（２）のＲがヘキサメチレン
基、ａ，ｂ、ｃ及びｄが１の構造のものである。以下、
化合物２と記す。）を収率８０％で得た。化合物２のス
ペクトルデータを表１に示す。
Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジルオキシカルボニル）ヘキサ
メチレンジアミンを用いること以外は実施例１と同様の
反応を行い、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，３−オキサチオラン
−２−チオン−５−イルメトキシカルボニル）ヘキサメ
チレンジアミン（前記式（２）のＲがヘキサメチレン
基、ａ，ｂ、ｃ及びｄが１の構造のものである。以下、
化合物２と記す。）を収率８０％で得た。化合物２のス
ペクトルデータを表１に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１６】実施例３ エチレングリコールジグリシジルエーテルの代わりにテ
レフタル酸ジグリシジルを用いること以外は実施例１と
同様の反応を行い、テレフタル酸ビス（１，３−オキサ
チオラン−２−チオン−５−イルメチル）（前記式
（２）のＲがフェニレン基、ａ及びｄが１、ｂ及びｃが
０の構造のものである。以下、化合物３と記す。）を収
率８５％で得た。化合物３のスペクトルデータを表１に
示す。
レフタル酸ジグリシジルを用いること以外は実施例１と
同様の反応を行い、テレフタル酸ビス（１，３−オキサ
チオラン−２−チオン−５−イルメチル）（前記式
（２）のＲがフェニレン基、ａ及びｄが１、ｂ及びｃが
０の構造のものである。以下、化合物３と記す。）を収
率８５％で得た。化合物３のスペクトルデータを表１に
示す。
Claims (2)
- 【請求項１】 式（１）で表されるジチオカーボネート
誘導体。 【化１】 （式中、Ｒはアルキレン基またはフェニレン基を示す。
a、b、c及びdは０または１を示し、それらはそれぞれ同
じものであっても、異なったものであっても良い。） - 【請求項２】 請求項１記載のジチオカーボネート誘導
体を用いて活性水素含有官能基を有する重合体を架橋す
る方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28560393A JPH07145164A (ja) | 1993-09-30 | 1993-10-20 | ジチオカーボネート誘導体及びそれを用いる架橋方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-269512 | 1993-09-30 | ||
| JP26951293 | 1993-09-30 | ||
| JP28560393A JPH07145164A (ja) | 1993-09-30 | 1993-10-20 | ジチオカーボネート誘導体及びそれを用いる架橋方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07145164A true JPH07145164A (ja) | 1995-06-06 |
Family
ID=26548799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28560393A Pending JPH07145164A (ja) | 1993-09-30 | 1993-10-20 | ジチオカーボネート誘導体及びそれを用いる架橋方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07145164A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998024849A1 (en) * | 1996-12-04 | 1998-06-11 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Dithiocarbonate composition |
| WO1998026006A1 (fr) * | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Dispersion aqueuse et composition de dispersion aqueuse |
| WO1998045373A1 (en) * | 1997-04-04 | 1998-10-15 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Composition containing dithiocarbonate compound |
| WO2000044832A1 (en) * | 1999-01-27 | 2000-08-03 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Composition containing compound having dithiocarbonate group |
| EP1227094A1 (en) * | 2001-01-30 | 2002-07-31 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Isocyanurate compound and method for producing the same |
| EP1260555A1 (en) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Resin compositions |
| EP1506964A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-16 | Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien | Cyclic dithiocarbonates, their preparation and application |
| DE19983141B4 (de) * | 1998-04-17 | 2006-07-06 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Vernetzbare Zusammensetzung und daraus erhältlicher vernetzter Gegenstand |
| JP2010189592A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Jsr Corp | 新規ジチオカーボナートノルボルネン及びその（共）重合体 |
| CN112955429A (zh) * | 2018-11-20 | 2021-06-11 | 优迈特株式会社 | 新型氨基甲酸酯化合物和含有该化合物的丙烯酸类橡胶组合物 |
-
1993
- 1993-10-20 JP JP28560393A patent/JPH07145164A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6372871B1 (en) | 1996-04-12 | 2002-04-16 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Dithiocarbonate composition |
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| WO1998026006A1 (fr) * | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Dispersion aqueuse et composition de dispersion aqueuse |
| WO1998026005A1 (en) * | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Aqueous dispersion composition |
| WO1998045373A1 (en) * | 1997-04-04 | 1998-10-15 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Composition containing dithiocarbonate compound |
| US6160044A (en) * | 1997-04-04 | 2000-12-12 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Compositions containing dithiocarbonate compound |
| DE19983141B4 (de) * | 1998-04-17 | 2006-07-06 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Vernetzbare Zusammensetzung und daraus erhältlicher vernetzter Gegenstand |
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| WO2005016908A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-24 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Cyclic dithiocarbonates, their preparation and application |
| EP1506964A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-16 | Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien | Cyclic dithiocarbonates, their preparation and application |
| JP2010189592A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Jsr Corp | 新規ジチオカーボナートノルボルネン及びその（共）重合体 |
| CN112955429A (zh) * | 2018-11-20 | 2021-06-11 | 优迈特株式会社 | 新型氨基甲酸酯化合物和含有该化合物的丙烯酸类橡胶组合物 |
| CN112955429B (zh) * | 2018-11-20 | 2022-01-07 | 优迈特株式会社 | 新型氨基甲酸酯化合物和含有该化合物的丙烯酸类橡胶组合物 |
| EP3885338A4 (en) * | 2018-11-20 | 2022-07-13 | Unimatec Co., Ltd. | NOVEL CARBAMATE ESTER COMPOUND AND ACRYLIC RUBBER COMPOSITION CONTAINING THE SAME |
| US11932644B2 (en) | 2018-11-20 | 2024-03-19 | Unimatec Co., Ltd. | Carbamate ester compound and acrylic rubber composition containing the same |
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