JPH07145481A - 基板および基板ホルダーの保持方法 - Google Patents
基板および基板ホルダーの保持方法Info
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- JPH07145481A JPH07145481A JP29167693A JP29167693A JPH07145481A JP H07145481 A JPH07145481 A JP H07145481A JP 29167693 A JP29167693 A JP 29167693A JP 29167693 A JP29167693 A JP 29167693A JP H07145481 A JPH07145481 A JP H07145481A
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- Japan
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- substrate holder
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明は薄膜形成後の基板の取り出しを基
板ホルダーの取り出しで行なうようにした基板および基
板ホルダーの保持方法の提供を目的とするものである。 【構成】 本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法は、図６に示したようにスパッタ装置または蒸着装置
において、成膜室内部に基板15および基板ホルダー13を
搬送するためのパレット６を具備し、該パレット６と該
基板ホルダー13の固定に該パレット中に埋め込まれた磁
石８を使用し、かつ該基板ホルダー13と該基板15を固定
するマスク17の固定に該基板ホルダー13中に埋め込まれ
た磁石11、12を使用することを特徴とするものである。
板ホルダーの取り出しで行なうようにした基板および基
板ホルダーの保持方法の提供を目的とするものである。 【構成】 本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法は、図６に示したようにスパッタ装置または蒸着装置
において、成膜室内部に基板15および基板ホルダー13を
搬送するためのパレット６を具備し、該パレット６と該
基板ホルダー13の固定に該パレット中に埋め込まれた磁
石８を使用し、かつ該基板ホルダー13と該基板15を固定
するマスク17の固定に該基板ホルダー13中に埋め込まれ
た磁石11、12を使用することを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板および基板ホルダー
の保持方法、特には薄膜形成に用いられるスパッタ装置
または蒸着装置の成膜室内部の基板および基板ホルダー
の固定方法を改良した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものである。
の保持方法、特には薄膜形成に用いられるスパッタ装置
または蒸着装置の成膜室内部の基板および基板ホルダー
の固定方法を改良した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】スパッタまたは蒸着装置を用いてプラス
チック基板またはガラス基板に薄膜を形成したのち、こ
れを装置の外に取り出す方法としては、パレットごと基
板を取り出す方法が一般的に行なわれている。これは例
えば従来の方法では図７に示されている、成膜室18ａ〜
ｄ、基板取付部19ａ〜ｄ、レール20、ゲート21からなる
成膜装置22と車輪部23とからなるパレット24に、図８で
示されている外マスク用磁石26と内マスク用磁石27を設
けたパレットの基板取付部28を用いて、ここに図９及び
10で示されている基板29と外マスク30、内マスク31を有
するマスク材32とを取り付けたものが用いられており、
これは車輪部23などの搬送装置によって、成膜装置内に
搬送し、ゲートを閉じて真空引き、成膜を行なうという
構造とされている。
チック基板またはガラス基板に薄膜を形成したのち、こ
れを装置の外に取り出す方法としては、パレットごと基
板を取り出す方法が一般的に行なわれている。これは例
えば従来の方法では図７に示されている、成膜室18ａ〜
ｄ、基板取付部19ａ〜ｄ、レール20、ゲート21からなる
成膜装置22と車輪部23とからなるパレット24に、図８で
示されている外マスク用磁石26と内マスク用磁石27を設
けたパレットの基板取付部28を用いて、ここに図９及び
10で示されている基板29と外マスク30、内マスク31を有
するマスク材32とを取り付けたものが用いられており、
これは車輪部23などの搬送装置によって、成膜装置内に
搬送し、ゲートを閉じて真空引き、成膜を行なうという
構造とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来のような構造では、図11に示したように外マスク用磁
石26と内マスク用磁石27を取りつけたパレットの基板取
付部28に基板29を重ね、これに外マスク30と内マスク31
を取りつけた成膜装置を用いてスパッタまた蒸着が行な
われ、これによってパレット24の成膜室18ａ〜ｄに薄膜
が形成されるのであるが、この薄膜を回収するためには
パレット全体を成膜装置内から取り出す必要があるため
に、この装置が複雑で高価なものとなるし、パレットを
取り出すとこれに水分が付着するために次回のスパッ
タ、蒸着のために脱ガスすべくこれを真空排気すると、
この真空排気に長い時間が必要になるという問題点もあ
る。
来のような構造では、図11に示したように外マスク用磁
石26と内マスク用磁石27を取りつけたパレットの基板取
付部28に基板29を重ね、これに外マスク30と内マスク31
を取りつけた成膜装置を用いてスパッタまた蒸着が行な
われ、これによってパレット24の成膜室18ａ〜ｄに薄膜
が形成されるのであるが、この薄膜を回収するためには
パレット全体を成膜装置内から取り出す必要があるため
に、この装置が複雑で高価なものとなるし、パレットを
取り出すとこれに水分が付着するために次回のスパッ
タ、蒸着のために脱ガスすべくこれを真空排気すると、
この真空排気に長い時間が必要になるという問題点もあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものであり、これはスパッタ装置または蒸着
装置において、成膜室内部に基板および基板ホルダーを
搬送するためのパレットを具備し、該パレットと該基板
ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁石を使
用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマスクの
固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使用する
ことを特徴とするものである。
利、問題点を解決した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものであり、これはスパッタ装置または蒸着
装置において、成膜室内部に基板および基板ホルダーを
搬送するためのパレットを具備し、該パレットと該基板
ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁石を使
用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマスクの
固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使用する
ことを特徴とするものである。
【０００５】すなわち、本発明者らは従来公知の基板お
よび基板ホルダーの保持方法における上記したような不
利を解決する方法について種々検討した結果、これにつ
いては成膜室内部に基板と基板ホルダーを搬送するため
のパレットを従来法と同様に設置するが、このパレット
と基板ホルダーに磁石を埋め込み、このパレットに埋め
込んだ磁石でこのパレットと基板ホルダーを固定し、基
板ホルダーに埋め込んだ磁石でこの基板ホルダーと基板
を固定するマスクとを固定すると、成膜が終了した基板
の取り出しを基板を含む基板ホルダーを基板ホルダー取
付部から取り出すだけでよく、パレットを成膜装置本体
から取り出す必要がなくなるということを見出し、これ
によれば装置が簡単で安価なものとなり、パレットを成
膜装置から取り出す必要もないので、これに水が付着す
ることがなくなり、したがって脱ガスのための真空排気
が短時間ですむようになるということを確認して本発明
を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
よび基板ホルダーの保持方法における上記したような不
利を解決する方法について種々検討した結果、これにつ
いては成膜室内部に基板と基板ホルダーを搬送するため
のパレットを従来法と同様に設置するが、このパレット
と基板ホルダーに磁石を埋め込み、このパレットに埋め
込んだ磁石でこのパレットと基板ホルダーを固定し、基
板ホルダーに埋め込んだ磁石でこの基板ホルダーと基板
を固定するマスクとを固定すると、成膜が終了した基板
の取り出しを基板を含む基板ホルダーを基板ホルダー取
付部から取り出すだけでよく、パレットを成膜装置本体
から取り出す必要がなくなるということを見出し、これ
によれば装置が簡単で安価なものとなり、パレットを成
膜装置から取り出す必要もないので、これに水が付着す
ることがなくなり、したがって脱ガスのための真空排気
が短時間ですむようになるということを確認して本発明
を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
【０００６】
【作用】本発明は基板および基板ホルダーの保持方法に
関するもので、これは前記したようにスパッタ装置また
は蒸着装置において、成膜室内部に基板および基板ホル
ダーを搬送するためのパレットを具備し、該パレットと
該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁
石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマ
スクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使
用することを特徴とするものであるが、これによれば基
板ホルダーがパレットに磁石で取り付けられており、基
板ホルダーには基板とマスクが磁石で固定されているの
で、成膜された基板の取り出しは基板ホルダーをパレッ
トから取り外してこの基板ホルダーだけを取り出し、つ
いでこの基板ホルダーから基板を取り出せばよく、パレ
ットを装置から取り出す必要がなくなるので、この装置
が簡単で安価なものとなり、パレットに水の付着するお
それもないので再使用のときの真空排気が短時間ですむ
という有利性が与えられる。
関するもので、これは前記したようにスパッタ装置また
は蒸着装置において、成膜室内部に基板および基板ホル
ダーを搬送するためのパレットを具備し、該パレットと
該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁
石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマ
スクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使
用することを特徴とするものであるが、これによれば基
板ホルダーがパレットに磁石で取り付けられており、基
板ホルダーには基板とマスクが磁石で固定されているの
で、成膜された基板の取り出しは基板ホルダーをパレッ
トから取り外してこの基板ホルダーだけを取り出し、つ
いでこの基板ホルダーから基板を取り出せばよく、パレ
ットを装置から取り出す必要がなくなるので、この装置
が簡単で安価なものとなり、パレットに水の付着するお
それもないので再使用のときの真空排気が短時間ですむ
という有利性が与えられる。
【０００７】本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法は、成膜室内部にパレットを設け、このパレットにパ
レット中に埋め込まれた磁石で基板ホルダーを固定し、
この基板ホルダーにはこの基板ホルダーに埋め込まれた
磁石で基板を固定してなるものであるが、これは図１〜
図６に示したものとされる。図１は本発明の基板および
基板ホルダーの保持方法における成膜装置本体５の斜視
図を示したものであるが、このものは１ａ、１ｂ、１ｃ
からなる成膜室１と、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄからなる
基板ホルダー取付部２、基板ホルダー取り出し位置３、
回転軸４とからなるパレット６を有するものとされてい
る。
法は、成膜室内部にパレットを設け、このパレットにパ
レット中に埋め込まれた磁石で基板ホルダーを固定し、
この基板ホルダーにはこの基板ホルダーに埋め込まれた
磁石で基板を固定してなるものであるが、これは図１〜
図６に示したものとされる。図１は本発明の基板および
基板ホルダーの保持方法における成膜装置本体５の斜視
図を示したものであるが、このものは１ａ、１ｂ、１ｃ
からなる成膜室１と、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄからなる
基板ホルダー取付部２、基板ホルダー取り出し位置３、
回転軸４とからなるパレット６を有するものとされてい
る。
【０００８】図２はパレット６の平面図を示したもので
あるが、これには後記する基板ホルダー13を固定するた
めの磁石８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ、８ｅ、８ｆ、８ｇ、
８ｈが埋め込まれており、これらの磁石８ａ〜８ｈによ
る磁石の磁場は図中に磁石の領域９で示されており、こ
のものには図１に示した基板ホルダー取付部２ａ〜２ｃ
によってこの基体ホルダー取付部10に基板ホルダー13が
取りつけられる。
あるが、これには後記する基板ホルダー13を固定するた
めの磁石８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ、８ｅ、８ｆ、８ｇ、
８ｈが埋め込まれており、これらの磁石８ａ〜８ｈによ
る磁石の磁場は図中に磁石の領域９で示されており、こ
のものには図１に示した基板ホルダー取付部２ａ〜２ｃ
によってこの基体ホルダー取付部10に基板ホルダー13が
取りつけられる。
【０００９】また、図３は基板ホルダー13の平面図で、
これにはその外側に基板および基板ホルダーの保持方法
に使用される外マスクを固定するための磁石11が複数個
埋め込まれており、その中心部には基板および基板ホル
ダーの保持方法に使用される内マスクを固定するための
磁石12が複数個埋め込まれていて、この磁石11、磁石12
による磁石の領域は磁石11によるものが領域14ａとし
て、また磁石12によるものが領域14ｂとして示されてい
るが、前記した磁石８とこの磁石11、12とは磁気的な干
渉を起さないように配置される。
これにはその外側に基板および基板ホルダーの保持方法
に使用される外マスクを固定するための磁石11が複数個
埋め込まれており、その中心部には基板および基板ホル
ダーの保持方法に使用される内マスクを固定するための
磁石12が複数個埋め込まれていて、この磁石11、磁石12
による磁石の領域は磁石11によるものが領域14ａとし
て、また磁石12によるものが領域14ｂとして示されてい
るが、前記した磁石８とこの磁石11、12とは磁気的な干
渉を起さないように配置される。
【００１０】なお、図４はここに使用される基板15の平
面図であり、これは通常ガラスまたはポリカーボネー
ト、アクリルなどのプラスチックで作られたものとされ
るが、これには薄膜製造時に成膜をしない部分を得るた
めに図５で示されるマスク17が設けられるが図５はこの
マスクの平面図を示したもので、これは外マスク16ａと
内マスク16ｂとからなるものとされる。
面図であり、これは通常ガラスまたはポリカーボネー
ト、アクリルなどのプラスチックで作られたものとされ
るが、これには薄膜製造時に成膜をしない部分を得るた
めに図５で示されるマスク17が設けられるが図５はこの
マスクの平面図を示したもので、これは外マスク16ａと
内マスク16ｂとからなるものとされる。
【００１１】本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法はこの成膜室内に上記したパレット６に基板ホルダー
13を磁石８ａ〜８ｈで固着し、ついでこれに基板15とマ
スク17を磁石11、12で取りつけることによって作られる
が、このものは図６に示したようなものとなる。図６は
本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の基板取付
けを示す縦断面図であるが、これは磁石８を埋め込んだ
パレット６の上に磁石11、12を埋め込んだ基板ホルダー
13を磁石８で固定し、ついでこの上に基板15を重ね、さ
らにこの上に外マスク16ａ、内マスク16ｂを有するマス
ク17を重ね、これを磁石11、12で固定したものである。
法はこの成膜室内に上記したパレット６に基板ホルダー
13を磁石８ａ〜８ｈで固着し、ついでこれに基板15とマ
スク17を磁石11、12で取りつけることによって作られる
が、このものは図６に示したようなものとなる。図６は
本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の基板取付
けを示す縦断面図であるが、これは磁石８を埋め込んだ
パレット６の上に磁石11、12を埋め込んだ基板ホルダー
13を磁石８で固定し、ついでこの上に基板15を重ね、さ
らにこの上に外マスク16ａ、内マスク16ｂを有するマス
ク17を重ね、これを磁石11、12で固定したものである。
【００１２】この基板および基板ホルダーの保持方法を
用いてスパッタ法または蒸着法で基板に薄膜を形成させ
ると、薄膜形成後に基板を取り出すときに、パレットを
装置から取り出す必要がなく、パレットから基板ホルダ
ーを磁石から取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、基板ホルダーを取り出したのち基板を取り出せば
よいので、この基板の取り出しが容易になるし、この装
置も簡単で安価なものとなり、さらにはパレットを取り
出さないのでパレットに水分が付着することもないの
で、再使用時の真空排気を短時間とすることができると
いう有利性が与えられる。
用いてスパッタ法または蒸着法で基板に薄膜を形成させ
ると、薄膜形成後に基板を取り出すときに、パレットを
装置から取り出す必要がなく、パレットから基板ホルダ
ーを磁石から取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、基板ホルダーを取り出したのち基板を取り出せば
よいので、この基板の取り出しが容易になるし、この装
置も簡単で安価なものとなり、さらにはパレットを取り
出さないのでパレットに水分が付着することもないの
で、再使用時の真空排気を短時間とすることができると
いう有利性が与えられる。
【００１３】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例、比較例 ポリカーボネートからなる基板上に順次 Si3N4、TbFeC
o、Si3N4 、Alを積層した四層の薄膜を形成させるべ
く、図１に示したパレットに図３に示した基板ホルダ
ー、図４に示した基板および図５に示したマスク板を重
ね、磁石８、11、12でこれらを固定して図６に示した基
板および基板ホルダーの保持方法を用いた。
o、Si3N4 、Alを積層した四層の薄膜を形成させるべ
く、図１に示したパレットに図３に示した基板ホルダ
ー、図４に示した基板および図５に示したマスク板を重
ね、磁石８、11、12でこれらを固定して図６に示した基
板および基板ホルダーの保持方法を用いた。
【００１４】ついで、この装置を使用し、真空度５mTor
r 、室温でスパッタ法により基板上に厚さ 1,500Åの四
層の薄膜を形成させたのち、基板ホルダーをパレットか
ら取り外してこれを装置外に取り出し、この基板ホルダ
ーから基板を取り外して薄膜を形成した基板を取得した
が、この場合は操作が簡単で、再使用時もパレットが取
り出されていないので、これに基板ホルダー、基板、マ
スクを取りつけたのち、直ちに真空排気すればよく、こ
の真空排気も 1.5時間という短時間ですますことができ
た。
r 、室温でスパッタ法により基板上に厚さ 1,500Åの四
層の薄膜を形成させたのち、基板ホルダーをパレットか
ら取り外してこれを装置外に取り出し、この基板ホルダ
ーから基板を取り外して薄膜を形成した基板を取得した
が、この場合は操作が簡単で、再使用時もパレットが取
り出されていないので、これに基板ホルダー、基板、マ
スクを取りつけたのち、直ちに真空排気すればよく、こ
の真空排気も 1.5時間という短時間ですますことができ
た。
【００１５】また、比較のために図７に示したパレット
に図８に示した基板ホルダー、図９に示した基板、図10
に示したマスク板を重ね、磁石26、27で基板ホルダーを
パレットに固定し、上記と同様に処理して基板上に薄膜
を形成させたが、この場合には基板の取り出しにパレッ
トを装置から引き出す必要があり、パレット引出し後に
基板ホルダーを取り外し、ついで基板を取り出す必要が
あることから、操作が難しく、また再使用のためにパレ
ットを装着後、真空排気するのに４時間という長時間が
必要であった。
に図８に示した基板ホルダー、図９に示した基板、図10
に示したマスク板を重ね、磁石26、27で基板ホルダーを
パレットに固定し、上記と同様に処理して基板上に薄膜
を形成させたが、この場合には基板の取り出しにパレッ
トを装置から引き出す必要があり、パレット引出し後に
基板ホルダーを取り外し、ついで基板を取り出す必要が
あることから、操作が難しく、また再使用のためにパレ
ットを装着後、真空排気するのに４時間という長時間が
必要であった。
【００１６】
【発明の効果】本発明は基板および基板ホルダーの保持
方法に関するものであり、これは前記したようにスパッ
タ装置または蒸着装置において、成膜室内部に基板およ
び基板ホルダーを搬送するためのパレットを具備し、該
パレットと該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め
込まれた磁石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を
固定するマスクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれ
た磁石を使用することを特徴とするものであるが、これ
によれば薄膜成形後の基板の取り出しは基板ホルダーを
パレットから取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、したがってパレットを成膜装置から取り出す過程
がなくなるので、装置の構造も簡略化することができる
し、安価なものとすることができ、さらには基板を基板
ホルダーごと成膜装置本体から外せるために、パレット
を大気にさらすことなく、パレットに水分が付着するこ
とが極めて少なくなるので、脱ガスのための真空引きの
時間の短縮が可能となるという有利性が与えられる。
方法に関するものであり、これは前記したようにスパッ
タ装置または蒸着装置において、成膜室内部に基板およ
び基板ホルダーを搬送するためのパレットを具備し、該
パレットと該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め
込まれた磁石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を
固定するマスクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれ
た磁石を使用することを特徴とするものであるが、これ
によれば薄膜成形後の基板の取り出しは基板ホルダーを
パレットから取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、したがってパレットを成膜装置から取り出す過程
がなくなるので、装置の構造も簡略化することができる
し、安価なものとすることができ、さらには基板を基板
ホルダーごと成膜装置本体から外せるために、パレット
を大気にさらすことなく、パレットに水分が付着するこ
とが極めて少なくなるので、脱ガスのための真空引きの
時間の短縮が可能となるという有利性が与えられる。
【図１】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法に
おけるパレット部の斜視図を示したものである。
おけるパレット部の斜視図を示したものである。
【図２】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法に
おけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を示した
ものである。
おけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を示した
ものである。
【図３】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
基板ホルダーの平面図を示したものである。
基板ホルダーの平面図を示したものである。
【図４】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
基板の平面図を示したものである。
基板の平面図を示したものである。
【図５】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
マスク板の平面図を示したものである。
マスク板の平面図を示したものである。
【図６】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
縦断面図を示したものである。
縦断面図を示したものである。
【図７】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法のパレットの斜視図を示したものである。
方法のパレットの斜視図を示したものである。
【図８】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法におけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を
示したものである。
方法におけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を
示したものである。
【図９】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法の基板の平面図を示したものである。
方法の基板の平面図を示したものである。
【図１０】比較例としての基板および基板ホルダーの保
持方法のマスク板の平面図を示したものである。
持方法のマスク板の平面図を示したものである。
【図１１】比較例としての基板および基板ホルダーの保
持方法の縦断面図を示したものである。
持方法の縦断面図を示したものである。
１ａ，１ｂ，１ｃ，18ａ，18ｂ，18ｃ，18ｄ…成膜室、 ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，19ａ，19ｂ，19ｃ，19ｄ…基
板ホルダー取付部、 ３…基板ホルダー取り出し位置、 ４，25…回転中心軸、 ５，22…成膜装置本体、 ６，24…パレット、 ８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ，８ｅ，８ｆ，８ｇ，８ｈ…パ
レットに取り付けられた磁石、 ９…磁石８ａ〜８ｈの磁石の領域、 10…パレットの基板ホルダー取付部、 11…基板ホルダーに取り付けられた磁石（外マスク
用）、 12…基板ホルダーに取り付けられた磁石（内マスク
用）、 13…基板ホルダー、 14ａ、14ｂ…磁石11、12の磁石の領域、 15，29…基板、 16ａ，30…外マスク、 16ｂ，31…内マスク、 17，32…マスク板、 20…レール、 23…車輪部、 26…外マスク用磁石、 27…内マスク用磁石、 28…パレットの基板取付部。
板ホルダー取付部、 ３…基板ホルダー取り出し位置、 ４，25…回転中心軸、 ５，22…成膜装置本体、 ６，24…パレット、 ８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ，８ｅ，８ｆ，８ｇ，８ｈ…パ
レットに取り付けられた磁石、 ９…磁石８ａ〜８ｈの磁石の領域、 10…パレットの基板ホルダー取付部、 11…基板ホルダーに取り付けられた磁石（外マスク
用）、 12…基板ホルダーに取り付けられた磁石（内マスク
用）、 13…基板ホルダー、 14ａ、14ｂ…磁石11、12の磁石の領域、 15，29…基板、 16ａ，30…外マスク、 16ｂ，31…内マスク、 17，32…マスク板、 20…レール、 23…車輪部、 26…外マスク用磁石、 27…内マスク用磁石、 28…パレットの基板取付部。
Claims (4)
- 【請求項１】スパッタ装置または蒸着装置において、成
膜室内部に基板および基板ホルダーを搬送するためのパ
レットを具備し、該パレットと該基板ホルダーの固定に
該パレット中に埋め込まれた磁石を使用し、かつ該基板
ホルダーと該基板を固定するマスクの固定に該基板ホル
ダー中に埋め込まれた磁石を使用することを特徴とする
基板および基板ホルダーの保持方法。 - 【請求項２】基板ホルダー、基板、およびマスクが一体
で成膜室から取り出せるようにされている請求項１記載
の基板および基板ホルダーの保持方法。 - 【請求項３】パレットに埋め込まれた磁石と基板ホルダ
ーに埋め込まれた磁石とが磁気的な干渉を起こさないよ
うに配置されている請求項１記載の基板および基板ホル
ダーの保持方法。 - 【請求項４】パレットを円形状とし、該パレットの外周
部に基板ホルダー取り付け部を複数個設けてなる、請求
項１記載の基板および基板ホルダーの保持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167693A JPH07145481A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 基板および基板ホルダーの保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167693A JPH07145481A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 基板および基板ホルダーの保持方法 |
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| JPH07145481A true JPH07145481A (ja) | 1995-06-06 |
Family
ID=17771986
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP29167693A Pending JPH07145481A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 基板および基板ホルダーの保持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07145481A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005075701A1 (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-18 | Ulvac, Inc. | 薄膜形成装置 |
| WO2013118765A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-15 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置並びに蒸着装置を用いた成膜方法 |
| JP2015506895A (ja) * | 2011-11-30 | 2015-03-05 | コーニング インコーポレイテッド | 光学コーティング方法、機器、および製品 |
| US9957609B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
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| EP4030213A1 (en) * | 2021-01-18 | 2022-07-20 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Optical element holder, optical element holding device, and vapor deposition apparatus |
-
1993
- 1993-11-22 JP JP29167693A patent/JPH07145481A/ja active Pending
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| JP2022110326A (ja) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 光学素子ホルダ、光学素子保持装置、及び、蒸着装置 |
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