JPH0714670B2 - Process for producing photosensitive lithographic printing plate support - Google Patents

Process for producing photosensitive lithographic printing plate support

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JPH0714670B2
JPH0714670B2 JP3541887A JP3541887A JPH0714670B2 JP H0714670 B2 JPH0714670 B2 JP H0714670B2 JP 3541887 A JP3541887 A JP 3541887A JP 3541887 A JP3541887 A JP 3541887A JP H0714670 B2 JPH0714670 B2 JP H0714670B2
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JP
Japan
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acid
lithographic printing
printing plate
support
photosensitive lithographic
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治雄 中西
博和 榊
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版用支持体の製造方法に関する
ものであり特に陽極酸化皮膜を改質し、非画像部の汚染
が改良されたアルミニウム板よりなる平版印刷版用支持
体の製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a method for producing a photosensitive lithographic printing plate support, and in particular, the anodic oxide film is modified to improve the contamination of non-image areas. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate support made of an aluminum plate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、平版印刷板には、アルミニウム板上に感光性組成
物を薄層状に塗設した所謂PS版があるが、上記のアルミ
ニウム板は通常ブラシグレイン法やボールグレイン法の
ごとき機械的な方法や電解グレイン法のごとき電気化学
的方法あるいは両者を組合せた方法などの粗面化処理に
付され、その表面が梨地状にされたのち、酸またはアル
カリ等の水溶液によりエッチングされ、さらに陽極酸化
処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平版印
刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設けられ
てPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS版は、通
常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版印
刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。
Conventionally, a lithographic printing plate has a so-called PS plate in which a photosensitive composition is applied in a thin layer on an aluminum plate, but the above-mentioned aluminum plate is usually a mechanical method such as a brush grain method or a ball grain method or It is subjected to a surface-roughening treatment such as an electrochemical method such as an electrolytic grain method or a method combining both methods, and after the surface is made satin-finished, it is etched with an aqueous solution of acid or alkali, and further anodized. After that, a hydrophilic treatment is optionally applied to form a support for a lithographic printing plate, and a photosensitive layer is provided on the support to obtain a PS plate (photosensitive lithographic printing plate). This PS plate is usually subjected to image exposure, development, correction and gumming steps to obtain a lithographic printing plate, which is attached to a printing machine for printing.

しかしながら上記のPS版を、像露光、現像して得られた
平版印刷版の非画像部には感光層中に含まれる物質が不
可逆的に吸着し、非画像部を汚染するため、修正工程で
画像部と非画像部の識別が困難であったり、修正跡が明
瞭に残り不均一な版面となり、その程度がひどくなると
汚れとなるため印刷版として使用できなくなるという問
題があった。
However, the above PS plate is exposed to light and developed, and the non-image area of the lithographic printing plate obtained is irreversibly adsorbed by the substance contained in the photosensitive layer and contaminates the non-image area. There is a problem that it is difficult to distinguish the image part from the non-image part, or the correction marks are clearly left and the plate surface becomes uneven, and when the degree of the correction becomes severe, the plate becomes dirty and cannot be used as a printing plate.

これを改善するため、従来は、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体表面を、米国特許第3,181,461号明細書に
記載されているようなアルカリ金属珪酸塩水溶液中に浸
漬する方法、米国特許第3,860,426号明細書に記載され
ているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロースを
下塗りする方法、又は英国特許第2,098,627号に記載さ
れているようなアリールスルホン酸ナトリウムを下塗り
する方法等が提案されている。このような処理を施すこ
とによって、上述した非画像部の汚染を防止して印刷物
に“汚れ”が生じないようにすることができるが、その
反面耐刷性が、上記処理を施さない場合の50〜80%に減
少するという新たな問題を伴なう欠点があった。
In order to improve this, conventionally, a method of immersing an anodized aluminum support surface in an aqueous alkali metal silicate solution as described in U.S. Pat.No. 3,181,461, U.S. Pat.No. 3,860,426. A method of subbing hydrophilic cellulose containing a water-soluble metal salt, or a method of subbing sodium arylsulfonate as described in British Patent No. 2,098,627 has been proposed. . By performing such a treatment, it is possible to prevent the above-mentioned non-image portion from being contaminated and prevent "smudge" from occurring on the printed matter. There was a drawback with the new problem of decreasing to 50-80%.

また、従来は機械的又は電解的に砂目立てしたアルミニ
ウム支持体表面に、特公昭44−6410号公報に記載されて
いるようなトリヒドロキシベンゾールカルボン酸の薄層
を設ける方法、又は特公昭41−14337号公報に記載され
ているようなメリット酸の薄層を設ける方法、又は特公
昭38−8907号公報に記載されているようなホスホン酸お
よびその誘導体よりなる薄層を設ける方法等の処理を施
すことが知られており、この方法を陽極酸化処理したア
ルミニウム板に適用してみたが、非画像部の汚れが、上
記処理を施さない場合に比べて著しく悪化するという新
たな問題が生じた。特にPS版を製造してから製版処理さ
れるまでの時間(保存時間)が長くなるにつれてこのよ
うな問題は顕著になる傾向があった。
Further, conventionally, a method of providing a thin layer of trihydroxybenzolcarboxylic acid as described in JP-B-44-6410 on the surface of an aluminum support which is mechanically or electrolytically grained, or JP-B-41- A method of providing a thin layer of melitic acid as described in JP 14337, or a method of providing a thin layer of phosphonic acid and its derivative as described in JP-B-388907. It is known to apply it, and I tried to apply this method to an anodized aluminum plate, but there was a new problem that the stain on the non-image area was markedly worse than when the above treatment was not applied. . In particular, such a problem tends to become more prominent as the time from the production of the PS plate to the plate-making process (storage time) becomes longer.

また従来の平版印刷版では、非画像部に付着したインキ
が迅速に除去されないために汚れを生じるという問題も
あった。
Further, the conventional lithographic printing plate has a problem that stains occur because the ink adhering to the non-image area is not rapidly removed.

このように非画像部の汚染が生じない平版印刷版は耐刷
力が低く、耐刷力の低下が生じない平版印刷版は非画像
部の汚染が著しくなるという傾向があり、これら両者の
性能を同時に満足させることは非常に困難であった。
Thus, the lithographic printing plate that does not cause contamination of the non-image area has low printing durability, and the lithographic printing plate that does not cause deterioration of printing durability tends to have significant contamination of the non-image area. It was very difficult to satisfy at the same time.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

したがって本発明の目的は、非画像部に汚染を生じにく
く、印刷物の非画像部の汚れが発生せず、しかも耐刷力
の低下のない平版印刷版を得ることができるような平版
印刷版用支持体を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate that is less likely to cause contamination in the non-image area, does not cause stains in the non-image area of the printed matter, and can obtain a lithographic printing plate with no reduction in printing durability. The purpose is to provide a support.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を重ね
た結果本発明をなすに至った。本発明はアルミニウム板
の少なくとも片面を粗面化処理し、次いで陽極酸化処理
したのち、カルボン酸を0.01重量%以上含む酸性水溶液
で陽極酸化皮膜をその全皮膜量の1〜30重量%溶解する
ことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造方法
である。
The present inventors have completed the present invention as a result of intensive studies to achieve the above object. According to the present invention, at least one surface of an aluminum plate is roughened, and then anodized, and then the anodic oxide film is dissolved in an acidic aqueous solution containing 0.01% by weight or more of carboxylic acid in an amount of 1 to 30% by weight of the total amount of the film. And a method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate.

又本発明は、アルミニウム板の少なくとも片面を粗面化
処理し、次いで陽極酸化処理し、さらにカルボン酸を0.
01重量%以上含む酸性水溶液で陽極酸化皮膜をその全皮
膜量の1〜30重量%溶解した後、該陽極酸化皮膜上に、
水酸基、カルボキシル基及びスルホン酸基からなる群よ
り選ばれた少くとも1個の基と、アミノ基とを有する化
合物又はその塩を含む親水層を設けることを特徴とする
感光性平版印刷版用支持体の製造方法である。
Further, the present invention, at least one surface of the aluminum plate is subjected to a roughening treatment, then anodizing treatment, further carboxylic acid 0.
After dissolving the anodic oxide film in an acidic aqueous solution containing 01 wt% or more by 1 to 30 wt% of the total amount of the film, on the anodic oxide film,
A support for a photosensitive lithographic printing plate, comprising a hydrophilic layer containing a compound having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group and a sulfonic acid group and an amino group or a salt thereof. It is a body manufacturing method.

以下、本発明について順を追って詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail step by step.

(アルミニウム板) 本発明において用いられるアルミニウム板はアルミニウ
ムを主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含む
アルミニウム合金等の板状体である。このような異原子
には、硅素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。こ
れらの異原子の含有率は一般に10重量%以下である。本
発明の支持体に好適なアルミニウムは純アルミニウムで
あるが、完全に純粋なアルミニウムは、製練技術上製造
が困難であるので、できるだけ異原子を含まないものが
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく従来公知、公用
の素材のものを適宜利用することができる。本発明に用
いられるアルミニウム板の厚さは、およそ0.1mm〜0.5mm
程度が適当である。
(Aluminum Plate) The aluminum plate used in the present invention is a plate-shaped body such as pure aluminum containing aluminum as a main component or an aluminum alloy containing a slight amount of foreign atoms. Such foreign atoms include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of these foreign atoms is generally 10% by weight or less. Aluminum which is suitable for the support of the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce due to the kneading technology, and therefore it is preferable that it contains as few foreign atoms as possible. As described above, the aluminum plate applied to the present invention is not specified in its composition, and conventionally known and officially used materials can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is approximately 0.1 mm to 0.5 mm.
The degree is appropriate.

(粗面化処理) アルミニウム板を陽極酸化するに先立ち、表面の圧延油
を除去するための、例えば界面活性剤又はアルカリ性水
溶液により脱脂処理、および砂目立処理が所望により行
なわれる。
(Roughening treatment) Prior to anodizing the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant or an alkaline aqueous solution and a graining treatment for removing rolling oil on the surface are optionally carried out.

砂目立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方
法、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面
を選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化す
る方法としては、ホール研摩法、ブラシ研摩法、ブラス
ト研摩法、バフ研摩法等と称せられる公知の方法を用い
ることができる。また電気化学的な粗面化法としては塩
酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により、行なう方法
がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されてい
るように両者を組合せた方法も利用することができる。
The graining treatment method includes a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting the surface, and a method of chemically selectively melting the surface. As a method for mechanically roughening the surface, a known method called a hole polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method or the like can be used. Further, as an electrochemical surface-roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used.

このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理及び中和処理される。
The aluminum plate thus roughened is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, if necessary.

(陽極酸化処理) アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては多孔性酸化皮膜を形成するものならばいかなるもの
でも使用することができ、一般的には硫酸、燐酸、蓚
酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、それら
の電解質やその濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変
わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃
度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜
60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜50分の範囲が
適当である。
(Anodic oxidation treatment) As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or the like. The mixed acid is used, and the electrolyte and the concentration thereof are appropriately determined depending on the kind of the electrolyte. The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because it varies depending on the electrolyte used, but generally the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C, and the current density is 5 to 5.
A range of 60 A / dm 2 , voltage of 1 to 100 V, and electrolysis time of 10 seconds to 50 minutes is suitable.

陽極酸化皮膜の量は0.1〜10g/m2が好適であるが、より
好ましくは1〜6g/m2の範囲である。
The amount of the anodized film is preferably 0.1 to 10 g / m 2, but more preferably 1 to 6 g / m 2 .

(カルボン酸) 本発明で用いられるカルボン酸は、水溶液として陽極酸
化皮膜を化学的に溶解するものであれば、いかなるカル
ボン酸でも良い。たとえばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
シュウ酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸などを用いるこ
とができるが、上記のカルボン酸類の中でも好ましい酸
は、マロン酸、コハク酸、シュウ酸、ギ酸、酢酸であ
る。
(Carboxylic Acid) The carboxylic acid used in the present invention may be any carboxylic acid as long as it chemically dissolves the anodized film as an aqueous solution. For example formic acid, acetic acid, propionic acid,
Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, tartaric acid and the like can be used, and among the above-mentioned carboxylic acids, preferred acids are malonic acid, succinic acid, oxalic acid, formic acid and acetic acid.

また、上記のカルボン酸は各々2種以上を同時に含んで
もよい。
Further, each of the above-mentioned carboxylic acids may simultaneously contain two or more kinds.

(陽極酸化皮膜の溶解) 前記の如く、陽極酸化処理されたアルミニウム板は、つ
づいてカルボン酸を含む酸性水溶液で酸化皮膜をその全
皮膜量の1〜30重量%、好ましくは2〜20重量%溶解す
る。陽極酸化皮膜の溶解量は、次式に示すように、重量
法により測定する。
(Dissolution of anodized film) As described above, the anodized aluminum plate is subsequently treated with an acidic aqueous solution containing a carboxylic acid to form an oxidized film in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 2 to 20% by weight of the total amount of the film. Dissolve. The dissolved amount of the anodized film is measured by a gravimetric method as shown in the following formula.

WA:全陽極酸化皮膜量(g/m2)、 S:サンプル面積(m2)、 m1:処理する前のサンプル重量(g)、 m2:処理後のサンプル重量(g)、 皮膜溶解量が1重量%より少ない場合、感光層成分によ
る非画像部の汚染防止効果が殆んど得られなくなり30重
量%より多い場合、非画像部の耐摩耗性が著しく低下し
てしまう。
W A : Total anodic oxide coating amount (g / m 2 ), S: Sample area (m 2 ), m 1 : Sample weight before treatment (g), m 2 : Sample weight after treatment (g), coating When the amount of dissolution is less than 1% by weight, the effect of preventing contamination of the non-image area by the components of the photosensitive layer is hardly obtained, and when it exceeds 30% by weight, the abrasion resistance of the non-image area is significantly reduced.

処理温度は常温から沸点まで任意に選べるが、短時間で
所望の酸化皮膜溶解量を得るためには、より高い温度で
行なう方がよい。
The treatment temperature can be arbitrarily selected from normal temperature to the boiling point, but in order to obtain a desired oxide film dissolution amount in a short time, it is better to carry out the treatment at a higher temperature.

カルボン酸を含む酸性水溶液は、カルボン酸を0.01重量
%以上、好ましくは0.1重量%以上含んでいることが適
当であり、0.01重量%未満では本発明の効果が得られな
い。
It is suitable that the acidic aqueous solution containing carboxylic acid contains 0.01% by weight or more, preferably 0.1% by weight or more of carboxylic acid, and if it is less than 0.01% by weight, the effect of the present invention cannot be obtained.

酸性水溶液は、好ましくは、カルボン酸の溶解量により
pH5以下、より好ましくは、pH3以下とするのが良い。
The acidic aqueous solution preferably depends on the amount of carboxylic acid dissolved.
The pH is preferably 5 or lower, more preferably pH 3 or lower.

処理液の温度・処理時間については、処理液の種類処理
設備からの制約などにより一義的には決定され得ないが
一般的には温度30〜100℃、処理時間は1秒間〜5分間
の範囲である。
The temperature and processing time of the processing liquid cannot be uniquely determined due to the type of processing liquid and restrictions from the processing equipment, but generally the temperature is 30 to 100 ° C, and the processing time is in the range of 1 second to 5 minutes. Is.

処理方法は上記酸性水溶液を酸化皮膜に接触させる方法
ならばいかなる方法でもよく、たとえばスプレー方式に
よるものでも、浸漬方式によるものでもよい。
The treatment method may be any method as long as the acidic aqueous solution is brought into contact with the oxide film, for example, a spray method or a dipping method.

(親水層) 本発明の好ましい実施態様においては、上記のような酸
性水溶液による処理の後に、特開昭60−149491号公報及
び特開昭60−232998号公報に記載されているような、水
酸基、カルボキシル基及びスルホン酸基からなる群より
選ばれた少くとも1個の基と、アミノ基とを有する化合
物又はその塩(以下、親水性化合物という)を含む親水
層を陽極酸化皮膜上に設ける。
(Hydrophilic layer) In a preferred embodiment of the present invention, after the treatment with the acidic aqueous solution as described above, a hydroxyl group as described in JP-A-60-149491 and JP-A-60-232998 is used. A hydrophilic layer containing a compound having at least one group selected from the group consisting of a carboxyl group and a sulfonic acid group and an amino group or a salt thereof (hereinafter referred to as a hydrophilic compound) is provided on the anodized film. .

その具体的な親水性化合物としては、例えば、アミノ酢
酸、リシン、スレオニン、セリン、アスパラギン酸、パ
ラヒドロシフェニルグリシン、ジヒドロキシエチルグリ
シン、アントラニル酸、トリプトフアン等のアミノ酸、
スルフアミン酸、シクロヘキシルスルフアミン酸等の脂
肪族アミノスルホン酸及びこれらのナトリウム塩、カリ
ウム塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミン、トリメタノールアミン、トリプロパノ
ールアミン、トリエタノールアミン及びそれらの塩酸
塩、蓚酸塩、燐酸塩などが有用である。これらの中でも
トリエタノールアミン、塩酸トリエタノールアミン及び
ジヒドロキシエチルグリシンが最も有用である。
Specific examples of the hydrophilic compound include amino acids such as aminoacetic acid, lysine, threonine, serine, aspartic acid, parahydrocyphenylglycine, dihydroxyethylglycine, anthranilic acid, and tryptophan.
Aliphatic aminosulfonic acids such as sulfamic acid and cyclohexylsulfamic acid and their sodium salts, potassium salts, ammonium salts, monoethanolamine, diethanolamine, trimethanolamine, tripropanolamine, triethanolamine and their hydrochlorides, Oxalates and phosphates are useful. Among these, triethanolamine, triethanolamine hydrochloride and dihydroxyethylglycine are most useful.

上記のような親水性化合物は、適当な溶剤、例えば水、
メタノールなどのアルコールに0.001〜10重量%の濃度
で溶解されて塗布液とされる。このとき、塗布後のpHは
1〜13の範囲にあれば適当である。また塗布液の温度は
10〜50℃の範囲が適当である。
The hydrophilic compound as described above is a suitable solvent, for example, water,
A coating solution is prepared by dissolving it in alcohol such as methanol at a concentration of 0.001 to 10% by weight. At this time, it is appropriate that the pH after coating is in the range of 1 to 13. The temperature of the coating solution is
A range of 10 to 50 ° C is suitable.

塗布方法としては、浸漬塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布等のいずれの方法を用いてもよい。塗
布量は、乾燥後の被覆量で1〜100mg/m2が好適である
が、より好ましくは5〜50mg/m2の範囲である。上記の
被覆量が1mg/m2より少なくなるにつれて非画像部の汚れ
防止に効果がなくなって行き、他方100mg/m2より多くな
るにつれて感光層と支持体との密着性が劣化し、耐刷力
の低い平版印刷版しか得られなくなる。
As a coating method, any method such as dip coating, spin coating, spray coating and curtain coating may be used. The coating amount is 1 to 100 mg / m 2 at a coverage after drying is preferred, more preferably from 5 to 50 mg / m 2. When the coating amount is less than 1 mg / m 2 , the effect of preventing stains on the non-image area becomes less effective.On the other hand, when it is more than 100 mg / m 2 , the adhesion between the photosensitive layer and the support deteriorates, and Only lithographic printing plates with low power can be obtained.

また、この親水層を設ける前又は後に米国特許第3,181,
461号に記載されているように、アルカリ金属シリケー
ト(例えば珪酸ソーダ)の水溶液で処理することもでき
る。
Further, before or after providing this hydrophilic layer, U.S. Pat.
It can also be treated with an aqueous solution of an alkali metal silicate (eg sodium silicate) as described in No. 461.

(感光層) このようにして得られた平版印刷版用支持体の上に、従
来より知られている感光層を設けて、感光性平版印刷版
を得ることができ、これを製版処理して得た平版印刷版
は、優れた性能を有している。
(Photosensitive layer) By providing a conventionally known photosensitive layer on the thus obtained lithographic printing plate support, a photosensitive lithographic printing plate can be obtained. The lithographic printing plate thus obtained has excellent performance.

上記の感光層の組成物としては、露光の前後で現像液に
対する溶解性又は膨潤性が変化するものであれば、いず
れも使用できる。以下、その代表的なものについて説明
する。
As the composition of the photosensitive layer, any composition can be used as long as the solubility or swelling property in a developing solution changes before and after exposure. The representative ones will be described below.

ポジ作用型感光性ジアゾ化合物としては、特公昭43
−28403号公報に記載されているベンゾキノン−1,2−ジ
アジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシフェニルと
のエステル又はナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン
酸クロリドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル
が最も好ましいものである。その他の比較的好適なo−
キノンジアジド化合物としては、米国特許第3,046,120
号及び第3,188,210号の各明細書中に記載されているベ
ンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリド又はナ
フトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
As a positive-working photosensitive diazo compound, Japanese Patent Publication No.
Most preferred are esters of benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid chloride and polyhydroxyphenyl described in JP-A-28403 or esters of naphthoquinone-1,2-diazidesulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin. It is a thing. Other relatively suitable o-
Examples of quinonediazide compounds include U.S. Patent No. 3,046,120.
And benzoquinone-1,2-diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid chloride described in U.S. Pat. No. 3,188,210 and phenol formaldehyde resin.

o−キノンジアジド化合物は単独で感光層を構成する
が、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤(バインダー)と
して併用してもよい。このアルカリ水を可溶性の樹脂と
しては、ノボラック樹脂があり、たとえばフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、p−t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、
フェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性キシレン
・メシチレン樹脂などがある。その他の有用なアルカリ
水可溶性樹脂としてポリヒドロキシスチレン、ポリハロ
ゲン化ヒドロキシスチレン化(メタ)アクリル酸と他の
ビニル化合物とのコポリマーを挙げることができる。
Although the o-quinonediazide compound alone constitutes the photosensitive layer, a resin soluble in alkaline water may be used in combination as a binder. As the resin soluble in alkaline water, there are novolac resins such as phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, pt-butylphenol formaldehyde resin,
Examples include phenol-modified xylene resin and phenol-modified xylene / mesitylene resin. Other useful alkaline water-soluble resins include polyhydroxystyrene, copolymers of polyhalogenated hydroxystyrenated (meth) acrylic acid and other vinyl compounds.

o−キノンジアジド化合物からなる感光層およびその現
像液の更なる詳細は米国特許第4,259,434号に記載され
ている。
Further details of the photosensitive layer comprising the o-quinonediazide compound and its developer are described in US Pat. No. 4,259,434.

ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光性組成物。 A photosensitive composition comprising a diazo resin and a binder.

ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2,06
3,631号及び同第2,667,415号の各明細書に開示されてい
るジアゾニウム塩とアルドールやアセタールのような反
応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応生成物
であるジフェニルアミン−p−ジアゾニウム塩とホルム
アルデヒドとの縮合生成物(所謂感光性ジアゾ樹脂)が
好適に用いられる。その他の有用な縮合ジアゾ化合物は
米国特許第3,679,419号、英国特許第1,312,925号、同1,
312,926号の各明細書等に開示されている。これらの型
の感光性ジアゾ化合物は、通常水溶性無機塩の型で得ら
れ、従って水溶液から塗布することができる。又、これ
らの水溶性ジアゾ化合物を英国特許第1,280,885号明細
書に開示された方法により1個又はそれ以上のフェノー
ル性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有する芳香族
又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物である実
質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用することもで
きる。
As a negative-working photosensitive diazo compound, US Pat.
Diphenylamine-p-diazonium salt and formaldehyde, which are reaction products of the diazonium salt disclosed in each of 3,631 and 2,667,415 and an organic condensing agent containing a reactive carbonyl group such as aldol and acetal. Condensation products (so-called photosensitive diazo resins) with and are preferably used. Other useful fused diazo compounds are U.S. Patent No. 3,679,419, British Patent No. 1,312,925, 1,3
It is disclosed in each specification of No. 312,926. These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts and can therefore be coated from aqueous solutions. Also, these water-soluble diazo compounds are reacted with an aromatic or aliphatic compound having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups or both by the method disclosed in British Patent No. 1,280,885, The reaction product, a substantially water-insoluble photosensitive diazo resin, can also be used.

また、特開昭56−121031号公報に記載されているように
ヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフルオロ硼酸塩と
の反応生成物として使用することもできる。
It can also be used as a reaction product with a hexafluorophosphate salt or a tetrafluoroborate salt as described in JP-A-56-121031.

そのほか、米国特許第1,312,925号明細書に記載されて
いるジアゾ樹脂も好ましい。
In addition, the diazo resin described in US Pat. No. 1,312,925 is also preferable.

このようなジアゾ樹脂は、バインダーと共に用いられ
る。好ましいバインダーは酸価10〜200を有する有機高
分子重合体であり、具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須の重合成
分として含む共重合体、例えば米国特許第4,123,276号
に記載されている様な2−ヒドロキシエチルアクリレー
トまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリ
ロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリル酸また
はメタクリル酸および必要に応じて更に他の共重合しう
るモノマーとの3元または4元共重合体、特開昭53−12
0903号公報に記載されている様な末端がヒドロキシ基で
あり、かつジカルボン酸エステル残基を含む基でエステ
ル化されたアクリル酸またはメタクリル酸、アクリル酸
またはメタクリル酸、および必要に応じて更に他の共重
合しうるモノマーとの共重合体、特開昭54−98614号公
報に記載されている様な芳香族性水酸基を末端に有する
単量体(例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)メタク
リルアミドなど)、アクリル酸またはメタクリル酸、及
び更に必要に応じて他の共重合可能なモノマーの少なく
とも1つとの共重合体、特開昭56−4144号公報に記載さ
れている様なアルキルアクリレートまたはメタクリレー
ト、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、およ
び不飽和カルボン酸よりなる共重合体が含まれる。また
酸性ポリビニルアルコール誘導体、酸性セルロース誘導
体も有用である。
Such a diazo resin is used together with a binder. A preferred binder is an organic polymer having an acid value of 10 to 200, and specific examples thereof include a copolymer containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid or maleic acid as an essential polymerization component, for example, U.S. Pat. Tertiary or quaternary with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile, acrylic acid or methacrylic acid and optionally other copolymerizable monomers as described in US Pat. Original copolymer, JP-A-53-12
No. 0903, the terminal is a hydroxy group, and acrylic acid or methacrylic acid esterified with a group containing a dicarboxylic acid ester residue, acrylic acid or methacrylic acid, and optionally other Copolymer with a monomer capable of copolymerization, a monomer having an aromatic hydroxyl group at the terminal as described in JP-A-54-98614 (for example, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide) Etc.), acrylic acid or methacrylic acid, and optionally a copolymer with at least one other copolymerizable monomer, alkyl acrylates or methacrylates as described in JP-A-56-4144. , Acrylonitrile or methacrylonitrile, and an unsaturated carboxylic acid copolymer. Further, acidic polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives are also useful.

活性光線の照射により二量化を起す化合物を含む組
成物。例えばポリ桂皮酸ビニル、ポリビニルシンナモイ
ルエチルエーテル、ポリエチレンシンナメートアクリレ
ート、及びその共重合体、ポリエチルシンナメートメタ
クリレート及びその共重合体、ポリバラビニルフェニル
シンナメート及びその共重合体、ポリビニルベンザール
アセトフェノン及びその誘導体、ポリビニルシンナミリ
デンアセテート及びその誘導体、アクリル酸アリルプレ
ポリマー及びその誘導体、パラフェニレンジアクリル酸
とポリハイドリックアルコールから成るポリエステル樹
脂の誘導体で、例えば米国特許第3,030,208号明細書に
記載されているような化合物などがある。
A composition comprising a compound which undergoes dimerization upon irradiation with actinic rays. For example, polyvinyl cinnamate, polyvinyl cinnamoyl ethyl ether, polyethylene cinnamate acrylate and copolymers thereof, polyethyl cinnamate methacrylate and copolymers thereof, polyvalavinylphenyl cinnamate and copolymers thereof, polyvinyl benzal acetophenone And derivatives thereof, polyvinyl cinnamylidene acetate and derivatives thereof, allyl acrylate prepolymers and derivatives thereof, derivatives of polyester resins composed of paraphenylenediacrylic acid and polyhydric alcohol, and described in, for example, U.S. Pat.No. 3,030,208. There are such compounds as mentioned above.

活性光線の照射により重合反応を起す、いわゆる共
重合体組成物。例えば米国特許第2,760,863号および同
第3,060,023号明細書に記載の2個またはそれ以上の末
端エチレン基を有する付加重合性不飽和化合物と光重合
開始剤よりなる組成物がある。
A so-called copolymer composition that causes a polymerization reaction upon irradiation with actinic rays. For example, there is a composition comprising an addition-polymerizable unsaturated compound having two or more terminal ethylene groups described in US Pat. Nos. 2,760,863 and 3,060,023 and a photopolymerization initiator.

上記活性光線の照射により二量化する化合物および重合
反応する化合物には、更にバインダーとして樹脂、増感
剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤などを含有させること
ができる。
A resin, a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a dye, a plasticizer and the like can be further added to the compound that dimerizes and the compound that undergoes a polymerization reaction upon irradiation with actinic rays as binders.

上記の如き感光性組成物は、通常、水、有機溶剤、又は
これらの混合物の溶液として、本発明による支持体上に
塗布し、乾燥されて感光性平版印刷版が作成される。
The photosensitive composition as described above is usually applied as a solution of water, an organic solvent, or a mixture thereof on the support according to the present invention and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate.

感光性組成物の塗布量は、一般的に約0.1〜約5.0g/m2
適当であり、約0.5〜約3.0g/m2がより好ましい。
A suitable coating amount of the photosensitive composition is generally about 0.1 to about 5.0 g / m 2 , and more preferably about 0.5 to about 3.0 g / m 2 .

かくして得られる感光性平版印刷版はカーボンアーク
灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどの如き活性光線を含む光源により画像露
光し、現像して平版印刷版が得られる。
The photosensitive lithographic printing plate thus obtained is subjected to imagewise exposure with a light source containing an actinic ray such as a carbon arc lamp, a xenon lamp, a mercury lamp, a tungsten lamp, a metal halide lamp, and the like, and developed to obtain a lithographic printing plate.

(発明の効果) 本発明の実施により得られる支持体を使用した感光性平
版印刷版を露光、現像して得られる平版印刷版はネガ
型、ポジ型のいずれの場合も非画像部の汚染がなく、修
正工程で画像部と非画像部の識別が容易であり、また修
正跡が生じることなく、したがって修正跡による印刷物
の汚れが発生しない。しかも耐刷力は高い。
(Effects of the Invention) A lithographic printing plate obtained by exposing and developing a photosensitive lithographic printing plate using the support obtained by the practice of the present invention has a negative type and a positive type in which the non-image area is contaminated. In addition, the image portion and the non-image portion can be easily identified in the correction process, and the correction mark does not occur, so that the printed matter is not stained by the correction mark. Moreover, the printing durability is high.

さらに本発明の実施により得られるアルミニウム支持体
は、従来のものに比べて白い表面となり、検板性に優れ
ており、しかもインキ汚れ回復力においても優れてい
る。
Furthermore, the aluminum support obtained by the practice of the present invention has a whiter surface than conventional ones, is excellent in plate inspection property, and is also excellent in ink stain recovery power.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により、具体的に説明する。なお
実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重量%」を
示すものとする。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. In addition, "%" in the examples means "% by weight" unless otherwise specified.

〔実施例1〕 JIS1050アルミニウムシートをパミス−水懸濁液を研摩
剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立てした。
このときの表面粗さ(中心線平均粗さ)は0.5μであっ
た。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃に温めた溶液
中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が6g/m2になるよ
うにエッチングした。水洗後、30%硝酸水溶液に1分間
浸漬して中和し、十分水洗した。その後に、0.7%硝酸
水溶液中で、陽極時電圧13ボルト、陰極時電圧6ボルト
の短形波交番波形を用いて(特開昭52−77702号公報実
施例に記載されている電源波形)20秒間電解粗面化を行
ない、20%硫酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した
後、水洗した。
[Example 1] The surface of a JIS1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a pumice-water suspension as an abrasive.
At this time, the surface roughness (centerline average roughness) was 0.5 μ. After washing with water, a 10% aqueous sodium hydroxide solution was immersed in a solution heated to 70 ° C., and etching was performed so that the amount of aluminum dissolved was 6 g / m 2 . After washing with water, it was immersed in a 30% aqueous solution of nitric acid for 1 minute for neutralization, and thoroughly washed with water. After that, in a 0.7% aqueous nitric acid solution, a short-wave alternating waveform having a voltage of 13 V for the anode and a voltage of 6 V for the cathode was used (the power supply waveform described in the example of JP-A-52-77702). After electrolytic surface roughening for 2 seconds, the surface was washed by immersing it in a 20% sulfuric acid solution at 50 ° C. and then washing with water.

さらに20%硫酸水溶液中で陽極酸化皮膜重量が3.0g/m2
となるように直流を用いて陽極酸化処理を施して水洗、
乾燥し、基板(I)を作成した。
Furthermore, the weight of the anodic oxide film is 3.0 g / m 2 in 20% sulfuric acid aqueous solution.
So that it is anodized using direct current and washed with water,
It was dried to prepare a substrate (I).

この基板(I)をシュウ酸1%を含む水溶液(pH約1.
0)に、80℃で全陽極酸化皮膜量の約10%(約0.3g/m2
が溶解するように浸漬してエッチング処理した。その後
水洗、乾燥した。
An aqueous solution containing 1% oxalic acid (pH about 1.
0), about 10% of the total amount of anodic oxide film at 80 ° C (about 0.3g / m 2 )
Was soaked that it was dissolved and subjected to etching treatment. Then, it was washed with water and dried.

このようにして作成した支持体〔A〕に下記組成物の感
光液を乾燥後の塗布重量が2.5g/m2となるように塗布し
て感光層を設けた。
The support [A] thus prepared was coated with a photosensitive solution having the following composition so that the coating weight after drying was 2.5 g / m 2 to form a photosensitive layer.

このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離から3K
Wのメタルハライドランプにより、50秒間露光を行なっ
たのち、SiO2/Na2Oのモル比が1.74の珪酸ナトリウムの
5.26%水溶液(pH=12.7)で現像した。
The photosensitive lithographic printing plate made in this way was passed through a transparent positive film in a vacuum baking frame at a distance of 1 m for 3K.
After exposure for 50 seconds with a W metal halide lamp, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio of sodium silicate of 1.74
It was developed with a 5.26% aqueous solution (pH = 12.7).

次いで十分水洗し、非画像部の汚染を調べたのち、市販
の消去液で画像部の一部を消去し、十分水洗してからガ
ム引きして、常法の手順で印刷した。このときの消去部
の汚れの発生と耐刷力を調べた。更に、平版印刷版の全
面にインキを付着させたのち、常法の手順で印刷を開始
したときの非画像部に汚れのない奇麗な印刷物が得られ
るまでの印刷枚数(以下、インキ汚れ回復力と称す)を
調べた。
Then, after thoroughly washing with water to check the contamination of the non-image area, a part of the image area was erased with a commercially available erasing liquid, washed thoroughly with water, gummed, and printed by a conventional procedure. At this time, the generation of stains on the erased portion and the printing durability were examined. Furthermore, after ink is applied to the entire surface of the lithographic printing plate, the number of prints until a clean printed matter with no stain on the non-image area is obtained when printing is started by the usual procedure (hereinafter, ink stain recovery Called).

以上の結果を第1表に示した。The above results are shown in Table 1.

〔比較例1〕 実施例1の基板〔I〕をシュウ酸水溶液処理を行なわな
いで支持体〔イ〕を作成し、感光層を実施例1と同様に
設け、印刷までも実施例1と同様に行なった。その結果
を第1表に示した。
[Comparative Example 1] A substrate [I] of Example 1 was prepared without carrying out an oxalic acid aqueous solution treatment, a support [A] was prepared, a photosensitive layer was provided in the same manner as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. I went to. The results are shown in Table 1.

〔実施例2〕 実施例1の基板〔I〕をギ酸1%(pH約1.0)を含む水
溶液で80℃で全陽極酸化皮膜量の約10%(約0.3g/m2
溶解するように浸漬してエッチング処理して水洗、乾燥
し支持体〔B〕を作成した。感光層を実施例1と同様に
設け、印刷までも実施例1と同様に行なった。その結果
を第1表に示した。
Example 2 The substrate [I] of Example 1 was dissolved in an aqueous solution containing 1% formic acid (pH about 1.0) at 80 ° C. so that about 10% of the total amount of anodized film (about 0.3 g / m 2 was dissolved). A support [B] was prepared by dipping, etching, washing with water and drying, a photosensitive layer was provided in the same manner as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. Indicated.

〔比較例2〕 実施例1の基板〔I〕を硫酸約1%のみを含む水溶液
(pH1以下)で80℃で陽極酸化皮膜を全皮膜量の約10%
溶解するように浸漬処理して水洗乾燥し、支持体〔ロ〕
を作成した。
[Comparative Example 2] The substrate [I] of Example 1 was treated with an aqueous solution (pH 1 or less) containing only about 1% of sulfuric acid at 80 ° C to form an anodized film of about 10% of the total amount.
Immersion treatment to dissolve, washing with water and drying, support [B]
It was created.

〔実施例3〕 実施例1の支持体〔A〕に親水層として有機化合物のリ
ジンをその乾燥重量で10mg/m2塗布し、支持体〔C〕を
作成した。感光層を実施例1と同様に設け、印刷までも
実施例1と同様に行なった。その結果を第1表に示し
た。
[Example 3] A support [C] was prepared by coating the support [A] of Example 1 with a dry layer of lysine, which is an organic compound, at 10 mg / m 2 as a hydrophilic layer. A photosensitive layer was provided in the same manner as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕 実施例1の基板〔I〕をカルボン酸水溶液処理を行なわ
ないで、実施例3と同様の親水層を設けて、支持体
〔ハ〕を作成した。感光層を実施例1と同様に設け、印
刷までも実施例1と同様に行なった。その結果を第1表
に示した。
[Comparative Example 3] The substrate [I] of Example 1 was not treated with an aqueous carboxylic acid solution, and a hydrophilic layer similar to that of Example 3 was provided to prepare a support [C]. A photosensitive layer was provided in the same manner as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

第1表の結果より、本発明の方法による支持体は比較例
のものに比べて非画像部の汚染、修正跡の汚れが改良さ
れていることがわかる。またインキ汚れ回復力において
もすぐれていることがわかる。更に耐刷力の低下もな
い。
From the results in Table 1, it can be seen that the support according to the method of the present invention has improved stains on the non-image areas and stains on the correction marks as compared with the support of the comparative example. Also, it can be seen that the ink stain recovery power is also excellent. Further, there is no decrease in printing durability.

また、予想外の結果として本発明法の後に親水層を設け
ることにより非画像部の汚染を特に軽減する効果が得ら
れることもわかった。
Further, as an unexpected result, it was found that the effect of particularly reducing the contamination of the non-image area can be obtained by providing the hydrophilic layer after the method of the present invention.

また、マロン酸、コハク酸、酢酸でも同様の効果が得ら
れた。
Similar effects were obtained with malonic acid, succinic acid, and acetic acid.

〔実施例4〕 〔実施例1〕の支持体〔A〕に下記組成の感光液を塗布
し乾燥して感光層を設けた。感光層の乾燥塗布量は、2.
0g/m2であった。
[Example 4] The support [A] of [Example 1] was coated with a photosensitive solution having the following composition and dried to form a photosensitive layer. The dry coating amount of the photosensitive layer is 2.
It was 0 g / m 2 .

感光液 このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ネガティブフィルムを通して1mの距離から3K
Wのメタルハライドランプを用いて50秒間露光を行なっ
たのち、下記組成の現像液で現像し、アラビアガム水溶
液でガム引きして平版印刷版とした。
Photosensitive liquid The photosensitive lithographic printing plate made in this way is passed through a transparent negative film in a vacuum baking frame from a distance of 1 m for 3K.
After exposure for 50 seconds using a W metal halide lamp, development was performed with a developing solution having the following composition, and gumming was performed with an aqueous solution of gum arabic to obtain a lithographic printing plate.

現像液 非画像部の汚染を調べたのち、印刷評価までは〔実施例
1〕と同様に行なった。
Developer After the contamination of the non-image area was examined, the printing evaluation was performed in the same manner as in [Example 1].

結果を第2表に示した。The results are shown in Table 2.

〔比較例4〕 〔実施例1〕の基板〔1〕(酸化皮膜処理を行なわない
支持体)に〔実施例4〕と同様に感光層を設け、印刷評
価までも同様に行なった。
[Comparative Example 4] A substrate [1] of [Example 1] (support without oxide film treatment) was provided with a photosensitive layer in the same manner as in [Example 4], and printing evaluation was performed in the same manner.

結果を第2表に示した。The results are shown in Table 2.

第2表からわかるように、本発明法によるとネガ型感光
層の場合にも良好な結果が得られた。
As can be seen from Table 2, according to the method of the present invention, good results were obtained even in the case of the negative photosensitive layer.

また、酸化皮膜の処理液としてシュウ酸のかわりにマロ
ン酸、コハク酸、酢酸を用いて酸化皮膜を溶解しても同
様の効果が得られた。
Further, the same effect was obtained by using malonic acid, succinic acid, or acetic acid instead of oxalic acid as the treatment liquid for the oxide film to dissolve the oxide film.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミニウム板の少なくとも片面を粗面化
処理し、次いで陽極酸化処理したのち、カルボン酸を0.
01重量%以上含む酸性水溶液で陽極酸化皮膜をその全皮
膜量の1〜30重量%溶解することを特徴とする感光性平
版印刷版用支持体の製造方法。
1. An aluminum plate is roughened on at least one side thereof, and then anodized, and then carboxylic acid is reduced to 0.
A method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate, which comprises dissolving an anodized film in an acidic aqueous solution containing not less than 01% by weight in an amount of 1 to 30% by weight of the total amount of the film.
【請求項2】カルボン酸が、脂肪族モノカルボン酸又は
脂肪族ジカルボン酸である特許請求の範囲第1項記載の
感光性平版印刷版用支持体の製造方法。
2. The method for producing a photosensitive lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the carboxylic acid is an aliphatic monocarboxylic acid or an aliphatic dicarboxylic acid.
【請求項3】カルボン酸がシュウ酸、マロン酸、コハク
酸、ギ酸又は酢酸である特許請求の範囲第1項又は第2
項記載の感光性平版印刷版用支持体の製造方法。
3. The carboxylic acid is oxalic acid, malonic acid, succinic acid, formic acid or acetic acid.
A method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate as described in the item.
【請求項4】アルミニウム板の少なくとも片面を粗面化
処理し、次いで陽極酸化処理し、さらにカルボン酸を0.
01重量%以上含む酸性水溶液で陽極酸化皮膜をその全皮
膜量の1〜30重量%溶解した後、該陽極酸化皮膜上に、
水酸基、カルボキシル基及びスルホン酸基からなる群よ
り選ばれた少くとも1個の基と、アミノ基とを有する化
合物又はその塩を含む親水層を設けることを特徴とする
感光性平版印刷版用支持体の製造方法。
4. An aluminum plate is roughened on at least one side and then anodized, and further carboxylic acid is reduced to 0.
After dissolving the anodic oxide film in an acidic aqueous solution containing 01 wt% or more by 1 to 30 wt% of the total amount of the film, on the anodic oxide film,
A support for a photosensitive lithographic printing plate, comprising a hydrophilic layer containing a compound having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group and a sulfonic acid group and an amino group or a salt thereof. Body manufacturing method.
【請求項5】カルボン酸が脂肪族モノカルボン酸又は脂
肪族ジカルボン酸である特許請求の範囲第4項記載の感
光性平版印刷版用支持体の製造方法。
5. The method for producing a photosensitive lithographic printing plate support according to claim 4, wherein the carboxylic acid is an aliphatic monocarboxylic acid or an aliphatic dicarboxylic acid.
【請求項6】カルボン酸がシュウ酸、マロン酸、コハク
酸、ギ酸又は酢酸である特許請求の範囲第4項又は第5
項記載の感光性平版印刷版用支持体の製造方法。
6. The method according to claim 4 or 5, wherein the carboxylic acid is oxalic acid, malonic acid, succinic acid, formic acid or acetic acid.
A method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate as described in the item.
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