JPH0714809A - ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 - Google Patents
ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法Info
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- JPH0714809A JPH0714809A JP15013293A JP15013293A JPH0714809A JP H0714809 A JPH0714809 A JP H0714809A JP 15013293 A JP15013293 A JP 15013293A JP 15013293 A JP15013293 A JP 15013293A JP H0714809 A JPH0714809 A JP H0714809A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ウエハの周縁部及びキャリア治具のウエハ支持
部の洗浄効果を向上させる半導体ウエハ洗浄技術を提供
すること。 【構成】ウエハ１０を支持溝７ａによって略水平に支持
したキャリア治具７を、揺動装置１１を用いて洗浄槽２
内で傾斜させることにより、支持溝７ａからウエハ１０
を離脱させて洗浄する。 【効果】ウエハはキャリア治具の支持ウエハ支持部から
離脱するので、ウエハの周縁部及びキャリア治具のウエ
ハ支持部が充分に洗浄液と接触し、ウエハの周縁部及び
キャリア治具のウエハ支持部に残留していた薬液や異物
を短時間に取り除くことができる。従って、異物付着に
よる不良を減少させ、洗浄工程における歩留を向上させ
ることができる。
部の洗浄効果を向上させる半導体ウエハ洗浄技術を提供
すること。 【構成】ウエハ１０を支持溝７ａによって略水平に支持
したキャリア治具７を、揺動装置１１を用いて洗浄槽２
内で傾斜させることにより、支持溝７ａからウエハ１０
を離脱させて洗浄する。 【効果】ウエハはキャリア治具の支持ウエハ支持部から
離脱するので、ウエハの周縁部及びキャリア治具のウエ
ハ支持部が充分に洗浄液と接触し、ウエハの周縁部及び
キャリア治具のウエハ支持部に残留していた薬液や異物
を短時間に取り除くことができる。従って、異物付着に
よる不良を減少させ、洗浄工程における歩留を向上させ
ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造技術
に関するものであり、特に半導体ウエハの洗浄技術に利
用して有効なものである。
に関するものであり、特に半導体ウエハの洗浄技術に利
用して有効なものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置製造においては、成膜工程や
リソグラフィ工程が繰り返し行なわれる。これらの工程
の間には、次の工程に必要な清浄なウエハ面を出すため
に、ウエハ洗浄工程がある。洗浄工程ではウエハ洗浄設
備が用いられる。図５に従来のウエハ洗浄設備の洗浄槽
部を示す。キャリア治具２９に収納されたウエハ３０は
フッ化水素やオゾン硫酸等の薬液槽で薬液洗浄された
後、水洗浄の洗浄槽１６へウエハ３０が立てられた状態
でキャリア治具２９ごと収容される。洗浄槽１６内で１
０分以上放置し、ウエハ３０やキャリア治具２９から薬
品等を洗い流す。
リソグラフィ工程が繰り返し行なわれる。これらの工程
の間には、次の工程に必要な清浄なウエハ面を出すため
に、ウエハ洗浄工程がある。洗浄工程ではウエハ洗浄設
備が用いられる。図５に従来のウエハ洗浄設備の洗浄槽
部を示す。キャリア治具２９に収納されたウエハ３０は
フッ化水素やオゾン硫酸等の薬液槽で薬液洗浄された
後、水洗浄の洗浄槽１６へウエハ３０が立てられた状態
でキャリア治具２９ごと収容される。洗浄槽１６内で１
０分以上放置し、ウエハ３０やキャリア治具２９から薬
品等を洗い流す。
【０００３】尚、半導体ウエハの洗浄技術については、
例えば、「月刊Semiconductor Wor-ld」１９９２年 ３
月号（プレスジャーナル社発行）第１０６頁乃至第１５
７頁、あるいは、「ＬＳＩプロセス工学」（オーム社発
行）第１３３頁乃至第１３５頁等に記載されている。
例えば、「月刊Semiconductor Wor-ld」１９９２年 ３
月号（プレスジャーナル社発行）第１０６頁乃至第１５
７頁、あるいは、「ＬＳＩプロセス工学」（オーム社発
行）第１３３頁乃至第１３５頁等に記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウエハ
（以下、単にウエハと称する）の洗浄方法は、洗浄槽内
でウエハをキャリア治具ごと上下動させる、あるいは静
止状態で放置するものがほとんどである。この場合、ウ
エハは立てられた状態であるため、その周縁部がキャリ
ア治具内部のウエハ支持部、例えば支持溝に接触したま
まである。従って、薬液、あるいはウエハ周縁部によっ
て支持溝が削られたことによる異物が洗浄液によって除
去しきれず、支持溝で支持されたウエハ周縁部及び支持
溝に残留するため、異物汚染の原因となり問題となって
いる。
（以下、単にウエハと称する）の洗浄方法は、洗浄槽内
でウエハをキャリア治具ごと上下動させる、あるいは静
止状態で放置するものがほとんどである。この場合、ウ
エハは立てられた状態であるため、その周縁部がキャリ
ア治具内部のウエハ支持部、例えば支持溝に接触したま
まである。従って、薬液、あるいはウエハ周縁部によっ
て支持溝が削られたことによる異物が洗浄液によって除
去しきれず、支持溝で支持されたウエハ周縁部及び支持
溝に残留するため、異物汚染の原因となり問題となって
いる。
【０００５】そこで本発明の目的は、ウエハの周縁部及
びキャリア治具のウエハ支持部の洗浄効果を向上させる
半導体ウエハ洗浄技術を提供することにある。
びキャリア治具のウエハ支持部の洗浄効果を向上させる
半導体ウエハ洗浄技術を提供することにある。
【０００６】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになる
であろう。
特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになる
であろう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
のとおりである。すなわち、ウエハをウエハ支持部によ
って略水平に支持したキャリア治具を、洗浄槽内で傾斜
させることにより、ウエハ支持部からウエハを離脱させ
て洗浄するものである。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
のとおりである。すなわち、ウエハをウエハ支持部によ
って略水平に支持したキャリア治具を、洗浄槽内で傾斜
させることにより、ウエハ支持部からウエハを離脱させ
て洗浄するものである。
【０００８】
【作用】上記手段によると、ウエハは、キャリア治具の
ウエハ支持部から離れるので、ウエハの周縁部及びキャ
リア治具のウエハ支持部が洗浄液と充分に接触し、ウエ
ハの周縁部及びキャリア治具のウエハ支持部に付着して
いた残留薬液や異物が短時間で取り除かれる。
ウエハ支持部から離れるので、ウエハの周縁部及びキャ
リア治具のウエハ支持部が洗浄液と充分に接触し、ウエ
ハの周縁部及びキャリア治具のウエハ支持部に付着して
いた残留薬液や異物が短時間で取り除かれる。
【０００９】
【実施例１】以下、本発明の一実施例を図１乃至図２を
用いて説明する。
用いて説明する。
【００１０】図１（ａ）及び（ｂ）は、本発明のウエハ
洗浄装置の断面及び動作を示す図、図２は、ウエハ洗浄
装置の平面図である。洗浄槽２には、洗浄水６がオーバ
ーフローするように洗浄水供給管５を接続している。オ
ーバーフローした洗浄水６は洗浄槽２の外側に設けられ
たオーバーフロー液受槽３へ流出し、洗浄水排水管４を
通って排水される。洗浄槽２の内部には、ウエハ１０を
収納したキャリア治具７を載置固定するキャリア治具支
持部材８が設けられている。このキャリア治具支持部材
８にはキャリア治具７からウエハ１０を側方から受け取
ることができるように、支持溝９ａを有する固定治具９
が設けられている。キャリア治具７がキャリア治具支持
部材８に載置される際には、キャリア治具７のウエハ出
し入れ口を固定治具９のウエハ出し入れ口と対向させ、
ウエハ１０が対向した固定治具９へ移動し、支持溝９ａ
によって支持されるように載置する。キャリア治具支持
部材８は、オーバーフロー液受槽３の下方に設置された
揺動装置１１に、棒状の伝達部材１３及び偏心カム１２
を介して接続されており、ウエハ洗浄の際、シーソー状
に揺動するように構成されている。伝達部材１３は、洗
浄槽２及びオーバーフロー液受槽３の底部を貫通し、揺
動装置１１の偏心カム１２に接続される。洗浄槽２底部
の貫通孔下部には、貫通孔から抜ける洗浄水をシールす
るための蛇腹管１４が取り付けられ、蛇腹管１４内に抜
けた洗浄水は洗浄水配水管４から排水される。偏心カム
１２は、回転することにより伝達部材１３を上下動させ
る。従って、２本の伝達部材１３が互い違いに上下運動
することによって、それに接続されたキャリア治具固定
部材８がシーソー状に揺動する。尚、キャリア治具７、
キャリア治具支持部材８、固定治具９、及び伝達部材１
３は、薬液や洗浄水による腐食を防ぐため、例えば、フ
ッ素系樹脂等から構成されている。
洗浄装置の断面及び動作を示す図、図２は、ウエハ洗浄
装置の平面図である。洗浄槽２には、洗浄水６がオーバ
ーフローするように洗浄水供給管５を接続している。オ
ーバーフローした洗浄水６は洗浄槽２の外側に設けられ
たオーバーフロー液受槽３へ流出し、洗浄水排水管４を
通って排水される。洗浄槽２の内部には、ウエハ１０を
収納したキャリア治具７を載置固定するキャリア治具支
持部材８が設けられている。このキャリア治具支持部材
８にはキャリア治具７からウエハ１０を側方から受け取
ることができるように、支持溝９ａを有する固定治具９
が設けられている。キャリア治具７がキャリア治具支持
部材８に載置される際には、キャリア治具７のウエハ出
し入れ口を固定治具９のウエハ出し入れ口と対向させ、
ウエハ１０が対向した固定治具９へ移動し、支持溝９ａ
によって支持されるように載置する。キャリア治具支持
部材８は、オーバーフロー液受槽３の下方に設置された
揺動装置１１に、棒状の伝達部材１３及び偏心カム１２
を介して接続されており、ウエハ洗浄の際、シーソー状
に揺動するように構成されている。伝達部材１３は、洗
浄槽２及びオーバーフロー液受槽３の底部を貫通し、揺
動装置１１の偏心カム１２に接続される。洗浄槽２底部
の貫通孔下部には、貫通孔から抜ける洗浄水をシールす
るための蛇腹管１４が取り付けられ、蛇腹管１４内に抜
けた洗浄水は洗浄水配水管４から排水される。偏心カム
１２は、回転することにより伝達部材１３を上下動させ
る。従って、２本の伝達部材１３が互い違いに上下運動
することによって、それに接続されたキャリア治具固定
部材８がシーソー状に揺動する。尚、キャリア治具７、
キャリア治具支持部材８、固定治具９、及び伝達部材１
３は、薬液や洗浄水による腐食を防ぐため、例えば、フ
ッ素系樹脂等から構成されている。
【００１１】次に、上記ウエハ洗浄装置１を用いたウエ
ハの洗浄方法を説明する。まず、図示しない薬液槽か
ら、搬送手段により、ウエハ１０が収容されたキャリア
治具７を、ウエハ１０をキャリア治具支持部材８の上面
と平行にした状態で洗浄槽２の内部へ搬送し、キャリア
治具支持部材８に載置固定する。その場合、キャリア治
具７はそのウエハ出し入れ口がキャリア治具支持部材８
に設けられた固定治具９のウエハ出し入れ口と対向させ
る。キャリア治具７と固定治具９との間は、ウエハ１０
の移動中にその周縁部が洗浄水と接触するように若干隙
間を空けておく。キャリア治具７の支持は、例えば、キ
ャリア治具支持部材８及びキャリア治具７にそれぞれ凹
凸部を設け、互いに勘合させることにより支持すること
ができる。次に揺動装置１１を作動させ、左右の偏心カ
ム１２が互いに半周ずれた形で回転させる。偏心カム１
２に接続されている棒状の伝達部材１３は互い違いに上
下動を繰り返し、伝達部材１３に接続されたキャリア治
具支持部材８がシーソー状に揺動する。その際、キャリ
ア治具支持部材８が傾斜することにより、キャリア治具
７の支持溝７ａに支持されているウエハ１０がその自重
で支持溝７ａから離脱し、対向している固定治具９へ移
動、及びその逆の動作を繰り返す。これらの動作を複数
回繰り返すことにより、ウエハ１０の周縁部がキャリア
治具７の支持溝７ａから離れて洗浄水と接触し、ウエハ
１０周縁部に付着していた残留薬液や異物が除去され
る。また、支持溝７ａにも洗浄水が入り込むため、支持
溝７ａに残留していた薬液や異物が除去される。これに
より、ウエハ１０周縁部や支持溝７ａを短時間に清浄に
することができる。キャリア治具固定部材８のシーソー
状の揺動を複数回繰り返した後、ウエハ１０が収納され
たキャリア治具７は、搬送手段によって洗浄槽２から引
き上げられ、次の洗浄槽、あるいは乾燥装置等へ搬送さ
れる。
ハの洗浄方法を説明する。まず、図示しない薬液槽か
ら、搬送手段により、ウエハ１０が収容されたキャリア
治具７を、ウエハ１０をキャリア治具支持部材８の上面
と平行にした状態で洗浄槽２の内部へ搬送し、キャリア
治具支持部材８に載置固定する。その場合、キャリア治
具７はそのウエハ出し入れ口がキャリア治具支持部材８
に設けられた固定治具９のウエハ出し入れ口と対向させ
る。キャリア治具７と固定治具９との間は、ウエハ１０
の移動中にその周縁部が洗浄水と接触するように若干隙
間を空けておく。キャリア治具７の支持は、例えば、キ
ャリア治具支持部材８及びキャリア治具７にそれぞれ凹
凸部を設け、互いに勘合させることにより支持すること
ができる。次に揺動装置１１を作動させ、左右の偏心カ
ム１２が互いに半周ずれた形で回転させる。偏心カム１
２に接続されている棒状の伝達部材１３は互い違いに上
下動を繰り返し、伝達部材１３に接続されたキャリア治
具支持部材８がシーソー状に揺動する。その際、キャリ
ア治具支持部材８が傾斜することにより、キャリア治具
７の支持溝７ａに支持されているウエハ１０がその自重
で支持溝７ａから離脱し、対向している固定治具９へ移
動、及びその逆の動作を繰り返す。これらの動作を複数
回繰り返すことにより、ウエハ１０の周縁部がキャリア
治具７の支持溝７ａから離れて洗浄水と接触し、ウエハ
１０周縁部に付着していた残留薬液や異物が除去され
る。また、支持溝７ａにも洗浄水が入り込むため、支持
溝７ａに残留していた薬液や異物が除去される。これに
より、ウエハ１０周縁部や支持溝７ａを短時間に清浄に
することができる。キャリア治具固定部材８のシーソー
状の揺動を複数回繰り返した後、ウエハ１０が収納され
たキャリア治具７は、搬送手段によって洗浄槽２から引
き上げられ、次の洗浄槽、あるいは乾燥装置等へ搬送さ
れる。
【００１２】
【実施例２】上記実施例では、洗浄槽の下方に揺動手段
を設けた例について説明したが、本実施例では、揺動手
段を搬送手段に設けた例を図５を用いて説明する。洗浄
槽１６、オーバーフロー液受槽１７、洗浄水排水管１
８、洗浄水供給管１９等は従来からのものを用いる。搬
送手段２５は、上下、前後左右に移動可能な揺動装置２
６と、キャリア治具２４を載置固定するキャリア治具支
持部材２２、揺動手段２６のカム２７とキャリア治具支
持部材２２とを接続する伝達部材２８からなる。キャリ
ア治具支持部材２２には、支持溝２３ａを有する固定治
具２３が設けられており、キャリア治具２１から移動し
てくるウエハ２４を側方から受け取れるように、ウエハ
出し入れ口は側方を向いている。伝達部材２８の一端
は、カム２７の周縁部に接続されており、他端はキャリ
ア治具支持部材２２に接続されている。カム２７が回転
することにより伝達部材２８は上下動する。従って、２
本の伝達部材２８を互い違いに上下動させることによ
り、キャリア治具支持部材２２がシーソー運動するよう
に動作する。尚、キャリア治具２１、キャリア治具支持
部材２２、固定治具２３、及び伝達部材２８は、薬液や
洗浄水による腐食を防ぐため、例えば、フッ素系樹脂等
から構成されている。
を設けた例について説明したが、本実施例では、揺動手
段を搬送手段に設けた例を図５を用いて説明する。洗浄
槽１６、オーバーフロー液受槽１７、洗浄水排水管１
８、洗浄水供給管１９等は従来からのものを用いる。搬
送手段２５は、上下、前後左右に移動可能な揺動装置２
６と、キャリア治具２４を載置固定するキャリア治具支
持部材２２、揺動手段２６のカム２７とキャリア治具支
持部材２２とを接続する伝達部材２８からなる。キャリ
ア治具支持部材２２には、支持溝２３ａを有する固定治
具２３が設けられており、キャリア治具２１から移動し
てくるウエハ２４を側方から受け取れるように、ウエハ
出し入れ口は側方を向いている。伝達部材２８の一端
は、カム２７の周縁部に接続されており、他端はキャリ
ア治具支持部材２２に接続されている。カム２７が回転
することにより伝達部材２８は上下動する。従って、２
本の伝達部材２８を互い違いに上下動させることによ
り、キャリア治具支持部材２２がシーソー運動するよう
に動作する。尚、キャリア治具２１、キャリア治具支持
部材２２、固定治具２３、及び伝達部材２８は、薬液や
洗浄水による腐食を防ぐため、例えば、フッ素系樹脂等
から構成されている。
【００１３】次に本実施例の洗浄方法について説明す
る。本実施例では、洗浄すべきウエハ２４が収納された
キャリア治具２１を洗浄槽１６に入れる前に、搬送手段
２５のキャリア治具支持部材２２に、ウエハ２４をキャ
リア治具支持部材２２の上面と平行にした状態で載置固
定する。この場合、キャリア治具２１のウエハ出し入れ
口は、固定治具２３のウエハ出し入れ口に対向させる。
キャリア治具２１をセットした後、搬送手段２５によっ
て、キャリア治具２１を洗浄槽１６の上方まで搬送し、
搬送手段２５ごと下降させて、キャリア治具支持部材２
２に固定されたキャリア治具２１、固定治具２３、及び
伝達部材２８を洗浄槽１６内の洗浄水２０中へ入れる。
次に伝達部材２８が互い違いに上下運動するように揺動
手段２６のカム２７を回転させる。これにより、伝達部
材２８に接続されたキャリア治具支持部材２２がシーソ
ー状に揺動する。この際、キャリア治具支持部材２２が
傾斜することにより、キャリア治具２１内のウエハ２４
は、その周縁部が支持溝２１ａから離れて洗浄水と接触
しながら対向した固定治具２３へ移動、及びその逆の動
作を繰り返す。これによって、ウエハ２４周縁部に付着
していた残留薬液や異物を除去することができる。ま
た、支持溝２１ａにも洗浄液が入り込むため、支持溝２
１ａ内に残留していた薬液も異物が除去することができ
る。キャリア治具支持部材２２がシーソー状の揺動を複
数回繰り返した後、ウエハ２４が収納されたキャリア治
具２１は、搬送手段２５によって、キャリア治具支持部
材２２ごと洗浄槽１６から引き上げられ、次の洗浄槽、
あるいは乾燥装置等へ搬送される。
る。本実施例では、洗浄すべきウエハ２４が収納された
キャリア治具２１を洗浄槽１６に入れる前に、搬送手段
２５のキャリア治具支持部材２２に、ウエハ２４をキャ
リア治具支持部材２２の上面と平行にした状態で載置固
定する。この場合、キャリア治具２１のウエハ出し入れ
口は、固定治具２３のウエハ出し入れ口に対向させる。
キャリア治具２１をセットした後、搬送手段２５によっ
て、キャリア治具２１を洗浄槽１６の上方まで搬送し、
搬送手段２５ごと下降させて、キャリア治具支持部材２
２に固定されたキャリア治具２１、固定治具２３、及び
伝達部材２８を洗浄槽１６内の洗浄水２０中へ入れる。
次に伝達部材２８が互い違いに上下運動するように揺動
手段２６のカム２７を回転させる。これにより、伝達部
材２８に接続されたキャリア治具支持部材２２がシーソ
ー状に揺動する。この際、キャリア治具支持部材２２が
傾斜することにより、キャリア治具２１内のウエハ２４
は、その周縁部が支持溝２１ａから離れて洗浄水と接触
しながら対向した固定治具２３へ移動、及びその逆の動
作を繰り返す。これによって、ウエハ２４周縁部に付着
していた残留薬液や異物を除去することができる。ま
た、支持溝２１ａにも洗浄液が入り込むため、支持溝２
１ａ内に残留していた薬液も異物が除去することができ
る。キャリア治具支持部材２２がシーソー状の揺動を複
数回繰り返した後、ウエハ２４が収納されたキャリア治
具２１は、搬送手段２５によって、キャリア治具支持部
材２２ごと洗浄槽１６から引き上げられ、次の洗浄槽、
あるいは乾燥装置等へ搬送される。
【００１４】次に、本発明の作用効果について説明す
る。
る。
【００１５】（１）ウエハがキャリア治具の支持溝から
離れるので、ウエハの周縁部及びキャリア治具の支持溝
内部が充分に洗浄液と接触し、短時間にウエハの周縁部
及びキャリア治具の支持溝内部に残留している薬液や異
物を取り除くことができる。
離れるので、ウエハの周縁部及びキャリア治具の支持溝
内部が充分に洗浄液と接触し、短時間にウエハの周縁部
及びキャリア治具の支持溝内部に残留している薬液や異
物を取り除くことができる。
【００１６】（２）ウエハを洗浄液中で移動させるの
で、ウエハ表面と洗浄液との摩擦が生じることにより、
ウエハ表面を短時間に洗浄することができる。
で、ウエハ表面と洗浄液との摩擦が生じることにより、
ウエハ表面を短時間に洗浄することができる。
【００１７】（３）ウエハを洗浄液中で重力方向に対し
て水平に近い方向に移動させるので、ウエハの移動が緩
やかである。従って、ウエハが支持溝に接触する際の衝
撃が少なく、ウエハのワレやカケ、あるいはウエハによ
る支持溝の切削が生じにくい。従って、ウエハ洗浄時の
異物の発生を防止することができる。
て水平に近い方向に移動させるので、ウエハの移動が緩
やかである。従って、ウエハが支持溝に接触する際の衝
撃が少なく、ウエハのワレやカケ、あるいはウエハによ
る支持溝の切削が生じにくい。従って、ウエハ洗浄時の
異物の発生を防止することができる。
【００１８】（４）ウエハの表面のみならず周縁部も清
浄化することができるので、異物付着による不良を減少
させることができ、歩留が向上する。
浄化することができるので、異物付着による不良を減少
させることができ、歩留が向上する。
【００１９】以上、本発明者によって、なされた発明を
実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施
例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることは言うまでもない。上記実
施例では、キャリア治具と固定治具との間でウエハを往
復移動させていたが、例えば、上記のようなキャリア治
具と固定治具との組合せではなく、図４に示すように、
傾斜することによりウエハが移動可能な横長のキャリア
治具３１を用いて、その中でウエハ３２を洗浄させても
よい。この場合は、上記実施例で用いたキャリア治具支
持部材は用いず、揺動装置３３に接続された伝達部材３
４をキャリア治具３１に直接接続する。また、上記実施
例の方法では、シーソー状の揺動のみによってウエハに
往復運動させていたが、全体を上下動させながらシーソ
ー状に揺動させると、ウエハに上下動に伴う洗浄液の圧
力が加わり、洗浄液との摩擦が大きくなるので、尚一層
の洗浄効果を奏する。
実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施
例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることは言うまでもない。上記実
施例では、キャリア治具と固定治具との間でウエハを往
復移動させていたが、例えば、上記のようなキャリア治
具と固定治具との組合せではなく、図４に示すように、
傾斜することによりウエハが移動可能な横長のキャリア
治具３１を用いて、その中でウエハ３２を洗浄させても
よい。この場合は、上記実施例で用いたキャリア治具支
持部材は用いず、揺動装置３３に接続された伝達部材３
４をキャリア治具３１に直接接続する。また、上記実施
例の方法では、シーソー状の揺動のみによってウエハに
往復運動させていたが、全体を上下動させながらシーソ
ー状に揺動させると、ウエハに上下動に伴う洗浄液の圧
力が加わり、洗浄液との摩擦が大きくなるので、尚一層
の洗浄効果を奏する。
【００２０】尚、上記実施例では水洗浄における本発明
の具体例を説明したが、薬液洗浄に利用しても同様の効
果を得られるものである。
の具体例を説明したが、薬液洗浄に利用しても同様の効
果を得られるものである。
【００２１】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【００２２】すなわち、ウエハをウエハ支持部によって
略水平に支持したキャリア治具を、洗浄槽内で傾斜させ
ることにより、ウエハはキャリア治具の支持ウエハ支持
部から離脱するので、ウエハの周縁部及びキャリア治具
のウエハ支持部が充分に洗浄液と接触し、ウエハの周縁
部及びキャリア治具のウエハ支持部に残留していた薬液
や異物を短時間に取り除くことができる。従って、異物
付着による不良を減少させ、洗浄工程における歩留を向
上させることができる。
略水平に支持したキャリア治具を、洗浄槽内で傾斜させ
ることにより、ウエハはキャリア治具の支持ウエハ支持
部から離脱するので、ウエハの周縁部及びキャリア治具
のウエハ支持部が充分に洗浄液と接触し、ウエハの周縁
部及びキャリア治具のウエハ支持部に残留していた薬液
や異物を短時間に取り除くことができる。従って、異物
付着による不良を減少させ、洗浄工程における歩留を向
上させることができる。
【００２３】
【図１】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の一実施例である
ウエハ洗浄装置の断面図及び動作を示す図である。
ウエハ洗浄装置の断面図及び動作を示す図である。
【図２】本発明の一実施例であるウエハ洗浄装置の平面
図である。
図である。
【図３】本発明の他の実施例であるウエハ洗浄装置の断
面図である。
面図である。
【図４】本発明の他の実施例であるウエハ洗浄装置の断
面図である。
面図である。
【図５】従来のウエハ洗浄装置の断面図である。
１……ウエハ洗浄装置，２……洗浄槽，３……オーバー
フロー液受槽，４……洗浄水配水管，５……洗浄水供給
管，６……洗浄水，７……キャリア治具，７ａ……支持
溝，８……キャリア治具支持部材，９……固定治具，９
ａ……支持溝，１０……ウエハ，１１……揺動装置，１
２……偏心カム，１３……伝達部材，１４……蛇腹管，
１５……ウエハ洗浄装置，１６……洗浄槽，１７……オ
ーバーフロー液受槽，１８……洗浄水配水管，１９……
洗浄水供給管，２０……洗浄水，２１……キャリア治
具，２１ａ……支持溝，２２……キャリア治具支持部
材，２３……固定治具，２３……支持溝，２４……ウエ
ハ，２５……搬送手段，２６……揺動装置，２７……カ
ム，２８……伝達部材，２９……キャリア治具，３０…
…ウエハ，３１……キャリア治具，３２……ウエハ，３
３……揺動装置，３４……伝達部材
フロー液受槽，４……洗浄水配水管，５……洗浄水供給
管，６……洗浄水，７……キャリア治具，７ａ……支持
溝，８……キャリア治具支持部材，９……固定治具，９
ａ……支持溝，１０……ウエハ，１１……揺動装置，１
２……偏心カム，１３……伝達部材，１４……蛇腹管，
１５……ウエハ洗浄装置，１６……洗浄槽，１７……オ
ーバーフロー液受槽，１８……洗浄水配水管，１９……
洗浄水供給管，２０……洗浄水，２１……キャリア治
具，２１ａ……支持溝，２２……キャリア治具支持部
材，２３……固定治具，２３……支持溝，２４……ウエ
ハ，２５……搬送手段，２６……揺動装置，２７……カ
ム，２８……伝達部材，２９……キャリア治具，３０…
…ウエハ，３１……キャリア治具，３２……ウエハ，３
３……揺動装置，３４……伝達部材
Claims (8)
- 【請求項１】洗浄液が収容され、キャリア治具内部のウ
エハ支持部によって複数枚互いに平行にその周縁部を支
持されたウエハを前記キャリア治具ごと洗浄するための
洗浄槽を備えたウエハ洗浄装置であって、前記ウエハを
略水平に支持している前記キャリア治具を前記洗浄液中
で支持するキャリア治具支持部材と、前記ウエハ周縁部
が前記ウエハ支持部から離脱するように前記キャリア治
具支持部材を傾斜させる揺動手段とを備えたことを特徴
とするウエハ洗浄装置。 - 【請求項２】前記キャリア治具支持部材には、前記キャ
リア治具に対向して、前記ウエハ支持部から離脱した前
記ウエハを受け取るための治具が備えられていることを
特徴とする請求項１記載のウエハ洗浄装置。 - 【請求項３】前記揺動手段は、前記キャリア治具支持部
材をシーソー状に揺動させることを特徴とする請求項１
又は２記載のウエハ洗浄装置。 - 【請求項４】前記揺動手段は、前記洗浄槽の下方に設け
られ、前記キャリア治具支持部材とは前記洗浄槽の底部
を貫通した伝達部材を介して接続されていることを特徴
とする請求項１又は２又は３記載のウエハ洗浄装置。 - 【請求項５】前記揺動手段は、前記キャリア治具を前記
洗浄槽の上方で搬送する搬送手段と一体的に設けられて
いることを特徴とする請求項１又は２又は３記載のウエ
ハ洗浄装置。 - 【請求項６】キャリア治具内部のウエハ支持部によって
複数枚互いに平行に支持されたウエハを前記キャリア治
具ごと洗浄槽内で洗浄するウエハ洗浄方法であって、前
記洗浄槽内で前記キャリア治具を傾斜させることによ
り、前記ウエハを前記ウエハ支持部から離脱させて洗浄
を行なうことを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 【請求項７】傾斜させた前記キャリア治具を逆方向へ傾
斜させることにより前記ウエハ支持部から離脱した前記
ウエハを前記ウエハ支持部に戻すことを特徴とする請求
項４記載のウエハ洗浄方法。 - 【請求項８】前記キャリア治具は揺動手段を用いて傾斜
させることを特徴とする請求項４又は５記載のウエハ洗
浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15013293A JPH0714809A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15013293A JPH0714809A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714809A true JPH0714809A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15490187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15013293A Pending JPH0714809A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714809A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100362623B1 (ko) * | 1998-03-13 | 2002-11-27 | 닛폰 덴키(주) | 반도체 장치의 제조방법 및 이 방법에 사용되는 세정장치 |
| US7581551B2 (en) * | 2004-09-01 | 2009-09-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Cleaning apparatus |
| KR101427697B1 (ko) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 주식회사 케이씨텍 | 웨이퍼의 침지식 세정 건조 장치 및 이를 이용한 웨이퍼의 세정 건조 방법 |
| CN104307826A (zh) * | 2014-10-14 | 2015-01-28 | 中山市吉尔科研技术服务有限公司 | 一种旋转式光学镜片清洗设备 |
| CN106540916A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-03-29 | 防城港市海洋局 | 一种海产品清洗去沙装置 |
| CN107695018A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-02-16 | 宁波江北清锐汽车零部件有限公司 | 一种轴承清洗装置 |
| CN113539815A (zh) * | 2021-07-20 | 2021-10-22 | 安徽富信半导体科技有限公司 | 一种半导体板件沟槽刻蚀方法 |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP15013293A patent/JPH0714809A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100362623B1 (ko) * | 1998-03-13 | 2002-11-27 | 닛폰 덴키(주) | 반도체 장치의 제조방법 및 이 방법에 사용되는 세정장치 |
| US7581551B2 (en) * | 2004-09-01 | 2009-09-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Cleaning apparatus |
| KR101427697B1 (ko) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 주식회사 케이씨텍 | 웨이퍼의 침지식 세정 건조 장치 및 이를 이용한 웨이퍼의 세정 건조 방법 |
| CN104307826A (zh) * | 2014-10-14 | 2015-01-28 | 中山市吉尔科研技术服务有限公司 | 一种旋转式光学镜片清洗设备 |
| CN106540916A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-03-29 | 防城港市海洋局 | 一种海产品清洗去沙装置 |
| CN106540916B (zh) * | 2016-11-24 | 2019-07-12 | 防城港市海洋局 | 一种海产品清洗去沙装置 |
| CN107695018A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-02-16 | 宁波江北清锐汽车零部件有限公司 | 一种轴承清洗装置 |
| CN113539815A (zh) * | 2021-07-20 | 2021-10-22 | 安徽富信半导体科技有限公司 | 一种半导体板件沟槽刻蚀方法 |
| CN113539815B (zh) * | 2021-07-20 | 2023-12-15 | 安徽富信半导体科技有限公司 | 一种半导体板件沟槽刻蚀方法 |
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