JPH071545B2 - 磁気記録媒体用保護膜の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用保護膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH071545B2 JPH071545B2 JP8496686A JP8496686A JPH071545B2 JP H071545 B2 JPH071545 B2 JP H071545B2 JP 8496686 A JP8496686 A JP 8496686A JP 8496686 A JP8496686 A JP 8496686A JP H071545 B2 JPH071545 B2 JP H071545B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- magnetic recording
- film
- recording medium
- ferromagnetic metal
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、強磁性金属薄膜による磁気記録層上に形成す
る保護膜の製造方法の改良に関するものである。
る保護膜の製造方法の改良に関するものである。
（従来の技術） 従来、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体
は金属ディスク基板或はテープ基板上に強磁性金属材料
を真空蒸着して設けるか、或は樹脂マトリックスに強磁
性金属材料を分散させたエマルジョンをスピンコートす
ることにより製造されている。この強磁性金属薄膜は、
高密度記録に優れた特性を有するが、ヘッドの接触によ
って摩耗や損傷を受けやすく、また空気中で酸化され特
性変化を起こし易いという欠点を有するものであった。
は金属ディスク基板或はテープ基板上に強磁性金属材料
を真空蒸着して設けるか、或は樹脂マトリックスに強磁
性金属材料を分散させたエマルジョンをスピンコートす
ることにより製造されている。この強磁性金属薄膜は、
高密度記録に優れた特性を有するが、ヘッドの接触によ
って摩耗や損傷を受けやすく、また空気中で酸化され特
性変化を起こし易いという欠点を有するものであった。
従って、強磁性金属薄膜上に種々の保護膜を設けること
により耐久性、耐食性を改善することが実施されてい
る。特に最近、プラズマ重合を利用して樹脂の保護膜を
形成することが行われている。しかし、このプラズマ重
合による重合膜を保護膜として形成するにはモノマーと
して常温常圧で気体或は液体状の物質が使用され且つ得
られた保護膜の性能は軟質のものが多く、CSSテストな
どの結果により、耐久性や耐摩耗性に劣るものであっ
た。
により耐久性、耐食性を改善することが実施されてい
る。特に最近、プラズマ重合を利用して樹脂の保護膜を
形成することが行われている。しかし、このプラズマ重
合による重合膜を保護膜として形成するにはモノマーと
して常温常圧で気体或は液体状の物質が使用され且つ得
られた保護膜の性能は軟質のものが多く、CSSテストな
どの結果により、耐久性や耐摩耗性に劣るものであっ
た。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明はかかる現状に鑑み鋭意研究を行った結果、保護
膜として耐久性、耐摩耗性並びに優れた磁気特性を有す
るものを開発したものである。
膜として耐久性、耐摩耗性並びに優れた磁気特性を有す
るものを開発したものである。
（問題点を解決する為の手段及びその作用） 本発明を磁気ディスクの製造に適用すると、次のような
プロセスとなる。まず基体となるアルミニウム基板上
に、Ni−Ｐなどの化学メッキ層を密着せしめ、研磨仕上
げなどの後処理を施したのち、その表面に物理的または
化学的手法により強磁性金属薄膜を形成する。つぎに、
これを図面に示す如き対極型プラズマ重合装置にセット
する。
プロセスとなる。まず基体となるアルミニウム基板上
に、Ni−Ｐなどの化学メッキ層を密着せしめ、研磨仕上
げなどの後処理を施したのち、その表面に物理的または
化学的手法により強磁性金属薄膜を形成する。つぎに、
これを図面に示す如き対極型プラズマ重合装置にセット
する。
即ち図面において、１は基体表面に強磁性金属薄膜を形
成した磁気ディスク本体、2A・2Bは対向する電極、３は
ベルジャー、４はテーブル、５はベルジャー３内を真空
にする真空ポンプ、６は絶対真空計、７は電極2A・2Bに
接続された高周波電源、８はキャリアーガス源、９は昇
華性固体有機化合物、10は昇華性固体有機化合物９を昇
華させるための抵抗加熱体、11は抵抗加熱体10に接続さ
れた電源、12はベルジャー３内にキャリアーガスを導入
するためのノズルである。ここで用いるプラズマ発生装
置はこれに限定されるものではなく、誘導コイル型、導
波管型、コンデンサ型等の高周波発振装置を備えた何れ
の反応系であっても良い。
成した磁気ディスク本体、2A・2Bは対向する電極、３は
ベルジャー、４はテーブル、５はベルジャー３内を真空
にする真空ポンプ、６は絶対真空計、７は電極2A・2Bに
接続された高周波電源、８はキャリアーガス源、９は昇
華性固体有機化合物、10は昇華性固体有機化合物９を昇
華させるための抵抗加熱体、11は抵抗加熱体10に接続さ
れた電源、12はベルジャー３内にキャリアーガスを導入
するためのノズルである。ここで用いるプラズマ発生装
置はこれに限定されるものではなく、誘導コイル型、導
波管型、コンデンサ型等の高周波発振装置を備えた何れ
の反応系であっても良い。
このような装置内に、昇華性固体有機化合物９を抵抗加
熱体10上に載置し、該抵抗加熱体10に電圧を印加し、該
有機物を昇華させプラズマ重合を行って、強磁性金属薄
膜上に、本発明保護膜を形成するものである。
熱体10上に載置し、該抵抗加熱体10に電圧を印加し、該
有機物を昇華させプラズマ重合を行って、強磁性金属薄
膜上に、本発明保護膜を形成するものである。
本発明において使用する昇華性有機化合物としては、常
温常圧で固相を呈するものであり、具体的には、ナフタ
レン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサ
セン、ペリレン、フェナントレン、クリセン、トリフェ
ニレン、ピレン、ベンゾピレン、ビオラントレン、コロ
ネン、オバレン等の芳香族炭化水素或はその誘導体、或
は、ジフェニール、ジフェニルメタン、ジベンジル、ト
リフェニルメタン、ジフェニルエチレン、ジフェニルア
セチレン、ターフェニル等の脂肪族−芳香族炭化水素
（アレーン）或はその誘導体である。これらの中でも特
に、昇華性の著しいまたは溶融時に高い蒸気圧を示す固
体化合物が望ましい。
温常圧で固相を呈するものであり、具体的には、ナフタ
レン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサ
セン、ペリレン、フェナントレン、クリセン、トリフェ
ニレン、ピレン、ベンゾピレン、ビオラントレン、コロ
ネン、オバレン等の芳香族炭化水素或はその誘導体、或
は、ジフェニール、ジフェニルメタン、ジベンジル、ト
リフェニルメタン、ジフェニルエチレン、ジフェニルア
セチレン、ターフェニル等の脂肪族−芳香族炭化水素
（アレーン）或はその誘導体である。これらの中でも特
に、昇華性の著しいまたは溶融時に高い蒸気圧を示す固
体化合物が望ましい。
これらの有機化合物の単独或は混合物を、メタン、エタ
ン、プロパン、エチレン、プロピレン等の炭化水素系有
機ガス或は、アルゴン、ヘリウム、窒素等の不活性ガス
との共存下においてプラズマ重合を行うものである。
ン、プロパン、エチレン、プロピレン等の炭化水素系有
機ガス或は、アルゴン、ヘリウム、窒素等の不活性ガス
との共存下においてプラズマ重合を行うものである。
またこの際、昇華性固体有機化合物９の昇華或は蒸発を
促進せしめるために、抵抗加熱体10をベルジャー３内に
設置し、これに電圧を印加することが好ましい。
促進せしめるために、抵抗加熱体10をベルジャー３内に
設置し、これに電圧を印加することが好ましい。
高周波によりプラズマ重合を行う場合、高周波出力と電
極面積の大きさから、エネルギー密度を、0.2〜4W/c
m2、望ましくは、0.5〜3W/cm2の範囲に入るようにし、
高周波電源の出力を、30〜500W、望ましくは、100〜450
Wに保持し、出来得る限り高出力下で行うことにより硬
質の保護膜を得ることが出来る。なお高周波電源は通
常、13.56MHzの発振周波数であるが、特にこの周波数に
限定されることなく、直流からマイクロ波までのいかな
る周波数であってもよい。
極面積の大きさから、エネルギー密度を、0.2〜4W/c
m2、望ましくは、0.5〜3W/cm2の範囲に入るようにし、
高周波電源の出力を、30〜500W、望ましくは、100〜450
Wに保持し、出来得る限り高出力下で行うことにより硬
質の保護膜を得ることが出来る。なお高周波電源は通
常、13.56MHzの発振周波数であるが、特にこの周波数に
限定されることなく、直流からマイクロ波までのいかな
る周波数であってもよい。
またベルジャー内の圧力は、0.005〜3Torr、望ましく
は、0.01〜1.5Torrの間にて行うことが良く、反応時間
は、モノマーの種類、昇華速度および電極配置等によっ
て影響を及ぼすものであるが、通常、５秒〜10分、望ま
しくは、10秒〜３分にて所望の膜厚のものを得ることが
出来る。
は、0.01〜1.5Torrの間にて行うことが良く、反応時間
は、モノマーの種類、昇華速度および電極配置等によっ
て影響を及ぼすものであるが、通常、５秒〜10分、望ま
しくは、10秒〜３分にて所望の膜厚のものを得ることが
出来る。
また磁気ディスク本体の温度は膜の成長に大きな影響を
及ぼすものであり、低温度の方が膜の成長速度を大きく
することが出来る。従って、強磁性金属薄膜の表面温度
は望ましくは50〜100℃に保持することがよい。
及ぼすものであり、低温度の方が膜の成長速度を大きく
することが出来る。従って、強磁性金属薄膜の表面温度
は望ましくは50〜100℃に保持することがよい。
かくして得た保護膜の厚さは、通常、10〜1000オングス
トロームであり、好ましくは、80〜600オングストロー
ムに分布することが望ましい。この膜厚が薄すぎると耐
久性、耐摩耗性が劣り、逆に膜厚が厚すぎるとスペーシ
ングロスが大きくなり、記録の読み出し特性に悪影響を
及ぼすものである。
トロームであり、好ましくは、80〜600オングストロー
ムに分布することが望ましい。この膜厚が薄すぎると耐
久性、耐摩耗性が劣り、逆に膜厚が厚すぎるとスペーシ
ングロスが大きくなり、記録の読み出し特性に悪影響を
及ぼすものである。
なお、本発明は、主として磁気ディスクの製造に好適な
ものであるが、その他の磁気記録媒体、例えば磁気テー
プ、フロッピーディスク、磁気カードなどの製造にも使
用される。
ものであるが、その他の磁気記録媒体、例えば磁気テー
プ、フロッピーディスク、磁気カードなどの製造にも使
用される。
（実施例１〜４） 図面に示す対極型プラズマ重合装置を使用し、昇華性固
体有機化合物として、ジフェニール（C6H5C6H5）の存在
下にて、直径５インチの磁気ディスク本体の表面にプラ
ズマ重合法により、本発明保護膜を形成せしめた。
体有機化合物として、ジフェニール（C6H5C6H5）の存在
下にて、直径５インチの磁気ディスク本体の表面にプラ
ズマ重合法により、本発明保護膜を形成せしめた。
即ち、直径130mmのステンレス製電極を使用し、該電極
間の距離を25mmに保持し、高周波電源の周波数を13.56M
Hz、供給電極を100Wとし、モノマーとして、融点70℃の
ジフェニールを12mgタングステンボード上に載置し、5V
の電圧を印加して昇華せしめた。
間の距離を25mmに保持し、高周波電源の周波数を13.56M
Hz、供給電極を100Wとし、モノマーとして、融点70℃の
ジフェニールを12mgタングステンボード上に載置し、5V
の電圧を印加して昇華せしめた。
また、キャリアーガスとしては、純アルゴンガスを使用
し、ベルジャー内の圧力を0.1Torrにした。
し、ベルジャー内の圧力を0.1Torrにした。
かくして反応時間を変えて種々の膜厚を有する本発明保
護膜を得た。
護膜を得た。
（実施例５〜８） 実施例１〜４において、モノマーとして融点52℃のジベ
ンジル（別名ジフェニルエタン、C6H5CH2CH2C6H5）を用
い、高周波電源の供給電力は200Wとし、キャリアーガス
として純窒素ガスを用いた。
ンジル（別名ジフェニルエタン、C6H5CH2CH2C6H5）を用
い、高周波電源の供給電力は200Wとし、キャリアーガス
として純窒素ガスを用いた。
これらの保護膜について触針式膜厚測定装置により膜厚
を測定し、且つ電子顕微鏡により膜の表面を観察した。
何れの保護膜もピンホールのない均一のものであった。
また、得られた磁気ディスクについてCSS試験機によりC
SSサイクルを測定した。その結果は第１表に示す通りで
ある。
を測定し、且つ電子顕微鏡により膜の表面を観察した。
何れの保護膜もピンホールのない均一のものであった。
また、得られた磁気ディスクについてCSS試験機によりC
SSサイクルを測定した。その結果は第１表に示す通りで
ある。
また本発明保護膜と比較するために、モノマーとして、
エチレン（比較例１）、スチレン（比較例２）を使用
し、実施例と同様にプラズマ重合を行って炭化水素系保
護膜を設けた磁気ディスク（比較例品）についても上記
と同様にCSS試験を行った。その結果を第１表に併記し
た。
エチレン（比較例１）、スチレン（比較例２）を使用
し、実施例と同様にプラズマ重合を行って炭化水素系保
護膜を設けた磁気ディスク（比較例品）についても上記
と同様にCSS試験を行った。その結果を第１表に併記し
た。
上表により明らかな如く、本発明の如く昇華性固体有機
化合物を使用することにより、比較例の如く気体または
液体状の有機化合物を使用した場合に比べて優れたCSS
耐久性を有することが認められた。
化合物を使用することにより、比較例の如く気体または
液体状の有機化合物を使用した場合に比べて優れたCSS
耐久性を有することが認められた。
（効果） 以上詳述した如く、本発明保護膜によれば耐久性、耐摩
耗性、並びに優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を得
る等工業上極めて有用である。
耗性、並びに優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を得
る等工業上極めて有用である。
図面は本発明磁気記録媒体用保護膜を得るための装置の
１例を示す説明図である。 １…磁気ディスク本体、2A・2B…対向する電極、３…ベ
ルジャー、４…テーブル、５…真空ポンプ、６…絶対真
空計、７…高周波電源、８…キャリアーガス源、９…昇
華性固体有機化合物、10…抵抗加熱体、11…電源、12…
キャリアーガス導入ノズル。
１例を示す説明図である。 １…磁気ディスク本体、2A・2B…対向する電極、３…ベ
ルジャー、４…テーブル、５…真空ポンプ、６…絶対真
空計、７…高周波電源、８…キャリアーガス源、９…昇
華性固体有機化合物、10…抵抗加熱体、11…電源、12…
キャリアーガス導入ノズル。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に強磁性金属薄膜からなる磁気記録
層を設け、該磁気記録層上に保護膜を形成する方法にお
いて、昇華性固体有機化合物の存在下にて、この化合物
をプラズマ重合し、得られる重合膜を保護膜とすること
を特徴とする磁気記録媒体用保護膜の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8496686A JPH071545B2 (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 磁気記録媒体用保護膜の製造方法 |
| US07/036,791 US4769281A (en) | 1986-04-15 | 1987-04-10 | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| KR870003571A KR870010492A (ko) | 1986-04-15 | 1987-04-14 | 자기기록 미이디엄 및 그 제조방법 |
| DE8787105572T DE3766872D1 (de) | 1986-04-15 | 1987-04-15 | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung. |
| EP87105572A EP0243798B1 (en) | 1986-04-15 | 1987-04-15 | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8496686A JPH071545B2 (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 磁気記録媒体用保護膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62243123A JPS62243123A (ja) | 1987-10-23 |
| JPH071545B2 true JPH071545B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=13845363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8496686A Expired - Lifetime JPH071545B2 (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 磁気記録媒体用保護膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH071545B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002091368A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-14 | Fujitsu Limited | Method for manufacturing magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-04-15 JP JP8496686A patent/JPH071545B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62243123A (ja) | 1987-10-23 |
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