JPH07161069A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH07161069A JPH07161069A JP5340146A JP34014693A JPH07161069A JP H07161069 A JPH07161069 A JP H07161069A JP 5340146 A JP5340146 A JP 5340146A JP 34014693 A JP34014693 A JP 34014693A JP H07161069 A JPH07161069 A JP H07161069A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 51
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 claims description 10
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 claims description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-3-methylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)O BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000313 chalcogen oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M thiocyanate group Chemical group [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 波長６３０〜６９０ｎｍのレーザー光で記録
再生するための基板上に有機色素層を有する光記録媒体
であって、有機色素層の分光吸収極大が５５０〜７３０
ｎｍの範囲であり、有機色素層の膜厚が２００〜８００
Åの範囲であり、有機色素層の記録再生波長における複
素屈折率の実部が１．６〜３、虚部が１以上であること
を特徴とする短波長記録用光記録媒体。 【効果】 リムがほとんどない良好微小記録部が形成さ
れ、ビット長ジッターが小さく、高線速度短波長記録用
光記録媒体として十分な記録感度と記録特性を達成する
ことができる。
再生するための基板上に有機色素層を有する光記録媒体
であって、有機色素層の分光吸収極大が５５０〜７３０
ｎｍの範囲であり、有機色素層の膜厚が２００〜８００
Åの範囲であり、有機色素層の記録再生波長における複
素屈折率の実部が１．６〜３、虚部が１以上であること
を特徴とする短波長記録用光記録媒体。 【効果】 リムがほとんどない良好微小記録部が形成さ
れ、ビット長ジッターが小さく、高線速度短波長記録用
光記録媒体として十分な記録感度と記録特性を達成する
ことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に関し、レー
ザー光により記録可能な光記録媒体に関する。
ザー光により記録可能な光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高密度記録のためレーザー光の発
振波長の短波長化が注目され、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ
よりも短波長のレーザー光で記録再生可能な光記録媒体
が求められている。かかる状況において提案されている
光記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒
体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色素系光記録媒
体等がある。これらの中で、安価でプロセス上容易であ
るという点で、有機色素系光記録媒体は優位性を有する
ものと考えられる。
振波長の短波長化が注目され、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ
よりも短波長のレーザー光で記録再生可能な光記録媒体
が求められている。かかる状況において提案されている
光記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒
体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色素系光記録媒
体等がある。これらの中で、安価でプロセス上容易であ
るという点で、有機色素系光記録媒体は優位性を有する
ものと考えられる。
【０００３】ところで、有機色素系光記録媒体には、記
録可能なコンパクトディスクとして、反射率の高い金属
層を薄い有機色素層の上に積層したタイプのものが広く
知られているが、この層構成では、記録感度が悪く、高
い線速度での記録には不利である。また、記録時に色素
以外に基板も変形するため、ビット長再生方式において
はビットの長さのばらつきが多くなり、ジッターが大き
くなるという問題がある。
録可能なコンパクトディスクとして、反射率の高い金属
層を薄い有機色素層の上に積層したタイプのものが広く
知られているが、この層構成では、記録感度が悪く、高
い線速度での記録には不利である。また、記録時に色素
以外に基板も変形するため、ビット長再生方式において
はビットの長さのばらつきが多くなり、ジッターが大き
くなるという問題がある。
【０００４】それに対し、有機色素単層での記録方式に
関しては、記録再生光の膜面入射方式を含め、非常に多
くの研究がなされ、一部は、７８０ｎｍ用光記録媒体と
して実用化されている。しかしながら、短波長用途につ
いては、特開平４−７４６９０号公報、特開平４−２３
８０３６号公報、特開平５ー３８８７８号公報等の各種
の提案がなされているものの、耐光性、耐環境性等は全
く不十分であり、また短波長用途に固有の問題について
は何ら解決されていないのが現状である。
関しては、記録再生光の膜面入射方式を含め、非常に多
くの研究がなされ、一部は、７８０ｎｍ用光記録媒体と
して実用化されている。しかしながら、短波長用途につ
いては、特開平４−７４６９０号公報、特開平４−２３
８０３６号公報、特開平５ー３８８７８号公報等の各種
の提案がなされているものの、耐光性、耐環境性等は全
く不十分であり、また短波長用途に固有の問題について
は何ら解決されていないのが現状である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来より有機色素系光
記録媒体に対して、記録により生じるリムの形成が短波
長用途、すなわち短ビット記録による高密度記録には不
利であるという問題があった。また、１０ｍ／ｓ以上の
高線速記録において、十分な記録感度と記録特性を得る
ことが困難である。
記録媒体に対して、記録により生じるリムの形成が短波
長用途、すなわち短ビット記録による高密度記録には不
利であるという問題があった。また、１０ｍ／ｓ以上の
高線速記録において、十分な記録感度と記録特性を得る
ことが困難である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、高密度記録
を実現するためにリムを持たない良好な微小記録部を形
成し、かつまた、高線速記録でも十分な特性を有する波
長６３０〜６９０ｎｍの短波長記録に好適な媒体と条件
を鋭意検討した結果、本発明に到達した。本発明の要旨
は、波長６３０〜６９０ｎｍのレーザー光で記録再生す
るための基板上に有機色素層を有する光記録媒体であっ
て、有機色素層の分光吸収極大が５５０〜７３０ｎｍの
範囲であり、有機色素層の膜厚が２００〜８００Åの範
囲であり、有機色素層の記録再生波長における複素屈折
率の実部が１．６〜３、虚部が１以上であることを特徴
とする短波長記録用光記録媒体に存する。以、下本発明
を詳細に説明する。
を実現するためにリムを持たない良好な微小記録部を形
成し、かつまた、高線速記録でも十分な特性を有する波
長６３０〜６９０ｎｍの短波長記録に好適な媒体と条件
を鋭意検討した結果、本発明に到達した。本発明の要旨
は、波長６３０〜６９０ｎｍのレーザー光で記録再生す
るための基板上に有機色素層を有する光記録媒体であっ
て、有機色素層の分光吸収極大が５５０〜７３０ｎｍの
範囲であり、有機色素層の膜厚が２００〜８００Åの範
囲であり、有機色素層の記録再生波長における複素屈折
率の実部が１．６〜３、虚部が１以上であることを特徴
とする短波長記録用光記録媒体に存する。以、下本発明
を詳細に説明する。
【０００７】本発明の光記録媒体は、基板上に有機色素
層を設けた構成からなるが、目的に応じて、有機色素層
の上に薄いセラミック層を成膜したり、紫外線硬化性樹
脂を積層してもよい。また、基板上に有機色素層を設け
た２枚の媒体をその有機色素層を対向させスペーサーを
介して貼り合わせる、いわゆるエアーサンドイッチ方式
の貼合わせをしてもよい。基板としては、ポリカーボネ
ート基板、非晶質ポリオレフィン基板、ガラス基板等、
公知の透明で複屈折率の小さいものが好ましく用いられ
る。
層を設けた構成からなるが、目的に応じて、有機色素層
の上に薄いセラミック層を成膜したり、紫外線硬化性樹
脂を積層してもよい。また、基板上に有機色素層を設け
た２枚の媒体をその有機色素層を対向させスペーサーを
介して貼り合わせる、いわゆるエアーサンドイッチ方式
の貼合わせをしてもよい。基板としては、ポリカーボネ
ート基板、非晶質ポリオレフィン基板、ガラス基板等、
公知の透明で複屈折率の小さいものが好ましく用いられ
る。
【０００８】有機色素層は、通常、有機色素を溶媒に溶
解したものを基板上に塗布乾燥するか、有機色素を基板
上に真空蒸着することにより形成する。塗布法の場合の
溶媒としては、例えば、ポリカーボネート基板の場合
は、エタノール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブ
タノン、ジアセトンアルコール、フッ素系アルコール等
のポリカーボネート基板を侵さないものが好ましく使用
され、ポリオレフィン基板の場合には、クロロホルム、
メチルエチルケトン等の極性溶媒が好ましく使用され
る。
解したものを基板上に塗布乾燥するか、有機色素を基板
上に真空蒸着することにより形成する。塗布法の場合の
溶媒としては、例えば、ポリカーボネート基板の場合
は、エタノール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブ
タノン、ジアセトンアルコール、フッ素系アルコール等
のポリカーボネート基板を侵さないものが好ましく使用
され、ポリオレフィン基板の場合には、クロロホルム、
メチルエチルケトン等の極性溶媒が好ましく使用され
る。
【０００９】有機色素層は、その分光吸収極大が５５０
ｎｍ〜７３０ｎｍの範囲にあることが必要である。５５
０ｎｍよりも短波長領域に吸収極大があると、本発明の
層構成においては十分な感度が得られない、あるいは、
良好な再生信号が得られない。また、７３０ｎｍより長
波長側に吸収極大を有する有機色素層においても同様で
ある。特に、記録再生波長の±４０ｎｍの範囲に吸収極
大があることが好ましい。
ｎｍ〜７３０ｎｍの範囲にあることが必要である。５５
０ｎｍよりも短波長領域に吸収極大があると、本発明の
層構成においては十分な感度が得られない、あるいは、
良好な再生信号が得られない。また、７３０ｎｍより長
波長側に吸収極大を有する有機色素層においても同様で
ある。特に、記録再生波長の±４０ｎｍの範囲に吸収極
大があることが好ましい。
【００１０】有機色素層は、記録再生波長における複素
屈折率の実部が１．６〜３であり、虚部が１以上である
ことが必要である。本発明の媒体の構成において、良好
な記録コントラストを得るには、基板上色素の未記録部
がある程度の反射率を有していなければならない。その
反射率は記録再生波長において１０％以上は必要であ
る。実部が１．６未満では十分なコントラストが得られ
ず、また、３を超えると膜厚の変化による反射率の変化
が大きくなり、プロセス上のマージンが狭くなり易い。
また、虚部が１未満では、十分な反射率が得られず、光
の吸収も少なく、良い感度が得られなくなる。
屈折率の実部が１．６〜３であり、虚部が１以上である
ことが必要である。本発明の媒体の構成において、良好
な記録コントラストを得るには、基板上色素の未記録部
がある程度の反射率を有していなければならない。その
反射率は記録再生波長において１０％以上は必要であ
る。実部が１．６未満では十分なコントラストが得られ
ず、また、３を超えると膜厚の変化による反射率の変化
が大きくなり、プロセス上のマージンが狭くなり易い。
また、虚部が１未満では、十分な反射率が得られず、光
の吸収も少なく、良い感度が得られなくなる。
【００１１】また、有機色素層の膜厚は２００Å〜８０
０Åの範囲にあることが必要である。有機色素層の膜厚
が２００Å未満になると塗膜が溝にのみ形成され、溝間
記録が困難となる。一方、８００Åを超えると、リムが
厚くなったり、記録部のレーザー光走査方向の非対称性
が強調されるため、ビット長記録においてジッターが悪
くなり易くなる。本発明の有機色素層に用いられる有機
色素としては、特に含金属アゾ系色素あるいはフタロシ
アニン系色素が好ましく挙げられる。含金属アゾ系色素
としては、下記一般式（１）
０Åの範囲にあることが必要である。有機色素層の膜厚
が２００Å未満になると塗膜が溝にのみ形成され、溝間
記録が困難となる。一方、８００Åを超えると、リムが
厚くなったり、記録部のレーザー光走査方向の非対称性
が強調されるため、ビット長記録においてジッターが悪
くなり易くなる。本発明の有機色素層に用いられる有機
色素としては、特に含金属アゾ系色素あるいはフタロシ
アニン系色素が好ましく挙げられる。含金属アゾ系色素
としては、下記一般式（１）
【００１２】
【化１】
【００１３】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、それぞれ独立し
て、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数１〜
２０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素
数２〜１０のアルケニル基又は炭素数３〜１０のシクロ
アルキル基を表す。Ｒ3 は、水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜
６のアルキルスルホニル基、炭素数２〜７のアルキルカ
ルボニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、−ＣＲ5 ＝Ｃ
（ＣＮ）Ｒ6 （ここで、Ｒ5 は、水素原子又は炭素数１
〜６のアルキル基を表し、Ｒ6 は、シアノ基又は炭素数
２〜７のアルコキシカルボニル基を表す。）、ニトロ
基、−Ｚ−Ａｒ（ここで、Ｚは単結合、−ＳＣＨ2 −、
−ＳＯ2 −又は−ＳＯ2ＣＨ2−を表し、Ａｒはニトロ基
で置換されていてもよい芳香環を表す。）、トリフルオ
ロメチル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素
数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜７のア
ルコキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜６アルキ
ルチオ基を表す。Ｒ4 は、炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基又はチオシアナ
ート基を表す。Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ等の遷移金属元素を表す。）で示される含金
属アゾ系色素が好ましい。このうち、特に、ＭがＮｉ、
Ｒ1 及びＲ2 がＣＨ3 、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3Ｈ7又はＣ4Ｈ9、Ｒ
4 がＯＣＨ3 、ＣＨ3 又はＯＣ2Ｈ5、Ｒ4 がＣＨ3 、Ｃ
Ｆ3 、ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2 、Ｃ(ＣＨ)＝Ｃ(ＣＮ)2 、ＳＣ
2Ｆ5又はＳＣ3Ｆ7であるものが好ましい。また、フタロ
シアニン系色素としては、下記一般式（２）
て、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数１〜
２０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素
数２〜１０のアルケニル基又は炭素数３〜１０のシクロ
アルキル基を表す。Ｒ3 は、水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜
６のアルキルスルホニル基、炭素数２〜７のアルキルカ
ルボニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、−ＣＲ5 ＝Ｃ
（ＣＮ）Ｒ6 （ここで、Ｒ5 は、水素原子又は炭素数１
〜６のアルキル基を表し、Ｒ6 は、シアノ基又は炭素数
２〜７のアルコキシカルボニル基を表す。）、ニトロ
基、−Ｚ−Ａｒ（ここで、Ｚは単結合、−ＳＣＨ2 −、
−ＳＯ2 −又は−ＳＯ2ＣＨ2−を表し、Ａｒはニトロ基
で置換されていてもよい芳香環を表す。）、トリフルオ
ロメチル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素
数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜７のア
ルコキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜６アルキ
ルチオ基を表す。Ｒ4 は、炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基又はチオシアナ
ート基を表す。Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ等の遷移金属元素を表す。）で示される含金
属アゾ系色素が好ましい。このうち、特に、ＭがＮｉ、
Ｒ1 及びＲ2 がＣＨ3 、Ｃ2Ｈ5、Ｃ3Ｈ7又はＣ4Ｈ9、Ｒ
4 がＯＣＨ3 、ＣＨ3 又はＯＣ2Ｈ5、Ｒ4 がＣＨ3 、Ｃ
Ｆ3 、ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2 、Ｃ(ＣＨ)＝Ｃ(ＣＮ)2 、ＳＣ
2Ｆ5又はＳＣ3Ｆ7であるものが好ましい。また、フタロ
シアニン系色素としては、下記一般式（２）
【００１４】
【化２】
【００１５】（式中、Ｒ7 ないしＲ10は、それぞれ独立
して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜
６のアルコキシ基を表し、Ｍ′は中心金属であり、Ｃ
ｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、ＶＯ又はＰｄを表
す。また、Ｍ′は存在していなくてもよい。）で示され
るフタロシアニン系色素が好ましい。本発明の光記録媒
体を用いて記録再生を行うには、基板側からレーザー光
を入射して行う。入射されたレーザー光を有機色素層が
吸収し発熱し、主減量開始温度を超える温度に達した時
に低分子量のフラグメントに分解し始め、その結果凹部
が形成される。この凹部には色素が若干残っているか殆
どないため、再生光を照射した時に反射率が低下し、記
録部として検知される。ここで、記録層の有機色素の主
減量開始温度は以下のごとくにして求められる。図４
は、この主原料開始温度Ｔを定める方法を示すための示
差熱天秤のチャート図である。質量Ｍ0 の有機色素を１
５℃／分で昇温する。昇温に従って、質量は当初微量ず
つ減少し、ほぼ直線ａ−ｂの減量線を描く。次いで急激
に減量し始め、４０％以上の減量をほぼ直線ｄ1−ｄ2に
沿って減量する。本発明の主減量開始温度とはこの直線
ａ−ｂと直線ｄ1−ｄ2の交点の温度Ｔで定義される。
して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜
６のアルコキシ基を表し、Ｍ′は中心金属であり、Ｃ
ｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、ＶＯ又はＰｄを表
す。また、Ｍ′は存在していなくてもよい。）で示され
るフタロシアニン系色素が好ましい。本発明の光記録媒
体を用いて記録再生を行うには、基板側からレーザー光
を入射して行う。入射されたレーザー光を有機色素層が
吸収し発熱し、主減量開始温度を超える温度に達した時
に低分子量のフラグメントに分解し始め、その結果凹部
が形成される。この凹部には色素が若干残っているか殆
どないため、再生光を照射した時に反射率が低下し、記
録部として検知される。ここで、記録層の有機色素の主
減量開始温度は以下のごとくにして求められる。図４
は、この主原料開始温度Ｔを定める方法を示すための示
差熱天秤のチャート図である。質量Ｍ0 の有機色素を１
５℃／分で昇温する。昇温に従って、質量は当初微量ず
つ減少し、ほぼ直線ａ−ｂの減量線を描く。次いで急激
に減量し始め、４０％以上の減量をほぼ直線ｄ1−ｄ2に
沿って減量する。本発明の主減量開始温度とはこの直線
ａ−ｂと直線ｄ1−ｄ2の交点の温度Ｔで定義される。
【００１６】実施例では、示差熱天秤（セイコー電子工
業）ＳＳＣ５２００ＨシリーズＴＧーＤＴＡ−３２０で
試料重量５ｍｇを窒素雰囲気中で昇温速度１５Ｃ／分で
測定し、複数段の減量過程のうち、４０％以上の減量を
示す過程の開始温度を、減量過程の接点の交点とした。
本発明においては、かかる方法で求めた記録層の有機色
素の主減量開始温度が、２５０℃〜３７０℃の範囲にあ
ることが好ましい。２５０℃未満であると、再生の繰り
返しにより劣化する恐れがある。また、３７０℃を超え
ると、記録感度が悪く、高線速記録が困難となる傾向が
ある。
業）ＳＳＣ５２００ＨシリーズＴＧーＤＴＡ−３２０で
試料重量５ｍｇを窒素雰囲気中で昇温速度１５Ｃ／分で
測定し、複数段の減量過程のうち、４０％以上の減量を
示す過程の開始温度を、減量過程の接点の交点とした。
本発明においては、かかる方法で求めた記録層の有機色
素の主減量開始温度が、２５０℃〜３７０℃の範囲にあ
ることが好ましい。２５０℃未満であると、再生の繰り
返しにより劣化する恐れがある。また、３７０℃を超え
ると、記録感度が悪く、高線速記録が困難となる傾向が
ある。
【００１７】記録部の形状は使用する色素により大きく
異なり、膜厚を薄くするとリムは薄くなるが、記録部の
非対称性は改善されるとは限らない。その中で、特に前
記一般式（１）で示される含金属アゾ系色素又は前記一
般式（２）で示されるフタロシアニン系色素により構成
された有機色素層を有する光記録媒体では、リムがほと
んど形成されず、高線速記録においても良好なジッター
特性を示すため好ましい。
異なり、膜厚を薄くするとリムは薄くなるが、記録部の
非対称性は改善されるとは限らない。その中で、特に前
記一般式（１）で示される含金属アゾ系色素又は前記一
般式（２）で示されるフタロシアニン系色素により構成
された有機色素層を有する光記録媒体では、リムがほと
んど形成されず、高線速記録においても良好なジッター
特性を示すため好ましい。
【００１８】
実施例１ トラックピッチが１．１μｍのポリカーボネート基板に
下記構造式（３）
下記構造式（３）
【００１９】
【化３】 で示される含金属アゾ系色素（主減量開始温度２７９
℃）１．０重量％をフッ化アルコール系溶媒に溶かした
溶液をスピンコート法で塗布して光記録媒体（光ディス
ク）を製造した。有機色素層の膜厚は４００Å、６８０
ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞ
れ１．７５と１．１７、分光吸収極大は７１０ｎｍと６
４０ｎｍであった。得られた光ディスクを６８０ｎｍの
半導体レーザーを用いた評価機（パルステック社製、開
口数ＮＡ０．５）で評価したところ、溝間記録１０ｍ／
ｓ、７．１６ＭＨｚ、デューティ比５０％で、Ｃ／Ｎは
５３ｄＢ（記録パワー５ｍＷ）、最良ビット長ジッター
は１ｎｓであった。
℃）１．０重量％をフッ化アルコール系溶媒に溶かした
溶液をスピンコート法で塗布して光記録媒体（光ディス
ク）を製造した。有機色素層の膜厚は４００Å、６８０
ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞ
れ１．７５と１．１７、分光吸収極大は７１０ｎｍと６
４０ｎｍであった。得られた光ディスクを６８０ｎｍの
半導体レーザーを用いた評価機（パルステック社製、開
口数ＮＡ０．５）で評価したところ、溝間記録１０ｍ／
ｓ、７．１６ＭＨｚ、デューティ比５０％で、Ｃ／Ｎは
５３ｄＢ（記録パワー５ｍＷ）、最良ビット長ジッター
は１ｎｓであった。
【００２０】実施例２ 有機色素として下記構造式（４）
【化４】 で示される含金属アゾ系色素（主減量開始温度３６５
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は７００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝１．７５とｋ＝１．３、分光吸収極大は６４０ｎｍ
と７２０ｎｍであった。得られた光ディスクを実施例１
と同様にして評価を行ったところ、Ｃ／Ｎは５６．４ｄ
Ｂ（記録パワー７ｍＷ）、最良ビット長ジッターは１ｎ
ｓであった。
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は７００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝１．７５とｋ＝１．３、分光吸収極大は６４０ｎｍ
と７２０ｎｍであった。得られた光ディスクを実施例１
と同様にして評価を行ったところ、Ｃ／Ｎは５６．４ｄ
Ｂ（記録パワー７ｍＷ）、最良ビット長ジッターは１ｎ
ｓであった。
【００２１】実施例３ 有機色素として下記構造式（５）
【化５】 で示される含金属アゾ系色素（主減量開始温度２９８
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は４００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝２．１１とｋ＝１．４９、分光吸収極大は６２０ｎ
ｍと６９０ｎｍであった。得られた光ディスクに６８０
ｎｍの半導体レーザーを用いた実施例１と同じ評価機で
１０ｍ／ｓ、３３０ｎｓのパルス記録を行ったところ、
図２の電子顕微鏡写真に示すように良好なリム形状の記
録部が得られ、溝間記録１０ｍ／ｓ、７．１６ＭＨｚ、
デューティ比５０％で記録を行ったところ、最良ビット
長ジッターは７ｎｓであった（記録パワー７ｍＷ）。
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は４００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝２．１１とｋ＝１．４９、分光吸収極大は６２０ｎ
ｍと６９０ｎｍであった。得られた光ディスクに６８０
ｎｍの半導体レーザーを用いた実施例１と同じ評価機で
１０ｍ／ｓ、３３０ｎｓのパルス記録を行ったところ、
図２の電子顕微鏡写真に示すように良好なリム形状の記
録部が得られ、溝間記録１０ｍ／ｓ、７．１６ＭＨｚ、
デューティ比５０％で記録を行ったところ、最良ビット
長ジッターは７ｎｓであった（記録パワー７ｍＷ）。
【００２２】実施例４ トラックピッチが１．１μｍのポリカーボネート基板に
メタルフリーの非置換フタロシアニン（主減量開始温度
３２０℃）を真空蒸着して光ディスクを製造した。有機
色素層の膜厚は８００Å、６８０ｎｍでの複素屈折率の
実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれｎ＝２．４とｋ＝
１．２、分光吸収極大は６３０ｎｍであった。得られた
光ディスクに６８０ｎｍの半導体レーザーを用いた実施
例１と同じ評価機で１０ｍ／ｓ、３３０ｎｓのパルス記
録を行ったところ、図３の電子顕微鏡写真に示すように
良好なリム形状の記録部が得られた。
メタルフリーの非置換フタロシアニン（主減量開始温度
３２０℃）を真空蒸着して光ディスクを製造した。有機
色素層の膜厚は８００Å、６８０ｎｍでの複素屈折率の
実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれｎ＝２．４とｋ＝
１．２、分光吸収極大は６３０ｎｍであった。得られた
光ディスクに６８０ｎｍの半導体レーザーを用いた実施
例１と同じ評価機で１０ｍ／ｓ、３３０ｎｓのパルス記
録を行ったところ、図３の電子顕微鏡写真に示すように
良好なリム形状の記録部が得られた。
【００２３】比較例１ 実施例３で用いた含金属アゾ系色素をフッ化アルコール
系溶媒に対して１．５重量％溶かし、実施例３と同じ条
件で光ディスクを製造した。有機色素層の膜厚は９００
Å、６８０ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部
（ｋ）はそれぞれｎ＝２．１とｋ＝１．５、分光吸収極
大は６２０ｎｍと６９０ｎｍであった。実施例３と同様
にして記録、評価を行ったところ、図３の電子顕微鏡写
真に示すようにリムが非対称で厚くビット形状の悪い記
録部が得られ、溝間記録１０ｍ／ｓ、７．１６ＭＨｚ、
デューティ比５０％で記録を行ったところ、最良ビット
長ジッターは２０ｎｓであった。
系溶媒に対して１．５重量％溶かし、実施例３と同じ条
件で光ディスクを製造した。有機色素層の膜厚は９００
Å、６８０ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部
（ｋ）はそれぞれｎ＝２．１とｋ＝１．５、分光吸収極
大は６２０ｎｍと６９０ｎｍであった。実施例３と同様
にして記録、評価を行ったところ、図３の電子顕微鏡写
真に示すようにリムが非対称で厚くビット形状の悪い記
録部が得られ、溝間記録１０ｍ／ｓ、７．１６ＭＨｚ、
デューティ比５０％で記録を行ったところ、最良ビット
長ジッターは２０ｎｓであった。
【００２４】比較例２ 有機色素として下記構造式（６）
【化６】 で示される含金属アゾ系色素（主減量開始温度２７１
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は７００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝０．８８とｋ＝０．８３、分光吸収極大は７８０ｎ
ｍであった。得られた光ディスクを実施例１と同じ評価
機で評価しようとしたが、良好な記録ができなかった。
℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディス
クを製造した。有機色素層の膜厚は７００Å、６８０ｎ
ｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞれ
ｎ＝０．８８とｋ＝０．８３、分光吸収極大は７８０ｎ
ｍであった。得られた光ディスクを実施例１と同じ評価
機で評価しようとしたが、良好な記録ができなかった。
【００２５】比較例３ 有機色素として下記構造式（７）
【化７】 で示されるフタロシアニン系色素（主減量開始温度３８
７℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディ
スクを製造した。有機色素層の膜厚は９００Å、６８０
ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞ
れｎ＝１．９とｋ＝０．６、分光吸収極大は７８０ｎｍ
であった。得られた光ディスクを実施例１と同じ評価機
で評価しようとしたが、良好な記録ができなかった。
７℃）を用いたこと以外は実施例１と同様にして光ディ
スクを製造した。有機色素層の膜厚は９００Å、６８０
ｎｍでの複素屈折率の実部（ｎ）と虚部（ｋ）はそれぞ
れｎ＝１．９とｋ＝０．６、分光吸収極大は７８０ｎｍ
であった。得られた光ディスクを実施例１と同じ評価機
で評価しようとしたが、良好な記録ができなかった。
【００２６】
【発明の効果】本発明の光記録媒体は、リムがほとんど
ない良好微小記録部が形成され、ビット長ジッターが小
さく、高線速度短波長記録用光記録媒体として十分な記
録感度と記録特性を達成することができるため、非常に
有用である。
ない良好微小記録部が形成され、ビット長ジッターが小
さく、高線速度短波長記録用光記録媒体として十分な記
録感度と記録特性を達成することができるため、非常に
有用である。
【図１】 本発明の実施例３において基板上に形成され
た微細なパターンを表す写真。
た微細なパターンを表す写真。
【図２】 本発明の実施例４において基板上に形成され
た微細なパターンを表す写真。
た微細なパターンを表す写真。
【図３】 本発明の比較例１において基板上に形成され
た微細なパターンを表す写真。
た微細なパターンを表す写真。
【図４】 色素の主減量開始温度を求めるための示差熱
天秤のチャート図。
天秤のチャート図。
フロントページの続き (72)発明者 堀江 通和 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 波長６３０〜６９０ｎｍのレーザー光で
記録再生するための基板上に有機色素層を有する光記録
媒体であって、有機色素層の分光吸収極大が５５０〜７
３０ｎｍの範囲であり、有機色素層の膜厚が２００〜８
００Åの範囲であり、有機色素層の記録再生波長におけ
る複素屈折率の実部が１．６〜３、虚部が１以上である
ことを特徴とする短波長記録用光記録媒体。 - 【請求項２】 有機色素が含金属アゾ系色素又はフタロ
シアニン系色素である請求項１に記載の光記録媒体の光
記録媒体。 - 【請求項３】 有機色素の主減量開始温度が２５０〜３
７０℃の範囲である請求項１又は２に記載の光記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5340146A JPH07161069A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5340146A JPH07161069A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07161069A true JPH07161069A (ja) | 1995-06-23 |
Family
ID=18334171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5340146A Pending JPH07161069A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07161069A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6063467A (en) * | 1997-02-24 | 2000-05-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US6103331A (en) * | 1997-09-26 | 2000-08-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium comprising organic dye thin film |
| US6165580A (en) * | 1997-11-11 | 2000-12-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US6737143B2 (en) | 2001-06-14 | 2004-05-18 | Ricoh Company Ltd. | Optical recording medium, optical recording method and optical recording device |
| US6936323B2 (en) | 2003-04-30 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium, and method and device using the same |
| KR100750705B1 (ko) * | 2004-07-30 | 2007-08-22 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 광정보기록매체 및 그 제조방법 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP5340146A patent/JPH07161069A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6063467A (en) * | 1997-02-24 | 2000-05-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US6103331A (en) * | 1997-09-26 | 2000-08-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium comprising organic dye thin film |
| US6165580A (en) * | 1997-11-11 | 2000-12-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US6737143B2 (en) | 2001-06-14 | 2004-05-18 | Ricoh Company Ltd. | Optical recording medium, optical recording method and optical recording device |
| US6936323B2 (en) | 2003-04-30 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium, and method and device using the same |
| KR100750705B1 (ko) * | 2004-07-30 | 2007-08-22 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 광정보기록매체 및 그 제조방법 |
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