JPH0716463A - 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 - Google Patents
不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法Info
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Abstract
和アルデヒド及び不飽和カルボン酸を有利に製造し、機
械的強度に優れた工業用触媒の製造。 【構成】 プロピレン、イソブチレンほかを気相接触酸
化してそれぞれに対応する不飽和アルデヒド及び不飽和
カルボン酸合成に用いる少なくともMo、Bi及びFe
を含む触媒において、触媒成分を含む混合溶液又は水性
スラリーを乾燥、焼成し、焼成物に平均粒径1〜10n
mのシリカゾル及び水及び/又はアルコールを添加し混
練した後、成型、乾燥、熱処理する。
Description
レン、第三級ブチルアルコール(以下、TBAと略記す
る。)又はメチル第三級ブチルエーテル(以下、MTB
Eと略記する。)を分子状酸素と気相接触酸化により、
それぞれに対応する不飽和アルデヒド及び不飽和カルボ
ン酸を合成する際に使用する機械的強度に優れた工業用
触媒の製造法、及び該触媒を用いる不飽和アルデヒド及
び不飽和カルボン酸の製造法に関する。
クロレイン及びアクリル酸を製造する際に用いられる触
媒や、イソブチレン、TBA又はMTBEを気相接触酸
化してメタクロレイン及びメタクリル酸を製造する際に
用いられる触媒について数多くの提案がなされている。
また、近年の工業用触媒として触媒形状についても数多
くの提案がされている。例えば、特開昭59−4613
2号公報、特開平4−332055号公報等である。
拡散、圧力降下及び反応成績などについて論じられてい
る。確かに触媒形状により、熱拡散、圧力降下及び反応
成績に与える影響は大きいが、実際の使用に当たっては
工業用触媒として必要となる成型触媒の機械的強度につ
いても考慮しなくてはならない。事実、密実の触媒塊と
比較して中空を有する触媒塊は機械的強度が劣ってお
り、中空を有する触媒塊の本来持つ特徴を十分生かすた
めに機械的強度を向上させることが望まれているのが現
状である。
ン、イソブチレン、TBA又はMTBEからそれぞれに
対応する不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸を有利
に製造し、かつ、機械的強度に優れた新規な工業用触媒
製造法の提供を目的としている。
イソブチレン、TBA又はMTBEを分子状酸素を用い
て気相接触酸化し、それぞれに対応する不飽和アルデヒ
ド及び不飽和カルボン酸を合成する際に用いられる少な
くともモリブデン、ビスマス及び鉄を含む触媒におい
て、触媒成分を含む混合溶液又は水性スラリーを乾燥し
た後焼成し、得られた焼成物に平均粒径1〜10nmの
シリカゾル及び水及び/又はアルコールを添加し、混練
り後押出し成型した後、乾燥及び熱処理、又は熱処理す
ることを特徴とする触媒の製造法にある。
リカゾルの添加効果としては、触媒焼成物の単位重量あ
たりシリカゾルとの接触面積が増えるため、シリカゾル
の添加量が少量で効果的に補強効果が現れることにあ
る。
均粒径が1nm未満の場合、シリカゾルの二次凝集が容
易に起こり、本発明による添加効果が十分に現れない。
また、添加するシリカゾルの平均粒径が10nmを超え
る場合、触媒使用性物の単位重量あたりの補強効果が少
なく、本発明により規定される平均粒径を用いた場合よ
り添加量が多くなるためコスト的に高くなり、しかも触
媒性能が劣るため工業用触媒としては適さなくなる。シ
リカゾルの添加量としては無水ケイ酸(SiO2 )とし
て焼成物重量に対して1〜10重量%の範囲が好まし
く、特に1.5〜8重量%が好ましい。
しては、触媒焼成物重量に対して10〜50重量%の範
囲が好ましい。特に触媒焼成物重量に対して15〜35
重量%が好ましい。10重量%未満及び50重量%を超
えた場合、押出し成型の際の成型性が悪くなり、工業用
触媒としては適さなくなる。添加するアルコールとして
は、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルア
ルコール、ブチルアルコール等の低級アルコールを使用
することができる。
〜10nmのシリカゾル及び水及び/又はアルコールを
添加して押出し成型する際、リング状、円柱状、星型状
等任意の形状に賦型することができる。
は、次いで乾燥及び熱処理、又は熱処理される。本発明
においては、これらの処理条件には特に限定はなく、公
知の処理条件を適用することができる。通常、乾燥は6
0〜150℃、熱処理は300〜600℃で行われる。
デン、ビスマス、鉄、ケイ素及び酸素を示し、Aはコバ
ルト及び/又はニッケル、Xはクロム、鉛、マンガン、
カルシウム、マグネシウム、ニオブ、銀、バリウム、ス
ズ、タンタル及び亜鉛からなる群より選ばれた少なくと
も1種の元素、Yはリン、ホウ素、硫黄、セレン、テル
ル、セリウム、タングステン、アンチモン及びチタンか
らなる群より選ばれた少なくとも1種の元素、Zはリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム及
びタリウムからなる群より選ばれた少なくとも1種の元
素をそれぞれ示す。a、b、c、d、e、f、g、h及
びiは各元素の原子比を表し、a=12のときb=0.
01〜3、c=0.01〜5、d=1〜12、e=0〜
8、f=0〜5、g=0.001〜2、h=0〜20で
あり、iは前記各成分の原子価を満足するに必要な酸素
原子数である。)で表される組成を有する触媒に用いる
ことができる。
方法としては、特殊な方法に限定する必要はなく、成分
の著しい偏在を伴わない限り、従来からよく知られてい
る蒸発乾固法、沈殿法、酸化物混合法等の種々の方法を
用いることができる。
物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、水酸化物、アンモニウム
塩、ハロゲン化物などを組み合わせて使用することがで
きる。例えば、モリブデン原料としてはパラモリブデン
酸アンモニウム、三酸化モリブデン等が使用できる。
剤、例えば、ポリビニルアルコール、カルボキシメチル
セルロース等の有機化合物を更に添加しても差し支えな
い。また、グラファイト及びケイソウ土等の無機化合
物、ガラス繊維、セラミックファイバー及び炭素繊維等
の無機ファイバーを添加しても差し支えない。また、シ
リカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、マグネシア、チタ
ニア、シリコンカーバイト等の不活性担体で希釈して用
いることもできる。
ブチレン、TBA又はMTBEに分子状酸素を加え、前
記の触媒の存在下に気相接触酸化を行う際に用いる。プ
ロピレン、イソブチレン、TBA又はMTBE対酸素の
モル比は1:0.5〜3が好ましい。原料ガスは不活性
ガスで希釈して用いることが好ましい。酸素源としては
空気を用いることが経済的であるが、必要ならば純酸素
で富化した空気を用いうる。反応圧力は常圧から数気圧
までが良い。反応温度は200〜450℃の範囲で選ぶ
ことができる。特に250〜400℃の範囲が好まし
い。
を用いての反応例を比較例と共に説明する。説明中
「部」は重量部を意味する。分析はガスクロマトグラフ
ィーによった。実施例及び比較例中の原料オレフィン、
TBA又はMTBEの反応率、生成する不飽和アルデヒ
ド及び不飽和カルボン酸の選択率は以下のように定義さ
れる。
のように定義する 成型触媒100部を秤量し、水平方向に対して垂直に設
置した内径30mmφ、長さ5mからなるステンレス管
に、秤量した成型触媒をステンレス管上部より充填し、
充填後ステンレス管下部より回収する。回収した触媒の
うち、8メッシュのふるいを通過しない触媒がa部であ
ったとすると、充填粉化率は次のように表わされる。
部、パラタングステン酸アンモニウム12.3部及び硝
酸カリウム1.2部を加え加熱攪拌した後、85%リン
酸2.2部を純水100部に溶解した溶液を加え更に加
熱攪拌した(A−1液)。別に純水600部に60%硝
酸41.9部を加え、均一にした後、硝酸ビスマス10
3.0部を加え溶解した。これに硝酸第二鉄123.9
部、硝酸亜鉛7.0部及び硝酸コバルト288.4部を
順次加え、更に純水700部を加え溶解した(B−1
液)。A−1液にB−1液を加えスラリー状とした後、
三酸化アンチモン10.3部を加え加熱攪拌し、水の大
部分を蒸発させた。
せた後、空気雰囲気下300℃で1時間焼成し粉砕し
た。得られた焼成粉100部に対して水25部及び平均
粒径7〜9nmのシリカゾルを無水ケイ酸として3部添
加して混練りした後、押出し成型機にて、外径6mm、
内径3mm、平均長さ5mmに押出した。押出し成型品
を130℃で16時間乾燥した後、500℃で6時間熱
処理したものを触媒として用いた。かくして得られた触
媒の酸素以外の元素の組成(以下同じ)は、Mo 12W
0.2 Bi0.9 Fe1.3 Sb0.3 Co4.2 Zn0.1 K0.06
であった。
プロピレン5%、酸素12%、水蒸気10%及び窒素7
3%(容量%)の原料混合ガスを接触時間3.6秒で触
媒層を通過させ、310℃で反応させた。その結果、プ
ロピレンの反応率99.1%、アクロレインの選択率8
9.0%、アクリル酸の選択率6.8%であった。ま
た、充填粉化率は0.4%であった。
無水ケイ酸として10部添加したほかは実施例1と同様
にして押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結
果、プロピレンの反応率98.9%、アクロレインの選
択率88.9%、アクリル酸の選択率6.9%であっ
た。また、充填粉化率は0.3%であった。
ないほかは実施例1と同様にして押出し成型、熱処理及
び反応を行った。その結果、プロピレンの反応率99.
0%、アクロレインの選択率89.0%、アクリル酸の
選択率6.8%であった。また、充填粉化率は1.9%
であった。
ルを無水ケイ酸として5部添加したほかは実施例1と同
様にして押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結
果、プロピレンの反応率98.9%、アクロレインの選
択率88.7%、アクリル酸の選択率6.8%であっ
た。また、充填粉化率は1.0%であった。
無水ケイ酸として20部添加したほかは実施例1と同様
にして押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結
果、プロピレンの反応率98.5%、アクロレインの選
択率88.2%、アクリル酸の選択率6.7%であっ
た。また、充填粉化率は0.1%であった。
後、硝酸ビスマス68.7部を加え溶解した。これに硝
酸ニッケル205.9部及び三酸化アンチモン24.1
部を順次加え溶解、分散させた。この混合液に28%ア
ンモニア水165部を加え白色沈殿物と青色の溶液を得
た。これを加熱攪拌し、水の大部分を蒸発させた。得ら
れたスラリー状物質を120℃で16時間乾燥した後、
750℃で2時間熱処理し、微粉砕した。
ウム500部、パラタングステン酸アンモニウム12.
3部及び硝酸セシウム20.7部を加え、加熱攪拌した
(A−2液)。別に水700部に硝酸第二鉄171.6
部、硝酸コバルト219.8部及び硝酸マグネシウム8
4.7部を順次加え溶解した(B−2液)。A−2液に
B−2液を加えスラリー状とした後、前記のビスマス−
ニッケル−アンチモン化合物の微粉末を加え加熱攪拌
し、水の大部分を蒸発させた。
せた後、空気雰囲気下300℃で1時間焼成し粉砕し
た。得られた焼成粉砕物100部に対して水25部及び
平均粒径7〜9nmのシリカゾルを無水ケイ酸として8
部添加して混練りした後、押出し成型機にて、外径6m
m、内径3mm、平均長さ5mmに押出した。押出し成
型品を130℃で16時間乾燥した後、500℃で6時
間熱処理したものを触媒として用いた。かくして得られ
た触媒の元素の組成は、Mo12W0.2 Bi0.6 Fe1.8
Sb0.7 Ni3 Co3.2 Cs0.45Mg1.4 であった。
イソブチレン5%、酸素12%、水蒸気10%及び窒素
73%(容量%)の原料混合ガスを接触時間3.6秒で
触媒層を通過させ、340℃で反応させた。その結果、
イソブチレンの反応率96.9%、メタクロレインの選
択率89.5%、メタクリル酸の選択率3.0%であっ
た。また、充填粉化率は0.5%であった。
無水ケイ酸として4部添加したほかは実施例3と同様に
して押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結果、
イソブチレンの反応率97.0%、メタクロレインの選
択率89.4%、メタクリル酸の選択率3.1%であっ
た。また、充填粉化率は0.4%であった。
ないほかは実施例3と同様にして押出し成型、熱処理及
び反応を行った。その結果、イソブチレンの反応率9
7.0%、メタクロレインの選択率89.4%、メタク
リル酸の選択率2.9%であった。また、充填粉化率は
2.1%であった。
ルを無水ケイ酸として5部添加したほかは実施例3と同
様にして押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結
果、イソブチレンの反応率96.8%、メタクロレイン
の選択率89.2%、メタクリル酸の選択率2.9%で
あった。また、充填粉化率は1.1%であった。
無水ケイ酸として20部添加したほかは実施例3と同様
にして押出し成型、熱処理及び反応を行った。その結
果、イソブチレンの反応率96.3%、メタクロレイン
の選択率88.3%、メタクリル酸の選択率2.8%で
あった。また、充填粉化率は0.2%であった。
実施例3と同様にして反応を行った。その結果、TBA
の反応率100%、メタクロレインの選択率86.5
%、メタクリル酸の選択率3.0%であった。
比較例4と同様にして反応を行った。その結果、TBA
の反応率100%、メタクロレインの選択率86.4
%、メタクリル酸の選択率2.9%であった。
Claims (2)
- 【請求項1】 プロピレン、イソブチレン、第三級ブチ
ルアルコール又はメチル第三級ブチルエーテルを分子状
酸素を用いて気相接触酸化し、それぞれに対応する不飽
和アルデヒド及び不飽和カルボン酸を合成する際に用い
られる少なくともモリブデン、ビスマス及び鉄を含む触
媒において、触媒成分を含む混合溶液又は水性スラリー
を乾燥した後焼成し、得られた焼成物に平均粒径1〜1
0nmのシリカゾル及び水及び/又はアルコールを添加
し、混練り後押出し成型した後、乾燥及び熱処理、又は
熱処理することを特徴とする不飽和アルデヒド及び不飽
和カルボン酸合成用触媒の製造法。 - 【請求項2】 請求項1記載の触媒成型体を用いて、プ
ロピレン、イソブチレン、第三級ブチルアルコール又は
メチル第三級ブチルエーテルを分子状酸素を用いて気相
接触酸化し、それぞれに対応する不飽和アルデヒド及び
不飽和カルボン酸を合成することを特徴とする不飽和ア
ルデヒド及び不飽和カルボン酸の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18315893A JP3268900B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18315893A JP3268900B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0716463A true JPH0716463A (ja) | 1995-01-20 |
| JP3268900B2 JP3268900B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=16130818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18315893A Expired - Lifetime JP3268900B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3268900B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6663218B2 (en) | 2000-10-04 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Head recovery device, head recovery method and ink jet recording apparatus |
| US7132384B2 (en) | 2003-11-14 | 2006-11-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing composite oxide catalyst |
| JP2008221032A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 複合酸化物触媒の製造方法および該触媒を用いた不飽和アルデヒドおよび/または不飽和カルボン酸の製造方法 |
| JP2009090200A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造方法 |
| JP2009207995A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸製造用触媒並びにその製造方法 |
| JP2012130919A (ja) * | 2012-02-23 | 2012-07-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造方法 |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP18315893A patent/JP3268900B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6663218B2 (en) | 2000-10-04 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Head recovery device, head recovery method and ink jet recording apparatus |
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| JP2009090200A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造方法 |
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| JP2012130919A (ja) * | 2012-02-23 | 2012-07-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用触媒の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3268900B2 (ja) | 2002-03-25 |
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